JPH04168719A - 半導体装置の製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体装置の製造装置に関し、特にフォトレジ
ストパターンを現像液を用いて現像する現像装置に関す
る。

〔従来の技術〕

第４図（ａ）〜（ｄ）は、従来のこの種の現像装置の機
能を工程順に説明する縦断面図でる。まず図（ａ）にお
いて、ウェーハチャック１にて保持されたウェーハ２が
カップ１５内に搬送される。次に図（ｂ）において、ウ
ェーハ２上の現像液ノズル１３より現像液６を供給し、
表面張力による現像液６の液盛り形成を行う。次いで現
像が開始される。この際、ウェーハ２はモーター１０に
よってウェーハチャック回転方向Ｒに低速回転される。

次に図（ｃ）において、現像終了後、ウェハ２を回転さ
せながらリンス液ノズル１４よりリンス液７をウェーハ
２上に供給し、ウェーハ２のリンスを行なう。処理済液
はドレイン管１から排出される。次に図（ｄ）において
、リンス終了後、高速にてウェーハ２を回転させ、ウェ
ーハ２の乾燥を行なう。以上、（ａ）〜（ｄ）の繰り返
し動作により、ウェーハ２を順次現像していた。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述した従来の現像装置は、現像液ノズルが中央にある
ため、現像液がウェーハ中央部から供給され、そのため
現像はウェーハ中央から外周に向けて進行する。従って
、現像されるフォトレジストの寸法は、ウェーハ中央か
ら外周に向けてばらつきが発生するという欠点がある。

特に近年、半導体装置の微細化は著しく、それに伴ない
現像の部分的な遅れはウェーハ面内の寸法制御性にも大
きく影響し、製品の歩留りを悪化させる要因となってい
る。

上述した従来の現像装置は、ウェーハ中央部にノズルか
ら現像液を供給する構造であるのに対し、本発明は瞬時
にて同時にウェーハ全面に現像液を供給するための現像
液ステージを設けたという相違点を有する。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の半導体製造装置は、ウェーハ上に塗布されたフ
ォトレジスト面に対向する平面を備えた現像ステージを
設け、この現像ステージの平面に複数の処理液吐出口を
形成して構成されている。

〔実施例〕

次に本発明について図面を参照して説明する。

第１図（ａ）〜（ｅ）は本発明の実施例１の機能を工程
順に説明する縦断面図であり、第２図は実施例１に用い
る現像ステージの平面図である。以下、順を追って説明
する。ます図（ａ）において、露光処理の終了したウェ
ーハ２は、ウェーハチャック１により処理面か現像ステ
ージ５と対向して保持される。次に図（ｂ）において、
現像ステージ５に現像液吐出口３より現像液６を供給し
、表面張力にて保持する。次に図（ｃ）において、ウェ
ーハチャック１を下げ、現像ステージ５に平行にウェー
ハ２表面を接着させ、ウェーハ２をＲ方向に回転させな
がら現像を開始する。次に図（ｄ）において、現像終了
後、現像ステージ５の中央にあるリンス液吐出口４より
リンス液７を供給し、ウェーハ上の現像液を洗い流し、
ウェーハ２表面をリンスする。次に図（ｅ）において、
リンス終了後、ウェーハ２は高速回転により乾燥され、
次工程へ送られる。その後、ウェーハチャック２は上昇
し、初期位置へ戻る。現像ステージ５は、現像ステージ
洗浄液ノズル８からの現像ステージ洗浄液９にて洗浄さ
れ、次ウェーハ処理のため待機する。以上、（ａ）〜（
ｅ）の繰り返し動作により、ウェーハ２を順次現像する
。

本実施例によれば、従来装置に比較し、ウェーハ面内の
現像の部分的な遅れを解消することが可能となり、ウェ
ーハ面内の現像均一性が向上され、ウェーハ面内の寸法
ばらつきが大幅に改善される。ここで、第２図に示すよ
うに、現像ステージ５の現像液吐出口３は小さく且つ数
多く設けている方がより一層現像均−性は向上される。

また２本実施例の装置と上下を逆（ウェーハ２が下側、
現像ステージ５が上側）にした構成も可能であり、逆に
しない場合と同等の効果が期待出来る。

第３図は本発明の実施例２に使用する現像ステージ５の
縦断面図である。現像ステージ５を温調するために、現
像ステージ５内に温調媒体を循環させる。温調媒体は、
温調媒体流入部１１より流入し、温調媒体流出部１２よ
り流出し、現像液温を一定に保温する。現像時は、一定
温度に保温された現像液６にてウェーハ２を現像する。

その他の動作は実施例１と同様である。

本実施例によれば、従来の液温だけの定温に終わらず、
ウェーハ２表面上の現像液温も現像ステージ５の恒温の
効果を受け、定温に保持されるため、実施例１に比較し
、ウェーハ間及びロット間の現像ばらつきを解消するこ
とが可能となり、ウェーハ間及びロット間の現像均一性
が向上し、ウェーハ間及びロット間の寸法ばらつきが大
幅に改善できる。

〔発明の効果〕

以上説明した様に本発明は、瞬時にて同時にウェーハ全
面に現像液を供給し現像が行なえるため、ウェーハ面内
の現像の部分的な遅れか解消され、ウェーハ面内の現像
均一性が向上し、ウェーハ面内の寸法ばらつきが従来の
６〜８％から２〜３％以下と大幅に改善出来る効果があ
る。

また、現像液温を一定に保温し現像時に使用することに
より、ウェーハ間及びロット間の現像均一性が向上し、
ウェーハ間及びロット間の寸法ば６一 らつきが従来の９〜１０％から３〜４％以下と大幅に改
善出来る効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例の１の機能を工程順に説明する
縦断面図、第２図は実施例１に用いる現像ステージの平
面図、第３図は本発明の実施例２１・・・ウェーハチャ
ック、２・・・ウェーハ、３・・・現像液吐出口、４・
・・リンス液吐出口、５・・・現像ステージ、６・・・
現像液、７・・・リンス液、８・・・現像ステージ洗浄
液ノズル、９・・・現像ステージ洗浄液、１０・・・モ
ーター、１１・・・温調媒体流入部、１２・・・温調媒
体流出部、１３・・・現像液ノズル、１４・・・リンス
液ノズル、１５・・・カップ、１６・・・ドレイン管、
Ｒ・・・ウェーハチャック回転方向。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　ウェーハに塗布されたフォトレジストを現像液を用い
   て所望のパターンに現像する半導体装置の製造装置にお
   いて、前記ウェーハのフォトレジスト面に対向する平面
   を備えた現像ステージを設け、この現像ステージの平面
   に複数の処理液吐出口を形成したことを特徴とする半導
   体装置の製造装置。