JPH0415943B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0415943B2 JPH0415943B2 JP58085022A JP8502283A JPH0415943B2 JP H0415943 B2 JPH0415943 B2 JP H0415943B2 JP 58085022 A JP58085022 A JP 58085022A JP 8502283 A JP8502283 A JP 8502283A JP H0415943 B2 JPH0415943 B2 JP H0415943B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- repellent layer
- ink
- ink repellent
- master substrate
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G13/00—Electrographic processes using a charge pattern
- G03G13/26—Electrographic processes using a charge pattern for the production of printing plates for non-xerographic printing processes
- G03G13/28—Planographic printing plates
- G03G13/286—Planographic printing plates for dry lithography
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/16—Waterless working, i.e. ink repelling exposed (imaged) or non-exposed (non-imaged) areas, not requiring fountain solution or water, e.g. dry lithography or driography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は湿し水を使用することなくオフセツト
印刷を行い得る平版印刷原版の製造法に関するも
のである。
印刷を行い得る平版印刷原版の製造法に関するも
のである。
従来、水無し平版印刷原版の製造法としては
種々の方法が開発され、提案されているが、その
一つにカールソン法による電子写真プロセスを用
いてシリコーン等のインキ反撥層の上に所望の画
像を形成することによつて印刷原版を製造する方
法がある。
種々の方法が開発され、提案されているが、その
一つにカールソン法による電子写真プロセスを用
いてシリコーン等のインキ反撥層の上に所望の画
像を形成することによつて印刷原版を製造する方
法がある。
具体的にはエレクトロフアクス法により光導電
体を結着剤樹脂中に分散してなる表面層上に直接
トナー画像を作像、定着して印刷版にする直接法
と、ゼログラフイー法により感光体上に一旦作像
したトナー画像を、予め作成された版材のインキ
反撥層に転写し定着する間接法がある。電子写真
技術を応用した水無し平版印刷原版の製造法は、
リスフイルムを使用する写真製版法に比べて製版
操作が簡便なため軽印刷分野を中心に大いに期待
されているが、反面下記のような問題点をかかえ
ている。
体を結着剤樹脂中に分散してなる表面層上に直接
トナー画像を作像、定着して印刷版にする直接法
と、ゼログラフイー法により感光体上に一旦作像
したトナー画像を、予め作成された版材のインキ
反撥層に転写し定着する間接法がある。電子写真
技術を応用した水無し平版印刷原版の製造法は、
リスフイルムを使用する写真製版法に比べて製版
操作が簡便なため軽印刷分野を中心に大いに期待
されているが、反面下記のような問題点をかかえ
ている。
すなわち、エレクトロフアクス法、ゼログラフ
イー法どちらにおいても、表面エネルギーの低い
インキ反撥層面上に親インキ性トナーの固着が難
しく、耐刷性が問題となつている。この問題解決
のために、例えば、トナー定着促進物質をインキ
反撥層に添加する（特開昭49−21204等）、と反応
性のインキ反撥性物質を使う（特開昭52−
56607）、未硬化又は半硬化インキ反撥層面上にト
ナーを付着させた後、さらにインキ反撥層を硬化
