JPH0416841B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は磁気ヘツドの製造方法に関するもので
あり、例えばビデオテープレコーダに用いられる
狭トラツクフエライト磁気ヘツド等を得る場合に
好適な磁気ヘツドの製造方法を提供するものであ
る。

最近のビデオテープレコーダに用いられる磁気
ヘツドは高密度記録再生をできるようにトラツク
幅が狭小化され、たとえば30μｍ程度のものが実
現されている。ところが機械加工によるトラツク
幅加工では精度確保が難しくなりつつあり、この
解決方法としてフオトエツチングを利用すること
が提案されている。たとえば、第１図ａに示すよ
うに、フオトエツチングにより、あらかじめトラ
ツク幅加工を精度よくしておき、この後、第１図
ｂに示すように、エツチングの不足分を機械加工
により大きく削り落す。このようにしてトラツク
幅加工を行なつた１対のフエライトブロツクの何
れか一方に、第１図ｃに示すように、巻線溝１の
加工をし、次いでギヤツプガラス層を介して前記
両ブロツクを互いに接合した後、個々のチツプコ
アに切り分ける。

しかしながらこのような工程が含まれる従来の
磁気ヘツドの製造方法には次に列挙するような欠
点がみられる。

(1) 第１図ａのエツチングによるトラツク幅加工
の後で第１図ｂの溝加工をするためにはトラツ
ク部の両側に溝を高精度に切り込む必要がある
が溝端部がチツピングをおこして溝の位置を正
確に測れないので位置合せが困難である。

(2) １本１本のバーについて溝加工のための位置
合せをする必要があり、能率が悪い。

(3) ブロツク接合時にトラツク幅規制溝にもガラ
スを同時にモールドすると、モールドガラスの
影響でギヤツプガラス層が変質して性能が劣化
する恐れがある。

以上の従来における磁気ヘツドの製造方法の欠
点を鑑みて、発明者らは特願昭55−48352号（特
開昭56−145518号公報）においてヘツドブロツク
に機械加工によりあらかじめ溝を形成しガラスを
モールドしたのち、トラツク幅規制溝をエツチン
グで形成する磁気ヘツドの製造方法を提案した。
すなわち、角棒状コアブロツクのフエライトを用
いて、このコアブロツクの長手一辺のコーナ面に
機械加工とエツチングによりトラツク幅加工を行
なう方法である。本発明はさらに上記先の出願を
改良するもので、略正方形または円形の平板状の
強磁性体を用いてヘツドを加工するものである。
エツチングによりトラツク幅規制溝の加工をする
場合の精度は、エツチング用マスタのパターン形
成精度に依存するが、精度良くマスクのパターン
を形成するためには、フオトレジストを均一な厚
みに塗布することが重要である。上記従来例の角
棒状のコアブロツク面に、フオトレジストを一般
的に行なわれているようにスピン塗布する場合、
面の端部すなわち各辺部で膜厚が増大し、コアブ
ロツク面の縦横比が大きいほど膜厚が不均一にな
る。したがつて、平面の広い平板状の材料の方が
フオトレジストを均一に塗布することができる。
また一本の角棒状コアブロツクにパターンを焼き
付けるのと比べて、平板上に形成した複数本のヘ
ツドにパターンを焼き付ける方が、効率的である
のは明らかであり、トラツク幅精度が高くかつ同
時に多数のパターンを焼き付けられれるフオトエ
ツチングのメリツトをより生かすことができるも
のである。

以下に本発明の実施例を図面をもつて説明す
る。第２図ａ〜ｆは本発明の第１の実施例を示し
ている。

まず、第２図ａに示すような、Mn−Znフエラ
イト等の強磁性体よりなる、コアプレート２（25
mm□ ／１mm厚）のギヤツプ形成面に、完成ヘツド
チツプ厚より狭い間隔をおいてダイシング等の機
械加工手段により溝３を形成する。この実施例の
場合、トラツク幅は20μｍなので、溝３の間隔は
30μｍ、深さは、200μｍである。次にこの溝をガ
ラスス等の非磁性材料でモールドした後、表面を
鏡面に研磨する。

その後、トラツク幅規制溝を電解エツチングで
形成するためのフオトレジストマスク４をギヤツ
プの設けられた面に形成する。フオトレジストマ
スク４のトラツク部の窓の間隔は、エツチングの
アンダーカツト量を見込んで26μｍである（第２
図ｂ）。

