JPH0416472B2 - - Google Patents
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- JPH0416472B2 JPH0416472B2 JP63107371A JP10737188A JPH0416472B2 JP H0416472 B2 JPH0416472 B2 JP H0416472B2 JP 63107371 A JP63107371 A JP 63107371A JP 10737188 A JP10737188 A JP 10737188A JP H0416472 B2 JPH0416472 B2 JP H0416472B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
- C07D277/60—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D277/62—Benzothiazoles
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は次の構造式()で示される3,4−
ジ置換−ベンゾチアゾール−2−オン誘導体(以
下“ベンゾチアゾロン誘導体”という)の新しい
製造方法に関するものである。
ジ置換−ベンゾチアゾール−2−オン誘導体(以
下“ベンゾチアゾロン誘導体”という)の新しい
製造方法に関するものである。
ここにて、R1はCl,Br,Fまたはメチル基で
あり、R2はメチル基またはエチル基である。
あり、R2はメチル基またはエチル基である。
ベンゾチアゾロン誘導体は稲の稲熱病
(pyricularia oryzae)及び茎腐敗病(Healmin
thostorium sigmoideum)の防除に特に効果的
であり、葉、根および土壌のいずれによつても適
用し得るという特徴を有する。
(pyricularia oryzae)及び茎腐敗病(Healmin
thostorium sigmoideum)の防除に特に効果的
であり、葉、根および土壌のいずれによつても適
用し得るという特徴を有する。
更に、既存の殺菌剤より防除が速く、持続性の
長い、なおかつ強い薬効果を有し、温血動物(例
えば、二十日鼠、鼠、ひよこ)及び魚類(例え
ば、鯉、北米産の小さい魚)に対しては極めて低
い毒性を表わし、生物体内に有毒性が殆ど残らな
い。
長い、なおかつ強い薬効果を有し、温血動物(例
えば、二十日鼠、鼠、ひよこ)及び魚類(例え
ば、鯉、北米産の小さい魚)に対しては極めて低
い毒性を表わし、生物体内に有毒性が殆ど残らな
い。
[従来の技術]
現在まで知られたベンゾチアゾロン誘導体の製
造方法としては、ドイツ連邦共和国公開特許第
2924712号は下記の一般式()の4−置換−2
−アミノベンゾチアゾールをジアソ化して一般式
()の4−置換−2−ハロベンゾチアゾールを
作つた後、低級アルコールと塩基性縮合剤の存在
下で反応して一般式()の4−置換−2−アル
コキシベンゾチアゾールを作つた後、触媒を利用
し熱転位させて一般式()のベンゾチアゾロン
誘導体を合成する。
造方法としては、ドイツ連邦共和国公開特許第
2924712号は下記の一般式()の4−置換−2
−アミノベンゾチアゾールをジアソ化して一般式
()の4−置換−2−ハロベンゾチアゾールを
作つた後、低級アルコールと塩基性縮合剤の存在
下で反応して一般式()の4−置換−2−アル
コキシベンゾチアゾールを作つた後、触媒を利用
し熱転位させて一般式()のベンゾチアゾロン
誘導体を合成する。
上記式において、R1,R2は前記にて定義した
通りで、XはCl又はBrである。
通りで、XはCl又はBrである。
一方、日本公開特許第82−6953号および82−
6972号は下記の一般式()の2−置換−N−ア
ルキルアニリンを三級塩基存在で下記の一般式
()のクロロカルボニルサルフエニルクロライ
ドと反応し、下記の一般式()のサルフエニル
