JP2000298891A

JP2000298891A - 光磁気記録方法

Info

Publication number: JP2000298891A
Application number: JP2000090773A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Wakasugi; 弘幸若杉; Hiroshi Shudo; 広首藤; Yoshio Tanno; 嘉雄丹野
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 2000-01-01
Filing date: 2000-03-27
Publication date: 2000-10-24

Abstract

(57)【要約】【課題】フライングヘッドや複雑なサーボを必要とす
ることなく、低磁界記録可能とする。【解決手段】表面に膜厚０．０１〜５０μｍの耐摩耗
性保護膜を有する光磁気記録ディスクを回転数３００〜
６００ｒｐｍで回転させ、少なくとも光磁気記録ディス
クに対する進入側端部が曲面形状となされ、光磁気記録
ディスク側の最大突起よりも後退した位置に磁界発生手
段が設けられてなる磁気ヘッドを摺動させながら磁界変
調記録を行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光磁気記録媒体に
対して磁気ヘッドを摺動させる新規な光磁気記録方法に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】光磁気記録方法は、磁性薄膜を部分的に
キュリー点または温度補償点を越えて昇温し、この部分
の保磁力を消滅させて外部から印加される記録磁界の方
向に磁化の向きを反転することを基本原理とするもの
で、光ファイルシステムやコンピュータの外部記憶装
置、あるいは音響，映像情報の記録装置等において実用
化されつつある。

【０００３】そして、この光磁気記録方法に用いられる
光磁気記録媒体としては、ポリカーボネート等からなる
透明基板の一主面に、膜面と垂直方向に磁化容易軸を有
し且つ磁気光学効果の大きな記録磁性層（例えば希土類
−遷移金属合金非晶質薄膜）や反射層，誘電体層を積層
することにより記録部を形成し、透明基板側からレーザ
光を照射して信号の読み取りを行うようにしたものが知
られている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、光磁気記録
方法には、大きく分けて光変調方式と磁界変調方式があ
り、オーバーライト可能であるということから、磁界変
調方式への期待が高まっている。

【０００５】上記磁界変調方式は、印加磁界を高速で反
転することにより磁性薄膜に情報信号を書き込むもので
あって、磁界の印加は通常は磁界発生手段を有する磁気
ヘッドにより行われる。

【０００６】この場合、高速反転磁界を印加する磁気ヘ
ッドでは、諸々の制約から非常に小さな磁場しか発生で
きず、なるべく磁気ヘッドを記録磁性層に近づける必要
がある。例えば、データ記録用の光磁気ディスクの場
合、光磁気ディスク面と磁気ヘッド間の距離を０．１ｍ
ｍ以下にしなければならない。

【０００７】このように光磁気ディスクと磁気ヘッドの
距離が狭まると、磁気ヘッドのクラッシュ等を防止する
ために、光磁気ディスク側の寸法精度を高めて面振れを
抑える必要がある。

【０００８】しかしながら、基板がポリカーボネート等
からなる光磁気ディスクでは、面振れの抑制にも限度が
あり、光学ピックアップのフォーカスサーボのように磁
気ヘッドと光磁気ディスク面間の距離を一定に保つよう
なサーボをかけるか、あるいはハードディスクのよう
に，いわゆるフライングヘッドを採用せざるを得ない。

【０００９】ところが、特に回転数３００〜６００rpm
程度の低速回転のシステムでは、フライングヘッドは使
えず、前記距離をコントロールするためには複雑なサー
ボを必要とする。

【００１０】また、回転数３６００rpm 程度の高速回転
のシステムの場合、磁気ヘッドがエアー・ベアリングを
介して浮上するフライングヘッドの採用が可能である
が、スタートとストップ時のクラッシュの問題を回避す
る必要がある。

【００１１】さらに、サーボをかけてディスクとの距離
を一定とする場合にも、あるいはフライングヘッドを採
用する場合にも、いずれにしても磁気ヘッドと光磁気デ
ィスクの間に距離を持たせるものであるので、光磁気デ
ィスク側においても、記録磁性層を低磁界で書き込みが
できるような磁性薄膜としなければならない。

