JPH04168437A - 感光材料処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、ハロゲン化銀写真感光材料の処理ムラを防
止する感光材料処理装置に関する。

［従来の技術］ ハロゲン化錫写真感光材料を現像処理する従来の感光材
料処理装置は、多数の搬送ローラにより形成された搬送
路を有し、この搬送路に沿って例えば現像液槽、定着液
槽、水洗液槽が配設されている。

これらの各処理液槽には温度調節された所定量の処理液
が貯溜されており、順次これらの処理液に感光材料を所
定時間浸漬させて現像処理を行なりていた。

［発明が解決しようとするｆｆｏ］ ところが、例えば感光材料が最初に浸漬する現像液槽に
おいては、現像液の表面張力が低いために、わずかな外
部の振動や感光材料が現像液槽内を搬送されるときの振
動でも、液面に細かな波が生じやすかフた。この波の波
頭が現像液に浸漬する前の感光材料に接触すると、その
部分の現像が先に始まってしまい、結果として処理ムラ
を生ずることがあった。

即ち、波頭に触れた感光材料の部分は現像が他、　　の
部分に比べて早く進行してしまうため、ポジ処理では画
像濃度がのりすぎ、ネガ処理では抜けがよくなりすぎて
しまう、しかも、現像処理開始の時点では化学反応が急
激に始まりその変化も激しいため、わずかであフても処
理開始に時間差があると、その後の処理をいくら十分に
行なっても処理ムラをなくすことはできなかりた。特に
、現像処理の迅速化が進むにつれて、この濡れ始めの差
による処理ムラが目立つ傾向にあった。

又、処理液の温度はヒーターにより保温調節されている
ため水分の蒸発量が多く乾燥濃縮しやすかった。更に、
処理液が空気に触れると酸化が促進されやすかった。こ
のように、濃縮または酸化が促進された処理液は処理性
能の劣化につながっていた。

この発明は、従来の感光材料処理装置が有する上記の欠
点を解消するため、請求項１及び２記載の記載の感光材
料処理装置は、現像処理開始の時間差をなくし、又は現
像処理開始時点での急激な化学反応を緩和して処理ムラ
をなくすことを目的とする。

又、請求項３記載の感光材料処理装置は、水分の蒸発量
を抑えて処理液の濃縮化を防止し、又処理液の酸化促進
を妨げることで処理液の処理性能の劣化を防止すること
を目的としている。

［課題を解決するための手段］ 前記ｎ題を解決するため、請求項１記載の感光材料処理
装置は、感光材料を搬送路に沿って搬送しながら処理液
槽の処理液に浸漬して処理する感光材料処理装置におい
て、前記感光材料を前記処理液槽に搬入する前の搬送路
に、前記感光材料に前記処理液又は水又は希釈した処理
液を予め供給塗布する液供給塗布手段を有することを特
徴としている。

又、請求項２記載の感光材Ｉ４処理装置は、前記液供Ｕ
　＝布手段はローラ又はノズル又はトレーで構成され、
この液供給塗布手段に前記感光材料を接触させて前記処
理液又は水又は希釈した処理液を予め供給塗布すること
を特徴としている。

請求項３記載の感光材料処理装置は、前記液供給塗布手
段及び前記処理液面に空気の流動を阻止するカバーを設
けることを特徴としている。

［作用コ 請求項１及び２記載の感光材料処理装置は、感光材料を
処理液槽の処理液に浸漬する前に、搬送路に備えた液供
給塗布手段により、感光材料に均一に処理液を塗布し、
現像処理開始の時間差をなくす、又、水又は希釈した処
理液を予め供給塗布し、現像処理開始時点での急激な化
学反応を緩和して処理ムラをなくす。

又、請求項３記載の感光材料処理装置は、液供給塗布手
段及び処理液面をカバーで覆い、空気の流動を阻止して
、水分の蒸発及び処理液の酸化促進を妨げる。

［実施例コ 以下、この発明の一実施例を添付図面に基づいて詳細に
説明する。

第１図は感光材料処理装置の概略図、第２図は搬入開口
部の拡大断面図である。

この感光材料処理装置の処理液槽２には温度調節された
所定量の処理液３が貯溜されており、この処理液３内に
は多数の搬送ローラ４が配設され、感光材料１のＮ送路
５を形成している。