クロライド誘導体を作つた後、これをアルミニウ
ムクロライドや濃い硫酸で閉環反応させ一般式
()のベンゾチアゾール誘導体を合成する。
6972号は下記の一般式()の2−置換−N−ア
ルキルアニリンを三級塩基存在で下記の一般式
()のクロロカルボニルサルフエニルクロライ
ドと反応し、下記の一般式()のサルフエニル
クロライド誘導体を作つた後、これをアルミニウ
ムクロライドや濃い硫酸で閉環反応させ一般式
()のベンゾチアゾール誘導体を合成する。
[発明の開示]
しかし、これらの方法等は多段階反応としてそ
の反応時間が長時間を所要するばかりでなく、操
作が難しく、なお収率が70−80%で低いため、工
業的規模により実施することが困難であるという
短所がある。
の反応時間が長時間を所要するばかりでなく、操
作が難しく、なお収率が70−80%で低いため、工
業的規模により実施することが困難であるという
短所がある。
一方、本発明者により出願された方法(大韓民
国特許出願第86−4682号、第86−5387号)による
と、下記の一般式()の4−置換−2−アミノ
ベンゾチアゾール誘導体を出発物質として酸又は
塩基触媒下でアルキル化剤と反応して一般式
()又は一般式()の四級塩を作つた後、こ
れを加水分解して一般式()のベンゾチアゾロ
ン誘導体を合成する。
国特許出願第86−4682号、第86−5387号)による
と、下記の一般式()の4−置換−2−アミノ
ベンゾチアゾール誘導体を出発物質として酸又は
塩基触媒下でアルキル化剤と反応して一般式
()又は一般式()の四級塩を作つた後、こ
れを加水分解して一般式()のベンゾチアゾロ
ン誘導体を合成する。
上記式において、R1,R2は前記にて定義した
ものと同様で、R3とR4は相違するかあるいは同
一に水素、C1−C4のアルキル基、C4−C12のシク
ロアルキル基、又は酸素や窒素が含まれたシクロ
アルキル基であり、Yはヨード、臭素、塩素また
はアルキル化剤イオンである。
ものと同様で、R3とR4は相違するかあるいは同
一に水素、C1−C4のアルキル基、C4−C12のシク
ロアルキル基、又は酸素や窒素が含まれたシクロ
アルキル基であり、Yはヨード、臭素、塩素また
はアルキル化剤イオンである。
本発明者は繰返された研究の結果、既存の方法
より高収率(90−97%)、高純度(95%以上)で
容易に一般式()化合物を合成できる新しい方
法を知るに至り、本発明を完成することとなつ
た。
より高収率(90−97%)、高純度(95%以上)で
容易に一般式()化合物を合成できる新しい方
法を知るに至り、本発明を完成することとなつ
た。
即ち、本発明は一般式()の4−置換−2−
アミノベンゾチアゾール誘導体を酸触媒存在下で
DMF(N,N−ジメチルホルムアミド)及びアル
キル化剤と反応させ一般式(XI)の3,4−ジ置
換−2−ホルムイミド(2,3−ジヒドロ)ベン
ゾチアゾール誘導体を作つた後、これを加水分解
させることを特徴とする一般式()の3,4−
ジ置換−ベンゾチアゾール−2−オン誘導体の製
造方法である。
アミノベンゾチアゾール誘導体を酸触媒存在下で
DMF(N,N−ジメチルホルムアミド)及びアル
キル化剤と反応させ一般式(XI)の3,4−ジ置
換−2−ホルムイミド(2,3−ジヒドロ)ベン
ゾチアゾール誘導体を作つた後、これを加水分解
させることを特徴とする一般式()の3,4−
ジ置換−ベンゾチアゾール−2−オン誘導体の製
造方法である。
上記式において、R1,R2は前記にて定義した
ものと同一である。
ものと同一である。
本発明の方法による反応経路を表1に図示して
説明すると、次の通りである。
説明すると、次の通りである。
一般式()の4−置換−2−アミノベンゾチ
アゾール誘導体がDMFによりホルミル化された
後、アルキル化されて一般式(XI)の3,4−ジ
置換−2−ホルムイミド(2,3−ジヒドロ)ベ
ンゾチアゾール誘導体が製造される。
アゾール誘導体がDMFによりホルミル化された
