JPH1021504A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド及びその製造方法Info
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- JPH1021504A JPH1021504A JP17202596A JP17202596A JPH1021504A JP H1021504 A JPH1021504 A JP H1021504A JP 17202596 A JP17202596 A JP 17202596A JP 17202596 A JP17202596 A JP 17202596A JP H1021504 A JPH1021504 A JP H1021504A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 薄膜積層磁気ヘッドにおいて、テープ作用面
からのギャップ深さの管理が磁気ヘッドチップのレベル
で可能となるようにした磁気ヘッド及びその製造方法を
提供する。 【解決手段】 基板１の表面に略Ｖ字状断面溝を形成
し、溝壁面に磁性薄膜２を成膜し、溝にガラス３を充填
した後、磁性薄膜の磁性コア面同士を互いにギャップを
介して対向させるための表面を研削するが、基板１の頂
部が所定の寸法Ｃの平坦部となるまで削る。この場合、
平坦部寸法Ｃ≧（磁気記録媒体作用面上のコア幅Ｂ−軟
磁性材料膜厚Ｄ）／２により寸法Ｃを決定すると、コア
幅Ｂで切り出されたチップの側面に前記接合面がガラス
３と基板１の界面として露出する。
からのギャップ深さの管理が磁気ヘッドチップのレベル
で可能となるようにした磁気ヘッド及びその製造方法を
提供する。 【解決手段】 基板１の表面に略Ｖ字状断面溝を形成
し、溝壁面に磁性薄膜２を成膜し、溝にガラス３を充填
した後、磁性薄膜の磁性コア面同士を互いにギャップを
介して対向させるための表面を研削するが、基板１の頂
部が所定の寸法Ｃの平坦部となるまで削る。この場合、
平坦部寸法Ｃ≧（磁気記録媒体作用面上のコア幅Ｂ−軟
磁性材料膜厚Ｄ）／２により寸法Ｃを決定すると、コア
幅Ｂで切り出されたチップの側面に前記接合面がガラス
３と基板１の界面として露出する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はビデオテープレコー
ダー等に用いられる磁気ヘッド及びその製造方法に関
し、より詳細には、磁気ヘッドにおけるギャップ深さを
管理し、磁気特性の改善を意図した当該技術に関するも
のである。
ダー等に用いられる磁気ヘッド及びその製造方法に関
し、より詳細には、磁気ヘッドにおけるギャップ深さを
管理し、磁気特性の改善を意図した当該技術に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気記録の高密度化に伴い、例え
ば、メタルテープ等の高保磁力媒体が主流となってきて
いる。このため、磁気ヘッドに使用されるコア材料は、
高い飽和磁束密度を有するものが要求されている。この
ような状況の下、例えば、図９に示すような高い飽和束
密度を有するＦｅＡｌＳｉ合金薄膜層１０２を、非磁性
材料からなる基板１０１上に直接設けた構成の薄膜積層
磁気ヘッドチップが知られている。
ば、メタルテープ等の高保磁力媒体が主流となってきて
いる。このため、磁気ヘッドに使用されるコア材料は、
高い飽和磁束密度を有するものが要求されている。この
ような状況の下、例えば、図９に示すような高い飽和束
密度を有するＦｅＡｌＳｉ合金薄膜層１０２を、非磁性
材料からなる基板１０１上に直接設けた構成の薄膜積層
磁気ヘッドチップが知られている。
【０００３】ここで、図９に示す磁気ヘッドチップの製
造方法をその工程にそって説明する。まず、図１０に示
すように、結晶化ガラス、セラミック等の非磁性材料か
