JPH04178374A - 光学活性イソオキサゾール誘導体の製造方法、並びにその製造中間体及びその製造方法 - Google Patents
光学活性イソオキサゾール誘導体の製造方法、並びにその製造中間体及びその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明はプロスタグランジン合−成の中間体として有用
である、 で示される新規光学活性イソオキサゾール誘導体及びそ
の製造方法、並びに上記化合物［ＸＩ］の製造中間体及
びその製造方法に関する。
である、 で示される新規光学活性イソオキサゾール誘導体及びそ
の製造方法、並びに上記化合物［ＸＩ］の製造中間体及
びその製造方法に関する。
本発明による光学活性イソオキサゾール誘導体［ＸＩコ
は、次いで、Ｇ、ストーク （Ｇ、５ｔｏｒｋ ）らに
より開発されたプロスタグランジン合成法（Ｇ、５ｔｏ
ｒｋ、Ｍ、ｌ５ｏｂｅ、Ｊ、Ａｍ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、
、９７，４７４５．（１９７５）、）における重要な製
造中間体である、一般式 （上記各式中、Ｒ１はアルコキシ基を有していてもよい
アルキル基又はシクロアルキル基、又は−Ｒａ−Ａ−Ｂ
（ここでＲａはアルキル基、Ａはへテロ原子又は単結合
、Ｂは置換基を有していてもよい芳香族環又はヘテロ環
をそれぞれ意味する）で示される基、Ｒ２及びＲ３は同
一または異なり、アラルキル基、シリル基又はアシル基
をそれぞれ意味する） で示される光学活性２−メチレンシクロペンタノン誘導
体に導かれ、更にこれは上記ストークらの方法に従って
プロスタグランジンに導かれる。
は、次いで、Ｇ、ストーク （Ｇ、５ｔｏｒｋ ）らに
より開発されたプロスタグランジン合成法（Ｇ、５ｔｏ
ｒｋ、Ｍ、ｌ５ｏｂｅ、Ｊ、Ａｍ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、
、９７，４７４５．（１９７５）、）における重要な製
造中間体である、一般式 （上記各式中、Ｒ１はアルコキシ基を有していてもよい
アルキル基又はシクロアルキル基、又は−Ｒａ−Ａ−Ｂ
（ここでＲａはアルキル基、Ａはへテロ原子又は単結合
、Ｂは置換基を有していてもよい芳香族環又はヘテロ環
をそれぞれ意味する）で示される基、Ｒ２及びＲ３は同
一または異なり、アラルキル基、シリル基又はアシル基
をそれぞれ意味する） で示される光学活性２−メチレンシクロペンタノン誘導
体に導かれ、更にこれは上記ストークらの方法に従って
プロスタグランジンに導かれる。
［発明の背景］
プロスタグランジン（ＰＧＦ及びＰＧＥ ）は、生体内
でプロスタグランジン合成酵素によりアラキドン酸など
の高級不飽和脂肪酸が化学変換されて生じる極めて強い
生理活性をもつ化合物であり、下記のような化学的構造
を有している。
でプロスタグランジン合成酵素によりアラキドン酸など
の高級不飽和脂肪酸が化学変換されて生じる極めて強い
生理活性をもつ化合物であり、下記のような化学的構造
を有している。
天然のプロスタグランジンでは、上記各式中の基Ｒ−は
ｎｃ、Ｈ＋＋−５基Ｒは（ＣＨ２）６’Ｃ０ＯＨ又ハＣ
Ｈ２ＣＨ−ＣＨ（ＣＨ２） ３ＣＯＯＨであり、基Ｒ′
は脂溶性を有することか生理活性の発現上重要であるこ
とか知られている。プロスタグランジンの医薬品として
の開発研究が進められる中で、更に基Ｒ′としてアルキ
ル基、シクロアルキル基又はアラルキル基であって炭素
数４〜１０のものが有効であり、例えばペンチル、イソ
ペンチル、２，２−ジメチルペンチル、ヘキシル、２−
ヘキシル、ヘプチル、２−エトキシ−１，１−ジメチル
エチル、５−メトキシ−１−メチルペンチルなどのアル
キル基、シクロペンチル、３−エチルシクロペンチル、
４−プロピルシクロヘキシルなどのシクロアルキル基、
更にはフェニルオキシメチル、３−トリフルオロメチル
フェニルオキシメチル、２−クロロチオフェン−５−イ
ルオキシメチル、フラン−２−イル−２−エチルなどの
基か強い生理活性を示すことが明らかにされてきた。本
発明の化合物は、これら有機基を含めた置換基を目的化
合物に導入することのできる原料として有用なものであ
る。
ｎｃ、Ｈ＋＋−５基Ｒは（ＣＨ２）６’Ｃ０ＯＨ又ハＣ
Ｈ２ＣＨ−ＣＨ（ＣＨ２） ３ＣＯＯＨであり、基Ｒ′
は脂溶性を有することか生理活性の発現上重要であるこ
とか知られている。プロスタグランジンの医薬品として
の開発研究が進められる中で、更に基Ｒ′としてアルキ
ル基、シクロアルキル基又はアラルキル基であって炭素
数４〜１０のものが有効であり、例えばペンチル、イソ
ペンチル、２，２−ジメチルペンチル、ヘキシル、２−
ヘキシル、ヘプチル、２−エトキシ−１，１−ジメチル
エチル、５−メトキシ−１−メチルペンチルなどのアル
キル基、シクロペンチル、３−エチルシクロペンチル、
４−プロピルシクロヘキシルなどのシクロアルキル基、
更にはフェニルオキシメチル、３−トリフルオロメチル
フェニルオキシメチル、２−クロロチオフェン−５−イ
ルオキシメチル、フラン−２−イル−２−エチルなどの
基か強い生理活性を示すことが明らかにされてきた。本
発明の化合物は、これら有機基を含めた置換基を目的化
合物に導入することのできる原料として有用なものであ
る。
［従来の技術及び解決すべき課題］
従来、光学活性プロスタグランジンの製造経路としては
、コーリーラクトンより出発する方法や、４−ヒドロキ
シシクロベンテノンより出発する方法が知られていた。
、コーリーラクトンより出発する方法や、４−ヒドロキ
シシクロベンテノンより出発する方法が知られていた。
しかし、前者の方法では多くの工程を経る必要かあり必
然的に最終製品の収率が低下し、後者の方法では副反応
を抑えて主反応を優先させるための反応条件か比較的設
定し難くいといった問題が残されていた。また、上述の
Ｇ、ストークらが開発した方法、すなわち、中間体とし
て２−メチレンシクロペンタノン誘導体ＣＸｌ１ｌｌ［
］を製造し、次いでこれをプロスタグランジンに導く方
法は、中間体として安定な化合物［ＸＩＩＩ］を経る有
用な方法と言えるか、この方法で得られる上記中間体［
ＸＩ［［］はラセミ体であって、光学活性体は得られな
い。
然的に最終製品の収率が低下し、後者の方法では副反応
を抑えて主反応を優先させるための反応条件か比較的設
定し難くいといった問題が残されていた。また、上述の
Ｇ、ストークらが開発した方法、すなわち、中間体とし
て２−メチレンシクロペンタノン誘導体ＣＸｌ１ｌｌ［
］を製造し、次いでこれをプロスタグランジンに導く方
法は、中間体として安定な化合物［ＸＩＩＩ］を経る有
用な方法と言えるか、この方法で得られる上記中間体［
ＸＩ［［］はラセミ体であって、光学活性体は得られな
い。
本発明者らは、上記問題点を解決すべく鋭意検討の結果
、プロスタグランジン製造の鍵中間体である光学活性２
−メチレンシクロペンタノン誘導体［ＸＩＩＩ］を簡便
にかつ高収率で製造する方法を見出した。本発明は化合
物ｃｘｍ］の製造の過程で得られる新規中間体及びその
製法を提供するものである。
、プロスタグランジン製造の鍵中間体である光学活性２
−メチレンシクロペンタノン誘導体［ＸＩＩＩ］を簡便
にかつ高収率で製造する方法を見出した。本発明は化合
物ｃｘｍ］の製造の過程で得られる新規中間体及びその
製法を提供するものである。
［課題を解決するための手段］
本発明による光学活性イソオキサゾール誘導体は、
（式中、Ｒ１はアルコキシ基を有していてもよいアルキ
ル基又はシクロアルキル基、又は−Ｒａ−Ａ−Ｂ（ここ
でＲａはアルキル基、Ａはへテロ原子又は単結合、Ｂは
置換基を有していてもよい芳香族環又はヘテロ環をそれ
ぞれ意味する）で示される基、Ｒ２及びＲ３は同一また
は異なり、アラルキル基、シリル基又はアシル基をそれ
ぞれ意味する） で示される化学的構造を有する。
ル基又はシクロアルキル基、又は−Ｒａ−Ａ−Ｂ（ここ
でＲａはアルキル基、Ａはへテロ原子又は単結合、Ｂは
置換基を有していてもよい芳香族環又はヘテロ環をそれ
ぞれ意味する）で示される基、Ｒ２及びＲ３は同一また
は異なり、アラルキル基、シリル基又はアシル基をそれ
ぞれ意味する） で示される化学的構造を有する。
また、上記光学活性イソオキサゾール誘導体［Ｘｌ］の
製造に有用な中間体である光学活性アルデヒド化合物は
、 （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は上記定義のものと同じ意
味を有する） で示される化学的構造を有する。
製造に有用な中間体である光学活性アルデヒド化合物は
、 （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は上記定義のものと同じ意
味を有する） で示される化学的構造を有する。
上記光学活性イソオキサゾール誘導体［Ｘｌ］を（式中
、Ｒｌ 、Ｒ２及びＲ３は上記定義のものと同じ意味を
有する） で示される光学活性オキシム化合物を分子内環化する。
、Ｒｌ 、Ｒ２及びＲ３は上記定義のものと同じ意味を
有する） で示される光学活性オキシム化合物を分子内環化する。
上記方法に使用する光学活性オキシム化合物［Ｘコを製
造するには、 一般式 で示される光学活性ビニル化合物を加水分解して （上記各式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は上記定義のものと
同じ意味を有し、Ｒ４はアルキル基を意味し、２つのＲ
４か互いに結合して環を形成していてもよい） で示される光学活性アルデヒド化合物とし、次いで同ア
ルデヒド化合物［ＩＸ］を光学活性オキシム化合物［Ｘ
］に変換する。
造するには、 一般式 で示される光学活性ビニル化合物を加水分解して （上記各式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は上記定義のものと
同じ意味を有し、Ｒ４はアルキル基を意味し、２つのＲ
４か互いに結合して環を形成していてもよい） で示される光学活性アルデヒド化合物とし、次いで同ア
ルデヒド化合物［ＩＸ］を光学活性オキシム化合物［Ｘ
］に変換する。
上記方法に使用する光学活性ビニル化合物［■］を製造
するには、 一般式 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は上記定義のものと
同じ意味を有する） て示される光学活性ヒドロキシエチル化合物を脱水する
。
するには、 一般式 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は上記定義のものと
同じ意味を有する） て示される光学活性ヒドロキシエチル化合物を脱水する
。
上記方法に使用する光学活性ヒドロキシエチル化合物［
■］を製造するには、 一般式 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は上記定義のちのと
同じ意味を有し、Ｒ５はアルキル基を意味する） で示される光学活性エステル化合物を還元する。
■］を製造するには、 一般式 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は上記定義のちのと
同じ意味を有し、Ｒ５はアルキル基を意味する） で示される光学活性エステル化合物を還元する。
上記方法に使用する光学活性エステル化合物［ｖＩ］を
製造するには、 で示される光学活性４−エン−６−オール化合物に一般
式ＣＨ３Ｃ（ＯＲ’ ）３ （上記各式中、Ｒ１、Ｒ
２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は上記定義のものと同じ意味を
有する）で示されるトリアルキルオルトアセテートを反
応させ、更に分子内転移を起こさせる。
製造するには、 で示される光学活性４−エン−６−オール化合物に一般
式ＣＨ３Ｃ（ＯＲ’ ）３ （上記各式中、Ｒ１、Ｒ
２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は上記定義のものと同じ意味を
有する）で示されるトリアルキルオルトアセテートを反
応させ、更に分子内転移を起こさせる。
上記方法に使用する光学活性４−エン−６−オール化合
物［Ｖ］を製造するには、 （式中、Ｒｌ 、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は上記定義のもの
と同じ意味を有する） で示される光学活性４−イン−６−オール化合物を部分
還元する。
物［Ｖ］を製造するには、 （式中、Ｒｌ 、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は上記定義のもの
と同じ意味を有する） で示される光学活性４−イン−６−オール化合物を部分
還元する。
上記方法に使用する光学活性４−イン−６−オール化合
物［Ｉ［Ｉｂ］を製造するには、一般式 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は上記定義のものと
同じ意味を有する） て示される光学活性４−イン−６−オン化合物を還元す
る。
物［Ｉ［Ｉｂ］を製造するには、一般式 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は上記定義のものと
同じ意味を有する） て示される光学活性４−イン−６−オン化合物を還元す
る。
上記方法に使用する光学活性４−イン−６−オン化合物
［ＩＶ］を製造するには、 一般式 で示される光学活性ジブロモ化合物を て示される光学活性アルデヒド化合物と反応させて 一般式 （上記各式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は上記定義の
ものと同じ意味を有する） て示される光学活性４−イン−６−オール化合物とし、
次いて同４−イン−６−オール化合物［ＩＩＩ ａ］を
酸化する。
［ＩＶ］を製造するには、 一般式 で示される光学活性ジブロモ化合物を て示される光学活性アルデヒド化合物と反応させて 一般式 （上記各式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は上記定義の
ものと同じ意味を有する） て示される光学活性４−イン−６−オール化合物とし、
次いて同４−イン−６−オール化合物［ＩＩＩ ａ］を
酸化する。
本発明による光学活性イソオキサゾール誘導体［Ｘ１１
、その製造中間体、及びこれから導かれる光学活性２−
メチレン−シクロペンタノン誘導体［ＸＩＩＩ］、並び
にこれらの製造方法は、反応経路１に示すとおりである
。
、その製造中間体、及びこれから導かれる光学活性２−
メチレン−シクロペンタノン誘導体［ＸＩＩＩ］、並び
にこれらの製造方法は、反応経路１に示すとおりである
。
本発明において、上記一般式で示される各化合物の定義
について説明する。
について説明する。
上記各化合物の基Ｒ１は、（ａ）アルコキシ基を有して
いてもよいアルキル基又はシクロアルキル基、又は（ｂ
） −Ｒａ −Ａ −Ｂ （ここでＲａはアルキル基、
Ａはへテロ原子又は単結合、Ｂは置換基を有していても
よい芳香族環又はヘテロ環をそれぞれ意味する）で示さ
れる基、Ｒ２及びＲ３は同一または異なり、アラルキル
基、シリル基又はアシル基をそれぞれ意味する）である
。上記（ａ）のアルキル基又はシクロアルキル基として
は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル
、イソブチル、ペンチル、イソペンチル、２，２−ジメ
チルペンチル、ヘキシル、２−ヘキシル、ヘプチル、２
−へブチル、オクチル、２−オクチル、ノニル、２−ノ
ニル、デシル、２−デシル、ウンデシル、２−ウンデシ
ル、ドデシル、２−エトキシ−１，１−ジメチルエチル
、５−メトキシ−１−メチルペンチル、シクロペンチル
、３−エチルシクロペンチル、シクロヘキジル、２−メ
チルシクロヘキシル、４−ｎ−プロピルシクロヘキシル
などの直鎖状又は分枝状アルキル基又はシクロアルキル
基が例示される。また、上記（ｂ）の基−Ｒａ−Ａ−Ｂ
としては、フェニルオキシメチル、３−トリフルオロメ
チルフェニルオキシメチル、２−クロロチオフェン−５
−イルオキシメチル、フラン−２−イル−エチルなどが
例示される。
いてもよいアルキル基又はシクロアルキル基、又は（ｂ
） −Ｒａ −Ａ −Ｂ （ここでＲａはアルキル基、
Ａはへテロ原子又は単結合、Ｂは置換基を有していても
よい芳香族環又はヘテロ環をそれぞれ意味する）で示さ
れる基、Ｒ２及びＲ３は同一または異なり、アラルキル
基、シリル基又はアシル基をそれぞれ意味する）である
。上記（ａ）のアルキル基又はシクロアルキル基として
は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル
、イソブチル、ペンチル、イソペンチル、２，２−ジメ
チルペンチル、ヘキシル、２−ヘキシル、ヘプチル、２
−へブチル、オクチル、２−オクチル、ノニル、２−ノ
