JPH0418076A - シクロヘキサン誘導体又はその塩類、その製造方法及びその用途並びにその使用方法 - Google Patents
シクロヘキサン誘導体又はその塩類、その製造方法及びその用途並びにその使用方法Info
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- JPH0418076A JPH0418076A JP2112535A JP11253590A JPH0418076A JP H0418076 A JPH0418076 A JP H0418076A JP 2112535 A JP2112535 A JP 2112535A JP 11253590 A JP11253590 A JP 11253590A JP H0418076 A JPH0418076 A JP H0418076A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式(IA)
[式中、R”H水素原子、エチル基、n−プロピル基、
n−ブチル基、i−ブチル基又は3−ブチル基を示し、
R” H水素原子、ノ・ロゲン原子又は炭素原子数1〜
5のアルキル基金示し。
n−ブチル基、i−ブチル基又は3−ブチル基を示し、
R” H水素原子、ノ・ロゲン原子又は炭素原子数1〜
5のアルキル基金示し。
R”flノ・ロゲン原子、炭素原子数1〜5のアルキル
基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基、炭素原子数1〜
5のアルキルチオ基、炭素原子数1〜5のアルキルスル
フィニル基、炭!原子数1〜5のアルキルスルホニル基
又U −N (R” ) R”(式中、R7′及びR”
は同−若しくは異なっても良く、水素原子又は炭素原子
数1〜30アルキル基を示し、R7′及びR” try
4〜6のメチレン基で結合されても良い、)を示し、
R4′は水素原子。
基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基、炭素原子数1〜
5のアルキルチオ基、炭素原子数1〜5のアルキルスル
フィニル基、炭!原子数1〜5のアルキルスルホニル基
又U −N (R” ) R”(式中、R7′及びR”
は同−若しくは異なっても良く、水素原子又は炭素原子
数1〜30アルキル基を示し、R7′及びR” try
4〜6のメチレン基で結合されても良い、)を示し、
R4′は水素原子。
炭素原子数1〜5のアルキル基又は炭素原子数2〜5の
アルコキシカルボニル基を示しns’ a水酸基、フェ
ニルカルボニルオキシ基又は同−若しくは異なって4良
く、/・ロゲン原子、炭素原子数1〜30アルキル基若
しくに炭素原子数1〜30アルコキシ基から選択される
1〜5個の置換基をフェニル環上に有するフェニルカル
ボニルオキシ基を示し、R”fl炭素原子数1〜5のア
ルキル基、炭素原子数3〜6のシクロアルギル基又は炭
素原子数1〜5のアルキル基により置換されたシクロア
ルキル基を示す。)但し、Rがエチル基を、BI2′が
メチル基金、R3′がハロゲン原子又はメチルチオ基を
、R4′が水素原子を及びR”が水酸基を同時に示す場
合、R・6′はエチル基又はn−プロピル基を除く。]
で表されるシクロヘキサン誘導体又はその塩類、及び一
般式(IB) [式中 rtlは水素原子、炭素原子数1〜16のアル
キル基、炭素原子数1〜5の)・ロアルキル基、炭素原
子数2〜5のアルケニル基、炭素原子数2〜5のアルコ
キシアルキル基、フェニル基、同−若しくけ異なっても
良く、/・ロゲン原子、炭素原子数1〜30アルキル基
若しくは炭素原子数1〜30アルコキシ基から選択され
る1〜5個の置換基を有するフェニル基、ベンジル基又
は同−若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、炭素原
子数1〜30アルキル基若しくは炭素原子数1〜30ア
ルコキシ基から選択嘔れる1〜5個の置換基を有するベ
ンジル基を示し、R1は水素原子、−・ロゲン原子、炭
素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のハロ
アルキル基、フェニル基又は同−若しくは異なっても良
く、ハロゲン原子、炭素原子数1〜30アルキル基若し
くに炭素原子数1〜30アルコキシ基から選択される1
〜5個の置換基を有するフェニル基を示し a3は水素
原子、ノ・ロゲン原子、炭素原子数1〜5のアルキル基
、炭素原子数1〜5のノ・ロアルキル基、炭素原子数1
〜5のアルコキシ基、炭素原子数1・〜5のハロアルコ
キシ基、炭素原子数1〜5のアルキルチオ基、炭素原子
数1〜5のハロアルキルチオ基、 炭素i子数1〜5の
アルキルスルフィニル基、炭素原子数1〜5のノ・ロア
ルキルスルフイニル基、炭素原子数1〜5のアルキルス
ルホニル基、炭素原子数1〜5のノ・ロアルキルスルホ