させる（特開昭51−5105等）、インキ反撥層にト
ナーを押圧して埋め込む（特開昭50−1802等）、
微細凹凸面を形成したインキ反撥層上にトナーを
固着させる（特開昭54−78202）、インキ反撥性物
質を改質してトナーの付着性を良くさせる（特開
昭51−74702等）等の多くの手段が提出されてい
るが未だ解決されていない。
イー法どちらにおいても、表面エネルギーの低い
インキ反撥層面上に親インキ性トナーの固着が難
しく、耐刷性が問題となつている。この問題解決
のために、例えば、トナー定着促進物質をインキ
反撥層に添加する（特開昭49−21204等）、と反応
性のインキ反撥性物質を使う（特開昭52−
56607）、未硬化又は半硬化インキ反撥層面上にト
ナーを付着させた後、さらにインキ反撥層を硬化
させる（特開昭51−5105等）、インキ反撥層にト
ナーを押圧して埋め込む（特開昭50−1802等）、
微細凹凸面を形成したインキ反撥層上にトナーを
固着させる（特開昭54−78202）、インキ反撥性物
質を改質してトナーの付着性を良くさせる（特開
昭51−74702等）等の多くの手段が提出されてい
るが未だ解決されていない。
一方、後者の間接法は、トナー画像の転写工程
を含むので、印刷物として要求される解像力、鮮
明度が得られないという欠点を有する。
を含むので、印刷物として要求される解像力、鮮
明度が得られないという欠点を有する。
本発明は上記の事情に鑑み、水無し平版印刷版
を直接法電子写真法により得ること、トナーの定
着を行うことなしに高い解像力と鮮明度が乾式製
版プロセスで簡易に得られること、およびすぐれ
た耐刷力の印刷版を得ることを目的としたもので
ある。
を直接法電子写真法により得ること、トナーの定
着を行うことなしに高い解像力と鮮明度が乾式製
版プロセスで簡易に得られること、およびすぐれ
た耐刷力の印刷版を得ることを目的としたもので
ある。
すなわち、光導電性マスター基板上に未硬化の
光硬化性シリコーン化合物を主成分とする透明な
インキ反撥層を設け、更に光透過性かつ絶縁性シ
ートを設けた版材の表面上に、逆転電場法による
電子写真プロセスを用いてトナー画像を形成し、
然るのちトナー画像の上から全面紫外線露光をお
こない非画像部の該インキ反撥層を硬化させたの
ち、該光透過性かつ絶縁性シートを取り除くこと
により、硬化インキ反撥層からなる非画像部と該
光導電性マスター基板の露出面からなる画像部と
を形成させることを特徴とする水無し平版印刷原
版の製造方法を提供するものである。
光硬化性シリコーン化合物を主成分とする透明な
インキ反撥層を設け、更に光透過性かつ絶縁性シ
ートを設けた版材の表面上に、逆転電場法による
電子写真プロセスを用いてトナー画像を形成し、
然るのちトナー画像の上から全面紫外線露光をお
こない非画像部の該インキ反撥層を硬化させたの
ち、該光透過性かつ絶縁性シートを取り除くこと
により、硬化インキ反撥層からなる非画像部と該
光導電性マスター基板の露出面からなる画像部と
を形成させることを特徴とする水無し平版印刷原
版の製造方法を提供するものである。
以下、本発明を図面に基づいて詳細に説明す
る。まず、第１図は本発明の製造方法により得ら
れる平版印刷原版の断面図で、該原版は導電性支
持体１に光導電層２が設けられている光導電性マ
スター基板３、その面上に設けられた未硬化の光
硬化性シリコーン化合物を主成分とする透明なイ
ンキ反撥層４（以下インキ反撥層４と略す）、光
透過性かつ絶縁性シート５から構成されている。
る。まず、第１図は本発明の製造方法により得ら
れる平版印刷原版の断面図で、該原版は導電性支
持体１に光導電層２が設けられている光導電性マ
スター基板３、その面上に設けられた未硬化の光
硬化性シリコーン化合物を主成分とする透明なイ
ンキ反撥層４（以下インキ反撥層４と略す）、光
透過性かつ絶縁性シート５から構成されている。
次に、本発明の水無し平版印刷用原版の製版工
程を第２図に基づいて説明する。光導電性マスタ
ー基板３、インキ反撥層４、光透過性かつ絶縁性
シート５から成る版材の表面に、逆転電場法に基
づく電子写真プロセスを用いてトナー画像６を形
成する［第２図Ｂ］。ここでいう逆転電場法とは
具体的には特公昭43−2627および特公昭42−
23910に開示されているKIP法又はNP法あるいは
米国特許第3041167号に開示された電子写真プロ
セスを指し、通常のカールソン法と比較して外部
電荷潜像の形成過程が異なる。例えば第１次帯電
をおこなつたのち、露光と同時に第１次帯電と逆
