JPH0417085B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0417085B2 JPH0417085B2 JP61241117A JP24111786A JPH0417085B2 JP H0417085 B2 JPH0417085 B2 JP H0417085B2 JP 61241117 A JP61241117 A JP 61241117A JP 24111786 A JP24111786 A JP 24111786A JP H0417085 B2 JPH0417085 B2 JP H0417085B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- oxygen
- atom
- polymer
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 21
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 18
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 17
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 17
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 14
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 5
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 30
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 29
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 29
- 239000010408 film Substances 0.000 description 19
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 16
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 11
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 11
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 5
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 238000000855 fermentation Methods 0.000 description 3
- 230000004151 fermentation Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 2
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- PAOHAQSLJSMLAT-UHFFFAOYSA-N 1-butylperoxybutane Chemical group CCCCOOCCCC PAOHAQSLJSMLAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- MQRJBSHKWOFOGF-UHFFFAOYSA-L disodium;carbonate;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O MQRJBSHKWOFOGF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229940062056 nitrogen 79 % Drugs 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229940063821 oxygen 21 % Drugs 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000010558 suspension polymerization method Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/40—Polymers of unsaturated acids or derivatives thereof, e.g. salts, amides, imides, nitriles, anhydrides, esters
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/269—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension including synthetic resin or polymer layer or component
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、新規アクリロキシオルガノシロキサ
ン重合体からなる酸素富化空気製造用気体分離膜
に関する。 〔従来の技術〕 従来、酸素富化空気製造用気体分離膜の高分子
材料として、シリコーン、ポリアセチレン、ポリ
フルオロアルキルメタクリレート等が知られてい
る。しかし、シリコーン、ポリアセチレン等から
なる気体分離膜は、酸化透過係数は大きいが、酸
素と窒素の酸素透過係数の比である分離係数が小
さく、酸素濃度が高々30容量％程度のものしかで
きない。ポリフルオロアルキルメタクリレート等
からなる気体分離膜は、分離係数は大きく40容量
％以上の酸素富化空気を得ることができるが、酸
素透過係数は小さく、これから大量の酸素富化空
気を製造することは困難である。 酸素富化空気は、医療用等には酸素濃度が40容
量％以上の高いものが必要で、ボイラー用や製鉄
用バーナー等には酸素濃度が30容量％程度の低い
もので十分であるが、醗酵用等には酸素濃度が30
〜40容量％のものが大量に必要で、従来からある
気体分離膜は、前述の性能した有していないの