後、アルキル化されて一般式(XI)の3,4−ジ
置換−2−ホルムイミド(2,3−ジヒドロ)ベ
ンゾチアゾール誘導体が製造される。
次いで、一般式(XI)の化合物が加水分解され
て一般式(XII)の3,4−ジ置換−2−イミノベ
ンゾチアゾール誘導体と目的化合物である一般式
()の3,4−ジ置換−ベンゾチアゾール−2
−オン誘導体になる。
て一般式(XII)の3,4−ジ置換−2−イミノベ
ンゾチアゾール誘導体と目的化合物である一般式
()の3,4−ジ置換−ベンゾチアゾール−2
−オン誘導体になる。
この時、一般式(XII)の3,4−ジ置換−2−
イミノベンゾチアゾール誘導体は再びホルミル化
され、加水分解される繰返し過程を通じて全部一
般式()の目的化合物となる。この時、使用し
たアルキル化剤はDMFを活性化してホルミル化
を促進する。
イミノベンゾチアゾール誘導体は再びホルミル化
され、加水分解される繰返し過程を通じて全部一
般式()の目的化合物となる。この時、使用し
たアルキル化剤はDMFを活性化してホルミル化
を促進する。
本発明の出発物質である一般式()の4−置
換−2−アミノベンゾチアゾール誘導体は公知の
方法[ジヤーナル ヘテロサイクリツク ケミス
トリー(J.Hetonocyclic.chem.)、17、1325
(1980)]により製造することが出来る。
換−2−アミノベンゾチアゾール誘導体は公知の
方法[ジヤーナル ヘテロサイクリツク ケミス
トリー(J.Hetonocyclic.chem.)、17、1325
(1980)]により製造することが出来る。
本発明にて使用する酸触媒は塩酸、硫酸、臭化
水素酸、硫酸の様な無機酸や蟻酸、酢酸、修酸、
P−トルエンスルホン酸の様な有機酸を使用する
ことが出来る。
水素酸、硫酸の様な無機酸や蟻酸、酢酸、修酸、
P−トルエンスルホン酸の様な有機酸を使用する
ことが出来る。
その使用量は一般式()化合物に対し0.1−
5.0モル倍である。
5.0モル倍である。
尚、本発明にて使用する溶媒であるDMF(N,
N−ジメチルホルムアミド)の使用量は一般式
()化合物1モル当り1−10である。
N−ジメチルホルムアミド)の使用量は一般式
()化合物1モル当り1−10である。
又、本発明の反応にて使用するアルキル化剤と
してはヨードメチル、ヨードエタン、ブロモメタ
ン、ブロモメタン、クロロメタン、クロロエタ
ン、ジメチルサルフエート、ジエチルサルフエー
ト、トリメチルホスフエート及びトリエチルホス
フエートであり、その使用量は一般式()化合
物の1.0−10.0モル倍であり、望ましくは2.0−5.0
モル倍である。
してはヨードメチル、ヨードエタン、ブロモメタ
ン、ブロモメタン、クロロメタン、クロロエタ
ン、ジメチルサルフエート、ジエチルサルフエー
ト、トリメチルホスフエート及びトリエチルホス
フエートであり、その使用量は一般式()化合
物の1.0−10.0モル倍であり、望ましくは2.0−5.0
モル倍である。
また、反応温度は0℃以上であり、望ましくは
室温乃至153℃以内にて反応させる。
室温乃至153℃以内にて反応させる。
反応に使用される水の量は一般式()化合物
の1.0モル倍以上で、望ましくは1.0−5.0モル倍で
ある。
の1.0モル倍以上で、望ましくは1.0−5.0モル倍で
ある。
以下、実施例によりさらに詳細に説明する。
実施例 1
4−クロロ−3−メチルベンゾチアゾール−2
−オンの製造。
−オンの製造。
2−アミノ−4−クロロベンゾチアゾール
18.47g(0.10モル)を300c.c.のN,N−ジメチル
ホルムアミド(DMF)に溶かし、P−トルエン
スルホン酸9.51g(0.05モル)及びジメチルサル
フエート50.45g(0.40モル)を入れて加熱する。
次いで、135℃にて6時間撹拌した後、1.8g
(0.10モル)の水を入れて6時間還流して反応を
完結する。
18.47g(0.10モル)を300c.c.のN,N−ジメチル
ホルムアミド(DMF)に溶かし、P−トルエン