処理液槽２の上部には処理液３の液面３ｂを覆う形でカ
バー６が設けられており、このカバー６には搬送路５の
感光材料１を通すための搬入開口部７と搬圧開口部８と
が設けられている。

感光材料１は処理液槽２の直前に配設される送りローラ
９からカバー６に設けられた搬入開口部７に搬送される
。

この搬入開口部７にはガイド面７ａが設けられており、
感光材料１はこのガイド面７ａに沿って処理液槽２内の
搬送ローラ４に挿入される。

カバー６の内面には処理液３が充填されており、搬入開
口部７の内側には処理液３に下面を浸漬する塗布ローラ
１０が配設される。この塗布ローラ１０の側面は、処理
液３の液面より上の位置にあるローラ接触面１０ａで、
搬入開口部７を搬送される感光材料１の乳剤層に接触し
ている。

この塗布ローラ１０の表面は親水性であるので、図示し
ない駆動源により感光材料１の搬送速度に合わせて塗布
ローラ１０を回転させると、その表面に処理液３の液膜
３ａが生ずる。この液膜３ａをローラ接触面１０ａで感
光材料１に接触させ均一に塗布する。このローラ接触面
１０８は処理液３に生じる波の高さよりも高い位置に設
定する。

この液膜３ａが塗布された感光材料１は続いて処理液３
に浸漬していき、搬送ローラ４で搬送されて処理された
後、搬出開口部８から搬出ローラ１１に送り出される。

塗布ローラ１０を用いる場合にはローラ表面に付着した
処理液３が酸化したり、乾燥濃縮し易いので、塗布ロー
ラ１０の上面はカバ−６内面に設けた凹部６ａで覆う。

この凹部６ａにより、外気が直接塗布ローラ１０に触れ
ないため、塗布ローラ１０の表面に付着した液［３ａは
乾燥せず、又酸化も防止できる。又、塗布ローラ１０の
表面に付着した液膜３ａが乾燥せず、又酸化も防止でき
、均一な塗布が可能であるように、塗布ローラ１０はそ
の外径を２０ｍｍ以下にすることが望ましい。

さらに、搬入開口部７と搬出開口部８は感光材料１の搬
送を阻害せぬ範囲でできるだけ狭くして、処理液３が外
気に触れる部分を極力少なくする。

なお、第３図に示すように処理液槽１０２に貯溜される
処理液１０３に生ずる波が高い場合には、ローラ接触面
１１０ａを液面から十分に離すために、塗布ローラ１１
０の下部に接触して処理液１０３にも浸漬する浸漬ロー
ラ１２を別に設けてもよい。この場合には浸漬ローラ１
２に生じた液１１ｉ　１０３　ａを塗布ローラ１１０に
転写し、この転写された液ＩＩ！１０３　ａを感光材料
１０１に塗布する。

又、以上の実施例では感光材料１．１０１の片面の乳剤
層に転写塗布する液供給塗布手段として塗布ローラ１０
．１１０を設けたが、両面に乳剤層がある場合には両面
塗布用に別にもう一組の塗布ローラを設けてもよい。

液供給塗布手段として塗布ローラ１０，１１０を用いな
い別の実施例を第４図及び第５図に基づき説明する。

第４図はノズル１３を用いて処理液２０３を予め塗布す
る処理液槽２０２の搬入開口部２０７の拡大断面図、第
５図はトレー１４モ用いて処理液３０３を塗布する同搬
入開口部３０７の拡大断面図である。

第４図において、図示しない送りローラから送られる感
光材′Ｊ−４２０１は搬送ガイド１５に導かれて処理液
槽２０２のカバー２０６に設けられた搬入開口部２０７
に挿入される。このカバー２０６も処理液２０３の乾燥
、酸化を防止するものであるので、搬入開口部２０７は
感光材料２０１の搬送を阻害せぬ範囲でできるだけ狭く
する。搬送ガイド１５と搬入開口部２０７との間に設け
られたノズル１３には、その先端部に感光材料２０１の
幅に適合した吹出口＋３ａを設け、ポンプ１６を介して
圧送されてくる処理液２０３を感光材料２０１の乳剤層
に均一に塗布する。この塗布する処理液２０３は塗布液
用タンク１７に貯溜された処理液２０３を用いてもよい
し、又処理液槽２０２に貯溜されているものを用いても
よい。