で、醗酵用等に利用することはできなかつた。 〔発明の目的〕 本発明者らは、珪素を含む種々の重合体を調整
し、これより薄膜を作り、その酸素透過能力を調
べたところ、特定の構造を有する重合体が、酸素
濃度が30〜40容量％の大量の酸素富化空気の製造
に適していることを見出し、本発明に達したもの
である。 本発明の目的は、酸素富化空気製造に適する気
体分離膜を提供することである。 〔発明の構成〕 本発明は、式： （式中、X1は塩素またはフツ素、X2およびX3は
同一または相異なり水素原子または−CH2（CF2）
pCF3基〔但し、ｐは１〜５の整数である。〕、Ｙ
は酸素原子または−NH−基、ｍは０または１〜
５の整数、ｎは０または１〜５の整数を示す。） で表わされる構造単位50〜100重量％および式： （式中、X4は水素原子、塩素原子、フツ素原子、
炭素数１〜３のアルキル基、または炭素数１〜３
のフルオロアルキル基、Ｒは炭素数１〜20のアル
キル基、炭素数１〜20のフルオロアルキル基〔但
し、炭素原子鎖中に酸素原子を含むことがある。〕
を示す。） で表わされる構造単位０〜50重量％から実質的に
構成されるアクリロキシオルガノシロキサン重合
体からなる気体分離膜である。 前記構造単位(a)は、酸素濃度が30〜40容量％の
酸素富化空気を大量に製造する上で、アクリロキ
シオルガノシロキサン重合体に50〜100重量％含
有さることが好ましい。 前記構造単位(b)は、公知の気体分離膜用重合体
の構成成分で、アクリロキシオルガノシロキサン
重合体に50重量％程度まで含有されていてもよ
い。 前記構造単位(a)に含有されるX1がフツ素のア
クリロキシオルガノシロキサン重合体は、薄膜に
した場合、塩素のものより可撓性等に優れてい
る。 前記構造単位(b)に含有されるＲ基としての炭素
数１〜20のフルオロアルキル基〔但し、炭素原子
鎖中に酸素原子を含むことがある。〕の例として
は、式： −（CH2）pRf （式中、Rfは炭素数１〜19であつて少なくとも
炭素数の２倍以上のフツ素を有するフルオロアル
キル基、ｐは１〜５の整数を示す。） で表わされる基、式： −（CH2）qCF（CF3）（OCF2CF（CF3））rO
C3F7 （式中、ｑは１〜５の整数、ｒは０または１〜５
の整数を示す。） で表わされる基等を挙げることができる。 アクリロキシオルガノシロキサン重合体は、
式： （式中、X1、X2、X3、Ｙ、ｍおよびｎは前記と
同じ。） で表わされるシロキサン単量体を単独重合する、 あるいはこの単量体と式： （式中、X4およびＲは前記と同じ。） で表わされる公知の単量体を共重合して製造する
ことができる。重合体の性質を損なわない範囲で
他のエチレン性不飽和化合物を共重合することも
可能である。 重合方法は、公知の溶液、塊状、懸濁重合法等
を適用することができる（例えば、特開昭61−
111309号公報参照）。通常は、単量体100重量部、
0.01〜５重量部の重合開始剤（ベンゾイルパーオ
キサイド、ジクミルパーオキサイド、ターシヤリ
ブチルパーオキサイド等の有機過酸化物、アゾビ
スイソブチロニトリル等のアゾ系化合物等）およ
び０〜10重量部の連鎖移動剤（ラウリルメルカプ
タン等）ならびに過剰量の溶媒（酢酸エチル、ク
ロロホルム、メチルエチルケトン等）を使用し、
０〜150℃で行う。 前記シロキサン単量体は新規化合物で、例え
ば、次に示す製法(1)、(2)または(3)で調製すること
ができる。 製法(1) 式： CH2＝CX1COOM （式中、Ｍはアルカリ金属、X1は前記と同じ。） で表わされる化合物と式： Cl（CH2）n（Si（CH2X2）2O）o Si（CH2X3）3 （式中、X2、X3、ｍおよびｎは前記と同じ。） で表わされるクロロメチル化オルガノシリコン化
合物を、ジメチルホルムアミド等の非プロトン性
極性溶媒中、ハイドロキノン、tert−ブチルカテ
コール等の重合禁止剤の存在下、50〜130℃で１
〜24時間反応させる。 製法(2) () 式： CH2＝CX1COOM （式中、ＭはおよびX1は前記と同じ。） で表わされる化合物と式： Cl（CH2）n（Si（CH2X2）2 OSi（CH2X2）2（CH2）nCl （式中、X2およびｍは前記と同じ。） で表わされる化合物をモル比２：１で、ジメチル
ホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒中、前記
と同じ重合禁止剤の存在下、50〜130℃で１〜24
時間反応させて式： CH2＝CX1COO（CH2）nSi（CH2X2）2 OSi（CH2X2）2（CH2）nOOCCX1＝CH2 （式中、X1、X2およびｍは前記と同じ。） で表わされる化合物を得、（）この化合物と
式： （CH2X3）3SiOSi（CH2X3）3 （式中、X3は前記と同じ。） で表わされる化合物をモル比１：３で、硫酸、ト
リフルオロ酢酸等の酸触媒の存在下、０〜130℃
で１時間〜10日間反応させる。 製法(3) () 式： CH2＝CX1COX4 （式中、X1は前記と同じ、X4はハロゲン原子を
示す。） で表わされる化合物と式： NH2（CH2）nSi（CH2X2）2 OSi（CH2X2）2（CH2）nNH2 で表わされる化合物をモル比２：１で、トリエチ
ルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジル
アミン等の塩基の存在下、−50〜10℃で反応させ
式： CH2＝CX1COO（CH2）nSi（CH2X2）2 OSi（CH2X2）2（CH2）nOOCCX1＝CH2 （式中、X1、X2およびｍは前記と同じ。） で表わされる化合物を得、（）この後は前記製
法(2)の（）の反応を行う。 なお、製法(3)の（）の反応の際、ベンゼン、
トルエン、クロロホルム等の溶媒を使用すること
ができる。溶媒は、なくてもよい。 アクリロキシオルガノシロキサン重合体は、通
常薄膜を調製する方法、例えばバーコーター法、
スピンコーター法、ラングミユアー法、デイツプ
法等によりガラス、金属等の平滑板上、あるいは
ポリテトラフルオロエチレン、ポリプロピレン、
ポリエチレン等のフイルム状または中空繊維状多
孔体等の多孔質支持体上に塗布して調製すること
ができる。通常金属等の平滑板上に塗布したもの
は、適当な支持体上に固定して、多孔質支持体上
に塗布したものは、その支持体ごと使用する。膜
厚は、通常0.1〜200μｍである。 アクリロキシオルガノシロキサン重合体からな