らなる基板１０１の表面に所定のピッチ寸法Ａで、断面
略Ｖ字状の連続した溝１０５を形成し、次に図１１に示
すように、この溝１０５の側壁面上に真空蒸着法等によ
りＦｅＡｌＳｉ合金薄膜等の軟磁性材料の薄膜層１０２
を形成する。この薄膜層は、図１１に示すように、所定
の層数だけのＦｅＡｌＳｉ合金等の軟磁性材料１０２ａ
とＳｉＯ2等の非磁性材料１０２ｂとを交互に積層して
形成される。
造方法をその工程にそって説明する。まず、図１０に示
すように、結晶化ガラス、セラミック等の非磁性材料か
らなる基板１０１の表面に所定のピッチ寸法Ａで、断面
略Ｖ字状の連続した溝１０５を形成し、次に図１１に示
すように、この溝１０５の側壁面上に真空蒸着法等によ
りＦｅＡｌＳｉ合金薄膜等の軟磁性材料の薄膜層１０２
を形成する。この薄膜層は、図１１に示すように、所定
の層数だけのＦｅＡｌＳｉ合金等の軟磁性材料１０２ａ
とＳｉＯ2等の非磁性材料１０２ｂとを交互に積層して
形成される。
【０００４】次いで、図１２に示すように、断面略Ｖ字
状の連続した溝１０５上に低融点ガラス１０３を充填
し、その後に、図１３に示すように、前記低融点ガラス
１０３の充填部分の表面研削を行い、さらに、図１４に
示すようにコイル巻き線用窓加工１０６，１０７を行っ
て磁気ヘッドに使用される片側コアブロック１０８を形
成する。次いで図１５に示すように、片側コアブロック
１０８同士をＳｉＯ2等の酸化物からなる非磁性ギャッ
プ材を狭んで加圧加熱を施し相互に接合する。その後、
図１６に示すようにテープ摺動（作用）面を所定のＲ形
状に研削した後、所定の幅（コア幅）Ｂで切断すること
で図９に示すような磁気ヘッドチップを得る。
状の連続した溝１０５上に低融点ガラス１０３を充填
し、その後に、図１３に示すように、前記低融点ガラス
１０３の充填部分の表面研削を行い、さらに、図１４に
示すようにコイル巻き線用窓加工１０６，１０７を行っ
て磁気ヘッドに使用される片側コアブロック１０８を形
成する。次いで図１５に示すように、片側コアブロック
１０８同士をＳｉＯ2等の酸化物からなる非磁性ギャッ
プ材を狭んで加圧加熱を施し相互に接合する。その後、
図１６に示すようにテープ摺動（作用）面を所定のＲ形
状に研削した後、所定の幅（コア幅）Ｂで切断すること
で図９に示すような磁気ヘッドチップを得る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記したところの、従
来の磁気ヘッドチップの製造方法において、断面略Ｖ字
状の溝に充填した低融点ガラスの表面研削を行う際、溝
間にある基板の頂点部ぎりぎりまでしか研削しないが、
その理由は、所定のピッチ寸法内の溝で得られる軟磁性
材料の薄膜層の量をできるだけ少なくしないようにする
ためである。このような加工を経て得られるチップ形状
は図９のようにテープ摺動（作用）面におけるギャップ
Ｇの延長線（図示の点線）上のコアブロックの側面部分
は低融点ガラス１０３で覆われている。この場合、ギャ
ップＧの延長線上のコアブロック側面部分が低融点ガラ
ス１０３で覆われているためチップ側面からギャップ深
さの測定ができない。従って、従来のギャップ深さの管
理は、テープ摺動面を所定のＲ形状に研削する際、所定
のギャップ深さにする加工精度をできるだけ追い込み、
テープ摺動面の仕上げに行うラッピングテープ（＃１０
０００〜＃２００００）による研磨をできるだけ少なく
してばらつきを少なくする方法を取っていた。
来の磁気ヘッドチップの製造方法において、断面略Ｖ字
状の溝に充填した低融点ガラスの表面研削を行う際、溝
間にある基板の頂点部ぎりぎりまでしか研削しないが、
その理由は、所定のピッチ寸法内の溝で得られる軟磁性
材料の薄膜層の量をできるだけ少なくしないようにする
ためである。このような加工を経て得られるチップ形状
は図９のようにテープ摺動（作用）面におけるギャップ