【００１２】そこで本発明は、上述の従来の実情に鑑み
て提案されたものであって、フライングヘッドや複雑な
サーボを必要とすることなく、低磁界記録を行うことが
可能な光磁気記録方法を提供することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の光磁気記録方法は、表面に膜厚０．０１
〜５０μｍの耐摩耗性保護膜を有する光磁気記録ディス
クを回転数３００〜６００ｒｐｍで回転させ、少なくと
も光磁気記録ディスクに対する進入側端部が曲面形状と
なされ、光磁気記録ディスク側の最大突起よりも後退し
た位置に磁界発生手段が設けられてなる磁気ヘッドを摺
動させながら磁界変調記録を行うことを特徴とするもの
である。

【００１４】本発明においては、磁気ヘッドを光磁気記
録媒体に対して摺動させているために、記録磁性層まで
の距離が十分に小さなものとなり、磁気ヘッドから発生
する磁界は小さなもので済む。また、前記磁気ヘッド
は、光磁気記録媒体上に形成された耐摩耗性保護膜を介
して摺動するので、特別なサーボ等は必要なく、クラッ
シュ等の問題も解消される。

【００１５】一方、本発明において用いられる磁気ヘッ
ドは、光磁気記録媒体に対する進入側端部が曲面形状と
なされているので、円滑に摺勤し、光磁気記録媒体を傷
付けることはない。また、磁界発生手段が摺動面から若
干後退した位置に設けられているので、摺動によって磁
界発生手段が損傷することはなく、さらに摺動面を平坦
化することが可能となって負荷変動によるエラーの増加
が解消される。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した実施例に
ついて、図面を参照しながら詳細に説明する。

【００１７】図１は、光磁気記録装置の概略構成を示す
もので、この光磁気記録装置においては、光磁気ディス
ク(1) を挟んで光学ピックアップ(2) と磁気ヘッド(3)
とが対向配置されている。

【００１８】光磁気ディスク(1) は、図２に示すよう
に、基板(4) の一主面に記録部(5) を積層し、さらにこ
の記録部(5) の表面を紫外線硬化樹脂層(6) 及び耐摩耗
性保護膜(7) で覆ってなるものである。

【００１９】基板(4) は、厚さ数ｍｍ程度（例えば１．
２ｍｍ）の円板状の透明基板であって、その材質として
は、アクリル樹脂，ポリカーボネート樹脂，ポリオレフ
ィン樹脂，エポキシ樹脂等のプラスチック材料の他、ガ
ラス等も使用される。

【００２０】なお、この基板(4) 表面のうち、前記記録
部(5) を設ける側の表面には、通常は再生時に使用する
レーザ光波長のおよそ４分の１の深さを持った案内溝や
番地符号ピット等（いずれも図示は省略する。）が設け
られる。

【００２１】記録部(5) は、記録磁性層(8) ，誘電体層
(9) ，(10)及び反射層(11)よりなる４層構造を有し、基
板(4) 上に第１の誘電体層(9) ，記録磁性層(8) ，第２
の誘電体層(10)，反射層(11)なる順序で積層されてい
る。

【００２２】これらのうち、第１の誘電体層(9) 及び第
２の誘電体層(10)としては、酸化物や窒化物等が使用可
能であるが、誘電体層(9)，(10)中の酸素が記録磁性層
(8)に悪影響を及ぼす虞れがあることから窒化物がより
好ましく、酸素及び水分を透過させず且つ使用レーザ光
を十分に透過し得る物質として窒化珪素あるいは窒化ア
ルミニウム等が好適である。

【００２３】また、上記記録磁性層(8) は、膜面に垂直
な方向に磁化容易方向を有する非晶質の磁性薄膜であっ
て、磁気光学特性に優れることは勿論、室温にて大きな
保磁力を持ち、且つ２００℃近辺にキュリー点を持つこ
とが望ましい。このような条件に叶った記録材料として
は、希土類−遷移金属合金非晶質薄膜等が挙げられ、な
かでもＴｂＦｅＣｏ系非晶質薄膜が好適である。この記
録磁性層(8) には、耐蝕性を向上させる目的で、Ｃｒ等
の添加元素が添加されていてもよい。