る本発明の気体分離膜の酸素透過係数は、通常
10-5cm3・cm／cm2・sec・cmHg以下、 窒素透過係数は、酸素透過係数の20〜40％程度
のものである。 アクリロキシオルガノシロキサン重合体は、前
記の気体分離膜の他、その酸素ガス透過性を生か
したコンタクトレンズやフイルター、電池用セパ
レーター等にも利用することができる。 〔実施例〕 参考例 １ （シロキサン単量体の合成） ジムロート、撹拌機、温度計を備えた１のフ
ラスコに式：CH2＝CFCOOKで表わされる化合
物64ｇ（0.5mol）、式：ClCH2Si（CH3）3で表わさ
れる化合物61ｇ（0.5mol）、ジメチルホルムアミ
ド500c.c.ｃおよびtert−ブチルカテコール１ｇを
入れ、加熱した2.5時間還流させた。 冷却後、反応混合物から塩化カリウムを濾別
し、瀘液を３の水で洗浄し、油層を蒸溜した。
沸点46.5℃／10mmHgの式：CH2＝CFCOOCH2Si
（CH3）3で表わされるシロキサン単量体75ｇを得
た。 参考例 ２ （シロキサン単量体の合成） 参考例１と同じフラスコに式：CH2＝
CFCOOKで表わされる化合物44.7ｇ（0.35mol）、
式：ClCH2Si（CH3）2OSi（CH3）2CH2Clで表わさ
れる化合物40.4ｇ（0.175mol）、ジメチルホルム
アミド66c.c.およびtert−ブチルカテコール0.8ｇを
入れ、加熱して1.5時間還流させた。 冷却後、反応混合物から塩化カリウムを濾別
し、瀘液を水で洗浄し、油層を蒸溜した。沸点96
℃／15mmHgの式：CH2＝CFCOOCH2Si
（CH3）2OSi（CH3）2CH2OCOCF＝CH2で表わされ
る化合物50ｇを得た。 この化合物40ｇ（0.118mol）、式：
（CH3）3SiOSi（CH3）3で表わされる化合物58ｇ
（0.357mol）、硫酸0.24ｇ（2.4ｍmol）、トリフル
オロ酢酸0.59ｇ（5.2ｍmol）およびtert−ブチル
カテコール１ｇを25℃で240時間撹拌した。蒸溜
で沸点65℃／６mmHgの式：CH2＝CFCOOCH2Si
（CH3）2OSi（CH3）3で表わされるシロキサン単量
体68ｇを得た。 参考例 ３ 滴下ロート、ジムロート、撹拌機、温度計を備
えた300c.c.の四つ口フラスコに式：NH2（CH2）3Si
（CH3）2OSi（CH3）2（CH2）3NH2で表わされる化合
物50ｇ（0.20mol）、トリエチルアミン40.48ｇ
（0.40mol）およびクロロホルム160c.c.を入れ、液
温が10℃以下になるように冷却しながら、滴下ロ
ートから式：CH2＝CFCOFで表わされる化合物
40.5ｇ（0.44mol）を滴下した。 反応混合物を600c.c.の脱イオン水で洗浄し、ク
ロロホルム層をエバポレーターで濃縮した後、カ
テコールを１ｇ加え、１mmHgの減圧下120℃に加
熱し、クロロホルムを完全に除いた。 残滓にヘキサメチルジシロキサン73.08ｇ
（0.45mol）、トリフルオロ酢酸２ｇおよび硫酸0.8
ｇを加え、100℃で24時間撹拌した。冷却後、順
に５％炭酸ナトリウム水200c.c.および脱イオン水
300c.c.で洗浄した後有機物を蒸溜し、沸点92〜93
℃／1.5mmHgの式：CH2＝CFCONH（CH2）3Si
（CH3）2OSi（CH3）3で表わされるシロキサン単量
体66ｇを得た。 実施例 １ 参考例１で得たシロキサン単量体50ｇ、酢酸エ
チル50ｇおよびアゾビスイソブチロニトリル0.05
ｇをガラス製オートクレーブに入れ、凍結脱気を
三回繰り返した後、50℃に24時間保ち重合を行つ
た。 得られたアクリロキシオルガノシロキサン重合
体を減圧下乾燥し、トルエンで５重量％溶液を作
り、ガラス板上にドクターブレードでキヤスト
し、乾燥した。厚さ41μｍの均一な膜を得た。 この膜について、酸素透過係数（KO2）と窒素
透過係数（KN2）をASTM1434V法に準じ下記
条件で測定し、酸素と窒素の分離係数（α＝
KO2／KN2）を求めた。KO2とαを表に示す。 透過係数測定条件 (1) 使用気体：窒素79容量％および酸素21容量％
の標準混合ガス (2) 試験圧力：一次圧４Kg／cm2、二次圧１Kg／cm2
（いずれも絶対圧） (3) 気体透過量：４c.c. (4) 試験時間：上記気体透過に要した時間（秒） (5) 気体分離膜試料の膜厚：重合体重量を重合体
面積と重合体比重で除した値 次に本実施例で得られた重合体の1H−NMR分
析の結果を示す。 δ（ppm）；0.10（Si（CH3）3 ）， 2.48（−ＣH2 −CF−），3.80（−COOCH2Si−） 実施例 ２ 参考例２で得たシロキサン単量体を参考例１で
得たシロキサン単量体にかえて使用した他は、実
施例１と同じ手順で重合と製膜を行つた。厚さ
151μｍの均一な膜を得た。KO2とαを表に示す。 得られた重合体の1H−NMR分析の結果を示
す。 δ（ppm）；0.08（Si（ＣH3 ）3）， 0.16（−Si（ＣH3 ）2−）， 2.42（−CH2 −CF−）， 3.69（−COOCH2Sｉ−） 実施例 ３ 参考例２で得たシロキサン単量体20ｇ、式：
CH2＝CFCOOCH2C（CH3）3で表わされる単量体
80ｇ、ラウリルメルタプタン0.5ｇおよびアゾビ
スイソブチロニトリル0.1ｇを使用した他は、実
施例１と同反応条件で重合と製膜を行つた。厚さ
62μｍの均一な膜を得た。KO2とαを表に示す。 実施例 ４ 参考例２で得たシロキサン単量体と式：CH2＝
CFCOOCH2C（CH3）3で表わされる単量体の使用
量をそれぞれ50ｇにした他は実施例３と同じ手順
で重合と製膜を行つた。厚さ49μｍの均一な膜を
得た。KO2とαを表に示す。 実施例 ５ 式：CH2＝CFCOOCH2C（CH3）3で表わされる
単量体の単独重合体50重量部と参考例２で得たシ
ロキサン単量体の単独重合体50重量部を使用し、
トルエンの５重量％溶液を作つた。その後、実施
例１と同じ手順で製膜し、前記各係数を調べた。
KO2とαを表に示す。 実施例 ６ 式：CH2＝CFCOOCH2C（CH3）3で表わされる
単量体の単独重合体20重量部と参考例２で得たシ
ロキサン単量体の単独重合体80重量部を使用した
他は実施例５と同じ手順で製膜し、前記各係数を
調べた。KO2とαを表に示す。 実施例 ７ 実施例１で使用した単量体にかえ式：CH2＝