ニル、デシル、２−デシル、ウンデシル、２−ウンデシ
ル、ドデシル、２−エトキシ−１，１−ジメチルエチル
、５−メトキシ−１−メチルペンチル、シクロペンチル
、３−エチルシクロペンチル、シクロヘキジル、２−メ
チルシクロヘキシル、４−ｎ−プロピルシクロヘキシル
などの直鎖状又は分枝状アルキル基又はシクロアルキル
基が例示される。また、上記（ｂ）の基−Ｒａ−Ａ−Ｂ
としては、フェニルオキシメチル、３−トリフルオロメ
チルフェニルオキシメチル、２−クロロチオフェン−５
−イルオキシメチル、フラン−２−イル−エチルなどが
例示される。
各化合物の基Ｒ２及びＲ３は同一または異なり、アラル
キル基、シリル基又はアシル基をそれぞれである。基Ｒ
２及びＲ３は水酸基の保護基として働くものであって、
反応経路１の反応の条件に適合するものか適宜選定され
る。アラルキル基の具体的としては、ベンジル、ｐ−メ
トキシベンジル、１−フェネチル基などが挙げられ、シ
リル基の例としては、ジメチルトリフェニルメチルシリ
ル、ジーｔｅｒｔ−ブチルメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブ
チルジフェニルシリルなどが挙げられ、アシル基として
は、アセチル、プロピオニル、ｎ−ブチリル、ｎ−バレ
リル、カプロイル、ベンゾイルなどが例示される。
キル基、シリル基又はアシル基をそれぞれである。基Ｒ
２及びＲ３は水酸基の保護基として働くものであって、
反応経路１の反応の条件に適合するものか適宜選定され
る。アラルキル基の具体的としては、ベンジル、ｐ−メ
トキシベンジル、１−フェネチル基などが挙げられ、シ
リル基の例としては、ジメチルトリフェニルメチルシリ
ル、ジーｔｅｒｔ−ブチルメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブ
チルジフェニルシリルなどが挙げられ、アシル基として
は、アセチル、プロピオニル、ｎ−ブチリル、ｎ−バレ
リル、カプロイル、ベンゾイルなどが例示される。
アルキル基Ｒ４はアルデヒドのカルボニル基の保護基と
して働くものであって、これも反応経路１の反応の条件
に適合するものが適宜選定される。アルキル基の具体的
としては、メチル。
して働くものであって、これも反応経路１の反応の条件
に適合するものが適宜選定される。アルキル基の具体的
としては、メチル。
エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、５
ｅｅ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル基など
の直鎖状又は分枝状アルキル基か挙げられる。また２つ
の基Ｒ４は、互いに結合して環状アセタール構造になる
ように環を形成していてもよい。
ｅｅ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル基など
の直鎖状又は分枝状アルキル基か挙げられる。また２つ
の基Ｒ４は、互いに結合して環状アセタール構造になる
ように環を形成していてもよい。
アルキル基Ｒ５としては、メチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、イソプロピル、ｎ−ブチル、５ｅＣ−ブチル、ｔｅ
ｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル基なとの直鎖状又は分枝状
アルキル基が例示される。
ル、イソプロピル、ｎ−ブチル、５ｅＣ−ブチル、ｔｅ
ｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル基なとの直鎖状又は分枝状
アルキル基が例示される。
つぎに、反応経路１の各工程について更に詳しく説明す
る。
る。
（１） まず、光学活性ジブロモ化合物［Ｉ］を光学
活性アルデヒド化合物［１１］と反応させて、光学活性
４−イン−６−オール化合物［ｌ１１ａ］を得る。
活性アルデヒド化合物［１１］と反応させて、光学活性
４−イン−６−オール化合物［ｌ１１ａ］を得る。
この工程では、まずジブロモ化合物［１］を２当量の塩
基と反応させてアセチレン誘導体に変換し、次いて同誘
導体を単離し又は単離することなく光学活性アルデヒド
化合物［１１］と反応させる。
基と反応させてアセチレン誘導体に変換し、次いて同誘
導体を単離し又は単離することなく光学活性アルデヒド
化合物［１１］と反応させる。
ここで用いられる塩基としては、メチルリチウム、ｎ−
ブチルリチウム、５ｅＣ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−
ブチルリチウムなどのアルキルリチウム試薬が好ましい
。反応溶媒としては、エチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、エチレングリコールジメチルエーテルなどの非プ
ロトン性エーテル系溶媒を単独あるいは混合して用いる
ことが好ましい。反応は低温好ましくは一４０℃以下の
温度で行ない、ジブロモ化合物［＋］に塩基を滴下した
後、混合液を１５〜６０分その温度で攪拌する。また、
この反応混合液にアルデヒド化合物［ｎｌを滴下した後
、混合液を１０〜３０分その温度で攪拌する。
ブチルリチウム、５ｅＣ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−
ブチルリチウムなどのアルキルリチウム試薬が好ましい
。反応溶媒としては、エチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、エチレングリコールジメチルエーテルなどの非プ
ロトン性エーテル系溶媒を単独あるいは混合して用いる
ことが好ましい。反応は低温好ましくは一４０℃以下の
温度で行ない、ジブロモ化合物［＋］に塩基を滴下した
後、混合液を１５〜６０分その温度で攪拌する。また、
この反応混合液にアルデヒド化合物［ｎｌを滴下した後
、混合液を１０〜３０分その温度で攪拌する。
（ｉ ｉ） 上記工程で得られた光学活性４−イン−
６−オール化合物［ｍａｌを酸化して、光学活性４−イ
ン−６−オン化合物［ＩＶ］を得る。
６−オール化合物［ｍａｌを酸化して、光学活性４−イ
ン−６−オン化合物［ＩＶ］を得る。
この工程は、４−イン−６−オール化合物［Ｉｎａ］の
水酸基を酸化してケトン基にするものである。４−イン
−６−オール化合物（Ｉ［ｒａコの酸化には多くの方法
があり、代表例として、（ａ）クロム酸酸化、マンガン
酸酸化などの金属試薬による酸化や、（ｂ）スワーン（
Ｓｗｅｒｎ）酸化、（Ｃ）コーリー・キム（Ｃｏｒｅｙ
−Ｋｉω）酸化などの方法が挙げられる。
水酸基を酸化してケトン基にするものである。４−イン
−６−オール化合物（Ｉ［ｒａコの酸化には多くの方法
があり、代表例として、（ａ）クロム酸酸化、マンガン
酸酸化などの金属試薬による酸化や、（ｂ）スワーン（
Ｓｗｅｒｎ）酸化、（Ｃ）コーリー・キム（Ｃｏｒｅｙ
−Ｋｉω）酸化などの方法が挙げられる。
（ａ）の金属試薬を用いる酸化では、その試薬として、
クロム酸、重クロム酸カリウム、重クロム酸ナトリウム
、二酸化マンガン、過マンガン酸カリウム、過マンガン
酸ナトリウム、ＰＣＣ（ピリジニウムクロロクロメート
） 、ＰＤＣ（ピリジニウムジクロメート）などが使用
される。反応溶媒としては通常塩化メチレン、クロロホ
ルム、四塩化炭素などが用いられる。
クロム酸、重クロム酸カリウム、重クロム酸ナトリウム
、二酸化マンガン、過マンガン酸カリウム、過マンガン
酸ナトリウム、ＰＣＣ（ピリジニウムクロロクロメート
） 、ＰＤＣ（ピリジニウムジクロメート）などが使用
される。反応溶媒としては通常塩化メチレン、クロロホ
ルム、四塩化炭素などが用いられる。
（ｂ）のスワーン酸化はジメチルスルホキシドを用いる
方法である（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、１８５．（１９７８
）、）。
方法である（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、１８５．（１９７８
）、）。
この方法ではオキザリルクロリドなどの酸ハライドやト
リフルオロ酢酸無水物などの酸無水物をジメチルスルホ
キシドと作用させてまずスルホニウム塩とし、この塩に
４−イン−６−オール化合物［ＩＩｒａ］を反応させた
後、生成物を塩基処理することにより４−イン−６−オ
ン化合物［ＴＶ］に変換する。反応溶媒としては無水に
した塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などの非
プロトン性溶媒が好ましい。この反応は＝４０℃以下の
低温好ましくは一７８℃付近で行なわれる。
リフルオロ酢酸無水物などの酸無水物をジメチルスルホ
キシドと作用させてまずスルホニウム塩とし、この塩に
４−イン−６−オール化合物［ＩＩｒａ］を反応させた
後、生成物を塩基処理することにより４−イン−６−オ
ン化合物［ＴＶ］に変換する。反応溶媒としては無水に
した塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などの非
プロトン性溶媒が好ましい。この反応は＝４０℃以下の
低温好ましくは一７８℃付近で行なわれる。
（Ｃ）のコーリー・キム酸化はＮ−クロロスクシンイミ
ドとジメチルスルフィドを用いるものであり（Ｊ、Ａｍ
、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、、９４．７５８７（１９７２）、
） 、この方法によってもこの酸化は達成される。
ドとジメチルスルフィドを用いるものであり（Ｊ、Ａｍ
、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、、９４．７５８７（１９７２）、
） 、この方法によってもこの酸化は達成される。
（ｉｉｉ）上記工程で得られた光学活性４−イン−６−
オン化合物［ＩＶ］のケトン基を不斉還元して、光学活
性４−イン−６−オール化合物［■ｂ］を得る。
オン化合物［ＩＶ］のケトン基を不斉還元して、光学活
性４−イン−６−オール化合物［■ｂ］を得る。
この反応に用いられる還元試薬としては、水素化ホウ素
亜鉛か好ましい。この試薬は通常は濃度０．１〜０．５
ｍｏｌ／ｌのジエチルエーテル溶液の形態で使用される
。この反応は、低温好ましくは−２０〜−４０℃の４−
イン−６−オン化合物［ＩＶ］の反応溶液に同化合物［
ＩＶ］に対して１〜２当量の還元試薬を窒素雰囲気に滴
下し、反応混合液を更に５〜３０分間攪拌することによ
り達成される。反応溶媒としては、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフランなどの非プロトン性無極性溶媒を単
独もしくは混合して用いることが好ましい。
亜鉛か好ましい。この試薬は通常は濃度０．１〜０．５
ｍｏｌ／ｌのジエチルエーテル溶液の形態で使用される
。この反応は、低温好ましくは−２０〜−４０℃の４−
イン−６−オン化合物［ＩＶ］の反応溶液に同化合物［
ＩＶ］に対して１〜２当量の還元試薬を窒素雰囲気に滴
下し、反応混合液を更に５〜３０分間攪拌することによ
り達成される。反応溶媒としては、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフランなどの非プロトン性無極性溶媒を単
独もしくは混合して用いることが好ましい。
（ｉｖ） 上記工程で得られた光学活性４−イン−６
−オール化合物［ｌｌＩｂ１を部分還元して、光学活性
４−エン−６−オール化合物［Ｖ］を得る。
−オール化合物［ｌｌＩｂ１を部分還元して、光学活性
４−エン−６−オール化合物［Ｖ］を得る。
この工程は、４−イン−６−オール化合物［ｍｂｌの炭
素−炭素三重結合を部分還元して炭素−炭素二重結合と
し、トランスオレフィン化合物［Ｖ］を得るものである
。この反応で使用される還元試薬としては、水素化リチ
ウムアルミニウムが好ましい。この部分還元反応は、４
−イン−６−オール化合物［１１１ｂ］に対して１〜３
当量の水素化リチウムアルミニウムを含む懸濁液に０℃
で同化合物［ｍｂｌを加えた後、１０〜３０分間攪拌還
流を行なうことにより達成される。反応溶媒としては、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどの非プロト
ン性無極性溶媒を単独あるいは混合して用いることが好
ましい。
素−炭素三重結合を部分還元して炭素−炭素二重結合と
し、トランスオレフィン化合物［Ｖ］を得るものである
。この反応で使用される還元試薬としては、水素化リチ
ウムアルミニウムが好ましい。この部分還元反応は、４
−イン−６−オール化合物［１１１ｂ］に対して１〜３
当量の水素化リチウムアルミニウムを含む懸濁液に０℃
で同化合物［ｍｂｌを加えた後、１０〜３０分間攪拌還
流を行なうことにより達成される。反応溶媒としては、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどの非プロト
ン性無極性溶媒を単独あるいは混合して用いることが好
ましい。
（Ｖ） 上記工程で得られた光学活性４−エン−６−
オール化合物［Ｖ］にトリアルキルオルトアセテートＣ
Ｈ３Ｃ（ＯＲ５）３を反応させ、更に分子内転移を起こ
させて、光学活性エステル化合物［ＶＩ］を得る。
オール化合物［Ｖ］にトリアルキルオルトアセテートＣ
Ｈ３Ｃ（ＯＲ５）３を反応させ、更に分子内転移を起こ
させて、光学活性エステル化合物［ＶＩ］を得る。
この工程は、４−エン−６−オール化合物［Ｖ〕の水酸
基をトリアルキルオルトアセテートとの反応によってア
シル化し、さらに分子内転位によって同化合物［Ｖ］を
エステル化合物［ＶＴ］へと変換するものである。
基をトリアルキルオルトアセテートとの反応によってア
シル化し、さらに分子内転位によって同化合物［Ｖ］を
エステル化合物［ＶＴ］へと変換するものである。
この反応は、４−エン−６−オール化合物［■］と、同
化合物［Ｖ］に対して１〜５当量のトリアルキルオルト
アセテートと、０．０１〜０３３当量の触媒量の酸を溶
媒に溶かし、混合液を１４０〜１８０℃で５〜３０分間
加熱することにより達成される。トリアルキルオルトア
セテートとしては、トリメチルオルトアセテート、トリ
エチルオルトアセテート、トリプロピルオルトアセテー
ト、トリブチルオルトアセテートなどが好ましく、また
触媒量の酸としてはへキサン酸、ヘプタン酸、オクタン
酸、ノナン酸などが好ましい。反応溶媒としては、通常
キシレンが用いられる。
化合物［Ｖ］に対して１〜５当量のトリアルキルオルト
アセテートと、０．０１〜０３３当量の触媒量の酸を溶
媒に溶かし、混合液を１４０〜１８０℃で５〜３０分間
加熱することにより達成される。トリアルキルオルトア
セテートとしては、トリメチルオルトアセテート、トリ
エチルオルトアセテート、トリプロピルオルトアセテー
ト、トリブチルオルトアセテートなどが好ましく、また
触媒量の酸としてはへキサン酸、ヘプタン酸、オクタン
酸、ノナン酸などが好ましい。反応溶媒としては、通常
キシレンが用いられる。
（ｖｉ） 上記工程で得られた光学活性エステル化合
物［ＶＩ］を還元して、光学活性ヒドロキシエチル化合
物［■］を得る。
物［ＶＩ］を還元して、光学活性ヒドロキシエチル化合
物［■］を得る。
この工程は、エステル化合物［ＶＩ］のアルキルエステ
ル部を還元して一級アルコールとするものである。
ル部を還元して一級アルコールとするものである。
還元剤としては水素化リチウムアルミニウムか好ましい
。この反応は、エステル化合物［■］に同化合物［ＶＩ
］に対して１〜３当量の水素化リチウムアルミニウムを
温度５〜３０℃で１５〜９０分間作用させることにより
達成される。反応溶媒としては、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフランなどの非プロトン性無極性溶媒を単独
あるいは混合して用いることが好ましい。
。この反応は、エステル化合物［■］に同化合物［ＶＩ
］に対して１〜３当量の水素化リチウムアルミニウムを
温度５〜３０℃で１５〜９０分間作用させることにより
達成される。反応溶媒としては、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフランなどの非プロトン性無極性溶媒を単独
あるいは混合して用いることが好ましい。
（ｖｉｉ） 上記工程で得られた光学活性ヒドロキシ
エチル化合物［■コを脱水して、光学活性ビニル化合物
［■］を得る。
エチル化合物［■コを脱水して、光学活性ビニル化合物
［■］を得る。
この工程は、ヒドロキシエチル化合物［■］の一級アル
コール部を脱水反応により末端オレフィンとし、ビニル
化合物［■コを得るものである。すなわち、ヒドロキシ
エチル化合物［■］をまずセレン化合物に変換し、これ
を酸化した後、脱離を起こさせることによりビニル化合
物［■コを得る。