ニル基、フェノキシ基、同−若しくは異なっても良く、
ハロゲン原子、炭素原子数1〜30アルキル基若しくけ
炭素原子数1〜30アルコキシ基から選択される1〜5
個の置換基を有するフェノキシ基、フヱニルチオ基、同
−若しくハ異なっても良く、ハロゲン原子、炭素原子数
1〜30アルキル基若しくは炭素原子数1〜30アルコ
キシ基から選択式れる1〜5個の置換基を有するフェニ
ルチオ基、 −N(R)R(式中。
アルコキシカルボニル基を示しns’ a水酸基、フェ
ニルカルボニルオキシ基又は同−若しくは異なって4良
く、/・ロゲン原子、炭素原子数1〜30アルキル基若
しくに炭素原子数1〜30アルコキシ基から選択される
1〜5個の置換基をフェニル環上に有するフェニルカル
ボニルオキシ基を示し、R”fl炭素原子数1〜5のア
ルキル基、炭素原子数3〜6のシクロアルギル基又は炭
素原子数1〜5のアルキル基により置換されたシクロア
ルキル基を示す。)但し、Rがエチル基を、BI2′が
メチル基金、R3′がハロゲン原子又はメチルチオ基を
、R4′が水素原子を及びR”が水酸基を同時に示す場
合、R・6′はエチル基又はn−プロピル基を除く。]
で表されるシクロヘキサン誘導体又はその塩類、及び一
般式(IB) [式中 rtlは水素原子、炭素原子数1〜16のアル
キル基、炭素原子数1〜5の)・ロアルキル基、炭素原
子数2〜5のアルケニル基、炭素原子数2〜5のアルコ
キシアルキル基、フェニル基、同−若しくけ異なっても
良く、/・ロゲン原子、炭素原子数1〜30アルキル基
若しくは炭素原子数1〜30アルコキシ基から選択され
る1〜5個の置換基を有するフェニル基、ベンジル基又
は同−若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、炭素原
子数1〜30アルキル基若しくは炭素原子数1〜30ア
ルコキシ基から選択嘔れる1〜5個の置換基を有するベ
ンジル基を示し、R1は水素原子、−・ロゲン原子、炭
素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のハロ
アルキル基、フェニル基又は同−若しくは異なっても良
く、ハロゲン原子、炭素原子数1〜30アルキル基若し
くに炭素原子数1〜30アルコキシ基から選択される1
〜5個の置換基を有するフェニル基を示し a3は水素
原子、ノ・ロゲン原子、炭素原子数1〜5のアルキル基
、炭素原子数1〜5のノ・ロアルキル基、炭素原子数1
〜5のアルコキシ基、炭素原子数1・〜5のハロアルコ
キシ基、炭素原子数1〜5のアルキルチオ基、炭素原子
数1〜5のハロアルキルチオ基、 炭素i子数1〜5の
アルキルスルフィニル基、炭素原子数1〜5のノ・ロア
ルキルスルフイニル基、炭素原子数1〜5のアルキルス
ルホニル基、炭素原子数1〜5のノ・ロアルキルスルホ
ニル基、フェノキシ基、同−若しくは異なっても良く、
ハロゲン原子、炭素原子数1〜30アルキル基若しくけ
炭素原子数1〜30アルコキシ基から選択される1〜5
個の置換基を有するフェノキシ基、フヱニルチオ基、同
−若しくハ異なっても良く、ハロゲン原子、炭素原子数
1〜30アルキル基若しくは炭素原子数1〜30アルコ
キシ基から選択式れる1〜5個の置換基を有するフェニ
ルチオ基、 −N(R)R(式中。
R7及びR8は同−若しくは異なっても良く、水素原子
又は炭素原子数1〜30アルキル基を示し、R7及びR
”F14〜6のメチレン基で結合されても良い、)又は
炭素原子数2〜5のアルキルカルボニルオキシ基を示し
、R1及び81バー緒になって炭素原子数2〜5のメチ
レン基を示すこともできる。R’#−j水素原子、炭素
原子数1〜5のアルキル基又は炭素原子数2〜5のアル
コキシカルボニル基を示し、R5fl水酸基、ノ・ロゲ
ン原子、炭素原子数1〜5のアルキルチオ基、炭素原子
数1〜5のアルケニルチオ基、−N CR’)R” (
式中、R”及びR”は同−着しくに異なっても良く。
又は炭素原子数1〜30アルキル基を示し、R7及びR
”F14〜6のメチレン基で結合されても良い、)又は
炭素原子数2〜5のアルキルカルボニルオキシ基を示し
、R1及び81バー緒になって炭素原子数2〜5のメチ
レン基を示すこともできる。R’#−j水素原子、炭素
原子数1〜5のアルキル基又は炭素原子数2〜5のアル
コキシカルボニル基を示し、R5fl水酸基、ノ・ロゲ
ン原子、炭素原子数1〜5のアルキルチオ基、炭素原子
数1〜5のアルケニルチオ基、−N CR’)R” (
式中、R”及びR”は同−着しくに異なっても良く。
水素原子、炭素原子数1〜30アルキル基又は炭素原子
数1〜30アルケニル基を示す。)。
数1〜30アルケニル基を示す。)。
炭素原子数2〜8のアルキルカルボニルオキシ基、シク
ロアルキルの炭素原子数が3〜6ンクロアルキルカルポ
ニルオキシ基、フェニルカルボニルオキ7基又は同−若