塗布液用タンク１７を用いる場合には処理液２０３の代
わりに水１８又は希釈処理液１９を貯留してこれらを塗
布してもよい。

感光材料２０］に水１８や希釈処理液１９を予め塗布し
てから処理液２０３に浸漬すると、この塗布された水１
８や希釈処理液１９を介して処理液２０３が浸透し、そ
の後化学反応を起こすことになるので、急激な初期の反
応を緩和することができる。

同様にして第５図に示すように、塗布液用タンク３１７
に貯留した処理液３０３．水３１８又は希釈処理液３１
９をポンプ３１６にて感光材料３０１の幅に適合したト
レー１４に圧送してこれらを塗布してもよい、なお、ト
レー１４にこれらの液を供給する配管２０の端部にはト
レー１４の幅に見合う開口１！Ａ２０　ａを設けておぎ
、トレー１４の全面に均一にこれらの液が流出するよう
にする。

トレー１４を用いて塗布する場合には、吹出口１３ａを
有しないので液の固化による詰まりが生じない。

なお、以上記した実施例は、処理液槽２．１０２．２０
２，３０２内に処理液３．１０３，２０３．３０３を満
たして処理する感光材料処理装置であるが、この発明は
これに限定されず、感光材料を浸漬して処理する形式の
ものであれば、浸種にわずかな処理液を入れたものでも
よい。

［発明の効果］ 以上説明したように、請求項１記載の感光材料処理装置
は、感光材料に処理液を予め均一に供給塗布することで
現像処理開始の時間差をなくして処理ムラをなくすこと
ができ、又感光材料に水又は希釈した処理液を予め均一
に供給塗布することで現像処理開始時点での急激な化学
反応を緩和して処理ムラをなくすことができる。

又、請求項２記載の感光材料処理装置は、液供給塗布手
段をローラ又はノズル又はトレーで構成することで、簡
単な構造で、しかも３８埋液又は水又は希釈した処理液
を感光材料に予め均一に塗布することができる。

更に請求項３記載の感光材料処理装置は、液供給塗布手
段及び処理液面に空気の流動を阻止するカバーを設ける
ことで、水分の蒸発量を抑えて処理液の濃縮化を防止し
、又処理液の酸化促進を妨げることで処理液の処理性能
の劣化を防止することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は感光材料処理装置の概略図、第２図は処理液槽
の搬入開口部の拡大断面図、第３図は他の実施例である
塗布ローラの下部に浸漬ローラを併設した搬入開口部の
拡大断面図、第４図は他の実施例であるノズルを用いて
処理液等を予め塗布する搬入開口部の拡大断面図、第５
図は他の実施例であるトレーを用いて処理液を塗布する
搬入開口部の拡大断面図である。 図中符号１．１０１，２０１．３０１は感光材料、２，
１０２，２０２，３０２は処理液槽、３．１０３．２０
３，３０３は処３１液、５は搬送路、６，２０６はカバ
ー、６ａは凹部、フ、２０７．３０７は搬入開口部、１
０は塗布ローラ、１２は浸漬ローラ、１３はノズル、１
４はトレー、１７．３１７は塗布液用タンク、１８，３
１８は水、１９．３１９は希釈処理液を示す。 第１ｒＸＪ 第２図 第３図 第４図 第５図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、感光材料を搬送路に沿つて搬送しながら処理液槽の
   処理液に浸漬して処理する感光材料処理装置において、
   前記感光材料を前記処理液槽に搬入する前の搬送路に、
   前記感光材料に前記処理液又は水又は希釈した処理液を
   予め供給塗布する液供給塗布手段を有することを特徴と
   する感光材料処理装置。 ２、前記液供給塗布手段はローラ又はノズル又はトレー
   で構成され、この液供給塗布手段に前記感光材料を接触
   させて前記処理液又は水又は希釈した処理液を予め供給
   塗布することを特徴とする請求項１記載の感光材料処理
   装置。 ３、前記液供給塗布手段及び前記処理液面に空気の流動
   を阻止するカバーを設けることを特徴とする請求項１又
   は２記載の感光材料処理装置。