コール部を脱水反応により末端オレフィンとし、ビニル
化合物［■コを得るものである。すなわち、ヒドロキシ
エチル化合物［■］をまずセレン化合物に変換し、これ
を酸化した後、脱離を起こさせることによりビニル化合
物［■コを得る。
この反応は、ヒドロキシエチル化合物［■コニ対シて１
〜３当量のアリールセレンシアニドを含むジエチルエー
テル又はテトラヒドロフランの懸濁液に、ヒドロキシエ
チル化合物［■］を５〜３０℃で滴下し、その後、同量
のトリアルキルホスフィン又はトリフェニルホスフィン
を滴下して更に５〜３０分間攪拌を続け、次に反応溶液
を０℃に冷却し、１０〜４０％過酸化水素水を攪拌下滴
下し、混合液を更に１〜５時間攪拌することにより達成
される。
〜３当量のアリールセレンシアニドを含むジエチルエー
テル又はテトラヒドロフランの懸濁液に、ヒドロキシエ
チル化合物［■］を５〜３０℃で滴下し、その後、同量
のトリアルキルホスフィン又はトリフェニルホスフィン
を滴下して更に５〜３０分間攪拌を続け、次に反応溶液
を０℃に冷却し、１０〜４０％過酸化水素水を攪拌下滴
下し、混合液を更に１〜５時間攪拌することにより達成
される。
上記アリールセレンシアニドとしては、０−ニトロフェ
ニルセレンシアニド、ｐ−ニトロフェニルセレンシアニ
ドなどが用いられ、またトリアルキルホスフィンとして
は、トリエチルホスフィン、トリプロピルホスフィン、
トリーｎ−ブチルホスフィンなどが好ましい。
ニルセレンシアニド、ｐ−ニトロフェニルセレンシアニ
ドなどが用いられ、またトリアルキルホスフィンとして
は、トリエチルホスフィン、トリプロピルホスフィン、
トリーｎ−ブチルホスフィンなどが好ましい。
（ｖｉｉｉ） 上記工程で得られた光学活性ビニル化
合物［■］を加水分解して、光学活性アルデヒド化合物
［ＩＸ］を得る。
合物［■］を加水分解して、光学活性アルデヒド化合物
［ＩＸ］を得る。
この工程は、ビニル化合物［■］のアセタール基を酸触
媒の存在下に加水分解してアルデヒド基へ変換するもの
である。この反応は、ビニル化合物［■コを６０〜９０
％酢酸とテトラヒドロフランの混合溶媒系に溶かし、温
度２０〜６０℃で１〜８時間攪拌することによって達成
される。
媒の存在下に加水分解してアルデヒド基へ変換するもの
である。この反応は、ビニル化合物［■コを６０〜９０
％酢酸とテトラヒドロフランの混合溶媒系に溶かし、温
度２０〜６０℃で１〜８時間攪拌することによって達成
される。
この反応で用いられる酸としては、酢酸の他、ギ酸、プ
ロピオン酸、トリフルオロ酢酸などの有機酸や、塩酸、
硫酸などの鉱酸が好ましい。
ロピオン酸、トリフルオロ酢酸などの有機酸や、塩酸、
硫酸などの鉱酸が好ましい。
以下の（１ｘ）から（ｘｉｉ）までの工程は、その大筋
としてはコジコウスキー（１（ｏ２ｉｋｏｗｓｋｉ）ら
によって開発された手法（Ｊ、Ａｍ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ
、、１０４ 。
としてはコジコウスキー（１（ｏ２ｉｋｏｗｓｋｉ）ら
によって開発された手法（Ｊ、Ａｍ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ
、、１０４ 。
４０２３、 （１９８２）、 ）に従ってなされる。
（ｉｘ） 上記工程で得られた光学活性アルデヒド化
合物［ＩＸ］を光学活性オキシム化合物［ＸＩに変換す
る。
合物［ＩＸ］を光学活性オキシム化合物［ＸＩに変換す
る。
この反応は、アルデヒド化合物［ＩＸ］をピリジンに溶
かし、１〜１，５当量のヒドロキシアミン塩酸塩を加え
、混合液を３０〜９０分間室温で攪拌することにより達
成される。
かし、１〜１，５当量のヒドロキシアミン塩酸塩を加え
、混合液を３０〜９０分間室温で攪拌することにより達
成される。
（Ｘ） 上記工程で得られた光学活性オキシム化合物
［ＸＩを分子内環化して、光学活性イソオキサゾール誘
導体［ＸＩ］を得る。
［ＸＩを分子内環化して、光学活性イソオキサゾール誘
導体［ＸＩ］を得る。
この工程は、オキシム化合物［ＸＩのオキシム部とオレ
フィン部で分子内［３＋２］環化付加して、同化合物［
ＸＩをイソオキサゾール誘導体［Ｘ１１へ変換するもの
である。
フィン部で分子内［３＋２］環化付加して、同化合物［
ＸＩをイソオキサゾール誘導体［Ｘ１１へ変換するもの
である。
この反応は、オキシム化合物［ＸＩと０．０１〜０゜３
当量のトリエチルアミンを溶媒中攪拌し、混合液に低温
好ましくは０℃付近で５〜３０％の次亜塩素酸ナトリウ
ムを１〜１０当量滴下し、混合液を約０℃で３０〜２時
間、更に１０〜３０℃で５〜２４時間攪拌することによ
り達成される。反応溶媒としては、塩化メチレン、クロ
ロホルム、四塩化炭素などが好ましい。
当量のトリエチルアミンを溶媒中攪拌し、混合液に低温
好ましくは０℃付近で５〜３０％の次亜塩素酸ナトリウ
ムを１〜１０当量滴下し、混合液を約０℃で３０〜２時
間、更に１０〜３０℃で５〜２４時間攪拌することによ
り達成される。反応溶媒としては、塩化メチレン、クロ
ロホルム、四塩化炭素などが好ましい。
（ｘｉ） 上記工程で得られた光学活性イソオキサゾ
ール誘導体［Ｘｌ］を還元して、光学活性シクロペンタ
ノン誘導体［ＸＩＩコを得る。
ール誘導体［Ｘｌ］を還元して、光学活性シクロペンタ
ノン誘導体［ＸＩＩコを得る。
この反応は、イソオキサゾール誘導体［Ｘ１１と不活性
化した触媒量のラネーニッケルと三塩化ホウ素のヘキサ
ン溶液との混合液を８０％メタノール水溶液中で水素ガ
ス雰囲気下で約３時間攪拌することにより達成される。
化した触媒量のラネーニッケルと三塩化ホウ素のヘキサ
ン溶液との混合液を８０％メタノール水溶液中で水素ガ
ス雰囲気下で約３時間攪拌することにより達成される。
（ｘｉｉ） 上記工程で得られた光学活性シクロペン
タノン誘導体［ＸＩｒ］を脱水し、光学活性２−メチレ
ンシクロペンタノン誘導体［ＸＩ［Ｉ ］を得る。
タノン誘導体［ＸＩｒ］を脱水し、光学活性２−メチレ
ンシクロペンタノン誘導体［ＸＩ［Ｉ ］を得る。
この反応は、シクロペンタノン誘導体［ＸＩＩ］を無水
ピリジンに溶かし、低温好ましくは０℃付近てメタンス
ルホニルクロリドと作用させることにより達成される。
ピリジンに溶かし、低温好ましくは０℃付近てメタンス
ルホニルクロリドと作用させることにより達成される。
かくして得られた光学活性２−メチレンシクロペンタノ
ン誘導体［ＸＩ［ｒ］は、前記Ｇ、ストークらのプロス
タグランジン合成法に従って、プロスタグランジン（前
記ＰＣＩ’及びＰＧＥ ）に導くことができる。
ン誘導体［ＸＩ［ｒ］は、前記Ｇ、ストークらのプロス
タグランジン合成法に従って、プロスタグランジン（前
記ＰＣＩ’及びＰＧＥ ）に導くことができる。
つぎに、本発明のプロスタグランジン製造中間体を製造
するに当たって、反応経路１の出発原料となる光学活性
ジブロモ化合物ｍと光学活性アルデヒド化合物［１１］
の各製造工程についてそれぞれ説明する。
するに当たって、反応経路１の出発原料となる光学活性
ジブロモ化合物ｍと光学活性アルデヒド化合物［１１］
の各製造工程についてそれぞれ説明する。
光学活性ジブロモ化合物［１］は反応経路２に従って製
造される。
造される。
反応経路２の各化合物において、基Ｒ３及びＲ４は反応
経路１のものと同じ意味を有し、ＡＣはアセチル基を意
味する。まず、Ｄ−マンニトール［ＸＩＶ］を酸触媒の
存在下でアセトンと反応させて、トリアセトニド［ＸＶ
］とし、これを含水酢酸で部分加水分解してテトラオー
ル［ＸＶＩ ］とする。得られたテトラオール［ＸＶＩ
］の２つの一級水酸基のみを選択的にトシルクロリド／
ピリジンでトシル化した後、炭酸カリウムなどの塩基と
反応させて、テトラオール［ＸＶＩ］をジエホキシト［
Ｘ■］とする。得られたジエポキシト［Ｘ■コをビニル
グリニヤール銅（１）などのビニルアニオン等礁体と反
応させて２つのエポキシド環を開環させ、得られたジエ
ン［ＸＸＶＩＩＩ ］を塩基性条件下にＲ３Ｘ （Ｘは
塩素、臭素、ヨウ素を表わす）と反応させてジエン［Ｘ
■コとする。
経路１のものと同じ意味を有し、ＡＣはアセチル基を意
味する。まず、Ｄ−マンニトール［ＸＩＶ］を酸触媒の
存在下でアセトンと反応させて、トリアセトニド［ＸＶ
］とし、これを含水酢酸で部分加水分解してテトラオー
ル［ＸＶＩ ］とする。得られたテトラオール［ＸＶＩ
］の２つの一級水酸基のみを選択的にトシルクロリド／
ピリジンでトシル化した後、炭酸カリウムなどの塩基と
反応させて、テトラオール［ＸＶＩ］をジエホキシト［
Ｘ■］とする。得られたジエポキシト［Ｘ■コをビニル
グリニヤール銅（１）などのビニルアニオン等礁体と反
応させて２つのエポキシド環を開環させ、得られたジエ
ン［ＸＸＶＩＩＩ ］を塩基性条件下にＲ３Ｘ （Ｘは
塩素、臭素、ヨウ素を表わす）と反応させてジエン［Ｘ
■コとする。
次いでジエン［Ｘ■コを含水酢酸で加水分解して後、生
成したジオール［ＸＸＩＸ］をピリジン／塩化アセチル
でアセチル化してジアセトキシジエン［ＸＩＸＩとする
。得られたジアセトキシジエン［ＸＩＸＩをオゾン分解
し、生成したアルデヒドをアセタールにして保護してテ
トラメトキシオクタン［ＸＸ］とし、これのアセチル基
を塩基性条件下で加水分解して、同オクタン［ＸＸ］を
ジオール［ＸＸＩ］とする。ジオール［ＸＸｌ］を炭酸
カリウムの存在下て四酢酸鉛、過ヨウ素酸ナトリウムな
どと反応させて、炭素−炭素結合を酸化的に切断してジ
、ｔ −ル［ＸＸＩ］をブ９す一ル［ＸＸＩＩ］とし、
次いでこれをトリフェニルホスフィン及びテトラブロモ
メタンと反応させる。かくして、本発明の出発原料であ
るジブロモ化合物［１１か得られる。
成したジオール［ＸＸＩＸ］をピリジン／塩化アセチル
でアセチル化してジアセトキシジエン［ＸＩＸＩとする
。得られたジアセトキシジエン［ＸＩＸＩをオゾン分解
し、生成したアルデヒドをアセタールにして保護してテ
トラメトキシオクタン［ＸＸ］とし、これのアセチル基
を塩基性条件下で加水分解して、同オクタン［ＸＸ］を
ジオール［ＸＸＩ］とする。ジオール［ＸＸｌ］を炭酸
カリウムの存在下て四酢酸鉛、過ヨウ素酸ナトリウムな
どと反応させて、炭素−炭素結合を酸化的に切断してジ
、ｔ −ル［ＸＸＩ］をブ９す一ル［ＸＸＩＩ］とし、
次いでこれをトリフェニルホスフィン及びテトラブロモ
メタンと反応させる。かくして、本発明の出発原料であ
るジブロモ化合物［１１か得られる。
今１つの出発原料である光学活性アルデヒド化合物［Ｉ
［］は、反応経路３に従って製造することができる。反
応経路３の各化合物において、基Ｒ１及びＲ２は反応経
路１のものと同じ意味を有し、Ｍｓはメチルスルホキシ
基、ｐｈはフェニル基をそれぞれ意味する。
［］は、反応経路３に従って製造することができる。反
応経路３の各化合物において、基Ｒ１及びＲ２は反応経
路１のものと同じ意味を有し、Ｍｓはメチルスルホキシ
基、ｐｈはフェニル基をそれぞれ意味する。
まず、Ｄ−マンニトール［Ｘ Ｉ Ｖｌより反応経路２
の方法と同様にしてテトラオール［ＸＶ Ｉ ］を得る
。得られた、テトラオール［ＸＶｌｌの２つの一級水酸
基のみを選択的に塩基性条件下でベンゾイル化し、更に
２つの二級水酸基をメシル化して、テトラオール［ＸＶ
Ｉ １をアセトニド［ＸＸＩＩＩ］とする。得られた
アセトニド［ＸＸｍ］を炭酸カリウムと反応させ、ジエ
ポキシド［ＸＸＩＶ］とし、更にジエポキシド［ＸＸＩ
Ｖ］をＣｕＣＮあるいはＣｕＩの存在下にＲ７ＭｇＢｒ
（Ｒ７はＲ１よりも炭素数が１個少ない基を意味する）
と反応させることによりジオール［ＸＸＶ］とする。次
いでジオール［ＸＸＶ］を塩基性条件下でＲ２Ｘ （Ｘ
は塩素、臭素、ヨウ素を表わす）と反応させてアセター
ル［Ｘ）’Ｖｌ］とし、得られたアセタール［ＸＸＶ１
］を含水酢酸で加水分解してジオール［ＸＸ■］とした
後、四酢酸鉛あるいは過ヨウ素酸ナトリウムなどて酸化
する。かくして光学活性アルデヒド化合物［ｎ］が得ら
れる。
の方法と同様にしてテトラオール［ＸＶ Ｉ ］を得る
。得られた、テトラオール［ＸＶｌｌの２つの一級水酸
基のみを選択的に塩基性条件下でベンゾイル化し、更に
２つの二級水酸基をメシル化して、テトラオール［ＸＶ
Ｉ １をアセトニド［ＸＸＩＩＩ］とする。得られた
アセトニド［ＸＸｍ］を炭酸カリウムと反応させ、ジエ
ポキシド［ＸＸＩＶ］とし、更にジエポキシド［ＸＸＩ
Ｖ］をＣｕＣＮあるいはＣｕＩの存在下にＲ７ＭｇＢｒ
（Ｒ７はＲ１よりも炭素数が１個少ない基を意味する）
と反応させることによりジオール［ＸＸＶ］とする。次
いでジオール［ＸＸＶ］を塩基性条件下でＲ２Ｘ （Ｘ
は塩素、臭素、ヨウ素を表わす）と反応させてアセター
ル［Ｘ）’Ｖｌ］とし、得られたアセタール［ＸＸＶ１
］を含水酢酸で加水分解してジオール［ＸＸ■］とした
後、四酢酸鉛あるいは過ヨウ素酸ナトリウムなどて酸化
する。かくして光学活性アルデヒド化合物［ｎ］が得ら
れる。
口発明の効果］
本発明によって提供された新規化合物及びその製法によ
って、プロスタグランジン製造の鍵中間体である光学活
性２−メチレンシクロペンタノン誘導体［ＸＩＩ［］を
簡便にがっ高収率で製造することができる。
って、プロスタグランジン製造の鍵中間体である光学活
性２−メチレンシクロペンタノン誘導体［ＸＩＩ［］を
簡便にがっ高収率で製造することができる。
（以下余白）
［実 施 例〕
本発明の技術的特徴を例証するために、以下に本発明の
実施例と出発原料の合成その池の参考例をいくつか挙げ
る。たたし、これらは本発明を限定するものではない。
実施例と出発原料の合成その池の参考例をいくつか挙げ
る。たたし、これらは本発明を限定するものではない。
これら実施例及び参考例において、上述の説明でローマ
数字［１コ〜［ＸＸＩＸ］で示した化合物群にそれれぞ
れ属する具体的化合物を、上記口とマ数字に対応するア
ラビア数字［ユコ〜［２９コて示す。また、割合を示す
％はすべで重量％を示す。
数字［１コ〜［ＸＸＩＸ］で示した化合物群にそれれぞ
れ属する具体的化合物を、上記口とマ数字に対応するア
ラビア数字［ユコ〜［２９コて示す。また、割合を示す
％はすべで重量％を示す。
参考例１
ジブロモ化合物［１コの合成
４５ｇのＤ−マンニトール［１４］を、濃塩酸ｌがを含
むアセトン１／中で室温下３日間激しく攪拌した後、炭
酸カリウム５０ｇを加え、更に１日攪拌を続けた。固形
物を吸引濾過で除き、濾液中の溶媒を減圧下に留去し、
得られた残渣に水を加え、析出した結晶を吸引濾取して
粗生成物４５ｇを得た。これをエタノール２０ｍＪに加
熱溶解した後、溶液を濾過し、濾液を室温に冷却して、
析出した結晶を濾取し、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）体
のトリアセトニド［１５コ３７．３ｇ （収率５ｏｚ）
を得た。
むアセトン１／中で室温下３日間激しく攪拌した後、炭
酸カリウム５０ｇを加え、更に１日攪拌を続けた。固形
物を吸引濾過で除き、濾液中の溶媒を減圧下に留去し、
得られた残渣に水を加え、析出した結晶を吸引濾取して
粗生成物４５ｇを得た。これをエタノール２０ｍＪに加
熱溶解した後、溶液を濾過し、濾液を室温に冷却して、
析出した結晶を濾取し、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）体
のトリアセトニド［１５コ３７．３ｇ （収率５ｏｚ）
を得た。
’ＨＮＭＲ（ＣＣ／ ４ ） δ： １．４０（６
Ｈ、ｓ 。
Ｈ、ｓ 。
ＣＨ３Ｘ２） 、 １．４３（１２Ｈ，ｓ、 ＣＨ３Ｘ
４） 、 ３．７ ４゜上記トリアセトニド［１５コ１
５ｇ （０，０５ｍｏｌ ）を７０％酢酸５０力中４０
℃で３．５時間攪拌した後、反応液を４０℃でできるだ
け速やかに減圧濃縮し、残渣にアセトンを加え、結晶化
したＤ−マンニトール（，０，７２ｇ）を濾別し、濾液
よりアセトンを減圧留去してシロップ状の生成物を得た
。これをベンゼン５０度で再結晶し、（２Ｒ，３Ｒ，４
Ｒ，５Ｒ）体のテトラオール［１８１８，８ｇ （収率
８０％）を得た。
４） 、 ３．７ ４゜上記トリアセトニド［１５コ１
５ｇ （０，０５ｍｏｌ ）を７０％酢酸５０力中４０
℃で３．５時間攪拌した後、反応液を４０℃でできるだ
け速やかに減圧濃縮し、残渣にアセトンを加え、結晶化
したＤ−マンニトール（，０，７２ｇ）を濾別し、濾液
よりアセトンを減圧留去してシロップ状の生成物を得た
。これをベンゼン５０度で再結晶し、（２Ｒ，３Ｒ，４
Ｒ，５Ｒ）体のテトラオール［１８１８，８ｇ （収率
８０％）を得た。
’ＨＮＭＲ（Ｄ２０） δ ： １．３８ （６
Ｈ，ｓ 。
Ｈ，ｓ 。
ＣＨ３Ｘ２）、 ３．３ ４．２（８ｔｌ、ｍ
、ＣＨ２、ＣＨ）。
、ＣＨ２、ＣＨ）。
上記工程と同様にして得た（ ２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ
）ヘキサン−１，２，５，６−テトラオール［１６コ３
１．８ｇ（０，１４ｍｏｆ ）の無水ピリジン １２４
１１１１溶液に、０℃で攪拌下ｐ−トルエンスルホニル
クロリド６０．４ｇ （０，３２ｍｏｌ ）を加え、混
