JPH05242555A - 光磁気ディスク用磁気ヘッドおよび光磁気ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 摺動記録方式において、光磁気ディスク用磁
気ヘッドの摺動子表面および光磁気ディスクの保護膜表
面の抵抗を１０¹³Ω／□未満と低く抑える。 【効果】 摺動子−保護膜間の動摩擦係数が小さくな
り、さらには保護膜や摺動子のゴミの付着が防止され、
光磁気ディスクと磁気ヘッドの摺動性が良好なものとな
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、摺動記録方式に採用し
て好適な光磁気ディスクおよび光磁気ディスク用磁気ヘ
ッドに関する。

【０００２】

【従来の技術】光磁気記録方式は、磁性薄膜を部分的に
キュリー点または温度補償点を越えて昇温し、この部分
の保磁力を消滅させて外部から印加される記録磁界の方
向に磁化の向きを反転することを基本原理とするもの
で、光ファイルシステムやコンピュータの外部記憶装
置、あるいは音響、映像情報の記録装置等において実用
化されつつある。

【０００３】この光磁気記録方式に用いられる光磁気デ
ィスクとしては、ポリカーボネート等からなる透明基板
の一主面に、膜面と垂直方向に磁化容易軸を有し、且つ
磁気光学効果の大きな記録磁性層（例えば希土類−遷移
金属合金非晶質薄膜）や反射層，誘電体層を積層するこ
とにより記録部を形成し、さらにこの記録部上に紫外線
硬化樹脂等よりなる保護膜を覆う如く形成したものが知
られている。

【０００４】ところで、光磁気記録方式には、大きく分
けて光変調方式と磁界変調方式があるが、このうち磁界
変調方式は、オーバーライト可能であることから注目さ
れており、たとえば汎用タイプである直径６４ｍｍ程度
の小型光磁気ディスク（いわゆるミニディスク）の記録
方式として採用が検討されている。

【０００５】上記磁界変調方式は、印加磁界を高速で反
転することにより磁性薄膜に情報を書き込むものであっ
て、磁界の印加は通常磁界発生手段を有する磁気ヘッド
によって行われる。この場合、高速反転磁界を印加する
磁気ヘッドでは、諸々の制約から非常に小さな磁界しか
発生できず、磁気ヘッドをなるべく記録磁性層と近接さ
せなければならない。

【０００６】そこで、このような磁界変調方式において
は、磁気ヘッドを磁気ディスクのディスク面に対して直
接接触させ、摺動させながら記録を行う摺動記録方式の
採用が検討されている。この摺動記録方式を採用すれ
ば、上記高速反転磁界を印加する磁気ヘッドのように発
生する磁界が小さい場合でも、記録磁性層に対して十分
な磁力が印加でき、また大磁界を発生する能力があるな
らば、印加電力を減らして省電力化を図ることができ
る。さらに、ディスク面に対してヘッドが浮上する方式
では、ディスク面とヘッド間の距離を常に一定に保つた
めの複雑サーボ機構が必要であるが、摺動記録方式で
は、このようなサーボ機構が不要である。したがって、
装置の簡易化、小型化にも有利となる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、摺動記録方
式において使用される磁気ヘッドには、ディスク面と直
接接触する部分に、摺動を円滑にするための摺動子が取
付けられる。この摺動子は、通常、シート状のプラスチ
ックよりなり、たとえば磁気ヘッドの磁界発生部を覆う
如く取付けられる。このようにして摺動子が取付けられ
た磁気ヘッドは、光磁気ディスクの保護膜側に配置さ
れ、該保護膜面に摺動子を摺接させながら光磁気ディス
クに磁界を印加することとなる。

【０００８】ところが、このようなプラスチックよりな
る摺動子を保護膜面に摺接させると、摺動子や保護膜面
が部分的に帯電する。これにより、両者の間の摩擦力が
大きくなり、さらには摺動子や保護膜面にゴミが付着
し、摺動に支障を来すといった不都合が生じる。そこ
で、本発明はこのような従来の実情に鑑みて提案された
ものであり、光磁気ディスクに磁気ヘッドを摺動させた
ときに、摺動子や保護膜が帯電せず、良好な摺動性が得
られる光磁気ディスク用磁気ヘッドおよび光磁気ディス
クを提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の光磁気ディスク用磁気ヘッドは、磁界発
生手段と光磁気ディスクに摺動する摺動子を有する光磁
気ディスク用磁気ヘッドにおいて、上記摺動子表面の抵
抗が１０¹³Ω／□未満であることを特徴とするものであ
る。