Ｇの延長線（図示の点線）上のコアブロックの側面部分
は低融点ガラス１０３で覆われている。この場合、ギャ
ップＧの延長線上のコアブロック側面部分が低融点ガラ
ス１０３で覆われているためチップ側面からギャップ深
さの測定ができない。従って、従来のギャップ深さの管
理は、テープ摺動面を所定のＲ形状に研削する際、所定
のギャップ深さにする加工精度をできるだけ追い込み、
テープ摺動面の仕上げに行うラッピングテープ（＃１０
０００〜＃２００００）による研磨をできるだけ少なく
してばらつきを少なくする方法を取っていた。
【０００６】近年のデジタルＶＴＲに代表される高密度
磁気記録における磁気ヘッドの高性能化の要求は大変厳
しく、歩留り良く磁気ヘッドを生産するには、所定の摩
耗保証時間を満足する限界のギャップ深さまでできるだ
け追い込む必要がある。しかしながら、従来の方法では
ギャップ深さのばらつきをせいぜい±２μｍまで追い込
むのがやっとである。更に、チップになった後ギャップ
深さの測定が正確にできないことにより所定の摩耗保証
時間を満足する限界のギャップ深さに対してある程度余
裕を持たせる必要がある。これらのことから、チップに
なった後、ギャップ深さの測定が正確にできないことが
ネックとなり、要求される厳しい電気特性の規格を満足
する歩留りが非常に悪いことが問題となっていた。本発
明は、こうした従来の技術における問題の鑑みてなされ
たもので、薄膜積層磁気ヘッドにおいて、テープ作用面
からのギャップ深さの管理が磁気ヘッドチップのレベル
で可能となるようにした磁気ヘッド及びその製造方法を
提供することをその解決すべき課題とする。
磁気記録における磁気ヘッドの高性能化の要求は大変厳
しく、歩留り良く磁気ヘッドを生産するには、所定の摩
耗保証時間を満足する限界のギャップ深さまでできるだ
け追い込む必要がある。しかしながら、従来の方法では
ギャップ深さのばらつきをせいぜい±２μｍまで追い込
むのがやっとである。更に、チップになった後ギャップ
深さの測定が正確にできないことにより所定の摩耗保証
時間を満足する限界のギャップ深さに対してある程度余
裕を持たせる必要がある。これらのことから、チップに
なった後、ギャップ深さの測定が正確にできないことが
ネックとなり、要求される厳しい電気特性の規格を満足
する歩留りが非常に悪いことが問題となっていた。本発
明は、こうした従来の技術における問題の鑑みてなされ
たもので、薄膜積層磁気ヘッドにおいて、テープ作用面
からのギャップ深さの管理が磁気ヘッドチップのレベル
で可能となるようにした磁気ヘッド及びその製造方法を
提供することをその解決すべき課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、それ
ぞれの基板上に軟磁性薄膜を磁性コアとして設けた一対
の基板ブロックを該一対の基板ブロックにおける磁気記
録媒体の作用面から深さ方向にわたって、該軟磁性薄膜
により形成される磁性コア面同士を互いにギャップを介
して対向させるように接合して構成されるコアブロック
を有する磁気ヘッドにおいて、前記接合は前記軟磁性薄
膜を覆って充填されているガラスと前記基板とで接合面
を作り、該接合面が前記磁気記録媒体の作用面及び該作
用面に連なるコアブロックの側面に達するようになさ
れ、磁気記録テープの作用面からの磁性コアのギャップ
深さをコアブロックの側面から測定することを可能とす
るものである。
ぞれの基板上に軟磁性薄膜を磁性コアとして設けた一対
の基板ブロックを該一対の基板ブロックにおける磁気記
録媒体の作用面から深さ方向にわたって、該軟磁性薄膜
により形成される磁性コア面同士を互いにギャップを介
して対向させるように接合して構成されるコアブロック
を有する磁気ヘッドにおいて、前記接合は前記軟磁性薄
膜を覆って充填されているガラスと前記基板とで接合面
を作り、該接合面が前記磁気記録媒体の作用面及び該作