しくに異なっても良く、ハロゲン原子、炭素原子数1〜
30アルキル基若しくけ炭素原子数1〜30アルコキシ
基から選択される1〜5個の置換基をフェニル環上にi
fるフェニルカルボニルオキシ基を示し、B6け炭素原
子数1〜18のアルキル基、炭素原子数3〜6のシクロ
アルキル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子若
しくは炭素原子数1〜5のアルキル基により置換された
シクロアルキル基、炭素原子数2〜17のアルケニル基
。
ロアルキルの炭素原子数が3〜6ンクロアルキルカルポ
ニルオキシ基、フェニルカルボニルオキ7基又は同−若
しくに異なっても良く、ハロゲン原子、炭素原子数1〜
30アルキル基若しくけ炭素原子数1〜30アルコキシ
基から選択される1〜5個の置換基をフェニル環上にi
fるフェニルカルボニルオキシ基を示し、B6け炭素原
子数1〜18のアルキル基、炭素原子数3〜6のシクロ
アルキル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子若
しくは炭素原子数1〜5のアルキル基により置換された
シクロアルキル基、炭素原子数2〜17のアルケニル基
。
炭素原子数2〜8のアルコキシアルキル基、炭素原子数
2〜8のアルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル
基又は同−若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、炭
素原子数1〜30アルキル基若しくは炭素原子数1〜3
0アルコキシ基から選択てれる1〜5個の置換基をフェ
ニル環上に有するフェノキシアルキル基を示す。]で表
されるシクロヘキサン誘導体又はその塩類及び該化合物
の製造方法及び該化合物を有効成分として含有すること
を%微とする殺虫剤並びに殺虫方法に関するものである
。
2〜8のアルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル
基又は同−若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、炭
素原子数1〜30アルキル基若しくは炭素原子数1〜3
0アルコキシ基から選択てれる1〜5個の置換基をフェ
ニル環上に有するフェノキシアルキル基を示す。]で表
されるシクロヘキサン誘導体又はその塩類及び該化合物
の製造方法及び該化合物を有効成分として含有すること
を%微とする殺虫剤並びに殺虫方法に関するものである
。
特開昭62−4号、特開平1−25762号。
同第1基、10,674号、同1基、93250号等に
本発明の一般式(IB)で表されるシクロヘキサン誘導
体またにその塩類の一部の化合物が開示されているが、
一般式(IA)で表されるシクロヘキサン誘導体又はそ
の塩類は全く開示されておらず、一般式(IA)及び一
般式(IB)で表されるシクロヘキサン誘導体またにそ
の塩類が殺虫作用を有することに全く開示されておらず
。
本発明の一般式(IB)で表されるシクロヘキサン誘導
体またにその塩類の一部の化合物が開示されているが、
一般式(IA)で表されるシクロヘキサン誘導体又はそ
の塩類は全く開示されておらず、一般式(IA)及び一
般式(IB)で表されるシクロヘキサン誘導体またにそ
の塩類が殺虫作用を有することに全く開示されておらず
。
且つ示唆もされていない。
本発明者等は新規な殺虫剤を創出すべく鋭意研究を重ね
た結果、一般式(IA)で表されるシクロヘキサン誘導
体又はその塩類が文献未記載の新規化合物であり、一般
式(IA)で表てれるシクロヘキサン♂導体又はその塩
類を含む一般式(IB)で表されるシクロヘキサン誘導
体又はその塩類が顕著な殺虫作用を有することを見出し
1本発明を充放でせたものである。
た結果、一般式(IA)で表されるシクロヘキサン誘導
体又はその塩類が文献未記載の新規化合物であり、一般
式(IA)で表てれるシクロヘキサン♂導体又はその塩
類を含む一般式(IB)で表されるシクロヘキサン誘導
体又はその塩類が顕著な殺虫作用を有することを見出し
1本発明を充放でせたものである。
本発明の一般式(IA)で表されるシクロヘキサン誘導
体又はその塩類は以下に示す互変異性体を有し1本発明
はこれらの互変異性体をも包含するものである。
体又はその塩類は以下に示す互変異性体を有し1本発明
はこれらの互変異性体をも包含するものである。
R”が水酸基の場合
R”が水醗基以外の場合
(式中 RI ’、 R2’、 R3’、R”及びR”
汀前記に同じ。)一般式(IB)で表されるシクロヘキ
サン誘導体又はその塩類も同様に互変異性体を有する。
汀前記に同じ。)一般式(IB)で表されるシクロヘキ
サン誘導体又はその塩類も同様に互変異性体を有する。
本発明の一般式(IA)又は(IB)で表されるシクロ
ヘキサン誘導体の塩類としては無機塩基又は有機塩基を