合液を同温度で３時間攪拌し、更に室温で２時間攪拌し
た。薄層クロマトグラフィーで反応の完結を確認し、反
応混合物にジエチルエーテル４００カを加え、セライト
を通して濾過を行ない、溶媒を減圧下に留去した。残渣
にメタノール３００ＩＩ１１炭酸カリウム４０．５ｇ
（０，２９ｍｏｌ）を加え、混合液を室温で４時間攪拌
した。反応混合物にジエチルエーテル２００１１１を加
え、セライトを通して濾過し、濾液を減圧下で溶媒留去
し、（２Ｒ，３Ｌ ４Ｒ，５：ｌ ）ジエポキシド［１
７］ ９．１８ ｇを得た。収率３５％。
）ヘキサン−１，２，５，６−テトラオール［１６コ３
１．８ｇ（０，１４ｍｏｆ ）の無水ピリジン １２４
１１１１溶液に、０℃で攪拌下ｐ−トルエンスルホニル
クロリド６０．４ｇ （０，３２ｍｏｌ ）を加え、混
合液を同温度で３時間攪拌し、更に室温で２時間攪拌し
た。薄層クロマトグラフィーで反応の完結を確認し、反
応混合物にジエチルエーテル４００カを加え、セライト
を通して濾過を行ない、溶媒を減圧下に留去した。残渣
にメタノール３００ＩＩ１１炭酸カリウム４０．５ｇ
（０，２９ｍｏｌ）を加え、混合液を室温で４時間攪拌
した。反応混合物にジエチルエーテル２００１１１を加
え、セライトを通して濾過し、濾液を減圧下で溶媒留去
し、（２Ｒ，３Ｌ ４Ｒ，５：ｌ ）ジエポキシド［１
７］ ９．１８ ｇを得た。収率３５％。
ｂｐ：８５ 〜９０℃。
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ／ ３ ） δ： １．４５
（６Ｈ。
（６Ｈ。
ｓ ） 、 ２．７２ （２Ｈ，ｄｄ、 Ｊ −
３，９、４，６Ｈ，ｚ ） 、 ２゜８３ （２Ｈ
，ｄｄ、 Ｊ −４，１、４，６Ｈｚ） 、
３．０−３．２（２Ｈ，ｍ ） 、 ３．７−３
．９ （２Ｈ，ｍ ） 。
３，９、４，６Ｈ，ｚ ） 、 ２゜８３ （２Ｈ
，ｄｄ、 Ｊ −４，１、４，６Ｈｚ） 、
３．０−３．２（２Ｈ，ｍ ） 、 ３．７−３
．９ （２Ｈ，ｍ ） 。
シアン化第１銅３２７Ｉｌ１ｇと無水テトラヒドロフラ
ン２００カの混合物に別途調製した濃度ｌ、５Ｍのビニ
ールマグネシウムクロリド溶液７２／７ｒ （０゜１０
８Ｍ）を０℃で５分間がけて加えた。更に５分間攪拌後
、上記（２Ｌ ３Ｒ，４Ｒ，５１？）ジェポキシド［１
７コ６．６７ ｇ （３５，９ｍＭ）の無水テトラヒド
ロフラン２０カ溶液を０℃で攪拌下１０分間かけて滴下
し、更に１時間攪拌を続けた。反応の完結を薄層クロマ
トグラフィーで確認した後、塩化アンモニウムと飽和食
塩水を加え、３０分間攪拌後、エチルエーテルで３回抽
出を行なった。抽出液を併せて１規定塩酸、飽和重曹水
及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を減圧下に留去して、（４：！、 ５！’
１．６Ｌ ７Ｒ） ４゜７−シヒドロキシデカー１．９
−ジエン［２８１７，３８ｇ （３０，５ｍＭ）を得た
。収率８５％。
ン２００カの混合物に別途調製した濃度ｌ、５Ｍのビニ
ールマグネシウムクロリド溶液７２／７ｒ （０゜１０
８Ｍ）を０℃で５分間がけて加えた。更に５分間攪拌後
、上記（２Ｌ ３Ｒ，４Ｒ，５１？）ジェポキシド［１
７コ６．６７ ｇ （３５，９ｍＭ）の無水テトラヒド
ロフラン２０カ溶液を０℃で攪拌下１０分間かけて滴下
し、更に１時間攪拌を続けた。反応の完結を薄層クロマ
トグラフィーで確認した後、塩化アンモニウムと飽和食
塩水を加え、３０分間攪拌後、エチルエーテルで３回抽
出を行なった。抽出液を併せて１規定塩酸、飽和重曹水
及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を減圧下に留去して、（４：！、 ５！’
１．６Ｌ ７Ｒ） ４゜７−シヒドロキシデカー１．９
−ジエン［２８１７，３８ｇ （３０，５ｍＭ）を得た
。収率８５％。
［α コ ２５
Ｄ ： ＋ ６− ｇ ３゜
（Ｃ−１，２００、ＣＨＣ／３） 。
’ＨＮＭＲ（Ｃ，Ｄ Ｃ／ ３ ） δ： １．４
０ （６Ｈ。
０ （６Ｈ。
ｓ ） 、 ２．０−２．８ （４Ｈ，ｍ ） 、
２．８５−３．３８ （２Ｈ。
２．８５−３．３８ （２Ｈ。
ｂｒ ｓ） 、 ３．４−３．８５ （４Ｈ，ｍ ）
、 ５．０−５．３（４Ｈ，ｍ ） 、 ５．６−６
．１５ （２Ｈ，ｍ ） 。
、 ５．０−５．３（４Ｈ，ｍ ） 、 ５．６−６
．１５ （２Ｈ，ｍ ） 。
１３ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ ３ ） δ： ２７．０
．３８．８゜７２．２．８２．７． １０８．９ 、
ＬＬｇ、１ 、 Ｌ３４．３ 。
．３８．８゜７２．２．８２．７． １０８．９ 、
ＬＬｇ、１ 、 Ｌ３４．３ 。
上記（４Ｒ，５Ｒ，６Ｌ７Ｒ） ４．７−シヒドロキシ
デカー１，９−ジエン ［２８１７，３８ｇ （３０，
５ｍＭ）を無水テトラヒドロフラン３０１１１に溶かし
、これに水素化ナトリウム０．４８ｇ （１，０７ｍ
Ｍ ）の無水テトジヒドロフラン１００カ懸濁液を還流
下１５分間かけて滴下し、混合液を更に１時間攪拌下還
流した後、０℃に冷却した。この懸濁液にＤ Ｃ−１８
−クラウンエーテル−６の１３２ｍｇと臭化ベンジル９
．３カ（７８ｍｏｌ ）を０℃で加え、４時間攪拌下還
流を行なった。減圧下溶媒留去後、１規定塩酸を加え、
ヘキサンで抽出を行なった。抽出液を飽和重曹水と飽和
食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
溶媒を減圧下に留去して、（４，１，５：１．６Ｒ，１
’：Ｉ ） 、４．７−ジペンジルオキシデカー１．
９−ジエン［１８コ１１．３ｇ （２Ｂ、８ｍ）ｌ）を
得た。収率８８％。
デカー１，９−ジエン ［２８１７，３８ｇ （３０，
５ｍＭ）を無水テトラヒドロフラン３０１１１に溶かし
、これに水素化ナトリウム０．４８ｇ （１，０７ｍ
Ｍ ）の無水テトジヒドロフラン１００カ懸濁液を還流
下１５分間かけて滴下し、混合液を更に１時間攪拌下還
流した後、０℃に冷却した。この懸濁液にＤ Ｃ−１８
−クラウンエーテル−６の１３２ｍｇと臭化ベンジル９
．３カ（７８ｍｏｌ ）を０℃で加え、４時間攪拌下還
流を行なった。減圧下溶媒留去後、１規定塩酸を加え、
ヘキサンで抽出を行なった。抽出液を飽和重曹水と飽和
食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
溶媒を減圧下に留去して、（４，１，５：１．６Ｒ，１
’：Ｉ ） 、４．７−ジペンジルオキシデカー１．
９−ジエン［１８コ１１．３ｇ （２Ｂ、８ｍ）ｌ）を
得た。収率８８％。
’ＨＮ〜ＩＲ（ＣＤＣＩ！′３） δ： １．３９
（６Ｈ。
（６Ｈ。
ｓ ） 、 ２．４２（４Ｈ，ｂｒ ｔ、 Ｊ ＝６
Ｈ＋） 、 ３ 、６０（２）１． ｍ ） 、 ４．
０６ （２Ｈ，ｒｎ ） 、 ４．５４ （４Ｈ，ＡＢ
ｑ ）、 ４．９８−５．２２ （４Ｈ，ｍ ） 、
５．７４−６．０３ （２Ｈ，ｍ ）、 ７．２８ （
ＩＯＨ、ｓ ） 。
Ｈ＋） 、 ３ 、６０（２）１． ｍ ） 、 ４．
０６ （２Ｈ，ｒｎ ） 、 ４．５４ （４Ｈ，ＡＢ
ｑ ）、 ４．９８−５．２２ （４Ｈ，ｍ ） 、
５．７４−６．０３ （２Ｈ，ｍ ）、 ７．２８ （
ＩＯＨ、ｓ ） 。
”ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ２） δ： ２７．２８ 、３
４．５５ 、７１．７９ 、７９．６５ 、 Ｌ１２．
９９．１２７．３３．１２７゜６２、１２８．０７．１
２８．８５． Ｌ３４．７１．１３８．３１゜Ｉ Ｒ
（ｎｅａｔ） ： １６４Ｌ、 １０８９．
１０７１． ９１３ 、 ８７２ 、 ７７８
、 ７３６ 、 ６９７ ｃｍ−’。
４．５５ 、７１．７９ 、７９．６５ 、 Ｌ１２．
９９．１２７．３３．１２７゜６２、１２８．０７．１
２８．８５． Ｌ３４．７１．１３８．３１゜Ｉ Ｒ
（ｎｅａｔ） ： １６４Ｌ、 １０８９．
１０７１． ９１３ 、 ８７２ 、 ７７８
、 ７３６ 、 ６９７ ｃｍ−’。
上ｇ己（４Ｌ ５．＋１ｏ３．７Ｒ） ４．アーシベ
ンジルオ番シデカ−１，９−ジエン［１８］１１．．３
ｇ （２８，８ｍＭ）を８０９６酢酸１００Ｎ中１０
０℃で１０時間加熱攪拌した後、溶媒を減圧留去し、次
いてジエチルエーテルで抽出を行ない、抽出液を苛性ソ
ーダ水溶液で洗浄し、水層を更にンエチルエーテルで抽
出した。抽出液を併せて１規定塩酸、飽和重曹水及び食
塩水で順次洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
ンジルオ番シデカ−１，９−ジエン［１８］１１．．３
ｇ （２８，８ｍＭ）を８０９６酢酸１００Ｎ中１０
０℃で１０時間加熱攪拌した後、溶媒を減圧留去し、次
いてジエチルエーテルで抽出を行ない、抽出液を苛性ソ
ーダ水溶液で洗浄し、水層を更にンエチルエーテルで抽
出した。抽出液を併せて１規定塩酸、飽和重曹水及び食
塩水で順次洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、ジエチルエーテル：ヘキサン−１・４の画分
より（４Ｒ，５Ｒ。
ーに付し、ジエチルエーテル：ヘキサン−１・４の画分
より（４Ｒ，５Ｒ。
６Ｒ，７Ｒ） ４．７−ジヘンジルオキンデカー１，
９−ジエン−５，６−ジオール［２９コ８．７１ｇ （
２２，８ｍＭ）を得た。収率８５％。
９−ジエン−５，６−ジオール［２９コ８．７１ｇ （
２２，８ｍＭ）を得た。収率８５％。
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ ３ ） δ： ２．４０ （
４Ｈ。
４Ｈ。
ｂｒ ｔ、 Ｊ ＝６Ｈｚ ）、 ３．５４
−３．９２ （４Ｈ，ｍ ）、４゜５３、４．６９
（４Ｈ，ＡＢ（１＋８． Ｊ −１１，２Ｈり 、
４．９７−５．２９ （４Ｈ，ｍ ）、 ５．５
６−６．１４ （２）（、ｍ ）、 ７．３２（
ＩＯＨ，ｓ ） 。
−３．９２ （４Ｈ，ｍ ）、４゜５３、４．６９
（４Ｈ，ＡＢ（１＋８． Ｊ −１１，２Ｈり 、
４．９７−５．２９ （４Ｈ，ｍ ）、 ５．５
６−６．１４ （２）（、ｍ ）、 ７．３２（
ＩＯＨ，ｓ ） 。
Ｉ Ｒ（ｎｅａｔ） ： ３４ＢＢ、 １
Ｂ４０． １０９２． １０２８゜９１４ 、 ７３
７ 、 ６９８ ｃｍ−’。
Ｂ４０． １０９２． １０２８゜９１４ 、 ７３
７ 、 ６９８ ｃｍ−’。
上記（４Ｒ，５Ｒ，８Ｒ，７Ｒ）４．７−ジペンジルオ
キシデカー１，９−ジエン−５，６−ジオール［２９コ
８．７１ｇ （２２，８ＩｎＭ）とピリジン４．３３
ｇ （５４，１ｍＵを塩化メチレンｌｏｏｍｌに溶か
し、塩化アセチル４．３０ｇ （５４，８ｍＭ）を攪
拌下に滴下し、混合液を２５℃で３時間攪拌した。反応
混合物を０．５規定塩酸、飽和重曹水及び飽和食塩水で
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒
を減圧留去し、（４１７，５Ｒ，Ｂｌ？、７Ｒ） ５．
６−ジアセトキシー４゜７−ジペンジルオキシデカー１
．９−ジエン［１９コ９．５５ｇ （２０，５ｍＭ）を
得た。収率９０％。
キシデカー１，９−ジエン−５，６−ジオール［２９コ
８．７１ｇ （２２，８ＩｎＭ）とピリジン４．３３
ｇ （５４，１ｍＵを塩化メチレンｌｏｏｍｌに溶か
し、塩化アセチル４．３０ｇ （５４，８ｍＭ）を攪
拌下に滴下し、混合液を２５℃で３時間攪拌した。反応
混合物を０．５規定塩酸、飽和重曹水及び飽和食塩水で
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒
を減圧留去し、（４１７，５Ｒ，Ｂｌ？、７Ｒ） ５．
６−ジアセトキシー４゜７−ジペンジルオキシデカー１
．９−ジエン［１９コ９．５５ｇ （２０，５ｍＭ）を
得た。収率９０％。
ＩＨＮＭＲ（ＣＤ Ｃ／ ３ ） δ ：
２．００ （６Ｈ。
２．００ （６Ｈ。
ｓ）、 ２．３７（４８、ｂｒ ｔ、 Ｊ −
６）（ｚ）、 ３．５ｇ （２１（、ｂｒｑ、 Ｊ
−５）＋１ ）、 ４．５０（４Ｈ、ｓ）、
５．００−５．１９（４Ｈ、ｍ）、 ５．４０
（２Ｈ，ｂｒ ｄ、 Ｊ −３，６Ｈｚ）、
５．７０−５．９５（２Ｈ、ｍ）、 ７．３２（
１０Ｈ、ｓ）。
６）（ｚ）、 ３．５ｇ （２１（、ｂｒｑ、 Ｊ
−５）＋１ ）、 ４．５０（４Ｈ、ｓ）、
５．００−５．１９（４Ｈ、ｍ）、 ５．４０
（２Ｈ，ｂｒ ｄ、 Ｊ −３，６Ｈｚ）、
５．７０−５．９５（２Ｈ、ｍ）、 ７．３２（
１０Ｈ、ｓ）。
１３ＣＮＭＲ（ＣＤＣρ ３ ） δ ： ２１
．０７ 、 ３４．３０． ７１．３１． ７２．
３２．７７．７６ 、 １１７．８４． １２８゜１４
、 １２ｇ、４１． １２８．６７、 １３４．５２．
１３１１．３１． １７０．５３゜ＩＲ（ｎｅａｔ）
： １７４４． １６４２． １３７０． １
２２４． １０９０゜９１５ 、 ７３［ｉ 、
６９８ ａｍ ’。
．０７ 、 ３４．３０． ７１．３１． ７２．
３２．７７．７６ 、 １１７．８４． １２８゜１４
、 １２ｇ、４１． １２８．６７、 １３４．５２．
１３１１．３１． １７０．５３゜ＩＲ（ｎｅａｔ）
： １７４４． １６４２． １３７０． １
２２４． １０９０゜９１５ 、 ７３［ｉ 、
６９８ ａｍ ’。
上記（４１？、５Ｌ６Ｌ７）？）５．６−ジアセドキシ
ー４，７−ジペンジルオキシデカー１，９−ジエン［１
９］９５５ｇ（２０，５ｍＭ）を無水メタノール９５０
ｍ１に溶かし、＝７８℃に冷却し、攪拌下オゾンガスを
反応液か青色を呈するまで導入し、同温度で更に１５分
間攪拌を続けた後、蒸留したジメチルスルフィド１５近
を加え、反応液を室温に戻し、５時間攪拌した。反応混
合液にｐ−トルエンスルホン酸０２ｇを加え、室温で１
０時間攪拌後、炭酸カリウム１０ｇを加え、懸濁液を３
時間攪拌した。反応液を濾過し、濾液を減圧留去し、残
渣にジエチルエーテルと水を加えて、抽出を行ない、水
層を更にジエチルエーテルで抽出した。抽出液を併せて
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を減圧留去し、残渣をシリカケルカラムクロマトグ
ラフィーに付し、酢酸エチル：ヘキサン−１；１の画分
より（３Ｒ，４Ｒ。
ー４，７−ジペンジルオキシデカー１，９−ジエン［１
９］９５５ｇ（２０，５ｍＭ）を無水メタノール９５０
ｍ１に溶かし、＝７８℃に冷却し、攪拌下オゾンガスを
反応液か青色を呈するまで導入し、同温度で更に１５分
間攪拌を続けた後、蒸留したジメチルスルフィド１５近
を加え、反応液を室温に戻し、５時間攪拌した。反応混
合液にｐ−トルエンスルホン酸０２ｇを加え、室温で１
０時間攪拌後、炭酸カリウム１０ｇを加え、懸濁液を３
時間攪拌した。反応液を濾過し、濾液を減圧留去し、残
渣にジエチルエーテルと水を加えて、抽出を行ない、水
層を更にジエチルエーテルで抽出した。抽出液を併せて
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を減圧留去し、残渣をシリカケルカラムクロマトグ
ラフィーに付し、酢酸エチル：ヘキサン−１；１の画分
より（３Ｒ，４Ｒ。
５Ｒ，６Ｒ）４．５−ジアセトキン−３，６−ジペンジ
ルオキンー１，１．８．８−テトラメトキンオクタン［
２０コ８．４１ｇ （１５，０ｍＭ）を得た。収率７
３％。
ルオキンー１，１．８．８−テトラメトキンオクタン［
２０コ８．４１ｇ （１５，０ｍＭ）を得た。収率７
３％。
上記と同し経路を経て得られた（３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ，６
Ｒ）４．５−ジアセトキン−３，６−ジペンジルオキン
ー １．１，８．８−テトラメトキシオクタン［２０コ
９，７６ ｇ （１７，４ｍＭ）と炭酸カリウム６．１
７ｇ（４３，５＋ｕＭ）をメタノールｌｏｏ＋ｎｌに加
え、攪拌下２時間加熱還流を行ない、薄層クロマトグラ
フィーで反応の完結を確認した後、減圧下に溶媒を留去
した。
Ｒ）４．５−ジアセトキン−３，６−ジペンジルオキン
ー １．１，８．８−テトラメトキシオクタン［２０コ
９，７６ ｇ （１７，４ｍＭ）と炭酸カリウム６．１
７ｇ（４３，５＋ｕＭ）をメタノールｌｏｏ＋ｎｌに加
え、攪拌下２時間加熱還流を行ない、薄層クロマトグラ
フィーで反応の完結を確認した後、減圧下に溶媒を留去
した。
残渣に水を加え、ジエチルエーテルで抽出し、抽出液を
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ吊シウムて乾燥後、
溶媒を減圧留去し、（３Ｒ，４Ｒ。
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ吊シウムて乾燥後、
溶媒を減圧留去し、（３Ｒ，４Ｒ。
５Ｒ，ＢＲ） ３．６−ジペンジルオキシー１．１，８
．８−テトラメトキシオクタン−４，５−ジオール［２
１コア、５５ｇ （１５，８ｍＭ）を得た。収率９１％
。