用面に連なるコアブロックの側面に達するようになさ
れ、磁気記録テープの作用面からの磁性コアのギャップ
深さをコアブロックの側面から測定することを可能とす
るものである。
【０００８】請求項２の発明は、基板の表面に略Ｖ字状
の定形断面で且つ定ピッチの複数の溝を形成し、該溝の
一方の溝壁面に磁性薄膜を成膜し、該磁性薄膜を設けた
溝にガラスを充填した後、前記磁性薄膜により形成され
る磁性コア面同士を互いにギャップを介して対向させる
ように接合してコアブロックを構成すべく該磁性コア面
を出すために表面研削する磁気ヘッドの製造方法におい
て、前記磁性コア面を出すための表面研削工程では、定
ピッチの前記略Ｖ字状溝間にある前記基板の頂部を越え
て削ることにより該基板の頂部に所定の寸法の平坦部を
作成するようにし、請求項１の磁気ヘッドの製造方法を
提供するものである。
の定形断面で且つ定ピッチの複数の溝を形成し、該溝の
一方の溝壁面に磁性薄膜を成膜し、該磁性薄膜を設けた
溝にガラスを充填した後、前記磁性薄膜により形成され
る磁性コア面同士を互いにギャップを介して対向させる
ように接合してコアブロックを構成すべく該磁性コア面
を出すために表面研削する磁気ヘッドの製造方法におい
て、前記磁性コア面を出すための表面研削工程では、定
ピッチの前記略Ｖ字状溝間にある前記基板の頂部を越え
て削ることにより該基板の頂部に所定の寸法の平坦部を
作成するようにし、請求項１の磁気ヘッドの製造方法を
提供するものである。
【０００９】請求項３の発明は、請求項２の発明におけ
る前記基板における平坦部の所定寸法を、平坦部寸法≧
（磁気記録媒体作用面上のコア幅−軟磁性材料膜厚）／
２により決定するようにし、請求項２の発明の具体化を
可能とするものである。
る前記基板における平坦部の所定寸法を、平坦部寸法≧
（磁気記録媒体作用面上のコア幅−軟磁性材料膜厚）／
２により決定するようにし、請求項２の発明の具体化を
可能とするものである。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の一実施形態を図面を参照
して以下に説明する。まず、上述の従来例と同様に、図
２に示すように、結晶化ガラス、セラミックといった非
磁性材料等からなる基板１の表面に所定のピッチ寸法Ａ
で、略Ｖ字状の定形の断面で連続した溝５を形成する。
次に、図３に示すようにこの溝５の側壁面上に真空蒸着
法等によりＦｅＡｌＳｉ合金薄膜等の軟磁性材料の薄膜
層２を形成する。この薄膜層は、所定の層数だけのＦｅ
ＡｌＳｉ合金等の軟磁性材料２ａとＳｉＯ2等の非磁性
材料２ｂとを交互に積層して形成される。その後、図４
に示すように略Ｖ字状の溝５上に低融点ガラス３を充填
した後に、図５に示すように前記低融点ガラスの充填部
分の表面研削を行う。
して以下に説明する。まず、上述の従来例と同様に、図
２に示すように、結晶化ガラス、セラミックといった非
磁性材料等からなる基板１の表面に所定のピッチ寸法Ａ
で、略Ｖ字状の定形の断面で連続した溝５を形成する。
次に、図３に示すようにこの溝５の側壁面上に真空蒸着
法等によりＦｅＡｌＳｉ合金薄膜等の軟磁性材料の薄膜
層２を形成する。この薄膜層は、所定の層数だけのＦｅ
ＡｌＳｉ合金等の軟磁性材料２ａとＳｉＯ2等の非磁性
材料２ｂとを交互に積層して形成される。その後、図４
に示すように略Ｖ字状の溝５上に低融点ガラス３を充填
した後に、図５に示すように前記低融点ガラスの充填部
分の表面研削を行う。
【００１１】その際、図５に示すように、溝間にある基
板１の頂部から更に削り込みその平坦部の寸法がＣ以上
になるまで削り込む。ここでＣ寸法は磁気テープ作用
（摺動）面上のコア幅（Ｂ）から軟磁性材料の薄膜層の
膜厚Ｄを引いた値の１／２以上とする（図８、参照）。 Ｃ≧（Ｂ−Ｄ）／２ Ｃ：Ｖ溝間の基板における平坦部寸法 Ｂ：磁気テ
ープ作用（摺動）面上のコア幅 Ｄ：軟磁性材料の