挙げることができ、無機塩基としては5例えば塩酸、硫
酸、硝酸等の無機酸類。
ヘキサン誘導体の塩類としては無機塩基又は有機塩基を
挙げることができ、無機塩基としては5例えば塩酸、硫
酸、硝酸等の無機酸類。
ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属類、カルシウム
、マグネシウム、バリウム等のアルカリ土類金属類、ア
ルミニウム、スズ、鉄、ニッケル、亜鉛等の金属類等と
の塩類、有機塩基としては1例えばジエチルアミン、ト
リエタノールアミン、トリエチルアミン、ジメチルアミ
ノピリジン、ピロール、モルホリン、DBU(1,8−
ジアザビシクロ[5,4,0] −7−ウンデセン)等
の有機塩基類、ノくラドルエンスルホン酸、トリフルオ
ロ酢酸、シュウ酸等の有機酸類との塩類を例示すること
ができるが5本発明はこれらの塩類に限定されるもので
はない。
、マグネシウム、バリウム等のアルカリ土類金属類、ア
ルミニウム、スズ、鉄、ニッケル、亜鉛等の金属類等と
の塩類、有機塩基としては1例えばジエチルアミン、ト
リエタノールアミン、トリエチルアミン、ジメチルアミ
ノピリジン、ピロール、モルホリン、DBU(1,8−
ジアザビシクロ[5,4,0] −7−ウンデセン)等
の有機塩基類、ノくラドルエンスルホン酸、トリフルオ
ロ酢酸、シュウ酸等の有機酸類との塩類を例示すること
ができるが5本発明はこれらの塩類に限定されるもので
はない。
不発明の一般式(IA)又は(IB)で表されるシクロ
ヘキサン誘導体又はその塩類の代表的な製造方法として
は1例えば以下に図示する製造方法を例示することがで
きる。
ヘキサン誘導体又はその塩類の代表的な製造方法として
は1例えば以下に図示する製造方法を例示することがで
きる。
尚、一般式(lA)で表されるシクロヘキサン誘導体又
はその塩類は一般式(IB)で表されるシクロヘキサン
誘導体又はその塩類に包含されるので1代表例として一
般式(IB)で表されるシクロヘキサン誘導体又はその
塩類を例示する。
はその塩類は一般式(IB)で表されるシクロヘキサン
誘導体又はその塩類に包含されるので1代表例として一
般式(IB)で表されるシクロヘキサン誘導体又はその
塩類を例示する。
■・
(式中al 、 n2 、 R3,R4及びR6は前記
に同じ。)即ち、一般式(II)で表される化合物を不
活性溶媒及び触媒の存在下に転位反応を行うことにより
一般式(1基、)で表でれるシクロヘキサン誘導体又は
その塩類を製造することができる。
に同じ。)即ち、一般式(II)で表される化合物を不
活性溶媒及び触媒の存在下に転位反応を行うことにより
一般式(1基、)で表でれるシクロヘキサン誘導体又は
その塩類を製造することができる。
本反応で使用することができる不活性溶媒として汀1本
反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例え
ばメタノール、エタノール。
反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例え
ばメタノール、エタノール。
プロパツール、シクロヘキサノール等のアルコール類、
ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等の塩素化
炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリ
ル等のニトリル類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等
の環状エーテル類等を例示することができる。
ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等の塩素化
炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリ
ル等のニトリル類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等
の環状エーテル類等を例示することができる。
本反応で使用できる触媒としては、例えば4−N、N−
ジメチルアミノピリジン、アセトンシアンヒドリン、K
CN、NaCN等の触媒を例示することができる。本反
応の触媒の使用量は。
ジメチルアミノピリジン、アセトンシアンヒドリン、K
CN、NaCN等の触媒を例示することができる。本反
応の触媒の使用量は。
一般式(II)で表される化合物1モルに対してα01
〜10倍モルの範囲から適宜選択して使用すれは良く、
好ましくはrL1〜1モルの範囲から選択すれば良い。
〜10倍モルの範囲から適宜選択して使用すれは良く、
好ましくはrL1〜1モルの範囲から選択すれば良い。
本反応゛の反応温度は室温乃至使用する不活性溶媒の沸
点域の範囲から適宜選択すれば良いが。