極性の第２次帯電をおこない、さらに全面に一様
露光をおこなうことにより静電潜像を作ることが
できる。
程を第２図に基づいて説明する。光導電性マスタ
ー基板３、インキ反撥層４、光透過性かつ絶縁性
シート５から成る版材の表面に、逆転電場法に基
づく電子写真プロセスを用いてトナー画像６を形
成する［第２図Ｂ］。ここでいう逆転電場法とは
具体的には特公昭43−2627および特公昭42−
23910に開示されているKIP法又はNP法あるいは
米国特許第3041167号に開示された電子写真プロ
セスを指し、通常のカールソン法と比較して外部
電荷潜像の形成過程が異なる。例えば第１次帯電
をおこなつたのち、露光と同時に第１次帯電と逆
極性の第２次帯電をおこない、さらに全面に一様
露光をおこなうことにより静電潜像を作ることが
できる。
次に第２図Ｃに示すようにトナー画像６の上か
ら全面露光をおこなう。この場合の光源は超高圧
水銀灯、メタルハライドランプ等の紫外光線が適
用される。この露光により非画像部のインキ反撥
層４は、光重合して硬化して光導電性マスター基
板３に固着し、硬化インキ反撥層７を形成する。
一方、トナー画像６は露光に際し、マスキングの
機能を果し、従つて、該画像部の下のインキ反撥
層４は光重合しないで、光透過性かつ絶縁性シー
ト５の除去と共に該光導電性マスター基板面から
剥離され、該基板面のインキ受理面８が露出する
［第２図Ｄ］。以上の方法で、硬化インキ反撥層７
面をインキ反撥面とし、光導電性マスター基板３
面をインキ受理面とする本発明の水無し平版印刷
原版を得ることができる。第２図Ｅに示すように
印刷に際しては、インキ受理面にのみインキ９が
着肉し、硬化インキ反撥層７にはインキが付着し
ないので湿し水なしでの印刷が可能となる。
ら全面露光をおこなう。この場合の光源は超高圧
水銀灯、メタルハライドランプ等の紫外光線が適
用される。この露光により非画像部のインキ反撥
層４は、光重合して硬化して光導電性マスター基
板３に固着し、硬化インキ反撥層７を形成する。
一方、トナー画像６は露光に際し、マスキングの
機能を果し、従つて、該画像部の下のインキ反撥
層４は光重合しないで、光透過性かつ絶縁性シー
ト５の除去と共に該光導電性マスター基板面から
剥離され、該基板面のインキ受理面８が露出する
［第２図Ｄ］。以上の方法で、硬化インキ反撥層７
面をインキ反撥面とし、光導電性マスター基板３
面をインキ受理面とする本発明の水無し平版印刷
原版を得ることができる。第２図Ｅに示すように
印刷に際しては、インキ受理面にのみインキ９が
着肉し、硬化インキ反撥層７にはインキが付着し
ないので湿し水なしでの印刷が可能となる。
この原版の製造工程は、光導電性マスター基板
３にインキ反撥層４を設け、その塗布面に光透過
性かつ絶縁性シート５を圧着するか、又は光透過
性かつ絶縁性シート５面上にインキ反撥層４を設
けた後に、光導電性マスター基板３と圧着する。
この圧着方法として、両者を貼り合わせ上からロ
ールで押圧する方法、さらに有利な方法として貼
り合わせロール、カレンダーロールの使用があ
る。
３にインキ反撥層４を設け、その塗布面に光透過
性かつ絶縁性シート５を圧着するか、又は光透過
性かつ絶縁性シート５面上にインキ反撥層４を設
けた後に、光導電性マスター基板３と圧着する。
この圧着方法として、両者を貼り合わせ上からロ
ールで押圧する方法、さらに有利な方法として貼
り合わせロール、カレンダーロールの使用があ
る。
本発明に適した版材の代表的な例を以下に示
す。光導電性マスター基板３は、例えば、アルミ
ニウム板、銅板、ステンレス板等の金属板、導電
性処理をした紙、プラスチツクフイルムないしシ
ート又はこれらの合成シート等の導電性支持体１
にZnO、Se、CdS、Se−Teなどの無機系、アゾ
ール類、アントラセン類、トリフエニルアミン
類、多核芳香族ビニルポリマー類、フタロシアニ
ンなどの有機系の光導電層２を設けたものであ
る。
す。光導電性マスター基板３は、例えば、アルミ
ニウム板、銅板、ステンレス板等の金属板、導電
性処理をした紙、プラスチツクフイルムないしシ
ート又はこれらの合成シート等の導電性支持体１
にZnO、Se、CdS、Se−Teなどの無機系、アゾ
ール類、アントラセン類、トリフエニルアミン
類、多核芳香族ビニルポリマー類、フタロシアニ
ンなどの有機系の光導電層２を設けたものであ
る。
本発明においては、光硬化性シリコーンを主成
分とするインキ反撥層４を硬化して、前記光導電
