JPH04162231A - 光磁気記録方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光磁気記録媒体に対して磁気ヘッドを摺動さ
せる新規な光磁気記録方式に関するものであり、さらに
はこの光磁気記録方式に用いる磁気ヘッドに関するもの
である。

〔発明の概要〕

本発明は、膜厚０．０１〜５０μｍの耐摩耗性保護膜を
介して光磁気記録媒体に対して磁気ヘッドを摺動させる
ことにより、低磁界で記録可能な新規な光磁気記録方式
を提供するものである。

さらに本発明は、光磁気記録媒体に対する進入側端部を
曲面形状とするとともに、光磁気記録媒体側の最大突起
よりも後退した位置に磁界発生手段を設けることにより
、光磁気記録媒体に対して円滑に摺動する磁気ヘッドを
提供するものである。

〔従来の技術〕

光磁気記録方式は、磁性薄膜を部分的にキュリー点また
は温度補償点を越えて昇温し、この部分の保磁力を消滅
させて外部から印加される記録磁界の方向に磁化の向き
を反転することを基本原理とするもので、光ファイルシ
ステムやコンピュータの外部記憶装置、あるいは音響、
映像情報の記録装置等において実用化されつつある。

そして、この光磁気記録方式に用いられる光磁気記録媒
体としては、ポリカーボネート等からなる透明基板の一
生面に、膜面と垂直方向に磁化容易軸を有し且つ磁気光
学効果の大きな記録磁性層（例えば希土類−遷移金属合
金非晶質薄Ｍ）や反射層、誘電体層を積層することによ
り記録部を形成し、透明基板側からレーザ光を照射して
信号の読み取りを行うようにしたものが知られている。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところで、光磁気記録方式には、大きく分けて光変調方
式と磁界変調方式があり、オーバーライド可能であると
いうことから、磁界変調方式への期待が高まっている。

上記磁界変調方式は、印加磁界を高速で反転することに
より磁性薄膜に情報信号を書き込むものであって、磁界
の印加は通常は磁界発生手段を有する磁気ヘッドにより
行われる。

この場合、高速反転磁界を印加する磁気ヘッドでは、諸
々の制約から非常に小さな磁場しか発生できず、なるべ
く磁気ヘッドを記録磁性層に近づける必要がある。例え
ば、データ記録用の光磁気ディスクの場合、光磁気ディ
スク面と磁気ヘッド間の距離を０．ＩＥＩＩ１１以下に
しなければならない。

このように光磁気ディスクと磁気ヘットの距離か狭まる
と、磁気ヘッドのクラッシュ等を防止するために、光磁
気ディスク側の寸法精度を高めて面振れを抑える必要が
ある。

しかしながら、基板かポリカーボネート等からなる光磁
気ディスクでは、面振れの抑制にも限度があり、光学ピ
ックアップのフォーカスサーボのように磁気ヘッドと光
磁気ディスク面間の距離を一定に保つようなサーボをか
けるか、あるいはハードディスクのように、いわゆるフ
ライングヘッドを採用せざるを得ない。

ところが、特に回転数３００〜６００　ｒｐｍ程度の低
速回転のシステムでは、フライングヘッドは使えず、前
記距離をコントロールするためには複雑なサーボを必要
とする。

また、回転数３６０Ｏｒｐｍ程度の高速回転のシステム
の場合、磁気ヘッドがエアー・ベアリングを介して浮上
するフライングヘッドの採用が可能であるが、スタート
とストップ時のクラッシュの問題を回避する必要がある
。

さらに、サーボをかけてディスクとの距離を一定とする
場合にも、あるいはフライングヘッドを採用する場合に
も、いずれにしても磁気ヘッドと光磁気ディスクの間に
距離を持たせるものであるので、光磁気ディスク側にお
いても、記録磁性層を低磁界で書き込みができるような
磁性薄膜としなければならない。

そこで本発明は、上述の従来の実情に鑑みて提案された
ものであって、フライングヘッドや複雑なサーボを必要
とすることなく、低磁界記録を行うことが可能な光磁気
記録システムを提供することを目的とし、さらにはかか
る光磁気記録システムに用いて好適な磁気ヘッドを提供
することを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