【００２４】反射層(11)は、前記第２の誘電体層(10)と
の境界でレーザ光を７０％以上反射する高反射率の膜に
より構成することが好ましく、非磁性金属の蒸着膜が好
適である。また、この反射層(11)は、熱的に良導体であ
ることが望ましく、入手の容易さや成膜の容易さ等を考
慮すると、アルミニウムが適している。

【００２５】これらの各層は、蒸着やスパッタ等の，い
わゆる気相メッキ技術により形成される。このとき各層
の膜厚は任意に設定することができるが、通常は数百〜
数千Å程度に設定される。これらの膜厚は、各層単独で
の光学的性質のみならず、組み合わせによる効果を考慮
して決めることが好ましい。これは、例えば記録磁性層
(8) の膜厚がレーザ光の波長に比べて薄い場合に、レー
ザ光が記録磁性層(8)を透過して各層境界で反射した光
と多重干渉し、膜厚の組み合わせにより記録磁性層(8)
の実効的な光学及び磁気光学特性が大きく変動するため
である。

【００２６】紫外線硬化樹脂層(6) は、記録部(5) 表面
の平坦化や保護を目的として設けられるものであるが、
後述の耐摩耗性保護膜(7) の材質，膜厚等によっては設
けなくてもよい。この紫外線硬化樹脂層(6) の膜厚は、
３〜５μｍ程度であり、通常はアクリル系紫外線硬化樹
脂等が用いられる。

【００２７】以上が光磁気ディスク(1) の基本的な構成
であるが、本発明では磁気ヘッド(3) をディスク面に対
して摺動させながら磁界変調記録を行うため、前記紫外
線硬化樹脂層(6) 上，あるいは記録部(5) 上に直接耐摩
耗性保護膜(7) を設け、摺動による摩耗の抑制や磁気ヘ
ッド(3) の走行性の確保を図るようになされている。以
下、この耐摩耗性保護膜(7) について説明する。

【００２８】光磁気ディスク(1) の磁気ヘッド摺動面に
形成される耐摩耗性保護膜(7) は、基本的には熱硬化性
樹脂や電子線硬化樹脂，紫外線硬化樹脂等の硬化膜から
なるものであるが、その他にＡｌ，Ｎｉ等の耐摩耗材を
メッキ，蒸着，スパッタ等の手法により形成したもの
や、ポリテトラフルオロエチレン等のような潤滑性高分
子材料あるいは不織繊維等の被膜であってもよい。

【００２９】また、上記耐摩耗性保護膜(7) には、潤滑
粉末や研磨材等を添加し、走行性，耐久性のより一層の
改善を図るようにしてもよい。この場合、使用される潤
滑粉末としては、カーボン（カーボンブラックやグラフ
ァイト粉末等）やポリテトラフルオロエチレン粉末（い
わゆるテフロン（登録商標）粉末）等が挙げられる。研
磨材としては、アルミナや酸化クロム（いわゆるグリー
ン）等が好適である。その他、γ−Ｆｅ₂Ｏ₃針状磁性粉
末やＣｏ含浸（ドープ）γ−Ｆｅ₂Ｏ₃針状磁性粉末、Ｃ
ｏ被着（コーティング）γ−Ｆｅ₂Ｏ₃針状磁性粉末、金
属磁性粉末、ＣｒＯ₂磁性粉末、バリウムフェライト等
の磁性粉末を研磨材として使用することも可能である。
これら磁性粉末を含んだ磁性塗膜は、磁気テープ等によ
り耐久性が高いことが実証されており、また透磁率が高
いことから小さな磁界でも十分に記録部(5) に磁界を与
えられる可能性がある。

【００３０】さらに、上記耐摩耗性保護膜(7) に磁気記
録媒体の分野等で広く用いられている潤滑剤や極圧剤，
カップリング剤等を内添あるいは塗布し、磁気ヘッド接
触時の損傷を防止するようにしてもよい。潤滑剤として
は、オレイン酸等の高級脂肪酸や脂肪酸エステル等、あ
らゆる種類の潤滑剤が使用可能であり、極圧剤も従来公
知のものがいずれも使用可能である。カップリング剤と
しては、シランカップリング剤やチタンカップリング
剤，ジルコアルミネート系カップリング剤等、各種のカ
ップリング剤を使用することができる。これらカップリ
ング剤を使用することで、前述の樹脂と基板，さらには
研磨材等の粉末成分間を化学的に結合させ、膜強度や基
板に対する接着性を高めることが可能である。