性マスター基板３の面に固着させるが、この固着
を強固するために該マスター基板面をプライマー
処理されることが好ましい。この場合のプライマ
ーとして、ビニルトリス（２−メトキシエトキ
シ）シラン、３−タリシドキシプロピルトリメト
キシシラン、３−メタクリルオキシプロピルトリ
メトキシシラン、Ｎ−（トリメトキシシリルプロ
ピル）エチレンジアミン、３−アミノプロピルト
リエトキシシラン、およびこれらの１種または２
種以上の混合物の部分（井）加水分解縮合物が例
示される。これらのプライマーの使用にあたつて
必要ならばバインダーとしての各種樹脂たとえば
ポリエステル、セルロース誘導体、アクリル樹脂
などを使用することは差支えない。
分とするインキ反撥層４を硬化して、前記光導電
性マスター基板３の面に固着させるが、この固着
を強固するために該マスター基板面をプライマー
処理されることが好ましい。この場合のプライマ
ーとして、ビニルトリス（２−メトキシエトキ
シ）シラン、３−タリシドキシプロピルトリメト
キシシラン、３−メタクリルオキシプロピルトリ
メトキシシラン、Ｎ−（トリメトキシシリルプロ
ピル）エチレンジアミン、３−アミノプロピルト
リエトキシシラン、およびこれらの１種または２
種以上の混合物の部分（井）加水分解縮合物が例
示される。これらのプライマーの使用にあたつて
必要ならばバインダーとしての各種樹脂たとえば
ポリエステル、セルロース誘導体、アクリル樹脂
などを使用することは差支えない。
さらに、現在公知の感光性樹脂も使用可能であ
り、具体的にはアジド、ジアゾ化合物を混合また
はポリマー中に有する感光性樹脂、シンナモイル
基、シンナミリデン化合物を混合またはポリマー
中に有するもの、アクリロイル化合物を混合また
はポリマー中に有するもの等があげられる。
り、具体的にはアジド、ジアゾ化合物を混合また
はポリマー中に有する感光性樹脂、シンナモイル
基、シンナミリデン化合物を混合またはポリマー
中に有するもの、アクリロイル化合物を混合また
はポリマー中に有するもの等があげられる。
更に、光透過性かつ絶縁性シート５としては、
飽和ポリエステル、トリアセテート、ダイアセテ
ート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リスチレン、アクリル樹脂、ポリカーボネード等
の合成樹脂シートが好適である。
飽和ポリエステル、トリアセテート、ダイアセテ
ート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リスチレン、アクリル樹脂、ポリカーボネード等
の合成樹脂シートが好適である。
本発明の水無し平版に使用される光硬化性シリ
コーンは、紫外線照射で容易に硬化するものであ
れば良く、例えば、マレイミド基又は置換原子も
しくは基を有するマレイミド基が結合したシロキ
サン単位有するオルガノポリシロキサン（特開昭
52−13907等）、アクリロキシ基又は置換原子もし
くは置換基を有するアクリロキシ基が結合したシ
ロキサン単位を有するオルガノポリシロキサン
（特開昭52−113805等）、メルカプト基含有シロキ
サン単位を有するオルガノシロキサン基含有シロ
キサン単位を有するオルガノポリシロキサンとの
混合物（特開昭53−17045）、ビニル基含有シロキ
サン単位を有するオルガノポリシロキサンとオル
ガノハイドロジエンポリシロキサンとの混合物
（特開昭53−15907）、ケイ皮酸基、アジド基を側
鎖に有するポリシロキサン、又は線状ポリシロキ
サンとビスアジド化合物の混合物（CMC社の
“基礎と応用 フオトポリマー”）等、公知のもの
が使用可能である。
コーンは、紫外線照射で容易に硬化するものであ
れば良く、例えば、マレイミド基又は置換原子も
しくは基を有するマレイミド基が結合したシロキ
サン単位有するオルガノポリシロキサン（特開昭
52−13907等）、アクリロキシ基又は置換原子もし
くは置換基を有するアクリロキシ基が結合したシ
ロキサン単位を有するオルガノポリシロキサン
（特開昭52−113805等）、メルカプト基含有シロキ
サン単位を有するオルガノシロキサン基含有シロ
キサン単位を有するオルガノポリシロキサンとの
混合物（特開昭53−17045）、ビニル基含有シロキ
サン単位を有するオルガノポリシロキサンとオル
ガノハイドロジエンポリシロキサンとの混合物
（特開昭53−15907）、ケイ皮酸基、アジド基を側
鎖に有するポリシロキサン、又は線状ポリシロキ
サンとビスアジド化合物の混合物（CMC社の