上述の目的を達成するために、本発明の光磁気記録方式
は、膜厚０．０１〜５０μｍの耐摩耗性保護膜を有する
光磁気記録媒体に対し、磁気ヘッドを前記耐摩耗性保護
膜を介して摺動させることを特徴とするものである。

さらに、本発明の磁気ヘッドは、少なくとも光磁気記録
媒体に対する進入側端部が曲面形状となされ、光磁気記
録媒体側の最大突起よりも後退した位置に磁界発生手段
が設けられてなることを特徴とするものである。

〔作用〕

本発明においては、磁気ヘッドを光磁気記録媒体に対し
て摺動させているために、記録磁性層までの距離が十分
に小さなものとなり、磁気ヘッドから発生する磁界は小
さなもので済む。また、前記磁気ヘッドは、光磁気記録
媒体上に形成された耐摩耗性保護膜を介して摺動するの
で、特別なサーボ等は必要なく、クラッシュ等の問題も
解消される。

一方、本発明の磁気ヘッドは、光磁気記録媒体に対する
進入側端部が曲面形状となされているので、円滑に摺動
し、光磁気記録媒体を傷付けることはない。また、磁界
発生手段が摺動面から若干後退した位置に設けられてい
るので、摺動によって磁界発生手段が損傷することはな
く、さらに摺動面を平坦化することが可能となって負荷
変動によるエラーの増加が解消される。

〔実施例〕

以下、本発明を適用した実施例について、図面を参照し
ながら詳細に説明する。

第１図は、光磁気記録装置の概略構成を示すもので、こ
の光磁気記録装置においては、光磁気ディスク（１）を
挾んで光学ピックアップ（２）と磁気ヘッド（３）とが
対向配置されている。

光磁気ディスク（１）は、第２図に示すように、基板（
４）の−主面に記録部（５）を積層し、さらにこの記録
部（５）の表面を紫外線硬化樹脂層（６）及び耐摩耗性
保護膜（７）で覆ってなるものである。

基板（４）は、厚さ数−程度（例えば］、２ｎｍ）の円
板状の透明基板であって、その材質としては、アクリル
樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、エ
ポキシ樹脂等のプラスチック材料の他、ガラス等も使用
される。

なお、この基板（４）表面のうち、前記記録部（５）を
設ける側の表面には、通常は再生時に使用するレーザ光
波長のおよそ４分の１の深さを持った案内溝や番地符号
ビット等（いずれも図示は省略する。）が設けられる。

記録部（５）は、記録磁性層（８）、誘電体層（９）、
　（１０）及び反射層（１１）よりなる４層構造を存し
、基板（４）上に第１の誘電体層（９）、記録磁性層（
８）、第２の誘電体層（１０）、反射層（１１）なる順
序で積層されている。

これらのうち、第１の誘電体層（９）及び第２の誘電体
層（ｌＯ）としては、酸化物や窒化物等が使用可能であ
るが、誘電体層（９）、　（１０）中の酸素が記録磁性
層（８）に悪影響を及ぼす虞れがあることから窒化物が
より好ましく、酸素及び水分を透過させず且つ使用レー
ザ光を十分に透過し得る物質として窒化珪素あるいは窒
化アルミニウム等が好適である。

また、上記記録磁性層（８）は、膜面に垂直な方向に磁
化容易方向を有する非晶質の磁性薄膜であって、磁気光
学特性に優れることは勿論、室温にて大きな保磁力を持
ち、且つ２００℃近辺にキュリー点を持つことが望まし
い。このような条件に叶った記録材料としては、希土類
−遷移金属合金非晶質薄膜等が挙げられ、なかでもＴｂ
ＦｅＣ。