【００３１】上述の耐摩耗性保護膜(7) は、必ずしも単
層である必要はなく、多層化することも可能である。こ
の場合、各層の樹脂の種類や添加物の種類等を選定する
ことで、種々の要求に対応することが可能となる。ある
いは、耐摩耗性保護膜(7) を金属材料により構成する場
合には、下層を硬い金属膜（あるいはセラミクス等の非
金属膜でも良い。）とするとともに、上層をＡｕ，Ａ
ｇ，Ｐｂ等の軟らかい金属膜とし、衝撃や摩擦を減少す
るような構造とすることも可能である。

【００３２】以上の構成を有する耐摩耗性保護膜（7）
においては、良好な磁界変調記録を行うために膜厚を適
切な値に設定する必要がある。

【００３３】すなわち、前記耐摩耗性保護膜(7) の膜厚
は磁気ヘッド(3) と記録部(5) との距離を決定するが、
このとき磁気ヘッド(3) が記録部(5) からどれだけ離れ
ていてもよいわけではなく、記録に必要な最低限度の磁
界が記録部(5) の記録磁性層(8) に届く範囲としなけれ
ばならない。磁気ヘッド(3) 側から言えば、同じ磁界を
記録磁性層(8) に与えるための記録電流を十分に小さく
し得る距離としなければならない。例えば、記録磁性層
(8) において、±２００エルステッドの磁界を発生する
ためには、磁気ヘッド(3) と記録磁性層(8) の距離が
０．４ｍｍ（４００μｍ）であると、およそ±１Ａの記
録電流が必要となるのに対して、前記距離が０．０４ｍ
ｍ（４０μｍ）であると、およそ±０．５Ａの記録電流
で済む。

【００３４】下限については、耐久性を確保するに足る
膜厚であればよく、またこの耐摩耗性保護膜(7) に若干
のスクラッチが入っても記録部(5) を傷付けることのな
いような範囲とすればよい。

【００３５】このような点に鑑み、上記耐摩耗性保護膜
(7) の膜厚は、ここでは０．０１〜５０μｍとする。こ
の膜厚が５０μｍを越えると、記録磁性層(8) に達する
磁界の強さが小さなものとなり、記録の際に大きな記録
電流が必要となる。逆に、前記膜厚が０．０１未満であ
ると、十分な耐久性を確保することが難しくなり、また
スクラッチ等により記録部(5) を損傷する虞れがある。

【００３６】一方、磁気ヘッド(3) は、磁気ディスク
(1) に対してなるべく損傷を与えることのない形状とす
ることは勿論、磁気ヘッド(3) 自体に設けられた磁界発
生手段に対してもダメージを受けることのないような形
状とする必要がある。そこで、本発明においては、光磁
気ディスク(1) に対する進入側端部を曲面形状とすると
ともに、コイル等の磁界発生手段を光磁気ディスク摺動
面から後退した位置に配置することとする。

【００３７】図３及び図４は、使用される磁気ヘッドの
一例を示すもので、この磁気ヘッドは、フェライトコア
(21)内に磁界発生手段であるコイル(22)が埋め込まれて
なるものである。

【００３８】上記フェライトコア(21)は、Ｍｎ−Ｚｎフ
ェライトやＮｉ−Ｚｎフェライトの多結晶あるいは単結
晶からなるもので、光磁気ディスク(1) の回転中に磁気
ヘッドが基本的に接触していることが前提となっている
ため、摺動面の周囲が丸みを付けて曲面(21a) となさ
れ、例えばフェライトコア(21)のエッジ部で光磁気ディ
スク(1) を傷付けることがないような形状となされてい
る。

【００３９】そして、このフェライトコア(21)の摺動面
の略中央部には、矩形状の凹部(21)が設けられ、該凹部
(21)の底面にコイル(22)が形成されている。したがっ
て、コイル(22)は、光磁気ディスク(1) 対する摺動面か
ら若干後退した位置に形成されることになる。