CFCOOCH2C（CH2）3Si（CH3）3で表わされる単量
体を使用した他は、実施例１と同じ手順で重合と
製膜を行つた。厚さ53μｍの均一な膜を得た。
KO2とαを表に示す。 実施例 ８ 実施例１で使用した単量体にかえ式：CH2＝
CClCOOCH2S（CH2）3iOSi（CH3）3で表わされる
単量体を使用した他は、実施例１と同じ手順で重
合と製膜を行つた。厚さ60μｍの均一な膜を得
た。KO2とαを表に示す。 実施例 ９ 参考例３で得たシロキサン単量体を参考例１で
得たシロキサン単量体にかえて使用した他は、実
施例１と同じ手順で重合と製膜を行つた。厚さ
95μｍの均一な膜を得た。KO2とαを表に示す。 得られた重合体の1H−NMR分析の結果を示
す。 δ（ppm）；0.09（Si（ＣH3 ）3）および −Si（CH3 ）2−，0.50（−NHCH2 CH2 Si−）， 1.50（−NHCH2 CH2CH2Si−）， 2.40（−CH2 −CF−），3.16（−NHCH2
CH2CH2Si−）， 6.36（−CONHCH2−） 比較例 １ 実施例１で使用した単量体にかえ式：CH2＝
CFCOOCH（CH3）2で表わされる単量体を使用し
た他は、実施例１と同じ手順で重合と製膜を行つ
た。厚さ45μｍの均一な膜を得た。KO2とαを表
に示す。 比較例 ２ 式：CH2＝Ｃ（CH3）COO（CH2）5（Si
（CH3）2O）4Si（CH3）3で表わされる単量体の単独
重合体をポリマージヤーナル17巻（1985年）、11
号、1159〜1172頁に従い調製した。その後は実施
例１と同じ手順で製膜し、前記各係数を調べた。
KO2とαを表に示す。
ン重合体からなる酸素富化空気製造用気体分離膜
に関する。 〔従来の技術〕 従来、酸素富化空気製造用気体分離膜の高分子
材料として、シリコーン、ポリアセチレン、ポリ
フルオロアルキルメタクリレート等が知られてい
る。しかし、シリコーン、ポリアセチレン等から
なる気体分離膜は、酸化透過係数は大きいが、酸
素と窒素の酸素透過係数の比である分離係数が小
さく、酸素濃度が高々30容量％程度のものしかで
きない。ポリフルオロアルキルメタクリレート等
からなる気体分離膜は、分離係数は大きく40容量
％以上の酸素富化空気を得ることができるが、酸
素透過係数は小さく、これから大量の酸素富化空
気を製造することは困難である。 酸素富化空気は、医療用等には酸素濃度が40容
量％以上の高いものが必要で、ボイラー用や製鉄
用バーナー等には酸素濃度が30容量％程度の低い
もので十分であるが、醗酵用等には酸素濃度が30
〜40容量％のものが大量に必要で、従来からある
気体分離膜は、前述の性能した有していないの
で、醗酵用等に利用することはできなかつた。 〔発明の目的〕 本発明者らは、珪素を含む種々の重合体を調整
し、これより薄膜を作り、その酸素透過能力を調
べたところ、特定の構造を有する重合体が、酸素
濃度が30〜40容量％の大量の酸素富化空気の製造
に適していることを見出し、本発明に達したもの
である。 本発明の目的は、酸素富化空気製造に適する気
体分離膜を提供することである。 〔発明の構成〕 本発明は、式： （式中、X1は塩素またはフツ素、X2およびX3は
同一または相異なり水素原子または−CH2（CF2）
pCF3基〔但し、ｐは１〜５の整数である。〕、Ｙ
は酸素原子または−NH−基、ｍは０または１〜
５の整数、ｎは０または１〜５の整数を示す。） で表わされる構造単位50〜100重量％および式： （式中、X4は水素原子、塩素原子、フツ素原子、
炭素数１〜３のアルキル基、または炭素数１〜３
のフルオロアルキル基、Ｒは炭素数１〜20のアル
キル基、炭素数１〜20のフルオロアルキル基〔但
し、炭素原子鎖中に酸素原子を含むことがある。〕
を示す。） で表わされる構造単位０〜50重量％から実質的に
構成されるアクリロキシオルガノシロキサン重合
体からなる気体分離膜である。 前記構造単位(a)は、酸素濃度が30〜40容量％の
酸素富化空気を大量に製造する上で、アクリロキ
シオルガノシロキサン重合体に50〜100重量％含
有さることが好ましい。 前記構造単位(b)は、公知の気体分離膜用重合体
の構成成分で、アクリロキシオルガノシロキサン
重合体に50重量％程度まで含有されていてもよ
い。 前記構造単位(a)に含有されるX1がフツ素のア
クリロキシオルガノシロキサン重合体は、薄膜に
した場合、塩素のものより可撓性等に優れてい
る。 前記構造単位(b)に含有されるＲ基としての炭素
数１〜20のフルオロアルキル基〔但し、炭素原子
鎖中に酸素原子を含むことがある。〕の例として
は、式： −（CH2）pRf （式中、Rfは炭素数１〜19であつて少なくとも
炭素数の２倍以上のフツ素を有するフルオロアル
キル基、ｐは１〜５の整数を示す。） で表わされる基、式： −（CH2）qCF（CF3）（OCF2CF（CF3））rO
C3F7 （式中、ｑは１〜５の整数、ｒは０または１〜５
の整数を示す。） で表わされる基等を挙げることができる。 アクリロキシオルガノシロキサン重合体は、
式： （式中、X1、X2、X3、Ｙ、ｍおよびｎは前記と
同じ。） で表わされるシロキサン単量体を単独重合する、 あるいはこの単量体と式： （式中、X4およびＲは前記と同じ。） で表わされる公知の単量体を共重合して製造する
ことができる。重合体の性質を損なわない範囲で
他のエチレン性不飽和化合物を共重合することも
可能である。 重合方法は、公知の溶液、塊状、懸濁重合法等
を適用することができる（例えば、特開昭61−
111309号公報参照）。通常は、単量体100重量部、
0.01〜５重量部の重合開始剤（ベンゾイルパーオ
キサイド、ジクミルパーオキサイド、ターシヤリ
ブチルパーオキサイド等の有機過酸化物、アゾビ
スイソブチロニトリル等のアゾ系化合物等）およ
び０〜10重量部の連鎖移動剤（ラウリルメルカプ
タン等）ならびに過剰量の溶媒（酢酸エチル、ク
ロロホルム、メチルエチルケトン等）を使用し、
０〜150℃で行う。 前記シロキサン単量体は新規化合物で、例え
ば、次に示す製法(1)、(2)または(3)で調製すること
ができる。 製法(1) 式： CH2＝CX1COOM （式中、Ｍはアルカリ金属、X1は前記と同じ。） で表わされる化合物と式： Cl（CH2）n（Si（CH2X2）2O）o Si（CH2X3）3 （式中、X2、X3、ｍおよびｎは前記と同じ。） で表わされるクロロメチル化オルガノシリコン化