系非晶質薄膜が好適である。この記録磁性層（８）には
、耐蝕性を向上させる目的で、Ｃｒ等の添加元素が添加
されていてもよい。

反射層（１１）は、前記第２の誘電体層（１０）との境
界でレーザ光を７０％以上反射する高反射率の膜により
構成することが好ましく、非磁性金属の蒸着膜が好適で
ある。また、この反射層（１１）は、熱的に良導体であ
ることが望ましく、入手の容易さや成膜の容易さ等を考
慮すると、アルミニウムが適している。

これらの各層は、蒸着やスパッタ等の、いわゆる気相メ
ツキ技術により形成される。このとき各層の膜厚は任意
に設定することができるが、通常は数百〜数千人程度に
設定される。これらの膜厚は、各層単独での光学的性質
のみならず、組み合わせによる効果を考慮して決めるこ
とが好ましい。

これは、例えば記録磁性層（８）の膜厚がレーザ光の波
長に比べて薄い場合に、レーザ光が記録磁性層（８）を
透過して各層境界で反射した光と多重干渉し、膜厚の組
み合わせにより記録磁性層（８）の実効的な光学及び磁
気光学特性が大きく変動するためである。

紫外線硬化樹脂層（６）は、記録部（５）表面の平坦化
や保護を目的として設けられるものであるが、後述の耐
摩耗性保護膜（７）の材質、膜厚等によっては設けなく
てもよい。この紫外線硬化樹脂層（６）の膜厚は、３〜
５μｍ程度であり、通常はアクリル系紫外線硬化樹脂等
が用いられる。

以上が光磁気ディスク（１）の基本的な構成であるが、
本発明では磁気ヘッド（３）をディスク面に対して摺動
させながら磁界変調記録を行うため、前記紫外線硬化樹
脂層（６）上、あるいは記録部（５）上に直接耐摩耗性
保護膜（７）を設け、摺動による摩耗の抑制や磁気ヘッ
ド（３）の走行性の確保を図るようになされている。以
下、この耐摩耗性保護膜（７）について説明する。

光磁気ディスク（１）の磁気ヘッド摺動面に形成される
耐摩耗性保護膜（７）は、基本的には熱硬化性樹脂や電
子線硬化樹脂、紫外線硬化樹脂等の硬化膜からなるもの
であるか、その他にＡＩ！、　Ｎｊ等の耐摩耗材をメツ
キ、蒸着、スパッタ等の手法により形成したものや、ポ
リテトラフルオロエチレン等のような潤滑性高分子材料
あるいは不織繊維等の被膜であってもよい。

また、上記耐摩耗性保護膜（７）には、潤滑粉末や研磨
材等を添加し、走行性、耐久性のより一層の改善を図る
ようにしてもよい。この場合、使用される潤滑粉末とし
ては、カーボン（カーボンブラックやグラファイト粉末
等）やポリテトラフルオロエチレン粉末（いわゆるテフ
ロン粉末）等が挙げられる。研磨材としては、アルミナ
や酸化クロム（いわゆるグリーン）等が好適である。そ
の他、γ−Ｆｅｔｕｓ針状磁性粉末やＣＯ含浸（ドープ
）γ−Ｆｅｔｕｓ針状磁性粉末、Ｃｏ被着（コーティン
グ）γ−ＦｅｔＯｚ針状磁性粉末、金属磁性粉末、Ｃｒ
０ｗ磁性粉末、バリウムフェライト等の磁性粉末を研磨
材として使用することも可能である。これら磁性粉末を
含んだ磁性塗膜は、磁気テープ等により耐久性が高いこ
とが実証されており、また透磁率が高いことから小さな
磁界でも十分に記録部（５）に磁界を与えられる可能性
がある。

さらに、上記耐摩耗性保護膜（７）に磁気記録媒体の分
野等で広く用いられている潤滑剤や極圧剤。

カップリング剤等を内添あるいは塗布し、磁気ヘッド接
触時の損傷を防止するようにしてもよい。

潤滑剤としては、オレイン酸等の高級脂肪酸や脂肪酸エ
ステル等、あらゆる種類の潤滑剤か使用可能であり、極
圧剤も従来公知のものがいずれも使用可能である。カッ
プリング剤としては、シランカップリング剤やチタンカ
ップリング剤、ジルコアルミネート系カップリング剤等
、各種のカップリング剤を使用することができる。これ
らカップリング剤を使用することで、前述の樹脂と基板
。