【００４０】コイル(22)は、銅等の導電性金属をメッキ
あるいは蒸着した後、エッチングすることにより形成さ
れる，いわゆるフラットコイルであってもよいし、銅線
や銅箔等を巻回した巻線状のものであってもよい。

【００４１】このコイル(22)の端子部は、上記フェライ
トコア(21)に設けられたスルーホール(23)を介して裏面
(摺動面とは反対側の面)に引き出され、駆動回路と接続
されている。

【００４２】また、上記コイル(22)が磁気ヘッドの摺動
面に直接露出していると、摩耗や剥離等によりコイル(2
2)を破損する虞れがあることから、上記フェライトコア
(21)の凹部(21)内にガラス，プラスチック，シリコン等
の耐摩耗材(24)を充填し、前記コイル(22)が摺動面に露
呈することがないような状態としている。このように、
コイル(22)をフェライトコア(21)の凹部(21)に埋め込む
形とすることにより、コイル(22)の損傷を防止できるば
かりでなく、磁気ヘッドの摺動面を平坦化することもで
き、光磁気ディスク(1) へ与えるダメージも少ないもの
とすることができる。また、磁気ヘッドの摺動面を平坦
化することで、摩擦係数の変動を抑えることができ、デ
ィスク駆動モータヘの負荷が一定となるばかりか、負荷
変動によるエラーの増加を解消することも可能となる。

【００４３】上述の構成の磁気ヘッドにおいては、フェ
ライトコア(21)の形状を変更し、低摩擦係数化，高効率
化等を図るようにしてもよい。

【００４４】図５に示す磁気ヘッドは、フェライトコア
(21)の凹部(21)の周囲に角部が曲面状となされた凸部(2
1c) を設けたもので、これによって光磁気ディスク(1)
に対する実質的な接触面積を低減し、摩耗量を低減する
ことが可能となる。なお、この場合、フェライトコア(2
1)の凹部(21)内には、先の例のように充填材(24)を充填
してもよいが、平坦化の必要がないので場合によっては
充填材(24)を充填しなくともよい。

【００４５】また、図６に示す磁気ヘッドは、フェライ
トコア(21)の凹部(21b) の中央部に、コイル(22)のセン
ター孔に嵌合するセンターコア(21d) を一体的に設けた
もので、低周波信号用の磁気ヘッドに適する。

【００４６】上述の磁気ヘッドは、いずれもフェライト
コア(21)の凹部(21)内にコイル(22)を埋め込んでなるも
のであるが、図７及び図８に示すように、単磁極ヘッド
(31)をガード材(32)に組み込んだ磁気ヘッドも使用可能
である。

【００４７】この磁気ヘッドは、棒状のセンターコア(3
3)にコイルボビン(34)を嵌合配設してなる単磁極ヘッド
(31)を、ガード材(32)の中央部に配置したものである。

【００４８】ガード材(32)は、チタン酸カリウム等のセ
ラミクス等からなり、前記センターコア(33)を両側から
挾み込む一対のサイドガード材(32a)，(32b)と、サイド
ガード材(32a)，(32b)間でのセンターコア(33)の位置を
決める一対のセンターガード材(32c)，(32d)とからな
る。

【００４９】したがって、単磁極ヘッド(31)のセンター
コア(33)は、これらセンターガード材(32c)，(32d)及び
サイドガード材(32a)，(32b)によって周囲を囲まれ、光
磁気ディスク(1) に対する摺動面で見たときにガード材
(32)の中央部に先端面(33a)を露呈する形になってい
る。

【００５０】なお、前記構成の磁気ヘッドにおいても、
ガード材(32)の摺動面側周縁部は、曲面形状とされてお
り、光磁気ディスク(1)に傷を付けることがないように
されている。また、単磁極ヘッド(31)のうち、磁界発生
手段であるコイルボビン(34)は、光磁気ディスク(1) 対
する摺動面に露呈することはなく、摺動面から後退した
位置に配置されていることになる。