．８−テトラメトキシオクタン−４，５−ジオール［２
１コア、５５ｇ （１５，８ｍＭ）を得た。収率９１％
。
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ／ ３ ） δ： １．７７−２
．１７（４Ｈ，ｍ）、 ３．０３ 、 ３．２３（２
Ｈ，ｂｒ ｄ） 、 ３．２６（６Ｈ。
．１７（４Ｈ，ｍ）、 ３．０３ 、 ３．２３（２
Ｈ，ｂｒ ｄ） 、 ３．２６（６Ｈ。
ｓ）、 ３．３０（６Ｈ、ｓ ） 、 ３．６４−３
．９６（４Ｈ、ｍ＞、 ４．３８−４．８５（２Ｈ，
ｍ）、 ４．６３（４）（、ｓ）、 ７．３２（Ｉ
ＯＨ。
．９６（４Ｈ、ｍ＞、 ４．３８−４．８５（２Ｈ，
ｍ）、 ４．６３（４）（、ｓ）、 ７．３２（Ｉ
ＯＨ。
Ｓ）。
上記（３Ｒ，４Ｒ，５）？、ＳＲ） ３．６−ジベンジ
ルオキシー １，１．８．８−テトラメトキシオクタン
−４，５−ジオール［２１コア、５５ｇ（１５，８ｍＭ
）、炭酸カリウム６゜５２ｇ （４６ｍＭ）及び無水
ベンゼン２００ｍ ｌの混合物中に、攪拌下０℃で４酢
酸鉛１０．４６ｇ （２１，５ｍＭ）を加え、０℃で１
０分間攪拌した。薄層クロマトグラフィーで反応の完結
を確認した後、反応混合物にヘキサンを加え、混合液を
セライト−５４５を通して濾過し、濾液を飽和重曹水で
洗浄した。水層をジエチルエーテルで抽出し、抽出液を
併せて飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した後、溶媒を減圧下に留去し、（Ｒ）２−ベンジル
オキシ−４，４−ジメトキシブタナール［２２コロ、１
７ｇ （２５，９ｍＭ）を得た。収率８２％ 。
ルオキシー １，１．８．８−テトラメトキシオクタン
−４，５−ジオール［２１コア、５５ｇ（１５，８ｍＭ
）、炭酸カリウム６゜５２ｇ （４６ｍＭ）及び無水
ベンゼン２００ｍ ｌの混合物中に、攪拌下０℃で４酢
酸鉛１０．４６ｇ （２１，５ｍＭ）を加え、０℃で１
０分間攪拌した。薄層クロマトグラフィーで反応の完結
を確認した後、反応混合物にヘキサンを加え、混合液を
セライト−５４５を通して濾過し、濾液を飽和重曹水で
洗浄した。水層をジエチルエーテルで抽出し、抽出液を
併せて飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した後、溶媒を減圧下に留去し、（Ｒ）２−ベンジル
オキシ−４，４−ジメトキシブタナール［２２コロ、１
７ｇ （２５，９ｍＭ）を得た。収率８２％ 。
トリフェニルホスフィン２４．５ｇ （９３，４ｍＭ
）の無水塩化メチレン１２０ｍ１ ｍ液中に、攪拌下０
℃でテトラブロモメタン１５．４ｇ（４６，５田Ｍ）を
滴下し、１０分間同温度で攪拌した後、上記（Ｒ）２−
ベンジルオキシ−４，４−ジメトキシブタナール［２２
コｆｌｉ、１７ｇ （２５，９ｍＭ）の無水塩化メチレ
ン２４ＩＩＩＩ溶液を加え、混合液を室温に戻し、３時
間同温度て攪拌した。反応の完結を薄層クロマトグラフ
ィーて確認した後、ヘキサン８００ｍ１を加え、懸濁液
をセライト−５４５を通して濾過し、濾液を飽和重曹水
て洗浄し、水層をジエチルエーテルて抽出した。抽出液
を併せて飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、ジエチルエーテル：ヘキサン
−１：１０の画分より（Ｒ）３−ベンジルオキシ−１，
１−ジブロモ−５，５−ジフトキンベンター１−エン［
１１７，２５ｇ （１８，４ｍＭ）を得た。収率７１
％。
）の無水塩化メチレン１２０ｍ１ ｍ液中に、攪拌下０
℃でテトラブロモメタン１５．４ｇ（４６，５田Ｍ）を
滴下し、１０分間同温度で攪拌した後、上記（Ｒ）２−
ベンジルオキシ−４，４−ジメトキシブタナール［２２
コｆｌｉ、１７ｇ （２５，９ｍＭ）の無水塩化メチレ
ン２４ＩＩＩＩ溶液を加え、混合液を室温に戻し、３時
間同温度て攪拌した。反応の完結を薄層クロマトグラフ
ィーて確認した後、ヘキサン８００ｍ１を加え、懸濁液
をセライト−５４５を通して濾過し、濾液を飽和重曹水
て洗浄し、水層をジエチルエーテルて抽出した。抽出液
を併せて飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、ジエチルエーテル：ヘキサン
−１：１０の画分より（Ｒ）３−ベンジルオキシ−１，
１−ジブロモ−５，５−ジフトキンベンター１−エン［
１１７，２５ｇ （１８，４ｍＭ）を得た。収率７１
％。
［α］ ２５： ＋ １３．７８・
（Ｃ−１，０１８、ＣＨＣ／ ３） 。
ＩＨＮＭＲ（ＣＤＣＩ、） δ： １．７５−２．０
２（２Ｈ，ｍ）、 ３．２８（３Ｈ，、ｓ＞ 、
３．３０（３Ｈ，ｓ）、 ４．１Ｏ−４，８０（４Ｈ
、ｍ）、 ６．４３（ＩＨｌ ｄ 、
Ｊ −８，６Ｈｚ ） 。
２（２Ｈ，ｍ）、 ３．２８（３Ｈ，、ｓ＞ 、
３．３０（３Ｈ，ｓ）、 ４．１Ｏ−４，８０（４Ｈ
、ｍ）、 ６．４３（ＩＨｌ ｄ 、
Ｊ −８，６Ｈｚ ） 。
７．２６（５Ｈ，ｓ）。
Ｉ Ｒ（ｎｅａｔ） ＋ １６１５． １１
００−１０６０． ７３５． ６９５ｃｍ−’。
００−１０６０． ７３５． ６９５ｃｍ−’。
２考例２
から得たテトラオール［１６コ１５．３ｇ （０，０６
９ｍｏｌ）、無水ピリジン５Ｅ＋ｍ１（０，８８ｍｏｌ
）及び塩化メチレン５０ｍ１の溶液中に、−７０℃で
塩化ベンゾイル１６ｒｔｔｌ （０，１３８ｍｏｌ）と
無水塩化メチレン５属の混合液を１５分間かけて滴下し
、滴下後頁に一３０℃で１時間及び室温で１０時間攪拌
した。反応の完結を薄層クロマトグラフィーで確認した
後、溶媒を減圧留去した。この残渣にメタンスルホニル
クロリド１１，２．＋７２＆ （０，１４４ｍｏｌ）を
０℃で２０分間かけて加え、更にこの懸濁液を室温で３
日間攪拌した。反応の完結を薄層クロマトグラフィーで
確認した後、反応混合物にエチルエーテル：ヘキサン−
７：３（容量）の混合溶媒１００Ｎを加え、この黄色の
懸濁液をセライト−５４５で濾過し、溶媒を減圧留去し
た。得られた褐色の瓶渣を塩化メチレンで希釈し、濃塩
酸を加えて酸性にした後、塩化メチレンで３回抽出を行
なった。
９ｍｏｌ）、無水ピリジン５Ｅ＋ｍ１（０，８８ｍｏｌ
）及び塩化メチレン５０ｍ１の溶液中に、−７０℃で
塩化ベンゾイル１６ｒｔｔｌ （０，１３８ｍｏｌ）と
無水塩化メチレン５属の混合液を１５分間かけて滴下し
、滴下後頁に一３０℃で１時間及び室温で１０時間攪拌
した。反応の完結を薄層クロマトグラフィーで確認した
後、溶媒を減圧留去した。この残渣にメタンスルホニル
クロリド１１，２．＋７２＆ （０，１４４ｍｏｌ）を
０℃で２０分間かけて加え、更にこの懸濁液を室温で３
日間攪拌した。反応の完結を薄層クロマトグラフィーで
確認した後、反応混合物にエチルエーテル：ヘキサン−
７：３（容量）の混合溶媒１００Ｎを加え、この黄色の
懸濁液をセライト−５４５で濾過し、溶媒を減圧留去し
た。得られた褐色の瓶渣を塩化メチレンで希釈し、濃塩
酸を加えて酸性にした後、塩化メチレンで３回抽出を行
なった。
抽出液を飽和重曹水と飽和食塩水で順次洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去し、（２
Ｒ，３Ｓ、４Ｓ、５１？ ）体の褐色半固体物アセトニ
ド［２３］ ４２ ｇを得た。
水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去し、（２
Ｒ，３Ｓ、４Ｓ、５１？ ）体の褐色半固体物アセトニ
ド［２３］ ４２ ｇを得た。
（式中、Ｍｓはメチルスルホキシ基、ｐｈはフェニル基
をそれぞれ意味する） 上記アセトニド［２３１４２ｇと炭酸カリウム ２０ｇ
をメタノール１３０カ中で１５時間攪拌した後、反応液
をセライト−５４５を通して濾過し、濾液を４０℃で減
圧濃縮し、エチルエーテル：ヘキサン−７二３（容量）
の混合溶媒３０層を加えて、混合液を再度セライト−５
４５で濾過し、溶媒を４０℃で減圧留去し、更に減圧蒸
留により粗生成物を得た。これをさらにベンゼンで再結
晶し、（ｂ、 ３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ ）体のジエポキシド
［２４コ２．７ｇ（収率２１％）を得た。
をそれぞれ意味する） 上記アセトニド［２３１４２ｇと炭酸カリウム ２０ｇ
をメタノール１３０カ中で１５時間攪拌した後、反応液
をセライト−５４５を通して濾過し、濾液を４０℃で減
圧濃縮し、エチルエーテル：ヘキサン−７二３（容量）
の混合溶媒３０層を加えて、混合液を再度セライト−５
４５で濾過し、溶媒を４０℃で減圧留去し、更に減圧蒸
留により粗生成物を得た。これをさらにベンゼンで再結
晶し、（ｂ、 ３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ ）体のジエポキシド
［２４コ２．７ｇ（収率２１％）を得た。
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１３） δ： １．３９ （ＢＨ
。
。
ｓ、 ＣＨ３Ｘ２）、 ２．６ −２．９（４）１．
ｍ、 ＣＨ２Ｘ２ ） 、 ２．９５−３．１２
（２Ｈ，ｍ 、 ＣＨ） 、 ３．７−３゜シアン化
第−銅３２０ｍｇと無水テトラヒドロフラン１００７ｍ
の混合物に、別途調製した濃度１．４７ｍｏｌのｎ−ブ
チルマグネシウムプロミドのエーテル溶液６４ Ｎ（９
４ｍｏｌ ）を０℃で５分間かけて加えた。更に５分間
攪拌後、上記ジエボキシド［２４］８．４８ｇの無水テ
トラヒドロフラン５０〜溶液を０℃で攪拌下１０分間か
けて滴下し、更に１時間攪拌を続けた。反応の完結を薄
層クロマトグラフィーで確認した後、塩化アンモニウム
と飽和食塩水を加え、３０分間攪拌後、エチルエーテル
で３回抽出を行なった。抽出液を併せて１規定塩酸、飽
和重曹水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥して濾過し、濾液の溶媒を留去し、（６Ｓ
、 ７Ｒ，８Ｒ，９Ｓ）体の粗ジ（式中、Ｂｎはベンジ
ル基を意味し、以下の式においても同し） 上記粗ジオール［２５］を無水テトラヒドロフラン３０
カに溶かし、これに水素化ナトリウム０．４８ｇ （１
，０７ｍ ｍｏｌ ）の無水テトラヒドロフラン１００
が懸濁液を還流下１５分間かけて滴下し、混合液を更に
１時間攪拌還流した後Ｏ℃に冷却した。
ｍ、 ＣＨ２Ｘ２ ） 、 ２．９５−３．１２
（２Ｈ，ｍ 、 ＣＨ） 、 ３．７−３゜シアン化
第−銅３２０ｍｇと無水テトラヒドロフラン１００７ｍ
の混合物に、別途調製した濃度１．４７ｍｏｌのｎ−ブ
チルマグネシウムプロミドのエーテル溶液６４ Ｎ（９
４ｍｏｌ ）を０℃で５分間かけて加えた。更に５分間
攪拌後、上記ジエボキシド［２４］８．４８ｇの無水テ
トラヒドロフラン５０〜溶液を０℃で攪拌下１０分間か
けて滴下し、更に１時間攪拌を続けた。反応の完結を薄
層クロマトグラフィーで確認した後、塩化アンモニウム
と飽和食塩水を加え、３０分間攪拌後、エチルエーテル
で３回抽出を行なった。抽出液を併せて１規定塩酸、飽
和重曹水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥して濾過し、濾液の溶媒を留去し、（６Ｓ
、 ７Ｒ，８Ｒ，９Ｓ）体の粗ジ（式中、Ｂｎはベンジ
ル基を意味し、以下の式においても同し） 上記粗ジオール［２５］を無水テトラヒドロフラン３０
カに溶かし、これに水素化ナトリウム０．４８ｇ （１
，０７ｍ ｍｏｌ ）の無水テトラヒドロフラン１００
が懸濁液を還流下１５分間かけて滴下し、混合液を更に
１時間攪拌還流した後Ｏ℃に冷却した。
この懸濁液にＤＣ−１８−クラウンエーテル−６の１３
２ｍｇと臭化ベンジル９．３１ｍ （７８ｍｏｌ ）を
０℃で加え、４時間攪拌下還流を行なった。反応液を減
圧濃縮し、１規定塩酸の添加後へキサンで３回抽出し、
抽出液を併せて飽和重曹７にと飽和食塩水で順次洗浄し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去
し、（６Ｓ、 ７Ｒ，８Ｒ１９Ｓ）体のアセトニド［２
６コを得た。
２ｍｇと臭化ベンジル９．３１ｍ （７８ｍｏｌ ）を
０℃で加え、４時間攪拌下還流を行なった。反応液を減
圧濃縮し、１規定塩酸の添加後へキサンで３回抽出し、
抽出液を併せて飽和重曹７にと飽和食塩水で順次洗浄し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去
し、（６Ｓ、 ７Ｒ，８Ｒ１９Ｓ）体のアセトニド［２
６コを得た。
上記アセトニド［２６コを８０％酢酸１００力中１００
℃で１０時間加熱攪拌した後、溶媒を減圧留去し、次い
てエチルエーテルで抽出を行ない、抽出液を苛性ソーダ
水溶液で洗浄し、水層は更にエチルエーテルで抽８した
。抽出液を併せて１規定塩酸、飽和重曹水及び食塩水で
順次洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒の
留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（エチル
エーテル：ヘキサン−１＝４（容量）で溶出）で精製し
、（６Ｓ、 ７Ｌ ８Ｒ，９Ｓ）体のジオール［２７コ
８．６６ｇを得た。
℃で１０時間加熱攪拌した後、溶媒を減圧留去し、次い
てエチルエーテルで抽出を行ない、抽出液を苛性ソーダ
水溶液で洗浄し、水層は更にエチルエーテルで抽８した
。抽出液を併せて１規定塩酸、飽和重曹水及び食塩水で
順次洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒の
留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（エチル
エーテル：ヘキサン−１＝４（容量）で溶出）で精製し
、（６Ｓ、 ７Ｌ ８Ｒ，９Ｓ）体のジオール［２７コ
８．６６ｇを得た。
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ ３ ） δ： ０．１１８
． （６８。
． （６８。
ｂ＋、 Ｃ１ｈ Ｘ２）、 １．０ １．８ （＋
６Ｈ、ｍ 、 ＣＨ２Ｘ８） 、 ３．４−３．７
（４Ｈ、ｍ 、 ＣＨ） 、 ４．４６ （２Ｈ。
６Ｈ、ｍ 、 ＣＨ２Ｘ８） 、 ３．４−３．７
（４Ｈ、ｍ 、 ＣＨ） 、 ４．４６ （２Ｈ。
ｄ、 Ｊ −１０，８Ｈｚ、’ ＣＨ） 、
４．６２ （２Ｈ，ｄ、 Ｊ −１０，８Ｈｚ
、 ＣＨ）、 ７．３０ （ＩＯＨ，Ｓ、 Ｃ，
Ｈ５）。
４．６２ （２Ｈ，ｄ、 Ｊ −１０，８Ｈｚ
、 ＣＨ）、 ７．３０ （ＩＯＨ，Ｓ、 Ｃ，
Ｈ５）。
上記ジオール［２７］ ２００ｍｇ、炭酸カリウム６０
ｍｇ及び無水ベンゼン４．５１ｒｌｌの混合液中に四酢
酸鉛２６０ｍｇを４℃で加えて固液を３分間攪拌した。
ｍｇ及び無水ベンゼン４．５１ｒｌｌの混合液中に四酢
酸鉛２６０ｍｇを４℃で加えて固液を３分間攪拌した。
反応終了後ヘキサン１００層を加え、セライト−５４５
を用いて反応液を濾過し、濾液を飽和重曹水で洗浄し、
水層をヘキサンで２回抽出し、抽出液を併せて飽和食塩
水で洗浄した後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
の留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（エチ
ルエーテル：ヘキサン−１：２（容量））で精製して、
（Ｓ）−２−ベンジルオキシヘプタナール［２１１６０
１Ｉ１ｇ（収率８０％）を得た。
を用いて反応液を濾過し、濾液を飽和重曹水で洗浄し、
水層をヘキサンで２回抽出し、抽出液を併せて飽和食塩
水で洗浄した後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
の留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（エチ
ルエーテル：ヘキサン−１：２（容量））で精製して、
（Ｓ）−２−ベンジルオキシヘプタナール［２１１６０
１Ｉ１ｇ（収率８０％）を得た。
［α］ ”５ニー８３．２３゜
（Ｃ−Ｌ、ＣＨ４、ＣＨＣ／３ ） 。
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ／ ３ ） δ ： ０．８７
（３Ｈ。
（３Ｈ。
ｔ 、Ｊ ＝５．８Ｈｚ 、ＣＨ３）、 １．０
１．８ （８Ｈ。
１．８ （８Ｈ。
ｍ、 ＣＨ２） 、 ３．７３ （ＩＨ，ｄｔ
、 Ｊ−２，２Ｈｚ、 ６゜２Ｈｚ 、 ＣＨ）
、 ４．５１ （ＩＨ，ｄ 、 Ｊ −１
１，６Ｈｚ、 ＣＨ）、 ４．６５ （ＩＨ，ｄ
、 Ｊ ＝ＩＬ、６Ｈｚ、 ＣＨ） 、
７．３５（５Ｈ，ｓ、 Ｃ６Ｈ５）、 ９．６
４ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ −２，２Ｈｚ ）
。
、 Ｊ−２，２Ｈｚ、 ６゜２Ｈｚ 、 ＣＨ）
、 ４．５１ （ＩＨ，ｄ 、 Ｊ −１
１，６Ｈｚ、 ＣＨ）、 ４．６５ （ＩＨ，ｄ