薄膜層の膜厚 次に図６に示すように、コイル巻き線用窓（溝）加工
６，７を行って磁気ヘッドに使用される基板ブロック
（片側コアブロック）８を形成する。その後は、上述し
た従来例と同様に図７に示すように、基板ブロック（片
側コアブロック）８同士をＳｉＯ2等の酸化物からなる
非磁性ギャップ材を狭んで加圧加熱を施し相互に接合す
る。次いで図８に示すようにテープ摺動面を所定のＲ形
状に研削した後、所定の幅（コア幅）Ｂで切断すること
で図１に示すような磁気ヘッドチップを得る。
板１の頂部から更に削り込みその平坦部の寸法がＣ以上
になるまで削り込む。ここでＣ寸法は磁気テープ作用
（摺動）面上のコア幅（Ｂ）から軟磁性材料の薄膜層の
膜厚Ｄを引いた値の１／２以上とする（図８、参照）。 Ｃ≧（Ｂ−Ｄ）／２ Ｃ：Ｖ溝間の基板における平坦部寸法 Ｂ：磁気テ
ープ作用（摺動）面上のコア幅 Ｄ：軟磁性材料の
薄膜層の膜厚 次に図６に示すように、コイル巻き線用窓（溝）加工
６，７を行って磁気ヘッドに使用される基板ブロック
（片側コアブロック）８を形成する。その後は、上述し
た従来例と同様に図７に示すように、基板ブロック（片
側コアブロック）８同士をＳｉＯ2等の酸化物からなる
非磁性ギャップ材を狭んで加圧加熱を施し相互に接合す
る。次いで図８に示すようにテープ摺動面を所定のＲ形
状に研削した後、所定の幅（コア幅）Ｂで切断すること
で図１に示すような磁気ヘッドチップを得る。
【００１２】上述した製造工程を経て得られる磁気ヘッ
ドチップの形状は、図１に示されるようにテープ作用面
における各基板ブロックの磁性薄膜同士が作るギャップ
Ｇを形成する接合面がコアブロックの側面に達する位置
においても、接合面の一方は、ガラス他方は基板材料で
構成されるようになる。このようにヘッドチップは、テ
ープ作用（摺動）面における非磁性基板１の部分が、ギ
ャップＧの延長線上のコアブロック側面にまで形成され
て、ギャップ深さに相当する基板部分が明瞭に分かるの
で、チップ側面からのギャップ深さの測定が可能となる
ものである。
ドチップの形状は、図１に示されるようにテープ作用面
における各基板ブロックの磁性薄膜同士が作るギャップ
Ｇを形成する接合面がコアブロックの側面に達する位置
においても、接合面の一方は、ガラス他方は基板材料で
構成されるようになる。このようにヘッドチップは、テ
ープ作用（摺動）面における非磁性基板１の部分が、ギ
ャップＧの延長線上のコアブロック側面にまで形成され
て、ギャップ深さに相当する基板部分が明瞭に分かるの
で、チップ側面からのギャップ深さの測定が可能となる
ものである。
【００１３】
請求項１の効果：本発明によると、テープ摺動面を所定
のＲ形状に研削する際、所定のギャップ深さにする加工
精度に±２μｍ程度のばらつきが出る現状を考慮し、ヘ
ッドチップ一つ一つに対してギャップ深さの測定を行い
ながら、テープ摺動面の仕上げに行うラッピングテープ
（＃１０００〜＃２０００）による研磨量の制御によ
り、所定の摩耗保証時間を満足する限界のギャップ深さ
まで追い込むことが可能になり、また、チップになった
後ギャップ深さの測定が正確にできることから、ヘッド
チップ一つ一つ対して所定の摩耗保証時間を満足する限
界のギャップ深さに対し０μｍ〜＋２μｍの範囲には制
御することが可能になり、要求される厳しい電気特性の
規格を満足する製品の歩留りを大幅に改善することがで
きる。 請求項２及び３の効果：請求項１の磁気ヘッドの製造が
従来の工程を大きく変えることなく実施できるようにな
るとともに、そのための具体的な方法として表面研削に
おける量的な根拠を示すことにより、実施を容易化する
ものである。
のＲ形状に研削する際、所定のギャップ深さにする加工
精度に±２μｍ程度のばらつきが出る現状を考慮し、ヘ
ッドチップ一つ一つに対してギャップ深さの測定を行い
ながら、テープ摺動面の仕上げに行うラッピングテープ