合物を、ジメチルホルムアミド等の非プロトン性
極性溶媒中、ハイドロキノン、tert−ブチルカテ
コール等の重合禁止剤の存在下、50〜130℃で１
〜24時間反応させる。 製法(2) () 式： CH2＝CX1COOM （式中、ＭはおよびX1は前記と同じ。） で表わされる化合物と式： Cl（CH2）n（Si（CH2X2）2 OSi（CH2X2）2（CH2）nCl （式中、X2およびｍは前記と同じ。） で表わされる化合物をモル比２：１で、ジメチル
ホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒中、前記
と同じ重合禁止剤の存在下、50〜130℃で１〜24
時間反応させて式： CH2＝CX1COO（CH2）nSi（CH2X2）2 OSi（CH2X2）2（CH2）nOOCCX1＝CH2 （式中、X1、X2およびｍは前記と同じ。） で表わされる化合物を得、（）この化合物と
式： （CH2X3）3SiOSi（CH2X3）3 （式中、X3は前記と同じ。） で表わされる化合物をモル比１：３で、硫酸、ト
リフルオロ酢酸等の酸触媒の存在下、０〜130℃
で１時間〜10日間反応させる。 製法(3) () 式： CH2＝CX1COX4 （式中、X1は前記と同じ、X4はハロゲン原子を
示す。） で表わされる化合物と式： NH2（CH2）nSi（CH2X2）2 OSi（CH2X2）2（CH2）nNH2 で表わされる化合物をモル比２：１で、トリエチ
ルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジル
アミン等の塩基の存在下、−50〜10℃で反応させ
式： CH2＝CX1COO（CH2）nSi（CH2X2）2 OSi（CH2X2）2（CH2）nOOCCX1＝CH2 （式中、X1、X2およびｍは前記と同じ。） で表わされる化合物を得、（）この後は前記製
法(2)の（）の反応を行う。 なお、製法(3)の（）の反応の際、ベンゼン、
トルエン、クロロホルム等の溶媒を使用すること
ができる。溶媒は、なくてもよい。 アクリロキシオルガノシロキサン重合体は、通
常薄膜を調製する方法、例えばバーコーター法、
スピンコーター法、ラングミユアー法、デイツプ
法等によりガラス、金属等の平滑板上、あるいは
ポリテトラフルオロエチレン、ポリプロピレン、
ポリエチレン等のフイルム状または中空繊維状多
孔体等の多孔質支持体上に塗布して調製すること
ができる。通常金属等の平滑板上に塗布したもの
は、適当な支持体上に固定して、多孔質支持体上
に塗布したものは、その支持体ごと使用する。膜
厚は、通常0.1〜200μｍである。 アクリロキシオルガノシロキサン重合体からな
る本発明の気体分離膜の酸素透過係数は、通常
10-5cm3・cm／cm2・sec・cmHg以下、 窒素透過係数は、酸素透過係数の20〜40％程度
のものである。 アクリロキシオルガノシロキサン重合体は、前
記の気体分離膜の他、その酸素ガス透過性を生か
したコンタクトレンズやフイルター、電池用セパ
レーター等にも利用することができる。 〔実施例〕 参考例 １ （シロキサン単量体の合成） ジムロート、撹拌機、温度計を備えた１のフ
ラスコに式：CH2＝CFCOOKで表わされる化合
物64ｇ（0.5mol）、式：ClCH2Si（CH3）3で表わさ
れる化合物61ｇ（0.5mol）、ジメチルホルムアミ
ド500c.c.ｃおよびtert−ブチルカテコール１ｇを
入れ、加熱した2.5時間還流させた。 冷却後、反応混合物から塩化カリウムを濾別
し、瀘液を３の水で洗浄し、油層を蒸溜した。
沸点46.5℃／10mmHgの式：CH2＝CFCOOCH2Si
（CH3）3で表わされるシロキサン単量体75ｇを得
た。 参考例 ２ （シロキサン単量体の合成） 参考例１と同じフラスコに式：CH2＝
CFCOOKで表わされる化合物44.7ｇ（0.35mol）、
式：ClCH2Si（CH3）2OSi（CH3）2CH2Clで表わさ
れる化合物40.4ｇ（0.175mol）、ジメチルホルム
アミド66c.c.およびtert−ブチルカテコール0.8ｇを
入れ、加熱して1.5時間還流させた。 冷却後、反応混合物から塩化カリウムを濾別
し、瀘液を水で洗浄し、油層を蒸溜した。沸点96
℃／15mmHgの式：CH2＝CFCOOCH2Si
（CH3）2OSi（CH3）2CH2OCOCF＝CH2で表わされ
る化合物50ｇを得た。 この化合物40ｇ（0.118mol）、式：
（CH3）3SiOSi（CH3）3で表わされる化合物58ｇ
（0.357mol）、硫酸0.24ｇ（2.4ｍmol）、トリフル
オロ酢酸0.59ｇ（5.2ｍmol）およびtert−ブチル
カテコール１ｇを25℃で240時間撹拌した。蒸溜
で沸点65℃／６mmHgの式：CH2＝CFCOOCH2Si
（CH3）2OSi（CH3）3で表わされるシロキサン単量
体68ｇを得た。 参考例 ３ 滴下ロート、ジムロート、撹拌機、温度計を備
えた300c.c.の四つ口フラスコに式：NH2（CH2）3Si
（CH3）2OSi（CH3）2（CH2）3NH2で表わされる化合
物50ｇ（0.20mol）、トリエチルアミン40.48ｇ
（0.40mol）およびクロロホルム160c.c.を入れ、液
温が10℃以下になるように冷却しながら、滴下ロ
ートから式：CH2＝CFCOFで表わされる化合物
40.5ｇ（0.44mol）を滴下した。 反応混合物を600c.c.の脱イオン水で洗浄し、ク
ロロホルム層をエバポレーターで濃縮した後、カ
テコールを１ｇ加え、１mmHgの減圧下120℃に加
熱し、クロロホルムを完全に除いた。 残滓にヘキサメチルジシロキサン73.08ｇ
（0.45mol）、トリフルオロ酢酸２ｇおよび硫酸0.8
ｇを加え、100℃で24時間撹拌した。冷却後、順
に５％炭酸ナトリウム水200c.c.および脱イオン水
300c.c.で洗浄した後有機物を蒸溜し、沸点92〜93
℃／1.5mmHgの式：CH2＝CFCONH（CH2）3Si
（CH3）2OSi（CH3）3で表わされるシロキサン単量
体66ｇを得た。 実施例 １ 参考例１で得たシロキサン単量体50ｇ、酢酸エ
チル50ｇおよびアゾビスイソブチロニトリル0.05
ｇをガラス製オートクレーブに入れ、凍結脱気を
三回繰り返した後、50℃に24時間保ち重合を行つ