点域の範囲から適宜選択すれば良いが。
好ましくは加熱下に行うのが良い。反応時間は反応量及
び反応温度等により一定しないが数分乃至48時間の範
囲から選択すれば良−0反応終了後、常法により1例え
ば酸でpHを調整し、目的物を溶媒抽出等の操作により
単離し、必要に応じてカラムクロマトグラフィー法、再
結晶法等の精製操作を行うことにより一般式(1基、)
で表されるシクロヘキサン誘導体を製造することができ
る。
び反応温度等により一定しないが数分乃至48時間の範
囲から選択すれば良−0反応終了後、常法により1例え
ば酸でpHを調整し、目的物を溶媒抽出等の操作により
単離し、必要に応じてカラムクロマトグラフィー法、再
結晶法等の精製操作を行うことにより一般式(1基、)
で表されるシクロヘキサン誘導体を製造することができ
る。
■。
(1−D
(式中R1、R2,a!、 a4及びR6け前記に同じ
。)即ち、一般式(III)で表される化合物と一般式
(fil’)で表される酸無水物とを不活性溶媒及び塩
基の存在下に反応させることにより、一般式(1−f)
で表でれるシクロヘキサン誘導体又はその塩類を製造す
ることができる。
。)即ち、一般式(III)で表される化合物と一般式
(fil’)で表される酸無水物とを不活性溶媒及び塩
基の存在下に反応させることにより、一般式(1−f)
で表でれるシクロヘキサン誘導体又はその塩類を製造す
ることができる。
本反応で使用できる不活性溶媒としては1例えば■法に
例示の不活性溶媒を使用することができる他に、一般式
(tV)で表される酸無水物も溶媒として使用すること
ができる。
例示の不活性溶媒を使用することができる他に、一般式
(tV)で表される酸無水物も溶媒として使用すること
ができる。
本反応で使用する塩基としては、無機塩基又は有機塩基
を使用することができ、無機塩基としては1例えばナト
リウム、カリウム、マグネシウム又はカルシウム等のア
ルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、
アルコラード等を上げることができ11M機塩基として
は、例えばトリエチルアミン等の第三級アミン、ピリジ
ン、DBU(1,s−ジアザビンクロ[5,4゜0コー
7−ウンデセン)等を例示することができる。
を使用することができ、無機塩基としては1例えばナト
リウム、カリウム、マグネシウム又はカルシウム等のア
ルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、
アルコラード等を上げることができ11M機塩基として
は、例えばトリエチルアミン等の第三級アミン、ピリジ
ン、DBU(1,s−ジアザビンクロ[5,4゜0コー
7−ウンデセン)等を例示することができる。
本反応は一般式(III)で表される化合物及び−般式
(IV)で表される酸無水物を等モル便用すれば良いが
、一般式(IV)で表でれる酸無水物を過剰に使用する
こともできる。
(IV)で表される酸無水物を等モル便用すれば良いが
、一般式(IV)で表でれる酸無水物を過剰に使用する
こともできる。
又塩基の使用量は一般式(III)で表される化合物に
対して等モル乃至過剰モルの範囲から適宜選択して使用
すれば良い。
対して等モル乃至過剰モルの範囲から適宜選択して使用
すれば良い。
反応温度Fi10℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域の
範囲から選択すれは良い。
範囲から選択すれは良い。
反応時間に反応量及び反応温度等に工9一定しないが数
分乃至48時間の範囲から適宜選択すれば良い。
分乃至48時間の範囲から適宜選択すれば良い。
反応終了後5反応液を常法により、例えば溶媒抽出等の
操作によシ目的物を単離し、必要に応じてカラムクロマ
トグラフィー法、再結晶法等の精製操作を行うことにエ
フ一般式(II)で表されるシクロヘキサン誘導体を製
造することができる。
操作によシ目的物を単離し、必要に応じてカラムクロマ
トグラフィー法、再結晶法等の精製操作を行うことにエ
フ一般式(II)で表されるシクロヘキサン誘導体を製
造することができる。
■・
(式中、R’、R”、R”、R’及ヒR’d前記Kfi
il L < L。
il L < L。
R11に炭素原子数2〜7のアルキル基、炭素原子数3
〜6のシクロアルキル基、フェニル基又は同−若しくは
異なっても良く、/・ロゲン原子、炭素原子数1〜30
アルキル基若しくは炭素原子数1〜30アルコキシ基か
ら選択される1〜5個の蓋換基を有するフェニル基を示
し、Zにハロゲン原子を示す。) 即ち、一般式+1基、)で表されるシクロヘキサン誘導
体と一般式(■)で表されるノ・ライド類を不活性溶媒
及び塩基の存在下に反応させ、−般式(1−2)で表さ
れるシクロヘキサン誘導体を製造することカニできる。
〜6のシクロアルキル基、フェニル基又は同−若しくは