（＃１０００〜＃２０００）による研磨量の制御によ
り、所定の摩耗保証時間を満足する限界のギャップ深さ
まで追い込むことが可能になり、また、チップになった
後ギャップ深さの測定が正確にできることから、ヘッド
チップ一つ一つ対して所定の摩耗保証時間を満足する限
界のギャップ深さに対し０μｍ〜＋２μｍの範囲には制
御することが可能になり、要求される厳しい電気特性の
規格を満足する製品の歩留りを大幅に改善することがで
きる。 請求項２及び３の効果：請求項１の磁気ヘッドの製造が
従来の工程を大きく変えることなく実施できるようにな
るとともに、そのための具体的な方法として表面研削に
おける量的な根拠を示すことにより、実施を容易化する
ものである。
【図１】本発明の薄膜積層磁気ヘッドチップの実施形態
を示し、（Ａ）に斜視図（Ａ）を（Ｂ）に上面図を示す
ものである。
を示し、（Ａ）に斜視図（Ａ）を（Ｂ）に上面図を示す
ものである。
【図２】本発明の薄膜積層磁気ヘッドチップの製造方法
の実施形態の製造工程で基板への略Ｖ字状溝の形成工程
を説明するための図である。
の実施形態の製造工程で基板への略Ｖ字状溝の形成工程
を説明するための図である。
【図３】本発明の薄膜積層磁気ヘッドチップの製造方法
の実施形態の薄膜の積層工程を説明するための図であ
る。
の実施形態の薄膜の積層工程を説明するための図であ
る。
【図４】本発明の薄膜積層磁気ヘッドチップの製造方法
の実施形態の低融点ガラスの充填工程を説明するための
図である。
の実施形態の低融点ガラスの充填工程を説明するための
図である。
【図５】本発明の薄膜積層磁気ヘッドチップの製造方法
の実施形態の低融点ガラスの表面研削工程を説明するた
めの図である。
の実施形態の低融点ガラスの表面研削工程を説明するた
めの図である。
【図６】本発明の薄膜積層磁気ヘッドチップの製造方法
の実施形態のコイル巻線用窓溝加工工程を説明するため
の図である。
の実施形態のコイル巻線用窓溝加工工程を説明するため
の図である。
【図７】本発明の薄膜積層磁気ヘッドチップの製造方法
の実施形態の片側コアブロック同士の接合工程を説明す
るための図である。
の実施形態の片側コアブロック同士の接合工程を説明す
るための図である。
【図８】本発明の薄膜積層磁気ヘッドチップの製造方法
の実施形態のＲ形状研削及び切断工程を説明するための
図である。
の実施形態のＲ形状研削及び切断工程を説明するための
図である。
【図９】従来の薄膜積層磁気ヘッドチップのを示し、
（Ａ）に斜視図（Ａ）を（Ｂ）に上面図を示すものであ
る。
（Ａ）に斜視図（Ａ）を（Ｂ）に上面図を示すものであ
る。
【図１０】従来の薄膜積層磁気ヘッドチップの製造工程
で基板への略Ｖ字状溝の形成工程を説明するための図で
ある。
で基板への略Ｖ字状溝の形成工程を説明するための図で
ある。
【図１１】従来の薄膜積層磁気ヘッドチップの製造工程
で薄膜の積層工程を説明するための図である。
で薄膜の積層工程を説明するための図である。
【図１２】従来の薄膜積層磁気ヘッドチップの製造工程
で低融点ガラスの充填工程を説明するための図である。
で低融点ガラスの充填工程を説明するための図である。
【図１３】従来の薄膜積層磁気ヘッドチップの製造工程
で低融点ガラスの表面研削工程を説明するための図であ
る。
で低融点ガラスの表面研削工程を説明するための図であ
る。
【図１４】従来の薄膜積層磁気ヘッドチップの製造工程
でコイル巻線用窓溝加工工程を説明するための図であ
る。
でコイル巻線用窓溝加工工程を説明するための図であ
る。
【図１５】従来の薄膜積層磁気ヘッドチップの製造工程
で片側コアブロック同士の接合工程を説明するための図
である。
で片側コアブロック同士の接合工程を説明するための図
である。
【図１６】従来の薄膜積層磁気ヘッドチップの製造工程
でＲ形状研削及び切断工程を説明するための図である。