た。 得られたアクリロキシオルガノシロキサン重合
体を減圧下乾燥し、トルエンで５重量％溶液を作
り、ガラス板上にドクターブレードでキヤスト
し、乾燥した。厚さ41μｍの均一な膜を得た。 この膜について、酸素透過係数（KO2）と窒素
透過係数（KN2）をASTM1434V法に準じ下記
条件で測定し、酸素と窒素の分離係数（α＝
KO2／KN2）を求めた。KO2とαを表に示す。 透過係数測定条件 (1) 使用気体：窒素79容量％および酸素21容量％
の標準混合ガス (2) 試験圧力：一次圧４Kg／cm2、二次圧１Kg／cm2
（いずれも絶対圧） (3) 気体透過量：４c.c. (4) 試験時間：上記気体透過に要した時間（秒） (5) 気体分離膜試料の膜厚：重合体重量を重合体
面積と重合体比重で除した値 次に本実施例で得られた重合体の1H−NMR分
析の結果を示す。 δ（ppm）；0.10（Si（CH3）3 ）， 2.48（−ＣH2 −CF−），3.80（−COOCH2Si−） 実施例 ２ 参考例２で得たシロキサン単量体を参考例１で
得たシロキサン単量体にかえて使用した他は、実
施例１と同じ手順で重合と製膜を行つた。厚さ
151μｍの均一な膜を得た。KO2とαを表に示す。 得られた重合体の1H−NMR分析の結果を示
す。 δ（ppm）；0.08（Si（ＣH3 ）3）， 0.16（−Si（ＣH3 ）2−）， 2.42（−CH2 −CF−）， 3.69（−COOCH2Sｉ−） 実施例 ３ 参考例２で得たシロキサン単量体20ｇ、式：
CH2＝CFCOOCH2C（CH3）3で表わされる単量体
80ｇ、ラウリルメルタプタン0.5ｇおよびアゾビ
スイソブチロニトリル0.1ｇを使用した他は、実
施例１と同反応条件で重合と製膜を行つた。厚さ
62μｍの均一な膜を得た。KO2とαを表に示す。 実施例 ４ 参考例２で得たシロキサン単量体と式：CH2＝
CFCOOCH2C（CH3）3で表わされる単量体の使用
量をそれぞれ50ｇにした他は実施例３と同じ手順
で重合と製膜を行つた。厚さ49μｍの均一な膜を
得た。KO2とαを表に示す。 実施例 ５ 式：CH2＝CFCOOCH2C（CH3）3で表わされる
単量体の単独重合体50重量部と参考例２で得たシ
ロキサン単量体の単独重合体50重量部を使用し、
トルエンの５重量％溶液を作つた。その後、実施
例１と同じ手順で製膜し、前記各係数を調べた。
KO2とαを表に示す。 実施例 ６ 式：CH2＝CFCOOCH2C（CH3）3で表わされる
単量体の単独重合体20重量部と参考例２で得たシ
ロキサン単量体の単独重合体80重量部を使用した
他は実施例５と同じ手順で製膜し、前記各係数を
調べた。KO2とαを表に示す。 実施例 ７ 実施例１で使用した単量体にかえ式：CH2＝
CFCOOCH2C（CH2）3Si（CH3）3で表わされる単量
体を使用した他は、実施例１と同じ手順で重合と
製膜を行つた。厚さ53μｍの均一な膜を得た。
KO2とαを表に示す。 実施例 ８ 実施例１で使用した単量体にかえ式：CH2＝
CClCOOCH2S（CH2）3iOSi（CH3）3で表わされる
単量体を使用した他は、実施例１と同じ手順で重
合と製膜を行つた。厚さ60μｍの均一な膜を得
た。KO2とαを表に示す。 実施例 ９ 参考例３で得たシロキサン単量体を参考例１で
得たシロキサン単量体にかえて使用した他は、実
施例１と同じ手順で重合と製膜を行つた。厚さ
95μｍの均一な膜を得た。KO2とαを表に示す。 得られた重合体の1H−NMR分析の結果を示
す。 δ（ppm）；0.09（Si（ＣH3 ）3）および −Si（CH3 ）2−，0.50（−NHCH2 CH2 Si−）， 1.50（−NHCH2 CH2CH2Si−）， 2.40（−CH2 −CF−），3.16（−NHCH2
CH2CH2Si−）， 6.36（−CONHCH2−） 比較例 １ 実施例１で使用した単量体にかえ式：CH2＝
CFCOOCH（CH3）2で表わされる単量体を使用し
た他は、実施例１と同じ手順で重合と製膜を行つ
た。厚さ45μｍの均一な膜を得た。KO2とαを表
に示す。 比較例 ２ 式：CH2＝Ｃ（CH3）COO（CH2）5（Si
（CH3）2O）4Si（CH3）3で表わされる単量体の単独
重合体をポリマージヤーナル17巻（1985年）、11
号、1159〜1172頁に従い調製した。その後は実施
例１と同じ手順で製膜し、前記各係数を調べた。
KO2とαを表に示す。
【表】
【表】
ある。
〔発明の効果〕 従来の酸素富化空気製造用気体分離膜は、酸素
濃度の高い酸素富化空気（40容量％）を少量しか
製造できないもの、あるいは大量に製造できても
酸素濃度が低い酸素富化空気（〜30容量％）しか
製造できないものがあつたが、アクリロキシオル
ガノシロキサン重合体で構成される本発明の気体
分離膜は、比較的酸素濃度の高い酸素富化空気
（30〜40容量％）を大量に製造することができ、
醗酵用、燃焼バーナー用等に好適なものである。
〔発明の効果〕 従来の酸素富化空気製造用気体分離膜は、酸素
濃度の高い酸素富化空気（40容量％）を少量しか
製造できないもの、あるいは大量に製造できても
酸素濃度が低い酸素富化空気（〜30容量％）しか
製造できないものがあつたが、アクリロキシオル
ガノシロキサン重合体で構成される本発明の気体
分離膜は、比較的酸素濃度の高い酸素富化空気
（30〜40容量％）を大量に製造することができ、
醗酵用、燃焼バーナー用等に好適なものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式： （式中、X1は塩素またはフツ素、X2およびX3は
同一または相異なり水素原子または−CH2（CF2）
pCF3基〔但し、ｐは１〜５の整数である。〕、Ｙ
は酸素原子または−NH−基、ｍは０または１〜
５の整数、ｎは０または１〜５の整数を示す。） で表わされる構造単位50〜100重量％および式： （式中、X4は水素原子、塩素原子、フツ素原子、
炭素数１〜３のアルキル基、または炭素数１〜３
のフルオロアルキル基、Ｒは炭素数１〜20のアル
キル基、炭素数１〜20のフルオロアルキル基〔但
し、炭素原子鎖中に酸素原子を含むことがある。〕
を示す。）で表わされる構造単位０〜50重量％か
ら実質的に構成されるアクリロキシオルガノシロ