異なっても良く、/・ロゲン原子、炭素原子数1〜30
アルキル基若しくは炭素原子数1〜30アルコキシ基か
ら選択される1〜5個の蓋換基を有するフェニル基を示
し、Zにハロゲン原子を示す。) 即ち、一般式+1基、)で表されるシクロヘキサン誘導
体と一般式(■)で表されるノ・ライド類を不活性溶媒
及び塩基の存在下に反応させ、−般式(1−2)で表さ
れるシクロヘキサン誘導体を製造することカニできる。
本反応は等モル反応であるので、一般式(V)で表され
るハライド類に一般式(1基、)で表でれるシクロヘキ
サン誘導体に対して等モル使用すれば良いが、過剰にイ
吏用することもできる。
るハライド類に一般式(1基、)で表でれるシクロヘキ
サン誘導体に対して等モル使用すれば良いが、過剰にイ
吏用することもできる。
本反応で使用することができる不活性溶媒としては、本
反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く%例え
ばジクロロメタン、クロロホルム、四項化炭素等の塩素
化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水索類、酢酸エチル等のエステル類、アセトニト
リル、ベンゾニトリル等のニトリル類、メチルセロソル
ブ、ジエチルエーテル等の鎖状エーテル類、ジオキサン
、テトラヒドロフラン等の環状エーテル類、スルホラン
、ジメチルスルホン。
反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く%例え
ばジクロロメタン、クロロホルム、四項化炭素等の塩素
化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水索類、酢酸エチル等のエステル類、アセトニト
リル、ベンゾニトリル等のニトリル類、メチルセロソル
ブ、ジエチルエーテル等の鎖状エーテル類、ジオキサン
、テトラヒドロフラン等の環状エーテル類、スルホラン
、ジメチルスルホン。
ジメチルスルホキシド、水等を例示することができ、こ
れらの不活性溶媒は単独で若しくに混合して使用するこ
ともできる。
れらの不活性溶媒は単独で若しくに混合して使用するこ
ともできる。
本反応で使用できる塩基としては1列えば■で使用する
無機塩基若しくは有機塩基を使用することができる。
無機塩基若しくは有機塩基を使用することができる。
又塩基の使用量は一般式(1基、)で表されるシクロヘ
キサン誘導体に対して等モル乃至過剰モルの範囲から適
宜選択して使用すれば良い。
キサン誘導体に対して等モル乃至過剰モルの範囲から適
宜選択して使用すれば良い。
反応温度は0℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域の範囲
から選択すれば良い。
から選択すれば良い。
反応時間は反応量及び反応温度等により一定しないが数
分乃至48時間の範囲から適宜選択すれば良い。
分乃至48時間の範囲から適宜選択すれば良い。
反応終了後5反応液を常法によシ1例えば溶媒抽出等の
操作により目的物を単離し、必要に応じてカラムクロマ
トグラフィー法、再結晶法等の精製操作を行うことによ
り一般式(1−2)で表されるシクロヘキサン誘導体を
製造することができる。
操作により目的物を単離し、必要に応じてカラムクロマ
トグラフィー法、再結晶法等の精製操作を行うことによ
り一般式(1−2)で表されるシクロヘキサン誘導体を
製造することができる。
■・
(式中R1、R2,n*、 R’、 na及びZは前記
に同じ、)即ち、一般式(1基、)で表でれるシクロヘ
キサン誘導体を不活性溶媒の存在下又は不存在下にハロ
ゲン化剤でハロゲン化することにより一般式(1−3)
で表されるシクロヘキサン誘導体を製造することができ
る。
に同じ、)即ち、一般式(1基、)で表でれるシクロヘ
キサン誘導体を不活性溶媒の存在下又は不存在下にハロ
ゲン化剤でハロゲン化することにより一般式(1−3)
で表されるシクロヘキサン誘導体を製造することができ
る。
本反応で使用するハロゲン化剤としてハ5例えば三塩化
リン、五塩化リン、三臭化リン、塩化チオニル、オキザ
リルクロリド等のハロゲン化剤を使用することができ、
ハロゲン化剤の使用量は一般式(1基、)で表されるシ
クロヘキサン誘導体に対して等モル乃至過剰モル使用す
れば良いが、好ましくは過剰に使用するのが良い。
リン、五塩化リン、三臭化リン、塩化チオニル、オキザ
リルクロリド等のハロゲン化剤を使用することができ、
ハロゲン化剤の使用量は一般式(1基、)で表されるシ
クロヘキサン誘導体に対して等モル乃至過剰モル使用す
れば良いが、好ましくは過剰に使用するのが良い。
又、ハロゲン化剤を大過剰に使用することにより、不活
性溶媒の不存在下に反応させることができる。
性溶媒の不存在下に反応させることができる。
本反応で使用することができる不活性溶媒としては1本