【００１０】さらに、本発明の光磁気ディスクは、透明
基板上に記録磁性層，保護膜が順次成膜されてなる光磁
気ディスクにおいて、上記保護膜表面の抵抗が１０¹³Ω
／□未満であることを特徴とするものである。

【００１１】

【作用】磁気ヘッドの摺動子表面および光磁気ディスク
の保護膜表面の抵抗を１０¹³Ω／□未満と低く抑える
と、保護膜と摺動子を摺接させることによって生じる保
護膜，摺動子の帯電が防止される。したがって、保護膜
や摺動子の帯電によって誘起される保護膜，摺動子間の
摩擦力の増大、保護膜，摺動子へのゴミ等の付着が抑え
られ、摺動記録方式によって記録再生を行ったときに、
摺動子や保護膜に傷等が生じなくなる。

【００１２】

【実施例】本発明の好適な実施例について図面を参照し
ながら説明する。

【００１３】先ず、図１は、本実施例の光磁気ディスク
に対して情報信号を記録するための光磁気記録装置の概
略構成図を示すもので、この光磁気記録装置は、光磁気
ディスク１を挟んで光学ピックアップ２と磁気ヘッド３
とが対向配置され、前記光磁気ディスク１に対して磁気
ヘッド３を摺動させながら信号記録を行うものである。

【００１４】上記磁気ヘッド３は、図２に示すように、
磁界発生手段３４と光磁気ディスク１に摺接する摺動子
３２を有して構成され、該磁界発生手段３４に磁気ヘッ
ド駆動回路により制御された駆動電流が供給されること
により、外部磁界を発生する。上記摺動子３２は、光磁
気ディスク１に対する磁気ヘッド３の摺動を円滑にする
ためのものであり、シート状のプラスチックよりなり、
磁界発生手段３４の下端部を覆う如く取付けられてい
る。

【００１５】本発明においては、この摺動子３２と光磁
気ディスク１の摺接をより円滑化するために、上記摺動
子３２の表面抵抗を１０¹³Ω／□未満に抑えることとす
る。摺動子３２の表面抵抗を１０¹³Ω／□未満に抑える
ことにより、摺動子３２と光磁気ディスク１が摺接する
際に生じる帯電が防止され、帯電によって生じる摺動子
−光磁気ディスク間の摩擦力の増大、摺動子や光磁気デ
ィスクへのゴミの付着が抑えられ、摺接が円滑なものと
なる。

【００１６】摺動子３２となるプラスチックシートは、
たとえば導電性カーボン等を含有させることにより表面
抵抗を１０¹³Ω／□未満に抑えることができる。また、
さらにプラスチックシートを凹条部と凸条部を有するい
わゆる波板状に屈曲させると、光磁気ディスクと摺動子
の間の摩擦係数が低減し、良好な摺動特性を得る上で有
利である。なお、プラスチックシートを波板状とする場
合、光磁気ディスクと接触する側において凸条部の幅が
凹条部の幅よりも広くなるような波状とすると良い。ま
た、凹凸の高さ（波の振幅に相当する）は１０μｍ以下
とすることが好ましい。

【００１７】なお、上記磁気ヘッド３は、たとえば支持
アーム４０に加圧バネ３９を介して取付けられた磁気ヘ
ッド支持体３８に取付けられる。上記支持アーム４０
は、軸４１を中心にして光磁気ディスクの内外周に移動
操作可能とされている。したがって、上記磁気ヘッド３
は、上記加圧バネ３９によって上記光磁気ディスク１に
対し、所定の圧力で圧接されながら信号記録領域全面に
亘り磁界を印加することとなる。

【００１８】一方、このような磁気ヘッドによって摺動
される光磁気ディスク１は、図３に示すように、基板４
の一主面に記録部５を積層し、さらにこの記録部５の表
面を保護膜６で覆ってなるものであり、上記保護膜８が
上記磁気ヘッド３の摺動子３２に摺接される。