【００５１】このように構成される磁気ヘッドにおいて
は、強い磁界を発生することが可能であることからトラ
ック幅を広げることができ、光学ピックアップ(2) から
照射されるレーザ光のビームスポットとの位置合わせも
容易である。また、この磁気ヘッドの基本構成は、いわ
ゆるフロッピー（登録商標）ディスク用の磁気ヘッドと
同じであり、フロッピーディスク用磁気ヘッドよりも消
去ヘッド等を省略した分だけ単純な形であるので、製造
も容易である。

【００５２】ところで、上述の構成を有する磁気ヘッド
においては、いずれの場合にも高周波になるほど発熱が
大きくなり、また光磁気ディスク(1) との摺動による摩
擦熱も発生する。これら発熱は、磁気ヘッドの熱破壊の
原因となったり、コイル内抵抗を増加させて発生磁界を
減少させる等の悪影響を及ぼす。

【００５３】そこで、使用する磁気ヘッド(3) に冷却機
構を設け、前記発熱を抑えながら記録を行うことが好ま
しい。この場合、冷却機構としては、ペルチェ素子を用
いたものや、フィンを設けて空冷するもの等が挙げられ
る。

【００５４】本発明の光磁気記録方法においては、上述
の磁気ヘッド(3) が光磁気ディスク(1) に対して摺動し
た状態で記録が行われる。このとき、磁気ヘッド(3) の
光磁気ディスク(1) の接触状態は、 (a) ディスク静止状態の時に接触、ディスク回転時に浮
上（いわゆるＣＳＳ方式） (b) ディスク静止状態の時にもディスク回転時にも接触の２形態が考えられるが、低磁界化等の点で後者が有利
である。また、低線速（１．２〜１．４ｍ／秒）の光磁
気ディスクシステムにおいては、前者は採用できない
が、後者によって良好な摺動型光磁気記録システムの構
築が可能となる。

【００５５】上記線速は磁界変調記録に最適な線速であ
り、線速が１．２ｍ／秒未満であると安定に高密度記録
を行うことが困難になり、１．４ｍ／秒を越えると磁気
ヘッドが浮上し易くなり、安定な摺動記録を行うことが
困難になる。

【００５６】摺動に際しては、光磁気ディスク(1) に耐
摩耗性保護膜(7) が設けられているので、光磁気ディス
ク(1) と磁気ヘッド(3) との距離が小さなものとされ、
低磁界記録が可能となるとともに、耐久性も十分に確保
されている。

【００５７】なお、磁気ヘッド(3) の摺動に際しては、
いわゆる片当たりしないように、ジンバルバネ等に装着
して使用することが好ましい。

【００５８】次に、実際に図２に示す構成を有する光磁
気ディスクを作成し、磁気ヘッドを摺動させて記録を行
い、その特性を評価した。

【００５９】実施例１作成した光磁気ディスクの記録部は４層構造であり、そ
の膜厚は下記の通りである。

【００６０】第１の誘電体層：Ｓｉ₃Ｎ₄ １０００Å 記録磁性層：Ｔｂ−Ｆｅ・Ｃｏ・Ｃｒ２３０Å 第２の誘電体層：Ｓｉ₃Ｎ₄ ５００Å 反射層：Ａｌ７００Å 紫外線硬化樹脂層：３μｍそして、上記紫外線硬化樹脂層上に下記の手法により耐
摩耗性保護膜を形成した。

【００６１】塗料の組成カーボン（平均粒径２００μ）・・・１００重量部塩化ビニル―酢酸ビニル共重合体・・・１００重量部塩化ビニルー酢酸ビニルービニルアルコール共重合体・・・１００重量部上記組成物をメチルエチルケトン・トルエン・シクロヘ
キサノン混合溶媒（１：１：１）と共にボールミルにて
４０時間混練した。

【００６２】次いで、熱硬化剤（商品名コロネートＬ）
２０重量部及び脂肪族炭化水素系潤滑剤（オリーブオイ
ル）１．５重量部を加え、２０分間攪伴した。

【００６３】これを上記紫外線硬化樹脂層上にドクター
ブレードを用いて隙間２５．４μｍで塗布し、乾燥し
た。乾燥後の塗膜の膜厚は２０μｍであった。

【００６４】一方、磁気ヘッドには、図３及び図４に示
す構造のものを用いた。また、この磁気ヘッドの磁界発
生手段であるコイルは、直径３０μｍの銅線を２４本束
ね、これを２７回巻回（５回×５段）したものを用い
た。