キサン重合体からなる気体分離膜。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61241117A JPS6395207A (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | 気体分離膜 |
| US07/105,242 US4810766A (en) | 1986-10-09 | 1987-10-07 | Acryloxyorganosiloxane polymer |
| EP87114674A EP0263514B1 (en) | 1986-10-09 | 1987-10-08 | Acryloxyorganosiloxane polymer |
| DE8787114674T DE3783119T2 (de) | 1986-10-09 | 1987-10-08 | Polymer mit akryloxyorganosiloxan-kettensegmenten. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61241117A JPS6395207A (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | 気体分離膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6395207A JPS6395207A (ja) | 1988-04-26 |
| JPH0417085B2 true JPH0417085B2 (ja) | 1992-03-25 |
Family
ID=17069537
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61241117A Granted JPS6395207A (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | 気体分離膜 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4810766A (ja) |
| EP (1) | EP0263514B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6395207A (ja) |
| DE (1) | DE3783119T2 (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63116725A (ja) * | 1986-11-05 | 1988-05-21 | Daikin Ind Ltd | 気体分離膜 |
| JPS6456687A (en) * | 1987-08-28 | 1989-03-03 | Toshiba Corp | Alpha-chloroacrylate having silicon atom on ester side chain |
| CA2019669A1 (en) * | 1989-11-21 | 1991-05-21 | John Woods | Anionically polymerizable monomers, polymers thereof, and use of such polymers in photoresists |
| US5288827A (en) * | 1993-02-17 | 1994-02-22 | Ciba-Geigy Corporation | Copolymer of (meth)acryloxy-alkyl-siloxysilane and alkyl(meth)acrylates and the use thereof as pressure sensitive adhesives |
| US5386047A (en) * | 1994-03-11 | 1995-01-31 | Loctite Corporation | Di-α-cyanopentadienoate disiloxane compounds for use in adhesives |
| EP1000602B1 (en) | 1997-06-04 | 2010-04-07 | Daikin Industries, Limited | Copolymers for cosmetics |
| US6730451B2 (en) * | 1999-12-15 | 2004-05-04 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Polymers, chemical amplification resist compositions and patterning process |
| JP3839218B2 (ja) * | 2000-03-31 | 2006-11-01 | 信越化学工業株式会社 | 珪素含有化合物、レジスト組成物およびパターン形成方法 |
| JP3962893B2 (ja) | 2001-02-09 | 2007-08-22 | 信越化学工業株式会社 | 高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 |
| EP1879933B1 (en) * | 2005-05-09 | 2012-11-21 | Dow Corning Corporation | Textile treatment and process for the preparation of an amino-mercapto functional organopolysiloxane |
| CN111557061B (zh) | 2018-01-30 | 2024-01-05 | 大金工业株式会社 | 电解液、电化学器件、锂离子二次电池及组件 |
| US11945776B2 (en) | 2018-01-30 | 2024-04-02 | Daikin Industries, Ltd. | Electrolyte, electrochemical device, lithium ion secondary battery, and module |
| CN111530307B (zh) * | 2020-05-07 | 2021-04-16 | 吉林大学 | 一种随钻传感器硅橡胶气液分离膜的制备方法 |