、 Ｊ ＝ＩＬ、６Ｈｚ、 ＣＨ） 、
７．３５（５Ｈ，ｓ、 Ｃ６Ｈ５）、 ９．６
４ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ −２，２Ｈｚ ）
。
１３ＣＮＭＲδ ： １３．９． ２２．４ 、 ２４
．４ 、 ３０．１． ３１．６． ７２．５．
８３．６． １２８．口、 １２８．５． １
３７．６． ２０３．５゜Ｉ Ｒ（ｎｅａｔ）
： １７２ｇ、 １１７９ 、 １１１９ 、
７３８゜上記（Ｒ）３−ベンジルオキシ−１，１−ジブ
ロモ−５，５−ジメトキシペンタ−１−エン［１］ ６
゜６２ｇ （１８，８ＩｎＭ）の無水テトラヒドロフ
ラン１００ｍ１溶液を一７８℃に冷却し、窒素雰囲気下
で濃度１．８２ｍｏｌ／／のブチルリチウム／ヘキサン
溶液２０．８が（３３，６ｍＭ）を１０分間かけて滴下
し、混合液を一７８℃で更に１時間、室温で１時間攪拌
して、上記化合物［１］を（Ｒ）３−ベンジルオキシ−
５゜５−ジメトキシペンタ−１−インのりチウムアセチ
リドに変換した。この反応混合液を再び一７８℃に冷却
し、これに（Ｓ）２−ベンジルオキシヘプタナール［２
コ３．６１ｇ （１６，４ｍＭ）の無水テトラヒドロ
フラン２０が溶液を滴下し、３０分間更に攪拌の後、塩
化アンモニウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで３回
抽出を行ない、飽和食塩水で抽出液を洗浄した。抽出液
を無水硫酸マグネジｉ′、・ムで乾燥した後、溶媒を減
圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し
、ジエチルエーテル：ヘキサン−に３の画分よりエリト
ロ体とトレオ体の混合物である（３Ｒ，７Ｓ）３．７−
ジペンジルオキシー１．１−ジメトキシドデカ−４−イ
ン−６−オール［３ａ］ ５．７３ｇ （１２，６１１
層Ｍ）を得た。収率７７％。
．４ 、 ３０．１． ３１．６． ７２．５．
８３．６． １２８．口、 １２８．５． １
３７．６． ２０３．５゜Ｉ Ｒ（ｎｅａｔ）
： １７２ｇ、 １１７９ 、 １１１９ 、
７３８゜上記（Ｒ）３−ベンジルオキシ−１，１−ジブ
ロモ−５，５−ジメトキシペンタ−１−エン［１］ ６
゜６２ｇ （１８，８ＩｎＭ）の無水テトラヒドロフ
ラン１００ｍ１溶液を一７８℃に冷却し、窒素雰囲気下
で濃度１．８２ｍｏｌ／／のブチルリチウム／ヘキサン
溶液２０．８が（３３，６ｍＭ）を１０分間かけて滴下
し、混合液を一７８℃で更に１時間、室温で１時間攪拌
して、上記化合物［１］を（Ｒ）３−ベンジルオキシ−
５゜５−ジメトキシペンタ−１−インのりチウムアセチ
リドに変換した。この反応混合液を再び一７８℃に冷却
し、これに（Ｓ）２−ベンジルオキシヘプタナール［２
コ３．６１ｇ （１６，４ｍＭ）の無水テトラヒドロ
フラン２０が溶液を滴下し、３０分間更に攪拌の後、塩
化アンモニウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで３回
抽出を行ない、飽和食塩水で抽出液を洗浄した。抽出液
を無水硫酸マグネジｉ′、・ムで乾燥した後、溶媒を減
圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し
、ジエチルエーテル：ヘキサン−に３の画分よりエリト
ロ体とトレオ体の混合物である（３Ｒ，７Ｓ）３．７−
ジペンジルオキシー１．１−ジメトキシドデカ−４−イ
ン−６−オール［３ａ］ ５．７３ｇ （１２，６１１
層Ｍ）を得た。収率７７％。
’ＨＮＭＲ（ＣＣｌ ａ ） δ： ０．８７（３Ｈ
、ｂｒｔ）、 １．０５−１．５５（８Ｈ、ｍ）、
１．７７（２）（、ｄｄ、 Ｊ−７Ｈｚ）、
３．１８（４Ｈ，ｓ）、 ４．１０−５．８５
（ＩＬＨ，ｍ）。
、ｂｒｔ）、 １．０５−１．５５（８Ｈ、ｍ）、
１．７７（２）（、ｄｄ、 Ｊ−７Ｈｚ）、
３．１８（４Ｈ，ｓ）、 ４．１０−５．８５
（ＩＬＨ，ｍ）。
７．３５（ＩＯＨ、ｓ）。
Ｉ Ｒ（ｎｅａｔ） ： ３４３０． １
０６５ 、 ７３８． ６９７゜５９５ ａｍ
−’。
０６５ 、 ７３８． ６９７゜５９５ ａｍ
−’。
無水ジメチルスルホキシド８８０ ｍｇ （８，７ｍＭ
）の無水塩化メチレン１５ｍ１溶液にオキザリルジクロ
リド０．３８ｍ１（４，４ｍＭ）を−７８℃で５分間か
けて滴下し、更に３０分間同温度で攪拌を続けた。この
混合液に同温度て上記（３Ｒ，７Ｓ）３．７−ジペンジ
ルオキシー１．１−ジメトキシドデカ−４−イン−６−
オール［３ａコ１．３２ｇ （２，９ｖＭ）の無水塩化
メチレン溶液１０１１１／を滴下し、１０分間同温度で
攪拌し、無水トリエチルアミン２．１ｍｌ （１５，
３ｍＭ）を−度に加えて反応を完結せしめた。この混合
液を１規定塩酸（Ｂ、［ｉｍＭ）中に注ぎ込み、水層を
塩化メチレンで３回抽出した。抽出液を併せて飽和塩化
アンモニウム水溶液次いて飽和食塩水で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で溶媒を留去し、
＜３Ｒ，７Ｓ）３．７−ジヘンシルオキシー１，１−ジ
メトキンドデ力−４−イレ＝５−オン［４コ１．２５ｇ
（２，７６ｍＭ＞を得た。収率９５［α］ ２５： ＋
３０．３７゜ （Ｃ−１，０１４、ＣＨＣｆ３）。
）の無水塩化メチレン１５ｍ１溶液にオキザリルジクロ
リド０．３８ｍ１（４，４ｍＭ）を−７８℃で５分間か
けて滴下し、更に３０分間同温度で攪拌を続けた。この
混合液に同温度て上記（３Ｒ，７Ｓ）３．７−ジペンジ
ルオキシー１．１−ジメトキシドデカ−４−イン−６−
オール［３ａコ１．３２ｇ （２，９ｖＭ）の無水塩化
メチレン溶液１０１１１／を滴下し、１０分間同温度で
攪拌し、無水トリエチルアミン２．１ｍｌ （１５，
３ｍＭ）を−度に加えて反応を完結せしめた。この混合
液を１規定塩酸（Ｂ、［ｉｍＭ）中に注ぎ込み、水層を
塩化メチレンで３回抽出した。抽出液を併せて飽和塩化
アンモニウム水溶液次いて飽和食塩水で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で溶媒を留去し、
＜３Ｒ，７Ｓ）３．７−ジヘンシルオキシー１，１−ジ
メトキンドデ力−４−イレ＝５−オン［４コ１．２５ｇ
（２，７６ｍＭ＞を得た。収率９５［α］ ２５： ＋
３０．３７゜ （Ｃ−１，０１４、ＣＨＣｆ３）。
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ／３ ） δ： ０．８７（３
Ｈ。
Ｈ。
ｂｒ ｔ） 、 １．０５−１．９５（８Ｈ、［Ｉｌ
）、 １．９５−２．１０（２ｔ（。
）、 １．９５−２．１０（２ｔ（。
、ｍ）、 ３．２６（３Ｈ，ｓ）、 ３．３０（３
Ｈ，ｓ）、 ３．９１（ＬＨ。
Ｈ，ｓ）、 ３．９１（ＬＨ。
ｔ 、 Ｊ＝６．３Ｈｚ）、 ４．２２−４．９５
（６Ｈ、ｍ）、 ７．２０−７．５０（ＬＯＨ、ｍ
）。
（６Ｈ、ｍ）、 ７．２０−７．５０（ＬＯＨ、ｍ
）。
＋３ｃＮＭＲ（ＣＤ Ｃ／ ３ ） δ： Ｌ３．
９． ２２゜４、 ２４．８． ３Ｌ、５． ３２．２
． ３８．５． ５３．１゜５３．５． ６５．４．
７１．３． ７２．５． ８３．４． ｌ（５，０，
９３，１，１０１，３，１２７，９，１２８，１，１２
８，５，１３７，２，１３７，５，１８９，３゜Ｉ Ｒ
（ｎｅａｔ） ： ２２００． Ｌ６８ＣＩ 、
１１３０ 、 １０９０、 ７４０． ６９５
ｃｒａ−’。
９． ２２゜４、 ２４．８． ３Ｌ、５． ３２．２
． ３８．５． ５３．１゜５３．５． ６５．４．
７１．３． ７２．５． ８３．４． ｌ（５，０，
９３，１，１０１，３，１２７，９，１２８，１，１２
８，５，１３７，２，１３７，５，１８９，３゜Ｉ Ｒ
（ｎｅａｔ） ： ２２００． Ｌ６８ＣＩ 、
１１３０ 、 １０９０、 ７４０． ６９５
ｃｒａ−’。
上記＜３Ｒ，７Ｓ）３．７−ジペンジルオキシー１．１
−ジメトキシドデカ−４−イン−５−オン［４コロ４４
ｍｇ （２，１ｍＭ）の無水ジエチルエーテル２０が
溶液中へ、−３０℃で濃度０．２８ ｍｏｌ／ ｌの水
素化ホウ素亜鉛／ジエチルエーテル溶液１２．６が（３
，３＋ｎＭ）を窒素雰囲気下５分間かけて滴下し、更に
同温度で３０分間攪拌を続けた。反応終了後、水と０゜
５規定塩酸２０ｗ／を加え、混合液を０℃で３０分間攪
拌した。水層をジエチルエーテルで３回抽出し、抽出液
を併せて飽和重曹水と飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下に留去した
。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、
ジエチルエーテル：ヘキサン−１：３の画分より（３Ｒ
，６Ｒ，７Ｓ）３．７−ジペンジルオキシー１．１−ジ
メトキシドデカ−４−イン−６−オール［３ｂコロ５４
ｍｇ（１，４４＋ｎＭ）を得た。収率６９ ！？６゜［
αコ ２５ Ｄ： ＋５０．５９ ’ （Ｃ−０，８５４、ＣＨＣ／ ３） 。
−ジメトキシドデカ−４−イン−５−オン［４コロ４４
ｍｇ （２，１ｍＭ）の無水ジエチルエーテル２０が
溶液中へ、−３０℃で濃度０．２８ ｍｏｌ／ ｌの水
素化ホウ素亜鉛／ジエチルエーテル溶液１２．６が（３
，３＋ｎＭ）を窒素雰囲気下５分間かけて滴下し、更に
同温度で３０分間攪拌を続けた。反応終了後、水と０゜
５規定塩酸２０ｗ／を加え、混合液を０℃で３０分間攪
拌した。水層をジエチルエーテルで３回抽出し、抽出液
を併せて飽和重曹水と飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下に留去した
。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、
ジエチルエーテル：ヘキサン−１：３の画分より（３Ｒ
，６Ｒ，７Ｓ）３．７−ジペンジルオキシー１．１−ジ
メトキシドデカ−４−イン−６−オール［３ｂコロ５４
ｍｇ（１，４４＋ｎＭ）を得た。収率６９ ！？６゜［
αコ ２５ Ｄ： ＋５０．５９ ’ （Ｃ−０，８５４、ＣＨＣ／ ３） 。
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ／３） δ：０．８８（３Ｈ。
ｂｒ ｔ） 、 １．０４−１．９０（８Ｈ、ｍ）、
１．９５−２．１８（２Ｈ。
１．９５−２．１８（２Ｈ。
ｒＢ）、 ２．３−３．８（ＩＨ，ｌｌ１）、
３．２７（３Ｈ，ｓ）、 ３．３０（３Ｈ，ｓ）
、 ３．３８−３．６２（ＩＨ、ｍ）、 ４．１０
−４．９０（７Ｈ。
３．２７（３Ｈ，ｓ）、 ３．３０（３Ｈ，ｓ）
、 ３．３８−３．６２（ＩＨ、ｍ）、 ４．１０
−４．９０（７Ｈ。
ｍ）、 ７．２−７．６（ＩＯＨ，［０）。
１３ＣＮＭＲ（ＣＤＣ／３） δ： １４．［］、
２２５、 ２５．３． ３０．２． ３１．９． ５
３．１． ５３．３゜６４．２． ６５．６． ７０．
７． ７２．５． ８１．７． ８４．４． ８４．７
． １０１７． １２７．６． Ｌ２７．７． １２
８．０． Ｌ２Ｂ、３． １２８．４． １３７．９
． １３１１．３゜Ｉ Ｒ（ｎｅａｔ） ＋ ３４
２６． １０９１ 、 １０７１ 、 ７３８、 ６
９８ｃｍ−’。
２２５、 ２５．３． ３０．２． ３１．９． ５
３．１． ５３．３゜６４．２． ６５．６． ７０．
７． ７２．５． ８１．７． ８４．４． ８４．７
． １０１７． １２７．６． Ｌ２７．７． １２
８．０． Ｌ２Ｂ、３． １２８．４． １３７．９
． １３１１．３゜Ｉ Ｒ（ｎｅａｔ） ＋ ３４
２６． １０９１ 、 １０７１ 、 ７３８、 ６
９８ｃｍ−’。
閉ｅ○ｂｎ。
上：己（３Ｒ，１３１？、７ｓ）３．７−ジペンジルオ
キシー１゜１−ジメトキシドデカ−４−イン−６−オー
ル［３ｂコロ５４ｍｇ （１，４４ｍＭ）の無水テトラ
ヒト０７ラン溶液１０カ溶液を、水素化リチウムアルミ
ニウム１１５．７ｍｇ （３，０２ｍＭ）の無水テト
ラヒドロ２ラン５ｍｌ懸濁液中に０℃で加え、１８分間
攪拌下還流を行なった。反応終了後、酢酸エチル、エタ
ノール、水及び０．１規定塩酸を順次加えた後、水層を
ジエチルエーテルで３回抽出した。抽出液を併せて飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、
溶媒を減圧留去した。
キシー１゜１−ジメトキシドデカ−４−イン−６−オー
ル［３ｂコロ５４ｍｇ （１，４４ｍＭ）の無水テトラ
ヒト０７ラン溶液１０カ溶液を、水素化リチウムアルミ
ニウム１１５．７ｍｇ （３，０２ｍＭ）の無水テト
ラヒドロ２ラン５ｍｌ懸濁液中に０℃で加え、１８分間
攪拌下還流を行なった。反応終了後、酢酸エチル、エタ
ノール、水及び０．１規定塩酸を順次加えた後、水層を
ジエチルエーテルで３回抽出した。抽出液を併せて飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、
溶媒を減圧留去した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ジ
エチルエーテル：ヘキサン−に３の画分より（３Ｒ，Ｓ
Ｒ，７３） ３．７−ジベンジルオキシ−１，１−ジメ
トキシドデカ−４−エン−６−オール［５］ ５３８ｍ
ｇ （１，１８ｍＭ）を得た。収率８２％。
エチルエーテル：ヘキサン−に３の画分より（３Ｒ，Ｓ
Ｒ，７３） ３．７−ジベンジルオキシ−１，１−ジメ
トキシドデカ−４−エン−６−オール［５］ ５３８ｍ
ｇ （１，１８ｍＭ）を得た。収率８２％。
〔α コ ２５
Ｄ＋ ＋２８．９２゜
（Ｃ−１，９６４、ＣＨＣｌ３）。
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ／ ３ ） δ： ０．８８（
３Ｈ。
３Ｈ。
ｂｒ ｔ） 、 １．０−１．７０（８Ｈ，ｍ）、
１．７０−２．［１４（２Ｌ ｍ’）。
１．７０−２．［１４（２Ｌ ｍ’）。
２．１４−２．３８（ＩＨ、ｂｒ ｓ）、 ３．
２６（３Ｈ，ｓ）、 ３．２８（３Ｈ，ｓ）、
３．３２−３．６０（ＩＨ、ｍ）、 ３．７６−
４．０６（ＩＨ、ｍ）、 ４．１８−４．８０（６Ｈ
、ｍ）、 ５．６０−５．８４（２Ｈ。
２６（３Ｈ，ｓ）、 ３．２８（３Ｈ，ｓ）、
３．３２−３．６０（ＩＨ、ｍ）、 ３．７６−
４．０６（ＩＨ、ｍ）、 ４．１８−４．８０（６Ｈ
、ｍ）、 ５．６０−５．８４（２Ｈ。
ｍ）、 ７．０４−７．６０（ＩＯＨ，ｍ）。
１３ＣＮＭＲ（ＣＤ Ｃ／ ３ ） δ ：
１４．０． ２２゜６、 ２５．４． ２９．７
． ３２．０． ３９．１． ５２．６゜５３Ｊ
、 ７０．３． ７２．３． ７２．８．
７６．２． ８２．３． １０１．９． １２７
．５． １２７．７． １２８．３． １２８．
４． １３１．９． １３２．４． １３８．５
． １３８．６゜Ｉ Ｒ（ｎｅａｔ） ： ３
４５０． １１４０−１０４０． ７３８． ８
９８ｃ＋ｎ−’。
１４．０． ２２゜６、 ２５．４． ２９．７
． ３２．０． ３９．１． ５２．６゜５３Ｊ
、 ７０．３． ７２．３． ７２．８．
７６．２． ８２．３． １０１．９． １２７
．５． １２７．７． １２８．３． １２８．
４． １３１．９． １３２．４． １３８．５
． １３８．６゜Ｉ Ｒ（ｎｅａｔ） ： ３
４５０． １１４０−１０４０． ７３８． ８
９８ｃ＋ｎ−’。
上記（３Ｒ，６Ｉ？、７Ｓ） ３．７−ジベンジルオキ
シ−１゜１−ジメトキシドデカ−４−エン−６−オール
［５］’１．１５ｇ（２，５３ｍＭ） 、トリエチルオ
ルトアセテ−） １．６５ ｖｎｌ （９，０３＋ｎＭ
）及び触媒量のへブタン酸をキシレン１５カ中１６０℃
で２０分間加熱反応させ、キシレンと生成したエタノー
ルを減圧留去し、反応終了後、飽和重曹水を加えた。水
層をジエチルエーテルで３回抽出し、抽出液を併せて飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
シ−１゜１−ジメトキシドデカ−４−エン−６−オール
［５］’１．１５ｇ（２，５３ｍＭ） 、トリエチルオ
ルトアセテ−） １．６５ ｖｎｌ （９，０３＋ｎＭ
）及び触媒量のへブタン酸をキシレン１５カ中１６０℃
で２０分間加熱反応させ、キシレンと生成したエタノー
ルを減圧留去し、反応終了後、飽和重曹水を加えた。水
層をジエチルエーテルで３回抽出し、抽出液を併せて飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
溶媒を減圧留去した後、残渣をシリカゲルクロマトグラ
フィーに付し、ジエチルエーテル：ヘキサン−１＝１０
の画分より（１’Ｒ，３Ｓ、６Ｓ）６−ベンジルオキシ
−３−（１°−ベンジルオキシ−３°、３°−ジメトキ
シプロピル）ウンデカ−４−エン酸エチル［６］ ９７
１ｍｇ （１，８５ｍＭ）を得た。収率７３％。
フィーに付し、ジエチルエーテル：ヘキサン−１＝１０
の画分より（１’Ｒ，３Ｓ、６Ｓ）６−ベンジルオキシ
−３−（１°−ベンジルオキシ−３°、３°−ジメトキ
シプロピル）ウンデカ−４−エン酸エチル［６］ ９７