スルホン酸9.51g(0.05モル)及びジメチルサル
フエート50.45g(0.40モル)を入れて加熱する。
次いで、135℃にて6時間撹拌した後、1.8g
(0.10モル)の水を入れて6時間還流して反応を
完結する。
N,N−ジメチルホルムアミドを蒸留により除
去した後、冷却して苛性ソーダ水で中和しトルエ
ンで抽出する。その後、有機層を減圧蒸留して溶
媒を除去して出来た白い固体をエタノールで再結
晶し、白い沈澱状固体の目的化合物19.53gを得
る。
去した後、冷却して苛性ソーダ水で中和しトルエ
ンで抽出する。その後、有機層を減圧蒸留して溶
媒を除去して出来た白い固体をエタノールで再結
晶し、白い沈澱状固体の目的化合物19.53gを得
る。
収率:96.1%、純度:98.2%
実施例 2
4−クロロ−3−エチルベンゾチアゾール−2
−オンの製造。
−オンの製造。
2−アミノ−4−クロロベンゾチアゾール
18.47g(0.10モル)を250c.c.のN,N−ジメチル
ホルムアミドに溶かし、蟻酸4.60g(0.1モル)
及びジエチルサルフエート46.25g(0.3モル)を
入れて加熱する。130℃にて4時間撹拌した後、
3.60g(0.20モル)の水を入れて8時間還流して
反応を完結する。その後、実施例1と同様な方法
を遂行し、目的化合物19.95gを得る。
18.47g(0.10モル)を250c.c.のN,N−ジメチル
ホルムアミドに溶かし、蟻酸4.60g(0.1モル)
及びジエチルサルフエート46.25g(0.3モル)を
入れて加熱する。130℃にて4時間撹拌した後、
3.60g(0.20モル)の水を入れて8時間還流して
反応を完結する。その後、実施例1と同様な方法
を遂行し、目的化合物19.95gを得る。
収率:90.9%、純度:97.3%
実施例 3
3,4−ジメチルベンゾチアゾール−2−オン
の製造。
の製造。
2−アミノ−4−クロロベンゾチアゾール
16.42g(0.10モル)をN,N−ジメチルホルム
アミド250c.c.に溶かし、P−トルエンスルホン酸
9.51g(0.05モル)とジメチルサルフエート50.45
g(0.40モル)を入れて加熱する。
16.42g(0.10モル)をN,N−ジメチルホルム
アミド250c.c.に溶かし、P−トルエンスルホン酸
9.51g(0.05モル)とジメチルサルフエート50.45
g(0.40モル)を入れて加熱する。
135℃にて5時間撹拌した後、1.8g(0.10モ
ル)の水を入れて5時間還流して反応を完結す
る。
ル)の水を入れて5時間還流して反応を完結す
る。
その後、実施例1と同様な方法を遂行し、目的
化合物17.44gを得る。
化合物17.44gを得る。
収率:94.3%、純度:96.8%
実施例 4
4−ブロモ−3−メチルベンゾチアゾール−2
−オンの製造。
−オンの製造。
2−アミノ−4−ブロモベンゾチアゾール
22.97g(0.10モル)を300c.c.のN,N−ジメチル
ホルムアミドに溶かし、硫酸4.90g(0.05モル)
とトリメチルホスフエート28.02(0.20モル)を入
れて加熱する。
22.97g(0.10モル)を300c.c.のN,N−ジメチル
ホルムアミドに溶かし、硫酸4.90g(0.05モル)
とトリメチルホスフエート28.02(0.20モル)を入
れて加熱する。
135℃にて4時間撹拌した後、3.60g(0.20モ
ル)の水を入れて10時間還流して反応を完結す
る。その後、実施例1と同様な方法により、目的
化合物22.49gを得る。
ル)の水を入れて10時間還流して反応を完結す
る。その後、実施例1と同様な方法により、目的
化合物22.49gを得る。
収率:90.1%、純度:97.8%
実施例 5
4−フルオロ−3−メチルベンゾチアゾール−
2−オンの製造。
2−オンの製造。
2−アミノ−4−フルオロベンゾチアゾール
16.88g(0.10モル)を200c.c.のN,N−ジメチル
ホルムアミドに溶かし、蟻酸4.60g(0.10モル)