| CN111871071B (zh) * | 2020-06-17 | 2022-02-15 | 吉祥三宝高科纺织有限公司 | 口罩过滤层加工用耐高温、耐腐蚀型微孔膜材料 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2363627C3 (de) * | 1973-12-20 | 1981-10-29 | Syntex (U.S.A.) Inc., 94304 Palo Alto, Calif. | Kontaktlinse |
| US4216303A (en) * | 1979-01-26 | 1980-08-05 | George F. Tsuetaki | Oxygen-permeable contact lens compositions, methods and articles of manufacture |
| US4508884A (en) * | 1983-05-25 | 1985-04-02 | Coopervision, Inc. | Oxygen permeable hard contact lens |
| US4602074A (en) * | 1983-12-20 | 1986-07-22 | Nippon Contact Lens Manufacturing Ltd. | Contact lens material |
| JPS61111309A (ja) * | 1984-11-02 | 1986-05-29 | Daikin Ind Ltd | α−フルオロアクリル酸誘導体ポリマ− |
-
1986
- 1986-10-09 JP JP61241117A patent/JPS6395207A/ja active Granted
-
1987
- 1987-10-07 US US07/105,242 patent/US4810766A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-10-08 DE DE8787114674T patent/DE3783119T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-10-08 EP EP87114674A patent/EP0263514B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3783119D1 (de) | 1993-01-28 |
| EP0263514B1 (en) | 1992-12-16 |
| JPS6395207A (ja) | 1988-04-26 |
| US4810766A (en) | 1989-03-07 |
| EP0263514A2 (en) | 1988-04-13 |
| DE3783119T2 (de) | 1993-07-01 |
| EP0263514A3 (en) | 1990-10-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0417085B2 (ja) | ||
| US4666991A (en) | Fluorine-containing graft copolymer and adhesive and composite membrane made thereof | |
| WO2002064648A1 (en) | Fluorine-containing compounds and polymers and processes for producing the same | |
| GB2247686A (en) | Process for producing a macromolecular monomer | |
| US4746334A (en) | Poly(disubstituted acetylene)/polyorganosiloxane graftcopolymer and membrane for gas separation | |
| JP3141958B2 (ja) | 気体透過性重合体およびその製造方法 | |
| JPS63238053A (ja) | Ｎ―アルケニルカルバミン酸エステル系マクロマー | |
| JPS60123518A (ja) | シリコ−ン系グラフト共重合体の製造方法 | |
| JPS62109884A (ja) | 撥水撥油剤 | |
| JP3379883B2 (ja) | フッ化ビニリデン系樹脂の製造方法 | |
| JPH04134090A (ja) | ホスファゼン誘導体及びその重合体 | |
| JP3290461B2 (ja) | ジフェニルアセチレン系ポリマー | |
| US5436309A (en) | Photo-crosslinkable silicones comprising oxyalkylene styrene groups and their use | |
| JP3988552B2 (ja) | 含フッ素化合物および含フッ素重合体 | |
| EP0364587A1 (en) | Hexafluoroneopentyl alcohol, its derivatives, fluorinated polymers and their use | |
| US4755561A (en) | Poly(disubstituted acetylene)/polyorganosiloxane graft copolymer and membrane for gas separation | |
| JPH0551417A (ja) | フツ素含有共重合体 | |
| JPH0312410A (ja) | フツ素含有共重合体及びそれよりなるコンタクトレンズ | |
| JPH0673147A (ja) | 貯蔵安定性に優れるシリコーン系グラフトポリマーの製造方法 | |
| JPS61293943A (ja) | 含フッ素スチレン誘導体 | |
| JP3840733B2 (ja) | 含フッ素共重合体の製造方法 | |
| JPS62151410A (ja) | パ−フルオロアルケニルオキシ基含有重合体 | |
| JPS6397215A (ja) | 気体透過性重合体膜 | |
| JPH0311085A (ja) | フツ素含有ヒドロキシシリコーン化合物、その誘導体及びそれらの製造方法 | |
| JP2621706B2 (ja) | 架橋ポリシラン及びその製造方法 |