でＲ形状研削及び切断工程を説明するための図である。
１，１０１…非磁性材料等からなる基板、２，１０２…
ＦｅＡｌＳｉ合金薄膜等の軟磁性材料の薄膜層、２ａ，
１０２ａ…ＦｅＡｌＳｉ合金等の軟磁性材料、２ｂ，１
０２ｂ…ＳｉＯ2等の非磁性材料、３，１０３…低融点
ガラス、５，１０５…略Ｖ字状断面の溝、６，７…コイ
ル巻き線用窓（溝）、８…基板ブロック（片側コアブロ
ック）、１０６，１０７…コイル巻き線用窓、１０８…
片側コアブロック。
ＦｅＡｌＳｉ合金薄膜等の軟磁性材料の薄膜層、２ａ，
１０２ａ…ＦｅＡｌＳｉ合金等の軟磁性材料、２ｂ，１
０２ｂ…ＳｉＯ2等の非磁性材料、３，１０３…低融点
ガラス、５，１０５…略Ｖ字状断面の溝、６，７…コイ
ル巻き線用窓（溝）、８…基板ブロック（片側コアブロ
ック）、１０６，１０７…コイル巻き線用窓、１０８…
片側コアブロック。
Claims (3)
- 【請求項１】 それぞれの基板上に軟磁性薄膜を磁性コ
アとして設けた一対の基板ブロックを該一対の基板ブロ
ックにおける磁気記録媒体の作用面から深さ方向にわた
って、該軟磁性薄膜により形成される磁性コア面同士を
互いにギャップを介して対向させるように接合して構成
されるコアブロックを有する磁気ヘッドにおいて、前記
接合は前記軟磁性薄膜を覆って充填されているガラスと
前記基板とで接合面を作り、該接合面が前記磁気記録媒
体の作用面及び該作用面に連なるコアブロックの側面に
達するようになされたことを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】 基板の表面に略Ｖ字状の定形断面で且つ
定ピッチの複数の溝を形成し、該溝の一方の溝壁面に磁
性薄膜を成膜し、該磁性薄膜を設けた溝にガラスを充填
した後、前記磁性薄膜により形成される磁性コア面同士
を互いにギャップを介して対向させるように接合してコ
アブロックを構成すべく該磁性コア面を出すために表面
研削する磁気ヘッドの製造方法において、前記磁性コア
面を出すための表面研削工程では、定ピッチの前記略Ｖ
字状溝間にある前記基板の頂部を越えて削ることにより
該基板の頂部に所定の寸法の平坦部を作成するようにし
たことを特徴とする磁気ヘッド製造方法。 - 【請求項３】 前記基板における平坦部の所定寸法を、
平坦部寸法≧（磁気記録媒体作用面上のコア幅−軟磁性
材料膜厚）／２により決定するようにしたことを特徴と
する請求項２記載の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17202596A JPH1021504A (ja) | 1996-07-02 | 1996-07-02 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17202596A JPH1021504A (ja) | 1996-07-02 | 1996-07-02 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1021504A true JPH1021504A (ja) | 1998-01-23 |
Family
ID=15934134
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17202596A Pending JPH1021504A (ja) | 1996-07-02 | 1996-07-02 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1021504A (ja) |
-
1996
- 1996-07-02 JP JP17202596A patent/JPH1021504A/ja active Pending
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