及びジメチルサルフエート50.45g(0.40モル)
を入れて130℃にて4時間撹拌する。その後、
1.80g(0.10モル)の水を入れて10時間還流し、
反応を完結する。その後、実施例1と同様な方法
により、目的化合物17.60gを得る。
16.88g(0.10モル)を200c.c.のN,N−ジメチル
ホルムアミドに溶かし、蟻酸4.60g(0.10モル)
及びジメチルサルフエート50.45g(0.40モル)
を入れて130℃にて4時間撹拌する。その後、
1.80g(0.10モル)の水を入れて10時間還流し、
反応を完結する。その後、実施例1と同様な方法
により、目的化合物17.60gを得る。
収率:92.6%、純度:96.4%。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式()の4−置換−2−アミノベンゾ
チアゾール誘導体を酸触媒の存在下でN,N−ジ
メチルホルムアミド(DMF)及びアルキル化剤
と反応させ一般式(XI)の3,4−ジ置換−2−
ホルムイミド(2,3−ジハイドロ)ベンゾチア
ゾール誘導体を合成した後、これを加水分解する
ことを特徴とする一般式()の3,4−ジ置換
−ベンゾチアゾール−2−オン誘導体の製造方
法。 [式中、R1は弗素、塩素、臭素又はメチル基で
あり、R2はメチル基又はエチル基である。] 2 酸触媒が臭化水素酸、塩酸、硫酸、硝酸、蟻
酸、酢酸、修酸、P−トルエンスルフオン酸であ
ることを特徴とする、請求項1記載の製造方法。 3 アルキル化剤がジメチルサルフエート、ジエ
チルサルフエート、トリメチルホスフエート、ト
リエチルホスフエート、ヨードメタン、ヨードエ
タン、ブロモメタン、ブロモエタン、クロロメタ
ン、クロロエタンであることを特徴とする、請求
項1記載の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019870004299A KR900000553B1 (ko) | 1987-05-01 | 1987-05-01 | 3,4-디치환-벤조티아졸-2-온 유도체의 새로운 제조방법 |
| KR1987-4299 | 1987-05-01 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01207282A JPH01207282A (ja) | 1989-08-21 |
| JPH0416472B2 true JPH0416472B2 (ja) | 1992-03-24 |
Family
ID=19261138
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63107371A Granted JPH01207282A (ja) | 1987-05-01 | 1988-04-28 | 3,4−ジ置換−ベンゾチアゾール−2−オン誘導体の新しい製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01207282A (ja) |
| KR (1) | KR900000553B1 (ja) |
-
1987
- 1987-05-01 KR KR1019870004299A patent/KR900000553B1/ko not_active Expired
-
1988
- 1988-04-28 JP JP63107371A patent/JPH01207282A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR900000553B1 (ko) | 1990-01-31 |
| JPH01207282A (ja) | 1989-08-21 |
| KR880013911A (ko) | 1988-12-22 |
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