【００１９】基板４は、厚さ数ｍｍ程度の円板状の透明
基板であって、その材質としては、アクリル樹脂，ポリ
カーボネート樹脂，ポリオレフィン樹脂，エポキシ樹脂
等のプラスチック材料の他、ガラス等も使用される。な
お、この基板４表面のうち、前記記録部５を設ける側の
表面には、通常再生時に使用するレーザ光波長のおよそ
４分の１の深さを持った案内溝や番地符号ピット等（い
ずれも図示は省略する。）が設けられる。

【００２０】記録部５は、記録磁性層７，誘電体層８，
９及び反射層１０よりなる４層構造を有し、基板４上に
第１の誘電体層８，記録磁性層７，第２の誘電体層９，
反射層１０なる順序で積層されている。

【００２１】これらのうち、第１の誘電体層８及び第２
の誘電体層９としては、酸化物や窒化物等が使用可能で
あるが、誘電体中の酸素が記録磁性層に悪影響を及ぼす
虞れがあることから窒化物がより好ましく、酸素および
水分を透過せず且つ使用レーザ光を十分に透過し得る物
質として窒化珪素あるいは窒化アルミニウム等が好適で
ある。

【００２２】また、上記記録磁性層７は、膜面に垂直な
方向に磁化容易方向を有する非晶質の磁性薄膜であっ
て、磁気光学特性に優れることは勿論、室温にて大きな
保磁力を持ち、且つ２００℃近辺にキュリー点を持つこ
とが望ましい。このような条件に叶った記録材料として
は、希土類−遷移金属合金非晶質薄膜等が挙げられ、な
かでもＴｂＦｅＣｏ系非晶質薄膜が好適である。この記
録磁性層７には、耐蝕性を向上させる目的で、Ｃｒ等の
添加元素が添加されていてもよい。

【００２３】反射層１０は、前記第２の誘電体層９との
境界でレーザ光を７０％以上反射する高反射率の膜によ
り構成することが好ましく、非磁性金属の蒸着膜が好適
である。また、この反射層１０は、熱的良導体であるこ
とが望ましく、入手の容易さや成膜の容易さ等を考慮す
ると、アルミニウムが適している。

【００２４】これらの各層７，８，９，１０は、蒸着や
スパッタ等の，いわゆる気相メッキ技術により形成され
る。このとき各層の膜厚は任意に設定することができる
が、通常は数百〜数千Å程度に設定される。これらの膜
厚は、各層単独での光学的性質のみならず、組み合わせ
による効果を考慮して決めることが好ましい。これは、
例えば記録磁性層７の膜厚がレーザ光の波長に比べて薄
い場合に、レーザ光が記録磁性層７を透過して各層境界
で反射した光と多重干渉し、膜厚の組み合わせにより記
録磁性層７の実効的な光学及び磁気光学特性が大きく変
動するためである。

【００２５】さらに、上記記録部５上には紫外線硬化樹
脂等よりなる上記保護膜６が形成されている。この保護
膜６は、記録部を大気中の水や酸素から隔離するととも
に、本実施例では、特に摺動する磁気ヘッドから記録部
５を保護する目的で設けられる。

【００２６】ここで、本発明においては、上記摺動子３
２に摺接される上記保護膜６表面も、摺動子３２の場合
と同様にその抵抗を１０¹³Ω／□未満と低く抑えること
とする。上記保護膜６の表面抵抗を１０¹³Ω／□未満に
抑えることにより、摺動子３２と保護膜６の帯電がより
確実に防止され、磁気ヘッド３の摺動がさらに円滑なも
のとなる。

【００２７】保護膜６となる紫外線硬化樹脂の表面抵抗
を１０¹³Ω／□未満に抑えるには、たとえば、該紫外線
硬化樹脂に酸化アンチモン，酸化インジウム，酸化スズ
等の導電性微粒子を添加すればよい。このとき、導電性
微粒子の粒径は、数１０Å程度が適当である。なお、上
記紫外線硬化樹脂には、摺動性能の向上のためにジグリ
セリンテトララウリレート等の滑剤を添加するようにし
てもよい。

【００２８】次に、実際に摺動子３２および保護膜６の
表面抵抗を１０¹³Ω／□未満とすることによる効果を調
べるために以下の実験を行った。

【００２９】まず、ポリカーボネート基板上に第１の窒
化ケイ素誘電体膜、ＴｂＦｅＣｏ記録磁性層、第２の窒
化ケイ素誘電体膜、アルミニウム反射層を成膜して記録
部を形成し、さらにこの記録部上に各種保護膜を形成し
て光磁気ディスク（ディスク１，ディスク２，比較ディ
スク１）を作製した。