反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例え
ばジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等の塩素
化炭化水素類を使用することができる。
反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例え
ばジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等の塩素
化炭化水素類を使用することができる。
反応温度は室温乃至使用する不活性溶媒の沸点域の範囲
から選択すれば良い。
から選択すれば良い。
反応時間は反応量及び反応温度等によタ一定しないが数
分乃至48時間の範囲から適宜選択すれば良い7 反応終了後、反応液を常法により、例えば溶媒留去、溶
媒抽出等の操作により目的物を単離し、必要に応じてカ
ラムクロマトグラフィー法・再結晶法等の精製操作を行
うことにより一般式(1−3)で表はれるシクロヘキサ
ン誘導体を製造することができる。
分乃至48時間の範囲から適宜選択すれば良い7 反応終了後、反応液を常法により、例えば溶媒留去、溶
媒抽出等の操作により目的物を単離し、必要に応じてカ
ラムクロマトグラフィー法・再結晶法等の精製操作を行
うことにより一般式(1−3)で表はれるシクロヘキサ
ン誘導体を製造することができる。
■・
R”−甜
(式中Bl 、 R2、BS、几4 、 R@ 、 R
% 、 R,1°及びZは前記に同L<L、Rは炭素原
子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルケニ
ル基を示し。
% 、 R,1°及びZは前記に同L<L、Rは炭素原
子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルケニ
ル基を示し。
Rは炭素原子数1〜5のアルキルチオ基、炭素原子数1
〜5のアルケニルチオ基又は−N (R7)R8(式中
、R及びRは前記に同じ。)を示す。)即ち、一般式(
II)で表されるシクロヘキサン誘導体と一般式(■)
で表されるチオール類又は一般式(■)で表されるアミ
ン類とを不活性溶媒及び塩基の存在下に反応させること
により一般式(1−4)で表されるシクロヘキサン誘導
体を製造することができる。
〜5のアルケニルチオ基又は−N (R7)R8(式中
、R及びRは前記に同じ。)を示す。)即ち、一般式(
II)で表されるシクロヘキサン誘導体と一般式(■)
で表されるチオール類又は一般式(■)で表されるアミ
ン類とを不活性溶媒及び塩基の存在下に反応させること
により一般式(1−4)で表されるシクロヘキサン誘導
体を製造することができる。
本反応ば■と同様にして反応させることにより、一般式
(1−4)で表されるシクロヘキサン誘導体を製造する
ことができる。
(1−4)で表されるシクロヘキサン誘導体を製造する
ことができる。
■・
(式中n2. R3、u4 、 R5及びR6は前記に
同じくし、RFi低級アシル基、低級アルコキシカルボ
ニル基、ベンジル基、スルホニル基、アルコキシメチル
基、アルケニル基又はトリメチルシリル基を示す。) 即ち、一般式(If基、)で表されるシクロヘキサン類
のピラゾール環の1位の保護基を不活性溶媒の存在下に
脱保護剤と反応させること罠より、一般式(I−5)で
表されるシクロヘキサン誘導体を製造することができる
。
同じくし、RFi低級アシル基、低級アルコキシカルボ
ニル基、ベンジル基、スルホニル基、アルコキシメチル
基、アルケニル基又はトリメチルシリル基を示す。) 即ち、一般式(If基、)で表されるシクロヘキサン類
のピラゾール環の1位の保護基を不活性溶媒の存在下に
脱保護剤と反応させること罠より、一般式(I−5)で
表されるシクロヘキサン誘導体を製造することができる
。
本発明で使用できる脱保護剤としてり、 fPIIえば
H,/パラジウムカーボン、亜鉛等の還元剤。
H,/パラジウムカーボン、亜鉛等の還元剤。
酢酸、トリフルオロ酢酸、ハラトルエンスルホン酸、塩
酸、臭化水素陵、硫酸等の有機又は無機酸、アルカリ金
属若しくはアルカリ土類金属の水酸化物若しくけ炭酸塩
等の無機塩基、トリエチルアミン、DBU等の有機塩基
の他、7フ化カリウム、テトラブチルアンモニウムフル
オリド等を使用することができる。
酸、臭化水素陵、硫酸等の有機又は無機酸、アルカリ金
属若しくはアルカリ土類金属の水酸化物若しくけ炭酸塩
等の無機塩基、トリエチルアミン、DBU等の有機塩基
の他、7フ化カリウム、テトラブチルアンモニウムフル
オリド等を使用することができる。
本反応で使用できる不活性溶媒としては■で使用できる
不活性溶媒の他に水又は水と■で使用できる不活性溶媒
との混合物も使用することができる。
不活性溶媒の他に水又は水と■で使用できる不活性溶媒