このフオトレジストマスク４を用いて電解エツ
チングにより深さ3μｍの溝を形成する。電解条
件は、リン酸：硫酸：グリセリン＝１：１：１の
電解液を用いて、印加電圧8Vで約1μｍ／minで
ある。

電解エツチング以外に、フエライトと比較して
スパツタレートの低いチタンやクロム薄膜をマス
クとして、イオンエツチングやスパツタエツチン
グを行なつても、高精度にトラツク幅規制溝を加
工できる。またセンダストなどの金属磁性材料に
対しても同様に電解エツチングやスパツタエツチ
ング、イオンエツチングなどで溝加工を高精度に
行なえる。

第２図ｃは、エツチング後の溝部断面の拡大図
を示している。同図に示すように、フオトレジス
トマスク４の窓の下部にエツチングによるトラツ
ク幅規制溝５を形成している。

次に、エツチングのためのフオトレジストマス
ク４を除去した後、ヘツドチツプの少なくとも一
方の側に巻線窓ができるように、巻線溝１をギヤ
ツプの形成面にダイシング等の機械加工により形
成する（第２図ｄ）。

次に、ギヤツプ長規制用のガラスをギヤツプ形
成面上にスパツタにより形成し、第２図ｄに示す
破線でコアブロツク６，６′に切り分けた後、対
向コアブロツクと加熱接着する（第２図ｅ）。さ
らに第２図ｅの破線で切り分けることにより、第
２図ｆに示すヘツドチツプを得る。

上記本発明の実施例においては、正方形のプレ
ートから磁気ヘツドを加工したが、フオトレジス
ト塗付条件の点より円板を用いるとさらに良い結
果が得られる。

次に本発明の第２の実施例を第３図ａ〜ｃをも
とにして説明する。第１の実施例と同様にMn−
Znフエライト等の強磁性体プレートのギヤツプ
形成面に溝を形成し、ガラス等の非磁性材料でモ
ールドした後、表面を研削し鏡面に研磨する。

次に、独立除去可能な材料よりなるトラツク規
制のための第１のマスク７および深エツチングの
ための第２のマスク８をフオトフアプリケーシヨ
ン等の手段により形成する（第３図ａ）。

このマスクの材料としてはたとえばスパツタエ
ツチングのためのクロムからなる第１のマスク７
および電解エツチングのためのフオトレジストか
らなる第２のマスク８がある。この組合せではク
ロムからなる第１のマスク７はフオトレジストの
剥離剤に対して不溶なので、２種のマスクでそれ
ぞれ独立にエツチングできる。すなわち第２のフ
オトレジストからなる第２のマスク８を用いて第
１の溝９をエツチングした後、剥離剤でフオトレ
ジストを除去し、次にクロムからなる第１のマス
ク７を用いてトラツク幅規制溝をスパツタエツチ
ングにより形成する（第２図ｂ）。

その後、第１のマスク７を除去して第１の実施
例と同様の方法で巻線溝を形成後、ギヤツプ長規
制材を介して対向コアブロツクを加熱接着し、ヘ
ツドチツプに切り分ける。

次に本発明の第３の実施例を第４図ａ，ｂをも
とにして説明する。

第１の実施例と同様に、Ni−Znフエライト等
の強磁性プレートのギヤツプ形成面に溝を形成
し、ガラス等の非磁性材料でモールドした後、表
面を研削し鏡面に研磨する。次にフオトツチング
によりトラツク幅規制溝を形成し、巻線溝加工を
した後コアブロツクに切分ける。これをギヤツプ
規制材を介してスライダとなるべきヘツド半体と
加熱接着する（第４図ａ）。

浮上面の溝加工を行なつた後ヘツドチツプに切
分ければ、磁気デイスク用の磁気ヘツドを得る
（第４図ｂ）。なお４図ｂの１０ははスライダ、１
１はコアである。

以上述べたように正方形または円形のプレート
に機械加工とフオトエツチングを組合せてトラツ
ク幅規制溝を形成することにより次のような利点
が得られる。

１ 機械加工の精度±2μｍと比べ加工精度を数
倍向上させられる。

２ エツチングのみで大きく溝形成した場合の精
度の低下を、機械加工による予備的溝加工によ
り防止できる。

３ フオトレジストを正方形または円形のプレー
トに塗付するので、レジストの厚さを均一にし
やすくマスクの精度を出しやすい。

４ 機械加工の大部分をプレートでできるので取
扱いが容易であり、パターンの焼付も一度にコ
アブロツク数本分ができるので、精造工程での
能率が非常に向上する。

また第２の実施例の方法によれば、大部分の
エツチングは第１の溝形成時に行なうので、ト
ラツク幅規制溝のエツチングは微少量ですみ、
さらにトラツク幅精度を向上させられる。