【００３０】なお、各光磁気ディスクの保護膜は、ディ
スク１が紫外線硬化樹脂に粒径数１０Åの酸化アンチモ
ン微粒子を３０体積％および滑剤ジグリセリンテトララ
ウレート（ＤＧＴＬ）を２％分散含有させてなるもの、
ディスク２が紫外線硬化樹脂に粒径数１０Åの酸化イン
ジウム微粒子、酸化スズ微粒子を３０体積％およびＤＧ
ＴＬを２％分散含有させてなるもの、比較ディスク１が
紫外線硬化樹脂に導電性微粒子を含有させずにＤＧＴＬ
のみを２％分散含有させてなるものである。上記各保護
膜の表面抵抗を表１に示す。

【００３１】

【表１】

【００３２】このようにして作製された各光磁気ディス
クに対して各種摺動子を有する磁気ヘッド（ヘッド１，
ヘッド２，比較ヘッド１，比較ヘッド２）を摺動させ
た。なお、各磁気ヘッドにおいて摺動子として使用した
プラスチックシートは、ヘッド１が導電性カーボンを３
０％含有する６，６−ナイロンシート、ヘッド２が導電
性カーボンを３０％含有する６，６−ナイロンシートを
波状に成形したもの、比較ヘッド１が導電性カーボンを
含有しない６，６−ナイロンシートおよび比較ヘッド２
が導電性カーボンを含有しない６，６−ナイロンシート
を波状に成形したものである。上記摺動子の表面抵抗を
表２に示す。

【００３３】

【表２】

【００３４】上記各光磁気ディスクに対して各種摺動子
を有する磁気ヘッドを摺動させたときの保護膜と摺動子
の間の動摩擦係数、ゴミの付着の様子および２００万回
パス後の保護膜の削れ深さを表３に示す。

【００３５】

【表３】

【００３６】表３からわかるように、保護膜，摺動子の
少なくともいずれかの表面抵抗を１０¹³Ω／□未満とす
ると、保護膜と摺動子の間の動摩擦係数が低減し、ゴミ
の付着も防止され、２００万回パス後においてもほとん
ど保護膜にほとんど傷等が生じないようになる。また、
保護膜，摺動子の両方の表面抵抗を１０¹³Ω／□未満と
すれば、さらに、動摩擦係数の低減し、ゴミの付着も少
なくなる。

【００３７】したがって、このことから、摺動子，保護
膜の表面抵抗を１０¹³Ω／□未満を抑えることは、磁気
ヘッドと光磁気ディスクの摺動性の向上を図る上で有効
であることがわかった。

【００３８】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明においては、光磁気ディスクの保護膜および磁気ヘッ
ドの摺動子の表面抵抗を１０¹³Ω／□未満と低く抑える
ので、保護膜−摺動子間の動摩擦係数が小さくなり、さ
らには保護膜や摺動子へのゴミの付着が防止され、光磁
気ディスクと磁気ヘッドの摺動性が良好なものとなる。

【００３９】したがって、本発明によれば、摺動記録方
式の信頼性，実用性の向上が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】摺動型光磁気記録方式を説明するための模式図
である。

【図２】本発明を適用した光磁気ディスク用磁気ヘッド
の構成例を示す模式図である。

【図３】本発明を適用した光磁気ディスクの構成例を示
す要部拡大断面図である。

【符号の説明】

１ ・・・光磁気ディスク ２ ・・・光学ピックアップ装置 ３ ・・・磁気ヘッド ４ ・・・基板 ５ ・・・記録部 ６ ・・・保護膜 ３１・・・磁界発生手段 ３２・・・摺動子

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 磁界発生手段と光磁気ディスクに摺動す
   る摺動子を有する光磁気ディスク用磁気ヘッドにおい
   て、 上記摺動子表面の抵抗が１０¹³Ω／□未満であることを
   特徴とする光磁気ディスク用磁気ヘッド。
2. 【請求項２】 透明基板上に記録磁性層，保護膜が順次
   成膜されてなる光磁気ディスクにおいて、 上記保護膜表面の抵抗が１０¹³Ω／□未満であることを
   特徴とする光磁気ディスク。