さらには研磨材等の粉末成分間を化学的に結合させ、膜
強度や基板に対する接着性を高めることが可能である。

上述の耐摩耗性保護膜（７）は、必ずしも単層である必
要はなく、多層化することも可能である。

この場合、各層の樹脂の種類や添加物の種類等を選定す
ることで、種々の要求に対応することが可能となる。あ
るいは、耐摩耗性保護膜（７）を金属材料により構成す
る場合には、下層を硬い金属膜（あるいはセラミクス等
の非金属膜でも良い。）とするとともに、上層をＡｕ、
Ａｇ、Ｐｂ等の軟らかい金属膜とし、衝撃や摩擦を減少
するような構造とすることも可能である。

以上の構成を有する耐摩耗性保護膜（７）においては、
良好な磁界変調記録を行うために膜厚を適切な値に設定
する必要がある。

すなわち、前記耐摩耗性保護ｌｌｉ　（７）の膜厚は磁
気ヘッド（３）と記録部（５）との距離を決定するが、
このとき磁気ヘッド（３）が記録部（５）からどれだけ
離れていてもよいわけではなく、記録に必要な最低限度
の磁界が記録部（５）の記録磁性層（８）に届く範囲と
しなければならない。磁気ヘッド（３）側から言えば、
同じ磁界を記録磁性層（８）に与えるための記録電流を
十分に小さくし得る距離としなければならない。例えば
、記録磁性層（８）において、±２００エルステッドの
磁界を発生するためには、磁気ヘッド（３）と記録磁性
層（８）の距離が０．４ｍ　（４００ｕｍ）であると、
およそ±ＩＡの記録電流が必要となるのに対して、前記
距離か０．０４ｍｍ　（４０μｍ）であると、およそ±
０．５　Ａの記録電流で済む。

下限については、耐久性を確保するに足る膜厚であれば
よく、またこの耐摩耗性保護膜（７）に若干のスクラッ
チが入っても記録部（５）を傷付けることのないような
範囲とすればよい。

このような点に鑑み、上記耐摩耗性保護膜（７）の膜厚
は、ここでは０．０１〜５０μｍとする。この膜厚が５
０μｍを越えると、記録磁性層（８）に達する磁界の強
さが小さなものとなり、記録の際に大きな記録電流が必
要となる。逆に、前記膜厚か０．０１未満であると、十
分な耐久性を確保することが難しくなり、またスクラッ
チ等により記録部（５）を損傷する虞れがある。

一方、磁気ヘッド（３）は、磁気ディスク（１）に対し
てなるべく損傷を与えることのない形状とすることは勿
論、磁気ヘッド（３）自体に設けられた磁界発生手段に
対してもダメージを受けることのないような形状とする
必要がある。そこで、本発明においては、光磁気ディス
ク（１）に対する進入側端部を曲面形状とするとともに
、コイル等の磁界発生手段を光磁気ディスク摺動面から
後退した位置に配置することとする。

第３図及び第４図は、使用される磁気ヘッドの一例を示
すもので、この磁気ヘッドは、フェライトコア（２１）
内に磁界発生手段であるコイル（２２）が埋め込まれて
なるものである。

上記フェライトコア（２１）は、Ｍ　ｎ　−Ｚ　ｎフェ
ライトやＮ　１−Ｚｎフェライトの多結晶あるいは単結
晶からなるもので、光磁気ディスク（１）の回転中に磁
気ヘッドが基本的に接触していることか前提となってい
るため、摺動面の周囲が丸みを付けて曲面（２１ａ）と
なされ、例えばフェライトコア（２１）のエツジ部で光
磁気ディスク（１）を傷付けることかないような形状と
なされている。