また従来例で述べたエツチング後に溝加工す
る方法と比べると次の点で優れている。

１ エツチングしたフエライトブロツクの凸部に
対する機械加工溝の位置合せより、機械加工で
形成された溝に対するフオトマスクの位置合せ
のほうが容易で精度も良い。

２ フエライトをガラスで接着する場合、ガラス
とフエライトの界面の反応は接着温度に依存
し、高温になるほど反応層の厚みが増大する。
したがつて、ガラスの厚みで長さを制御する磁
気ギヤツプのような極めて高い寸法精度の要求
される部位を接着する場合、接着温度を下げて
ギヤツプ面の反応層の厚みを最小限に抑えるこ
とが重要である。一方狭い部分をガラス接着す
る場合、隅々までガラスを行き渡らせるために
は、ガラスが十分に流動的になるまで高温に熱
することが必要である。

上記ガラス接着温度に関する要求は互いに相
反しているので、フエライトにトラツク幅規制
用の溝を形成した後、対向コアブロツクのギヤ
ツプ接着時に同時に溝にガラスを満たそうとす
ると、両方の温度条件を同時に満たすことは困
難である。すなわち、従来の、エツチング後に
溝加工して対向コアブロツクのギヤツプ接合時
に、溝全体に同時にモールドガラスを満たす方
法では、溝の隅々までガラスを行き渡らせるた
めに、モールドガラスが十分流動性をおびる粘
度まで高温（約700℃程度）に熱することが必
要となる。このため同時にギヤツプ部の温度が
上りすぎ、ギヤツプガラス層が変質して性能劣
化をまねく恐れがある。

しかし、本発明によれば、大まかにトラツク
幅を規制するためのフエライトに形成した加工
溝を埋めるガラスは、予め流し込まれているの
で、ギヤツプ接着時には対向コアブロツクの接
着とともにギヤツプ近傍のトラツク幅を正確に
規制するためのエツチングにより形成された小
さな溝（トラツク幅規制溝）のみを埋めればよ
い。加工溝に充填された対向するモールドガラ
ス同士を接着する場合、ガラス面に多少の凹凸
があつても凹凸の大きさは２〜3μｍ程度であ
り、このガラス同士を接合する場合、前記の加
工溝（約数10μｍ）に流し込むときほど高温に
してガラスの粘度を下げる必要はなく、600℃
程度に上げることでモールドガラスは半流動化
し、その表面張力により互いのガラスの凹部を
埋めて一体に接合しあう。このときエツチング
で形成された小さな溝も溝の大きさが3μｍ径
程であるため、前記のモールドガラスの半流動
化にともなつてその表面張力により、同時に埋
めあわされる。

したがつて加工溝中に新規にガラスを流し込
む従来の場合と比較して半流動状の低温でギヤ
ツプ接着ができるのでフエライトとガラスの界
面の反応が抑えられる。このため、ギヤツプガ
ラス層が変質して性能が劣化する恐れが少なく
なる。

【図面の簡単な説明】

第１図ａ〜ｃは従来の磁気ヘツドの製造方法を
説明するための図、第２図ａ〜ｆは本発明の実施
例における磁気ヘツドの製造方法を説明するため
の図、第３図ａ〜ｃは本発明の他の実施例におけ
る磁気ヘツドの製造方法を説明するための図、第
４図ａ，ｂは本発明のさらに他の実施例を説明す
るための図である。 ２……コアプレート、３，９……溝、４，７，
８……マスク、５……トラツク幅規制溝、６，
６′……コアブロツク、１０……スライダ、１１
……コア。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 強磁性体よりなる略正方形または円形のプレ
   ート上に、トラツク幅より広い間隔をおいて溝を
   形成する工程と、前記溝に非磁性材料をモールド
   した後表面を研摩する工程と、フオトエツチング
   によりトラツク幅規制溝を形成する工程とを有す
   ることを特徴とする磁気ヘツドの製造方法。 ２ トラツク幅規制溝が、深浅２段のエツチング
   により形成されることを特徴とする特許請求の範
   囲第１項記載の磁気ヘツドの製造方法。