１ｍｇ （１，８５ｍＭ）を得た。収率７３％。
’ＨＮＭＲ（ＣＤ Ｃ／ ３ ） δ： ０．８７（
３Ｈ。
３Ｈ。
ｂｒ ｔ） 、 １．００−２．００（１４Ｈ，ａ＋
）、 ２．１６−２．７８（２Ｈ。
）、 ２．１６−２．７８（２Ｈ。
ｍ）、 ３．２４（３Ｈ，ｓ）、 ３．３０（３Ｈ
，ｓ）、 ３．４４−３．８２（３Ｈ、ｍ）、 ４
．０８（２Ｈ、Ｑ 、 Ｊ−７Ｈｚ）、 ４．２４
−４．９０（４Ｈ、ｍ）、 ５．４０−５．６０（２
Ｈ、ｍ）、 ７．１２−７゜ｅｏ（１ｏＨ，ｍ）。
，ｓ）、 ３．４４−３．８２（３Ｈ、ｍ）、 ４
．０８（２Ｈ、Ｑ 、 Ｊ−７Ｈｚ）、 ４．２４
−４．９０（４Ｈ、ｍ）、 ５．４０−５．６０（２
Ｈ、ｍ）、 ７．１２−７゜ｅｏ（１ｏＨ，ｍ）。
Ｉ Ｒ（ｎｅａｔ） ： １７４０． １１３０ 、
１０９０ 、 ７４０゜７０５ｃｍ−’。
１０９０ 、 ７４０゜７０５ｃｍ−’。
上記（１°Ｒ，３Ｓ、６Ｓ） ６−ベンジルオキシ−３
（１′−ベンジルオキシ−３’、３’−ジメトキシプロ
ピル）ウンデカ−４−エン酸エチル［６］ ９７ＩＢ（
１，８５ｍＭ）を無水ジエチルエーテル１５層に溶かし
、水素化リチウムアルミニウム１４Ｌ＋ｎｇ （３゜
７ｍＭ）を加え、混合液を室温で１時間攪拌した。
（１′−ベンジルオキシ−３’、３’−ジメトキシプロ
ピル）ウンデカ−４−エン酸エチル［６］ ９７ＩＢ（
１，８５ｍＭ）を無水ジエチルエーテル１５層に溶かし
、水素化リチウムアルミニウム１４Ｌ＋ｎｇ （３゜
７ｍＭ）を加え、混合液を室温で１時間攪拌した。
反応混合物に飽和硫酸ナトリウム水溶液次いて１０％水
酸化ナトリウムを加えた後、ジエチルエーテル溶液をデ
カントしてとり、残ったアルミニウム塩をジエチルエー
テルで５回洗浄した。
酸化ナトリウムを加えた後、ジエチルエーテル溶液をデ
カントしてとり、残ったアルミニウム塩をジエチルエー
テルで５回洗浄した。
これらジエチルエーテル溶液を併せて飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（こ付
し、ジエチルエーテルニヘキサン−１：６の画分及び塩
化メチレンの画分より（３Ｒ，４Ｓ、７Ｓ） ３．７−
ジベンジルオキシー４−（２−−ヒドロキシエチル−１
，１−ジメトキシドデカ−５−エン［７コ８８６ｍｇ
（１，８３１１ＩＭ）を得た。収率９９％。
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（こ付
し、ジエチルエーテルニヘキサン−１：６の画分及び塩
化メチレンの画分より（３Ｒ，４Ｓ、７Ｓ） ３．７−
ジベンジルオキシー４−（２−−ヒドロキシエチル−１
，１−ジメトキシドデカ−５−エン［７コ８８６ｍｇ
（１，８３１１ＩＭ）を得た。収率９９％。
Ｅαコ ２５
Ｄニー２．１９゜
（Ｃ−１，ＬＬ４ 、 ＣＨＣｌ ３） 。
ＩＨＮＭＲ（ＣＤ Ｃ／ ３） δ： ０．８７（３
Ｈ。
Ｈ。
ｂｒ ｔ） 、 １．０３−２．１０（１３）１．
Ｉ）、 ２．４０−２．７６（ｌＪ（。
Ｉ）、 ２．４０−２．７６（ｌＪ（。
ｂｒ） 、 ３．２４（３Ｈ，ｓ）、 ３．２９（
３Ｈ，ｓ）、 ３．４０−３゜８４（３Ｈ、ｍ）、
４．２０−４．８０（６Ｈ、ｍ）、 ５．４０−５
．５８（２Ｈ、ｆｆ１）、 ７．０８−７．５８（Ｉ
ＯＨ，ｌ）。
３Ｈ，ｓ）、 ３．４０−３゜８４（３Ｈ、ｍ）、
４．２０−４．８０（６Ｈ、ｍ）、 ５．４０−５
．５８（２Ｈ、ｆｆ１）、 ７．０８−７．５８（Ｉ
ＯＨ，ｌ）。
Ｊ Ｒ（ｎｅａｔ） ： ３４２０． １Ｂ１３５ 、
１１２０ 、 １０７０ 。
１１２０ 、 １０７０ 。
７２９、 ８Ｈｃｍ −’。
０−ニトロフェニルセレンシアニド９９７ｍｇ（３゜８
７ｍＭ）の無水テトラヒドロフラン１２Ｉ１１１懸濁液
に上記（３Ｒ，４Ｓ、７Ｓ） ３．７−ジペンジルオキ
シー４−（２−一ヒドロキシエチルー１．１−ジメトキ
シドデカ−５−エン［７］ ８８６ｍｇ（１，８３ｍＭ
）を滴下し、混合液を数分間攪拌し、トリーローブチル
ホスフィン０．９１１１１／ （３，６７ＩｎＭ）を滴
下し、１０分間攪拌を続けた。反応液を０℃に冷却し、
３５％過酸化水素水を同温度で攪拌下に滴下し、３時間
攪拌後、ジエチルエーテル：ヘキサン−７，３の混合溶
媒で水層を３回抽出した。抽出液を併せて飽和重曹水と
飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を減圧下に留去し、残渣より析出した結晶を濾
取して、（３１？、４Ｓ、７Ｓ） ３．７−ジペンジル
オキシー４−ビニル−１，１−ジメトキシドデカ−５−
エン［８コア７６印ｇ（１，６７ｍＭ）を得た。収率９
１ｚ０’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ／ ｇ ） δ： ［１
，８６（３）１ 。
７ｍＭ）の無水テトラヒドロフラン１２Ｉ１１１懸濁液
に上記（３Ｒ，４Ｓ、７Ｓ） ３．７−ジペンジルオキ
シー４−（２−一ヒドロキシエチルー１．１−ジメトキ
シドデカ−５−エン［７］ ８８６ｍｇ（１，８３ｍＭ
）を滴下し、混合液を数分間攪拌し、トリーローブチル
ホスフィン０．９１１１１／ （３，６７ＩｎＭ）を滴
下し、１０分間攪拌を続けた。反応液を０℃に冷却し、
３５％過酸化水素水を同温度で攪拌下に滴下し、３時間
攪拌後、ジエチルエーテル：ヘキサン−７，３の混合溶
媒で水層を３回抽出した。抽出液を併せて飽和重曹水と
飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を減圧下に留去し、残渣より析出した結晶を濾
取して、（３１？、４Ｓ、７Ｓ） ３．７−ジペンジル
オキシー４−ビニル−１，１−ジメトキシドデカ−５−
エン［８コア７６印ｇ（１，６７ｍＭ）を得た。収率９
１ｚ０’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ／ ｇ ） δ： ［１
，８６（３）１ 。
ｂｒ ｔ） 、 １．００−２．００（ＩＬＨ，ｍ）
、 ３．２５（３Ｈ，ｓ）。
、 ３．２５（３Ｈ，ｓ）。
３．２９（３Ｈ，ｓ）、 ３．４６−３．８６（３Ｈ
、ｍ）、 ４．３１ 。
、ｍ）、 ４．３１ 。
４．５８（２Ｈ，ＡＢｑ 、 Ｊ−ＬＬ、９Ｈｚ）
、 ４．４８ 、 ４．８４（２Ｈ，＾Ｂｑ、 Ｊ
−１１，２Ｈｚ）、 ４．９０−５．４０（２Ｈ。
、 ４．４８ 、 ４．８４（２Ｈ，＾Ｂｑ、 Ｊ
−１１，２Ｈｚ）、 ４．９０−５．４０（２Ｈ。
ｍ）、 ５．４０−６．１４（３Ｈ、ｍ）、 ７．
１８−７．６０（ＩＯＨ，ｍ）。
１８−７．６０（ＩＯＨ，ｍ）。
Ｉ Ｒ（ｎｅａｔ） ： ２９００． １６３０ 、
１１２０ 、 １０９５、 １０７０． ９１８
． ７３０． ６９２ｃｍ−’。
１１２０ 、 １０９５、 １０７０． ９１８
． ７３０． ６９２ｃｍ−’。
上記（３Ｒ，４Ｓ、７Ｓ） ３．７−ジペンジルオキシ
ー４−ビニル−１，１−ジメトキシドデカ−５−エン［
８］ ７７８ａ＋ｇ （１，６７ＩＩＭ）を８０％酢
酸１３ｒ１１とテトラヒドロフラン２層の混合液中で４
０’Ｃで５時間加熱攪拌した。反応の完結を薄層クロマ
トグラフィーで確認し、反応液を飽和重曹水中に注ぎ、
ジエチルエーテル：ヘキサン−７＝３の混合溶媒で３回
抽出を行なった。抽出液を併せて飽和重曹水と飽和食塩
水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
下で溶媒を留去し、（３Ｊ？、４３，７Ｓ） ３，７−
ジペンジルオキシー４−ビニルドデカ−５−エンカルボ
アルデヒド［９］ ７０１ａ＋ｇ （１，６７ｍＭ）
を得た。収率１００１％。
ー４−ビニル−１，１−ジメトキシドデカ−５−エン［
８］ ７７８ａ＋ｇ （１，６７ＩＩＭ）を８０％酢
酸１３ｒ１１とテトラヒドロフラン２層の混合液中で４
０’Ｃで５時間加熱攪拌した。反応の完結を薄層クロマ
トグラフィーで確認し、反応液を飽和重曹水中に注ぎ、
ジエチルエーテル：ヘキサン−７＝３の混合溶媒で３回
抽出を行なった。抽出液を併せて飽和重曹水と飽和食塩
水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
下で溶媒を留去し、（３Ｊ？、４３，７Ｓ） ３，７−
ジペンジルオキシー４−ビニルドデカ−５−エンカルボ
アルデヒド［９］ ７０１ａ＋ｇ （１，６７ｍＭ）
を得た。収率１００１％。
［ａ］２５
Ｄ： ＋１．８ｔ”
（Ｃ−１，０２，ＣＨＣ／３ ） 。
ＩＨＮＭＲ（ＣＤ Ｃ／ ３ ） δ ： ０
．８４（３Ｈ。
．８４（３Ｈ。
ｂｒ ｔ）、 １．０８−１．８０（８Ｈ、ｌ１
１）、 ２．５０−２．７５（２Ｈ。
１）、 ２．５０−２．７５（２Ｈ。
ｍ）、 ２．９２−３４４（ＩＨ、ｍ）、 ３
．５０−３．８［１（ＬＨ、ｍ）。
．５０−３．８［１（ＬＨ、ｍ）。
３．８８−４．１６（ＩＨ、ｍ）、 ４．２０−４
．８０（４Ｈ、ｍ）、 ４．９０−５．４４（２Ｈ
、ｍ）、 ５．４４−６．１０（３Ｈ、ｍ）、
７．０５−７．５０（ＩＯＨ，ｍ）、 ９．８８
（ＬＨ，ｔ）。
．８０（４Ｈ、ｍ）、 ４．９０−５．４４（２Ｈ
、ｍ）、 ５．４４−６．１０（３Ｈ、ｍ）、
７．０５−７．５０（ＩＯＨ，ｍ）、 ９．８８
（ＬＨ，ｔ）。
１３ｃ ＮＭＲ（ＣＤ Ｃ／’３ ） δ ：
１３．９． ２２゜５、 ２５．０． ３１
．６． ３５．７． ４６．４． ５０．３゜７
０．１． ７２．１． ８０．０． １１７．１
． １２７．３． １２７．５． ｌ２７．７
． １２８．２． １２８．３． １３０．７．
１３４．３． １３６．９． １３７．９．
１３８．９． ２００．７゜Ｉ Ｒ（ｎｅａｔ）
： １７３０． １１００ 、 １０７０
、 ９２０゜７４０、 ７００ｃ［Ｉｌ−’。
１３．９． ２２゜５、 ２５．０． ３１
．６． ３５．７． ４６．４． ５０．３゜７
０．１． ７２．１． ８０．０． １１７．１
． １２７．３． １２７．５． ｌ２７．７
． １２８．２． １２８．３． １３０．７．
１３４．３． １３６．９． １３７．９．
１３８．９． ２００．７゜Ｉ Ｒ（ｎｅａｔ）
： １７３０． １１００ 、 １０７０
、 ９２０゜７４０、 ７００ｃ［Ｉｌ−’。
上記（３Ｒ，４Ｓ、７Ｓ） ３．７−ジペンジルオキシ
ー４−ビニルドデカ−５−エンカルボアルデヒド［９］
７０１ｍｇ（１，６７ｍＭ’）をピリジン５かに溶か
し、再結晶したヒドロキシアミン・塩酸塩１３８Ｂ
（２゜００ｍＭ）を加え、１時間攪拌した。反応液にエ
ーテル８０１１１を加え、混合液を飽和食塩水で４回洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧
下留去した。残渣をシリカゲルでフラッシュクロマトグ
ラフィーに付し、１２Ｘのジエチルエーテル／ヘキサン
液で流出した画分より（３Ｒ，４Ｓ、７Ｓ）３．７−ジ
ペンジルオキシー４−ビニルドデカ−５−エンカルボオ
キシム［１０］ ５５２ｍｇ（１，２７ｍＭ）を得た。
ー４−ビニルドデカ−５−エンカルボアルデヒド［９］
７０１ｍｇ（１，６７ｍＭ’）をピリジン５かに溶か
し、再結晶したヒドロキシアミン・塩酸塩１３８Ｂ
（２゜００ｍＭ）を加え、１時間攪拌した。反応液にエ
ーテル８０１１１を加え、混合液を飽和食塩水で４回洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧
下留去した。残渣をシリカゲルでフラッシュクロマトグ
ラフィーに付し、１２Ｘのジエチルエーテル／ヘキサン
液で流出した画分より（３Ｒ，４Ｓ、７Ｓ）３．７−ジ
ペンジルオキシー４−ビニルドデカ−５−エンカルボオ
キシム［１０］ ５５２ｍｇ（１，２７ｍＭ）を得た。
収率７６％。
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ／３ ） δ： ０．８８（３Ｈ
。
。
ｂｒ ｔ） 、 １．０−１．８０（８Ｈ，ｍ）、
２．３０−２．７８（２Ｈ。
２．３０−２．７８（２Ｈ。
ｍ）、 ２．９５−３．２５（［、ｂｒ ｑ） 、
３．４０−３．Ｉｉｇ（２Ｈ。
３．４０−３．Ｉｉｇ（２Ｈ。
ｍ）、 ４．１８−４．７６（４Ｈ、ｍ）、 ４．
９５−８．１６（６Ｈ、ｌ１１）。
９５−８．１６（６Ｈ、ｌ１１）。
７．１８−７．６０（ＩＯＨ，ｍ）。
Ｉ Ｒ（ｎｅａｔ） ： ３２７０． １０９０−１
０８０． ９１５． ７３８、 ６９５ｃｍ−’。
０８０． ９１５． ７３８、 ６９５ｃｍ−’。
上記（３Ｒ，４Ｓ、７Ｓ）３．７−ジペンジルオキシー
４−ビニルドデカ−５−エンカルボオキシム〔１０］５
５２Ｉ１ｇ （１，２７ｍＭ）と触媒量のトリエチルア
ミンを塩化メチレン１２ｒＩｌｌに溶かし、０℃で激し
く攪拌した。この溶液に１０％次亜塩酸ナトリウム６０
１１（８，２ｍＭ）を滴下し、混合液を同温度で１時間
攪拌した。更に室温で１０時間攪拌後、反応混合物を飽
和重曹水中に注ぎ、水層をジエチルエーテル：ヘキサン
−７＝３の混合溶媒で３回抽出し、抽出液を併せて飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶
媒を減圧下に留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、ジエチルエーテル：ヘキサン−
３ニアの画分より光学活性インオキサゾール誘導体［１
１１４００ｍｇ （０，９３ｍＭ）を得た。収率７３％
。
４−ビニルドデカ−５−エンカルボオキシム〔１０］５
５２Ｉ１ｇ （１，２７ｍＭ）と触媒量のトリエチルア
ミンを塩化メチレン１２ｒＩｌｌに溶かし、０℃で激し
く攪拌した。この溶液に１０％次亜塩酸ナトリウム６０
１１（８，２ｍＭ）を滴下し、混合液を同温度で１時間
攪拌した。更に室温で１０時間攪拌後、反応混合物を飽
和重曹水中に注ぎ、水層をジエチルエーテル：ヘキサン
−７＝３の混合溶媒で３回抽出し、抽出液を併せて飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶
媒を減圧下に留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、ジエチルエーテル：ヘキサン−
３ニアの画分より光学活性インオキサゾール誘導体［１
１１４００ｍｇ （０，９３ｍＭ）を得た。収率７３％
。
’ＨＮＭＲ（ＣＤ Ｃｌ Ｂ ） δ： ０．８７（
３８。
３８。
ｂｒ ｔ） 、 １．０−１．８０（８８，ＩＩ）、
２．２−２．８４（２Ｈ，ｍ）。
２．２−２．８４（２Ｈ，ｍ）。
２．８８−３．２［１（ＬＨ、ｌｌ１）、 ３．２０
−３．４４（ＬＨ、ｉ）、 ３．４４−４．００（２
Ｈ、ｍ）、 ４．００−４．８０（８Ｈ、ａ＋）、
５．００−５．８０（２Ｈ、ａ＋）、 ７．２０−
７．６０（ＩＯＨ，ｍ）。
−３．４４（ＬＨ、ｉ）、 ３．４４−４．００（２
Ｈ、ｍ）、 ４．００−４．８０（８Ｈ、ａ＋）、
５．００−５．８０（２Ｈ、ａ＋）、 ７．２０−
７．６０（ＩＯＨ，ｍ）。
Ｉ Ｒ（ｎｅａｔ） ： １７４０． １０
９０ 、 ｌｏ［ｉｏ 、 ９１０゜７３
０、 ｆｌｉ９３ｃｍ−’。
９０ 、 ｌｏ［ｉｏ 、 ９１０゜７３
０、 ｆｌｉ９３ｃｍ−’。
上記光学活性イソオキサゾール誘導体［１１］ ３７４
ｍｇ（０，８６ｆｆ１Ｍ）、不活性化したＷ−２ラネ一
ニツケル７４８ｍｇ及びｌｌ１ｏ１／１濃度の三塩化ホ
ウ素のへキサン溶液０．８８７ｍを、８０％メタノール
水溶液８０暦中で水素ガス雰囲気下で３時間攪拌した。
ｍｇ（０，８６ｆｆ１Ｍ）、不活性化したＷ−２ラネ一
ニツケル７４８ｍｇ及びｌｌ１ｏ１／１濃度の三塩化ホ
ウ素のへキサン溶液０．８８７ｍを、８０％メタノール
水溶液８０暦中で水素ガス雰囲気下で３時間攪拌した。
反応混合物をセライトを通して濾過し、セライトを酢酸
エチル７０／ＩＩ／で洗浄し、濾液を併せて飽和食塩水
１００ｍ１ と塩化メチレン４００１の混合液中に注ぎ
、抽出を行なった。水層を更に塩化メチレンで３回抽出
し、抽出液を併せて飽和重曹水と飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を
留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付し、ジエチルエーテル：ヘキサン−６＝４の混 し合
溶媒で流出した画分より光学活性シクロペンタノン誘導
体［１２１３２６ｍｇ（０，７５ｍＭ）を得た。収率８
７％。
エチル７０／ＩＩ／で洗浄し、濾液を併せて飽和食塩水
１００ｍ１ と塩化メチレン４００１の混合液中に注ぎ
、抽出を行なった。水層を更に塩化メチレンで３回抽出
し、抽出液を併せて飽和重曹水と飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を
留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付し、ジエチルエーテル：ヘキサン−６＝４の混 し合
溶媒で流出した画分より光学活性シクロペンタノン誘導
体［１２１３２６ｍｇ（０，７５ｍＭ）を得た。収率８
７％。
ＩＨＮＭＲ（ＣＤＣ／３ ） δ： ０．８８（３１