そして、このフェライトコア（２１）の摺動面の略中央
部には、矩形状の凹部（２１ｂ）が設けられ、該凹部（
２１ｂ）の底面にコイル（２２）が形成されている。

したがって、コイル（２２）は、光磁気ディスク（１）
に対する摺動面から若干後退した位置に形成されること
になる。

コイル（２２）は、銅等の導電性金属をメツキあるいは
蒸着した後、エツチングすることにより形成される。い
わゆるフラットコイルであってもよいし、銅線や銅箔等
を巻回した巻線状のものであってもよい。

このコイル（２２）の端子部は、上記フェライトコア（
２１）に設けられたスルーホール（２３）を介して裏面
（摺動面とは反対側の面）に引き出され、駆動回路と接
続されている。

また、上記コイル（２２）が磁気ヘッドの摺動面に直接
露出していると、摩耗や剥離等によりコイル（２２）を
破損する虞れがあることから、上記フェライトコア（２
１）の凹部（２１ｂ）内にガラス、プラスチック、シリ
コン等の耐摩耗材（２４）を充填し、前記コイル（２２
）が摺動面に露呈することがないような状態としている
。このように、コイル（２２）をフェライトコア（２１
）の凹部（２１ｂ）に埋め込む形とすることにより、コ
イル（２２）の損傷を防止できるばかりでなく、磁気ヘ
ッドの摺動面を平坦化することもでき、光磁気ディスク
（１）へ与えるダメージも少ないものとすることができ
る。また、磁気ヘッドの摺動面を平坦化することで、摩
擦係数の変動を抑えることができ、ディスク駆動モータ
への負荷が一定となるばかりか、負荷変動によるエラー
の増加を解消することも可能となる。

上述の構成の磁気ヘッドにおいては、フェライトコア（
２１）の形状を変更し、低摩擦係数化、高効率化等を図
るようにしてもよい。

第５図に示す磁気ヘッドは、フェライトコア（２１）の
凹部（２１ｂ）の周囲に角部が曲面状となされた凸部（
２１ｃ）を設けたもので、これによって光磁気ディスク
（１）に対する実質的な接触面積を低減し、摩耗量を低
減することが可能となる。なお、この場合、フェライト
コア（２１）の凹部（２１ｂ）内には、先の例のように
充填材（２４）を充填してもよいが、平坦化の必要がな
いので場合によっては充填材（２４）を充填しなくとも
よい。

また、第６図に示す磁気ヘッドは、フェライトコア（２
１）の凹部（２１ｂ）の中央部に、コイル（２２）のセ
ンター孔に嵌合するセンターコア（２１ｄ）を一体向に
設けたもので、低周波信号用の磁気ヘッドに適する。

上述の磁気ヘッドは、いずれもフェライトコア（２１）
の凹部（２１ｂ）内にコイル（２２）を埋め込んでなる
ものであるが、第７図及び第８図に示すように、単磁極
ヘッド（３１）をガード材（３２）に組み込んだ磁気ヘ
ッドも使用可能である。

この磁気ヘッドは、棒状のセンターコア（３３）にコイ
ルボビン（３４）を嵌合配設してなる単磁極ヘッド（３
１）を、ガード材（３２）の中央部に配置したものであ
る。

ガード材（３２）は、チタン酸カリウム等のセラミクス
等からなり、前記センターコア（３３）を両側から挾み
込む一対のサイドガード材（３２ａ）、　（３２ｂ）と
、サイドガード材（３２ａ）、　（３２ｂ）間でのセン
ターコア（３３）の位置を決める一対のセンターガード
材（３２Ｃ）。

（３２ｄ）とからなる。

したがって、単磁極ヘッド（３１）のセンターコア（３
３）は、これらセンターガード材（３２ｃ）、　（３２
ｄ）及びサイドガード材（３２ａ）、　（３２ｂ）によ
って周囲を囲まれ、光磁気ディスク（１）に対する摺動
面で見たときにガード材（３２）の中央部に先端面（３
３ａ）を露呈する形になっている。