“基礎と応用 フオトポリマー”）等、公知のもの
が使用可能である。
上記の光硬化性シリコーンには必要に応じ、光
増感剤、熱重合防止剤、充てん剤等を添加するこ
とが出来る。さらに本発明の原版面上に電子写真
法でトナー画像形成時における光感度向上のため
に、該シリコーン層に電荷移働物質を添加しても
良い。
増感剤、熱重合防止剤、充てん剤等を添加するこ
とが出来る。さらに本発明の原版面上に電子写真
法でトナー画像形成時における光感度向上のため
に、該シリコーン層に電荷移働物質を添加しても
良い。
本発明を実施することにより次の効果が期待さ
れる。
れる。
直接法の電子写真プロセスにより鮮明で高解
像力の画像をインキ受理面にすることができる。
インキ反撥層に光導電物質を含有しないので、
十分なインキ反撥性が得られ、したがつて印刷の
際地汚れが発生しない。従来のようにトナー画
像とシリコーン面との接着性を問題にする必要が
なく、すぐれた耐刷力を安定して得ることができ
る。従来技術では難しかつたシリコーン面上の
トナーのカブリ除去が可能である。印刷板に不
可欠な画像の加筆、削除の修正処理ができる。
トナーの選択範囲が広く、液体現像も可能であ
る。インキの選択範囲が広い。乾式製版方式
である。
像力の画像をインキ受理面にすることができる。
インキ反撥層に光導電物質を含有しないので、
十分なインキ反撥性が得られ、したがつて印刷の
際地汚れが発生しない。従来のようにトナー画
像とシリコーン面との接着性を問題にする必要が
なく、すぐれた耐刷力を安定して得ることができ
る。従来技術では難しかつたシリコーン面上の
トナーのカブリ除去が可能である。印刷板に不
可欠な画像の加筆、削除の修正処理ができる。
トナーの選択範囲が広く、液体現像も可能であ
る。インキの選択範囲が広い。乾式製版方式
である。
次に本発明をさらに詳しく実施例をもつて説明
する。
する。
実施例
導電性処理した上質紙の支持体面上に、
ZnO49.5重量部、アクリル系樹脂バインダー10重
量部、ローズベンガル0.5重量部、トルエン100重
量部を混合して得られるZnOの分散液を乾燥時の
厚さが15μｍになるように塗布乾燥して、光導電
性マスター基板を作成した。この光導電性マスタ
ー基板に、アクリル系感光液（トプロン：東京応
化製）を乾燥塗厚が0.5μｍになるように転写塗工
後熱風乾燥して、該基板上にプライマー処理を行
つた。
ZnO49.5重量部、アクリル系樹脂バインダー10重
量部、ローズベンガル0.5重量部、トルエン100重
量部を混合して得られるZnOの分散液を乾燥時の
厚さが15μｍになるように塗布乾燥して、光導電
性マスター基板を作成した。この光導電性マスタ
ー基板に、アクリル系感光液（トプロン：東京応
化製）を乾燥塗厚が0.5μｍになるように転写塗工
後熱風乾燥して、該基板上にプライマー処理を行
つた。
厚さ9μｍの光透過性かつ絶縁性シート、ポリ
プロピレンフイルムの片面に、アクリルオキシプ
ロピルトリクロルシランとα，ω−ジヒドロキシ
ジメチルオルガノポリシロキサンの共縮重合物
100重量部、４−ジメチルアミノ−4′−トリメチ
ルシリルベンゾフエノン５重量部、トルエン1000
重量部から成る光硬化性シリコーン溶液を乾燥塗
厚が5μｍになる様に塗布乾燥した後、該光導電
性マスター基板と加圧ラミネートして、水無し平
版印刷用原版を得た。
プロピレンフイルムの片面に、アクリルオキシプ
ロピルトリクロルシランとα，ω−ジヒドロキシ
ジメチルオルガノポリシロキサンの共縮重合物
100重量部、４−ジメチルアミノ−4′−トリメチ
ルシリルベンゾフエノン５重量部、トルエン1000
重量部から成る光硬化性シリコーン溶液を乾燥塗
厚が5μｍになる様に塗布乾燥した後、該光導電
性マスター基板と加圧ラミネートして、水無し平
版印刷用原版を得た。
この版材を逆転電場法による電子写真装置に適
用し、前記ポリプロピレンフイルム面上にトナー
画像を作像した。次に該版材の上からメタルハラ
イドランプを使用して、80W／m2の光照射を約１
分間行つた後、光導電性マスター基板とポリプロ
ピレンフイルムとを剥離したところ、該基板上に
硬化シリコーンが、又該フイルム上に未硬化シリ
コーンが残存した。この様にして得られた光導電
性マスター基板をA.B.Dick MODEL320オフセ
ツト印刷機に使用し、湿し水なしに印刷したとこ
ろ、約10000枚の鮮明な印刷物が得られた。
用し、前記ポリプロピレンフイルム面上にトナー
画像を作像した。次に該版材の上からメタルハラ