【００６５】上記磁気ヘッドを上記耐摩耗性保護膜を介
して光磁気ディスクに摺動させ、線速１．２〜１．４ｍ
／秒、光学ピックアップの記録パワー４．５ｍＷ、再生
パワー０．５ｍＷで記録再生を繰り返し行った。

【００６６】その結果、低磁界での記録が可能となり、
耐久性の点でも優れたものであった。

【００６７】実施例２先の実施例１と同様の手法により耐摩耗性保護膜を膜付
けした後、ステアリン酸２重量部とエタノール１００重
量部の混合液をステアリン酸の塗布厚が２ｇ／ｍ²とな
るように塗布した。

【００６８】この光磁気ディスクに対して、先の実施例
１と同様に磁気ヘッドを摺動させて記録再生を繰り返し
たところ、やはり低磁界での記録が可能であり、また耐
久性はさらに改善された。

【００６９】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明においては、膜厚０．０１〜５０μｍの耐摩耗性保護
膜を介して光磁気記録媒体に対して磁気ヘッドを摺動さ
せているので、磁気ヘッドと記録磁性層の距離を複雑な
サーボ等を要することなく小さな値に安定に維持するこ
とができる。

【００７０】したがって、磁界変調磁気ヘッドは、発生
する磁界が小さなものであっても使用可能であり、また
大磁界を発生する能力があるならば、印加電流を減らし
て省電力化を図ることが可能である。さらには、磁気ヘ
ッドの周波数特性を高周波域まで確保することが可能と
なり、高速転送レート及び高密度化を図ることが可能と
なる。逆に、光磁気記録媒体側から見たときには、磁界
感度の高い記録磁性層である必要がなくなり、また記録
磁性層が低磁界で記録可能な膜である場合には、磁界に
対するマージンを広くとることが可能となる。

【００７１】また、本発明の光磁気記録方法において
は、磁気ヘッドを耐摩耗性保護膜を介して摺動させてい
るので、摺動による光磁気記録媒体の摩耗を大幅に抑制
することが可能であり、耐久性を確保することが可能で
ある。

【００７２】一方、本発明において用いられる磁気ヘッ
ドは、光磁気記録媒体進入側端部が曲面形状とされてい
ることから、円滑な走行が可能であり、光磁気記録媒体
を不用意に損傷することもない。また、磁界発生手段が
光磁気記録媒体側の最大凸部よりも後退した位置に配置
されていることから、この磁界発生手段自体を損傷する
虞れもなく、光磁気記録媒体に対する摺動状態も良好な
ものとすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した光磁気記録方法を説明するた
めの模式図である。

【図２】本発明の光磁気記録方法に用いられる光磁気記
録媒体の構成例を示す要部拡大断面図である。

【図３】本発明の光磁気記録方法に用いられる磁気ヘッ
ドの一例を示す概略斜視図である。

【図４】図３に示す磁気ヘッドの断面図である。

【図５】磁気ヘッドの他の例を示す断面図である。

【図６】磁気ヘッドのさらに他の例を示す断面図であ
る。

【図７】フロッピーディスクヘッドタイプの磁気ヘッド
の一例を示す概略斜視図である。

【図８】図７に示す磁気ヘッドの断面図である。

【符号の説明】

１光磁気ディスク、２光学ピックアップ、３磁気
ヘッド、７耐摩耗性保護膜

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】表面に膜厚０．０１〜５０μｍの耐摩耗
性保護膜を有する光磁気記録ディスクを回転数３００〜
６００ｒｐｍで回転させ、少なくとも光磁気記録ディス
クに対する進入側端部が曲面形状となされ、光磁気記録
ディスク側の最大突起よりも後退した位置に磁界発生手
段が設けられてなる磁気ヘッドを摺動させながら磁界変
調記録を行うことを特徴とする光磁気記録方法。