（。
（。
ｔ 、 Ｊ−７，０Ｈｚ）、 １．２０−１．８０（
ａＨ，ｍ）、 ２．１３（ＩＨ。
ａＨ，ｍ）、 ２．１３（ＩＨ。
ｂｒ ｔ、 Ｊ−５，５Ｈｚ）、 ２．３［１（１
）１ 、 ｄｄ、 Ｊ−５，５Ｈｚ 、 １８．．４
Ｈｚ） 、 ２．６５（ＩＨ，ｄ 、 Ｊ−１８Ｈ
ｚ） 、 ２．８６（ＬＨ，ｄｄｄ 、 Ｊ−４Ｈ
ｚ 、 ９Ｈｚ 、 １２Ｈｚ） 、 ３．６５（Ｌ
Ｈ，ｄｔ、 Ｊ−７Ｈｚ 、 ９Ｈｚ）、 ３．７
９（２Ｈ，ＡＢｑ）。
）１ 、 ｄｄ、 Ｊ−５，５Ｈｚ 、 １８．．４
Ｈｚ） 、 ２．６５（ＩＨ，ｄ 、 Ｊ−１８Ｈ
ｚ） 、 ２．８６（ＬＨ，ｄｄｄ 、 Ｊ−４Ｈ
ｚ 、 ９Ｈｚ 、 １２Ｈｚ） 、 ３．６５（Ｌ
Ｈ，ｄｔ、 Ｊ−７Ｈｚ 、 ９Ｈｚ）、 ３．７
９（２Ｈ，ＡＢｑ）。
３．９４−４．０２（ＬＨ、ｍ）、 ４．１７（ＬＨ
，ｔ 、 Ｊ陶４，５Ｈ２）、 ４．３５（ＩＨ，
ｄ 、 Ｊ −１２Ｈｚ） 、 ４．４４（ＩＨ，ｄ
。
，ｔ 、 Ｊ陶４，５Ｈ２）、 ４．３５（ＩＨ，
ｄ 、 Ｊ −１２Ｈｚ） 、 ４．４４（ＩＨ，ｄ
。
Ｊ−１２Ｈｚ） 、 ４．５８（２Ｈ，ｄｄ、 Ｊ
−６Ｈｚ 、 １２Ｈｚ） 。
−６Ｈｚ 、 １２Ｈｚ） 。
５．５６（ＬＨ，ｄｄ、 Ｊ−９Ｈｚ 、 １８Ｈｚ
） 、 ５．９３＜ＩＨ。
） 、 ５．９３＜ＩＨ。
ｄｄ、 Ｊ−９Ｈｚ 、 １６Ｈｚ） 、 ７．２
３−７．３５（ＩＯＨ，ｎ＋）。
３−７．３５（ＩＯＨ，ｎ＋）。
Ｉ Ｒ（ｎｅａｔ） ： ３６４０． １７４０ 、
１０９０ 、 １０６５ 、 ９８０． ８９５ ａ
ｍ −’。
１０９０ 、 １０６５ 、 ９８０． ８９５ ａ
ｍ −’。
ｎＯ
上記光学活性シクロペンタノン誘導体［１２］ ２５３
１１１ｇ （０，５８ｍＭ）を無水ピリジン１９度に溶
かし、０℃で攪拌下、蒸留したメタンスルホニルクロリ
ド３６０μｌ（４，６ａ＋Ｍ）を滴下し、混合液を２時
間同温度で攪拌した後、０．５規定塩酸中に注ぎ、塩化
メチレンで抽出を行なった。抽出液を０，５規定塩酸、
飽和重曹水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、残渣をＯＤＳ化したシリカゲル
を用いて高速液体クロマトグラフィーに付し、０．５％
２−プロパツール／ヘキサンを溶離液として分取し、光
学活性２−メチレンシクロペンタノン誘導体［１３コ１
８８１ｇ （０，４５ｍＭ）を得た。収率７８％。
１１１ｇ （０，５８ｍＭ）を無水ピリジン１９度に溶
かし、０℃で攪拌下、蒸留したメタンスルホニルクロリ
ド３６０μｌ（４，６ａ＋Ｍ）を滴下し、混合液を２時
間同温度で攪拌した後、０．５規定塩酸中に注ぎ、塩化
メチレンで抽出を行なった。抽出液を０，５規定塩酸、
飽和重曹水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、残渣をＯＤＳ化したシリカゲル
を用いて高速液体クロマトグラフィーに付し、０．５％
２−プロパツール／ヘキサンを溶離液として分取し、光
学活性２−メチレンシクロペンタノン誘導体［１３コ１
８８１ｇ （０，４５ｍＭ）を得た。収率７８％。
［α］ ニー７６．００゜
（Ｃ＝０．２８７ 、 ＣＨＣＩ ｓ ） 。
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ／ ３ ） δ： ０．８７（３
Ｈ。
Ｈ。
ｂｒ ｔ） 、 ’１．００−１．８０（８Ｈ、ｒＡ
）、 ２．２０−２．９５（２Ｈ。
）、 ２．２０−２．９５（２Ｈ。
ｍ）、 ３．２４−３．８８（ＩＨ、ｍ）、 ３．
８８−３．９６（ＬＨ、ｍ）。
８８−３．９６（ＬＨ、ｍ）。
３．９６（ＬＨ，ｄｔ、 Ｊ −６，６Ｈｚ 、 ７．
３Ｈｚ）、 ４．４４（１）１゜ｄ 、 Ｊ −１１
，７Ｈ２） 、 ４．６２（２Ｈ，Ｓ）、 ４．８
５（ＬＨ。
３Ｈｚ）、 ４．４４（１）１゜ｄ 、 Ｊ −１１
，７Ｈ２） 、 ４．６２（２Ｈ，Ｓ）、 ４．８
５（ＬＨ。
ｄ 、 Ｊ−１１，７Ｈｚ）、 ５．２５（ＬＨ，ｄ
、 Ｊ −２，５Ｈｚ）。
、 Ｊ −２，５Ｈｚ）。
５．５０−５．７０（２Ｈ、ｍ）、 ６．１４（Ｉ
Ｈ，ｄ 、 Ｊ −２，５Ｈｚ）、 ７．３
０（１０）１ 、 ｓ）。
Ｈ，ｄ 、 Ｊ −２，５Ｈｚ）、 ７．３
０（１０）１ 、 ｓ）。
Ｉ Ｒ（ｎｅａｔ） ： １７３１． １８
４０ 、 １０９５ 、 １０２７ 、
７３７． ８９８ ｃｍ 〜１゜
４０ 、 １０９５ 、 １０２７ 、
７３７． ８９８ ｃｍ 〜１゜
第１図は本発明の反応経路を示すフローシートであり、
第２図及び第３図は出発原料の製造工程を示すフローシ
ートである。 以上 特許出願人 ダイソー株式会社（外１名）代 理 人
岸本 瑛之助（外３名）゛ 、・、７ Ｌ−二 反応経路３ （ｘｘｒｖ）
第２図及び第３図は出発原料の製造工程を示すフローシ
ートである。 以上 特許出願人 ダイソー株式会社（外１名）代 理 人
岸本 瑛之助（外３名）゛ 、・、７ Ｌ−二 反応経路３ （ｘｘｒｖ）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［Ｘ I ］ （式中、Ｒ＾１はアルコキシ基を有していてもよいアル
キル基又はシクロアルキル基、又は−Ｒａ−Ａ−Ｂ（こ
こでＲａはアルキル基、Ａはヘテロ原子又は単結合、Ｂ
は置換基を有していてもよい芳香族環又はヘテロ環をそ
れぞれ意味する）で示される基、Ｒ＾２及びＲ＾３は同
一または異なり、アラルキル基、シリル基又はアシル基
をそれぞれ意味する）で示される光学活性イソオキサゾ
ール誘導体。 （２）請求項１記載の光学活性イソオキサゾール誘導体
［Ｘ I ］を製造するに当たり、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［Ｘ］ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＲ＾３は請求項１のものと
同じ意味を有する） で示される光学活性オキシム化合物を分子内環化するこ
とを特徴とする方法。 （３）請求項２記載の方法において、光学活性オキシム
化合物［Ｘ］を製造するに当たり、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［VIII］ で示される光学活性ビニル化合物を加水分解して 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［IX］ （上記各式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＲ＾３は請求項２の
ものと同じ意味を有し、Ｒ＾４はアルキル基を意味し、
２つのＲ＾４が互いに結合して環を形成していてもよい
） で示される光学活性アルデヒド化合物とし、次いで同ア
ルデヒド化合物［IX］を光学活性オキシム化合物［Ｘ］
に変換することを特徴とする方法。 （４）請求項３記載の方法において、光学活性ビニル化
合物［VIII］を製造するに当たり、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［VII］ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びＲ＾４は請求項３
のものと同じ意味を有する） で示される光学活性ヒドロキシエチル化合物を脱水する
ことを特徴とする方法。 （５）請求項４記載の方法において、光学活性ヒドロキ
シエチル化合物［VII］を製造するに当たり、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［VI］ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びＲ＾４は請求項４
のものと同じ意味を有し、Ｒ＾５はアルキル基を意味す
る） で示される光学活性エステル化合物を還元することを特
徴とする方法。 （６）請求項５記載の方法において、光学活性エステル
化合物［VI］を製造するに当たり、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［Ｖ］ で示される光学活性４−エン−６−オール化合物に一般
式ＣＨ＿３Ｃ（ＯＲ＾５）＿３（上記各式中、Ｒ＾１、
Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４及びＲ＾５は請求項５のものと
同じ意味を有する）で示されるトリアルキルオルトアセ
テートを反応させ、更に分子内転移を起こさせることを
特徴とする方法。 （７）請求項６記載の方法において、光学活性４−エン
−６−オール化合物［Ｖ］を製造するに当たり、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［IIIｂ］ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びＲ＾４は請求項６
のものと同じ意味を有する） で示される光学活性４−イン−６−オール化合物を部分
還元することを特徴とする方法。（８）請求項７記載の
方法において、光学活性４−イン−６−オール化合物［
IIIｂ］を製造するに当たり、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［IV］ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びＲ＾４は請求項７
のものと同じ意味を有する） で示される光学活性４−イン−６−オン化合物を還元す
ることを特徴とする方法。 （９）請求項８記載の方法において、光学活性４−イン
−６−オン化合物［IV］を製造するに当たり、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［ I ］ で示される光学活性ジブロモ化合物を 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［II］ で示される光学活性アルデヒド化合物と反応させて 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［IIIａ］ （上記各式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びＲ＾４は請
求項８のものと同じ意味を有する） で示される光学活性４−イン−６−オール化合物とし、
次いで同４−イン−６−オール化合物［IIIａ］を酸化
することを特徴とする方法。 （１０）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［IX］ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＲ＾３は請求項１のものと
同じ意味を有する） で示される光学活性アルデヒド化合物。 （１１）請求項１０記載の光学活性アルデヒド化合物［
IX］を製造するに当たり、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［VIII］ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＲ＾３は請求項１０のもの
と同じ意味を有し、Ｒ＾４はアルキル基を意味し、２つ
のＲ＾４が互いに結合して環を形成していてもよい） で示される光学活性ビニル化合物を加水分解することを
特徴とする方法。
Priority Applications (6)
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|---|---|---|---|
| JP2015329A JP2756608B2 (ja) | 1990-01-25 | 1990-01-25 | 光学活性イソオキサゾール誘導体の製造方法、並びにその製造中間体及びその製造方法 |
| EP19910100782 EP0439129A3 (en) | 1990-01-25 | 1991-01-23 | Optically active isoxazole derivatives and intermediates for preparation thereof as well as processes for producing the same |
| US07/644,779 US5198588A (en) | 1990-01-25 | 1991-01-23 | Optically active isoxazole derivatives and intermediates for preparation thereof |
| US07/906,348 US5210201A (en) | 1990-01-25 | 1992-06-30 | Optically active isoxazole derivatives and intermediates for preparation thereof as well as processes for producing the same |
| US07/906,347 US5266703A (en) | 1990-01-25 | 1992-06-30 | Optically active isoxazole derivatives |
| US07/906,323 US5220074A (en) | 1990-01-25 | 1992-06-30 | Optically active isoxazole derivatives and intermediates for preparation thereof as well as processes for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015329A JP2756608B2 (ja) | 1990-01-25 | 1990-01-25 | 光学活性イソオキサゾール誘導体の製造方法、並びにその製造中間体及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04178374A true JPH04178374A (ja) | 1992-06-25 |
| JP2756608B2 JP2756608B2 (ja) | 1998-05-25 |
Family
ID=11885744
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015329A Expired - Lifetime JP2756608B2 (ja) | 1990-01-25 | 1990-01-25 | 光学活性イソオキサゾール誘導体の製造方法、並びにその製造中間体及びその製造方法 |
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|---|---|
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| EP (1) | EP0439129A3 (ja) |
| JP (1) | JP2756608B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4430354A (en) * | 1982-06-04 | 1984-02-07 | International Flavors & Fragrances Inc. | Flavoring with heliotropyl methyl carbonate |
| JP2696933B2 (ja) * | 1987-06-16 | 1998-01-14 | 日産化学工業株式会社 | 置換環状ケトン及び置換環状エノン並びにそれらの製造法 |
-
1990
- 1990-01-25 JP JP2015329A patent/JP2756608B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-01-23 US US07/644,779 patent/US5198588A/en not_active Expired - Fee Related
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Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| JOURNAL OF ORGANISTRY * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5198588A (en) | 1993-03-30 |
| EP0439129A3 (en) | 1991-11-06 |
| EP0439129A2 (en) | 1991-07-31 |
| JP2756608B2 (ja) | 1998-05-25 |
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