なお、前記構成の磁気ヘッドにおいても、ガート材（３
２）の摺動面側周縁部は、曲面形状とされており、光磁
気ディスク（１）に傷を付けることがないようにされて
いる。また、単磁極ヘッド（３１）のうち、磁界発生手
段であるコイルボビン（３４）は、光磁気ディスク（１
）対する摺動面に露呈することはなく、摺動面から後退
した位置に配置されていることになる。

このように構成される磁気ヘッドにおいては、強い磁界
を発生することが可能であることからトラック輻を広げ
ることができ、光学ピックアップ（２）から照射される
レーザ光のビームスポットとの位置合わせも容易である
。また、この磁気ヘッドの基本構成は、いわゆるフロッ
ピーディスク用の磁気ヘッドと同じであり、フロッピー
ディスク用磁気ヘッドよりも消去ヘッド等を省略した分
だけ単純な形であるので、製造も容易である。

ところで、上述の構成を有する磁気ヘッドにおいては、
いずれの場合にも高周波になるほど発熱が大きくなり、
また光磁気ディスク（１）との摺動による摩擦熱も発生
する。これら発熱は、磁気ヘッドの熱破壊の原因となっ
たり、コイル内抵抗を増加させて発生磁界を減少させる
等の悪影響を及ぼす。

そこで、使用する磁気ヘッド（３）に冷却機構を設け、
前記発熱を抑えながら記録を行うことが好ましい。この
場合、冷却機構としては、ベルチェ素子を用いたものや
、フィンを設けて空冷するもの等が挙げられる。

本発明の光磁気記録方式においては、上述の磁気ヘッド
（３）が光磁気ディスク（１）に対して摺動した状態で
記録が行われる。このとき、磁気ヘッド（３）の光磁気
ディスク（１）の接触状態は、（ａ）ディスク静止状態
の時に接触、ディスク回転時に浮上（いわゆるＣ８Ｓ方
式） （ｂ）ディスク静止状態の時にもディスク回転時にも接
触 の２形態が考えられるが、低磁界化等の点で後者が有利
である。また、低線速（１，２〜１．４ｍ／秒）の光磁
気ディスクシステムにおいては、前者は採用できないが
、後者によって良好な摺動型光磁気記録システムの構築
が可能となる。

摺動に際しては、光磁気ディスク（１）に耐摩耗性保護
膜（７）が設けられているので、光磁気ディスク（１）
と磁気ヘッド（３）との距離が小さなものとされ、低磁
界記録が可能となるとともに、耐久性も十分に確保され
ている。

なお、磁気ヘッド（３）の摺動に際しては、いわゆる片
当たりしないように、ジンバルバネ等に装着して使用す
ることが好ましい。

次に、実際に第２図に示す構成を有する光磁気ディスク
を作成し、磁気ヘッドを摺動させて記録を行い、その特
性を評価した。

実施例１ 作成した光磁気ディスクの記録部は４層構造であり、そ
の膜厚は下記の通りである。

第１の誘電体層　：　　ＳＩ３Ｎ４　　　１０００人記
録磁性層　　　：Ｔｂ−ＦｅＣｏ−Ｃｒ２３０人 第２の誘電体層　：　　５ｉｓＮ、　　　　　５００人
反射層　　　　　：　　ｌ　　　　　　　７００人紫外
線硬化樹脂層＝　　　　　　　　　　３μｍそして、上
記紫外線硬化樹脂層上に下記の手法により耐摩耗性保護
膜を形成した。

塗料の組成 カーボン（平均粒径２００μ）・・・１００重量部塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体 ・・・１００重量部 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体　
　　　　　　　　　　・・・１００重量部上記組成物を
メチルエチルケトン・トルエン・シクロヘキサノン混合
溶媒（ｌ・１：１）と共にボールミルにて４０時間混練
した。

次いで、熱硬化剤（商品名コロネー）Ｌ）２０重量部及
び脂肪族炭化水素系潤滑剤（オリーブオイル）１．５重
量部を加え、２０分間撹拌した。

これを上記紫外線硬化樹脂層上にドクターブレードを用
いて隙間２５．４μｍで塗布し、乾燥した。

乾燥後の塗膜の膜厚は２０μｍであった。

一方、磁気ヘッドには、第３図及び第４図に示す構造の
ものを用いた。また、この磁気ヘッドの磁界発生手段で
あるコイルは、直径３０μｍの銅線を２４本束ね、これ
を２７回巻回（５回×５段）したものを用いた。