イドランプを使用して、80W／m2の光照射を約１
分間行つた後、光導電性マスター基板とポリプロ
ピレンフイルムとを剥離したところ、該基板上に
硬化シリコーンが、又該フイルム上に未硬化シリ
コーンが残存した。この様にして得られた光導電
性マスター基板をA.B.Dick MODEL320オフセ
ツト印刷機に使用し、湿し水なしに印刷したとこ
ろ、約10000枚の鮮明な印刷物が得られた。
第１図は本発明で使用する版材の断面図、第２
図は本発明の水無し平版印刷原版の製造法を示す
工程図である。 １……導電性支持体、２……光導電層、３……
光導電性マスター基板、４……未硬化の光硬化シ
リコーンを主成分としたインキ反撥層、５……光
透過性かつ絶縁性シート、６……トナー画像、７
……硬化インキ反撥層、８……インキ受理面、９
……インキ。
図は本発明の水無し平版印刷原版の製造法を示す
工程図である。 １……導電性支持体、２……光導電層、３……
光導電性マスター基板、４……未硬化の光硬化シ
リコーンを主成分としたインキ反撥層、５……光
透過性かつ絶縁性シート、６……トナー画像、７
……硬化インキ反撥層、８……インキ受理面、９
……インキ。
Claims (1)
- １ 光導電性マスター基板上に未硬化の光硬化性
シリコーン化合物を主成分とする透明なインキ反
撥層を設け、更に光透過性かつ絶縁性シートを設
けた版材の表面上に、逆転電場法による電子写真
プロセスを用いてトナー画像を形成し、しかる後
トナー画像の上から全面紫外線露光を行い、非画
像部の該インキ反撥層を硬化させた後、該光透過
性かつ絶縁性シートを取り除くことにより、硬化
インキ反撥層からなる非画像部と該光導電性マス
ター基板の露出面からなる画像部とを形成させる
ことを特徴とする水無し平版印刷原版の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58085022A JPS59211051A (ja) | 1983-05-17 | 1983-05-17 | 水無し平版印刷原版の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58085022A JPS59211051A (ja) | 1983-05-17 | 1983-05-17 | 水無し平版印刷原版の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59211051A JPS59211051A (ja) | 1984-11-29 |
| JPH0415943B2 true JPH0415943B2 (ja) | 1992-03-19 |
Family
ID=13847099
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58085022A Granted JPS59211051A (ja) | 1983-05-17 | 1983-05-17 | 水無し平版印刷原版の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59211051A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0419545Y2 (ja) * | 1985-10-16 | 1992-05-01 | ||
| US5051329A (en) * | 1989-12-19 | 1991-09-24 | Dximaging | Reversal development of latent electrostatic images on xeroprinting masters |
| US5417164A (en) * | 1991-07-24 | 1995-05-23 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Thermosensitive recording material and thermosensitive recording method |
-
1983
- 1983-05-17 JP JP58085022A patent/JPS59211051A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59211051A (ja) | 1984-11-29 |
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