上記磁気ヘッドを上記耐摩耗性保護膜を介して光磁気デ
ィスクに摺動させ、線速１．２〜ｔ、＋ｍ／秒、光学ピ
ックアップの記録パワー４．５ｍＷ、再生パワー０．５
ｍＷで記録再生を繰り返し行った。

その結果、低磁界での記録か可能となり、耐久性の点で
も優れたものであった。

実施例２ 先の実施例１と同様の手法により耐摩耗性保護膜を膜付
けした後、ステアリン酸２重量部とエタノール１００重
量部の混合液をステアリン酸の箇布厚が２ｇ／ｒｒＩど
なるように塗布した。

この光磁気ディスクに対して、先の実施例Ｉと同様に磁
気ヘッドを摺動させて記録再生を繰り返したところ、や
はり低磁界での記録が可能であり、また耐久性はさらに
改善された。

〔発明の効果〕

以上の説明からも明らかなように、本発明においては、
膜厚０．０１〜５０μｍの耐摩耗性保護膜を介して光磁
気記録媒体に対して磁気ヘッドを摺動させているので、
磁気ヘッドと記録磁性層の距離を複雑なサーボ等を要す
ることなく小さな値に安定に維持することができる。し
たがって、磁界変調磁気ヘッドは、発生する磁界が小さ
なものであっても使用可能であり、また大磁界を発生す
る能力があるならば、印加電流を減らして省電力化を図
ることが可能である。さらには、磁気ヘッドの周波数特
性を高周波域まで確保することか可能となり、高速転送
レート及び高密度化を図ることが可能となる。逆に、光
磁気記録媒体側から見たときには、磁界感度の高い記録
磁性層である必要がなくなり、また記録磁性層が低磁界
で記録可能な膜である場合には、磁界に対するマージン
を広くとることが可能となる。

また、本発明の光磁気記録方式においては、磁気ヘッド
を耐摩耗性保護膜を介して摺動させているので、摺動に
よる光磁気記録媒体の摩耗を大幅に抑制することが可能
であり、耐久性を確保することが可能である。

一方、本発明において用いられる磁気ヘッドは、光磁気
記録媒体進入側端部が曲面形状とされていることから、
円滑な走行か可能であり、光磁気記録媒体を不用意に損
傷することもない。また、磁界発生手段が光磁気記録媒
体側の最大凸部よりも後退した位置に配置されているこ
とから、この磁界発生手段自体を損傷する虞れもなく、
光磁気記録媒体に対する摺動状態も良好なものとするこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を適用した光磁気記録方式を説明するだ
めの模式図である。 第２図は本発明の光磁気記録方式に用いられる光磁気記
録媒体の構成例を示す要部拡大断面図である。 第３図は本発明の光磁気記録方式に用いられる磁気ヘッ
ドの一例を示す概略斜視図であり、第４図はその断面図
である。 第５図は磁気ヘッドの他の例を示す断面図であり、第６
図は磁気ヘッドのさらに他の例を示す断面図である。 第７図はフロッピーディスクヘッドタイプの磁気ヘッド
の一例を示す概略斜視図であり、第８図はその断面図で
ある。 １・・・光磁気ディスク ２・・・光学ピックアップ ３・・・磁気ヘッド ７・・・耐摩耗性保護膜

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）膜厚０．０１〜５０μｍの耐摩耗性保護膜を有す
   る光磁気記録媒体に対し、磁気ヘッドを前記耐摩耗性保
   護膜を介して摺動させることを特徴とする光磁気記録方
   式。
2. （２）少なくとも光磁気記録媒体に対する進入側端部が
   曲面形状となされ、光磁気記録媒体側の最大突起よりも
   後退した位置に磁界発生手段が設けられてなる請求項（
   １）記載の光磁気記録方式用の磁気ヘッド。