との混合物も使用することができる。
反応温度は0℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域から選
択すれば良い。
択すれば良い。
反応時間は反応温度1反応規模等により一定しないが、
数分乃至48時間の範囲で行えば良い。
数分乃至48時間の範囲で行えば良い。
反応終了後、■と同様にすることにより一般式(1−5
)で表てれるシクロヘキサンe導体を製造することがで
きる。
)で表てれるシクロヘキサンe導体を製造することがで
きる。
又一般式(li基、)で表されるシクロヘキサン類灯一
般式叩で表てれるフクロヘキサン類ト同様にして製造す
ることができる。
般式叩で表てれるフクロヘキサン類ト同様にして製造す
ることができる。
4式中、R’、R”、R3,R’、R5,R’ 及ヒ
ZId前記Vc同じ。、) 即ち、一般式(1−5)で表されるシクロヘキサン誘導
体と一般式(罰で表されるハライド類を不活性溶媒及び
塩基の存在下に反応はせることにより、一般式(1)で
表されるシクロヘキサン誘導体を製造することができる
。
ZId前記Vc同じ。、) 即ち、一般式(1−5)で表されるシクロヘキサン誘導
体と一般式(罰で表されるハライド類を不活性溶媒及び
塩基の存在下に反応はせることにより、一般式(1)で
表されるシクロヘキサン誘導体を製造することができる
。
本反応は■と同様に反応させることにより。
一般式(1−5)で表されるシクロヘキサン誘導体を製
造することができる。
造することができる。
■・
(式中、R1,R”、R’、R’ 及ヒR” i!前記
[同シくし、 R”は炭素原子数1〜5のアルキル基又
は炭素原子数1〜5の7・ロアルキル基を示し、 nF
i1〜2の整数を示す。) 即ち、一般式(1−6)で表されるシクロヘキサン誘導
体を不活性溶媒の存在下に適当な酸化剤によシ酸化する
ことにより、一般式(1−7)で表されるシクロヘキサ
ン誘導体全製造することができる。
[同シくし、 R”は炭素原子数1〜5のアルキル基又
は炭素原子数1〜5の7・ロアルキル基を示し、 nF
i1〜2の整数を示す。) 即ち、一般式(1−6)で表されるシクロヘキサン誘導
体を不活性溶媒の存在下に適当な酸化剤によシ酸化する
ことにより、一般式(1−7)で表されるシクロヘキサ
ン誘導体全製造することができる。
本反応で使用できる不活性溶媒としては■で使用できる
不活性溶媒を使用することができる。
不活性溶媒を使用することができる。
本反応で使用できる酸化剤としては1例えば硝酸、過酸
化水素、過安息香酸、メタクロロ過安息香酸、メタ過沃
素酸す) IJウム、ベルオキンー硫酸カリウム等を例
示することができる。
化水素、過安息香酸、メタクロロ過安息香酸、メタ過沃
素酸す) IJウム、ベルオキンー硫酸カリウム等を例
示することができる。
本反応は等モル反応であるので、酸化剤を等モル使用す
れば良いが、過剰に使用することもできる。
れば良いが、過剰に使用することもできる。
反応温度は0℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域の範囲
から選択すれば良く、好ましくは10℃乃至150℃の
範囲から選択すれば良い。
から選択すれば良く、好ましくは10℃乃至150℃の
範囲から選択すれば良い。
反応時r!?!は反応規模1反応源度等によシ一定しな
いが、数分乃至48時間の範囲から選択すれば良い。
いが、数分乃至48時間の範囲から選択すれば良い。
反応終了後、■と同様圧して、一般式(1−7)で表さ
れるシクロヘキサン誘導体を製造することができる。
れるシクロヘキサン誘導体を製造することができる。
■、基塩
類乃至■で製造されたシクロヘキサン誘導体を無機醗、
無機塩基、有機酸、有1はki4基、アルカリ金属又は
金属塩等で処理することにより一般式(1ンで表される
シクロヘキサン誘導体の塩類を製造することができる。
無機塩基、有機酸、有1はki4基、アルカリ金属又は
金属塩等で処理することにより一般式(1ンで表される
シクロヘキサン誘導体の塩類を製造することができる。
一般式(IA)で表されるシクロヘキサン誘導体又はそ
の塩類ば■乃至■の製造方法によシ製造することができ
る。
の塩類ば■乃至■の製造方法によシ製造することができ
る。
以下に本発明の一般式(IA)又は(IB)で表される
シクロヘキサン誘導体又はその塩類の代表的な化合物を
第1表及び第2表に例示するが5本発明はこれらに限定
式れるものではない。
シクロヘキサン誘導体又はその塩類の代表的な化合物を
第1表及び第2表に例示するが5本発明はこれらに限定
式れるものではない。
□ユ、−一一“0711−一□−−−−−讐基、−−−
−□□工1,1−一一一一一一一“−“1“01122
211−一トーー1−−−−−□−−−−基、
□―= 1 □210.1,1,1.1.1、ol、12.ユ、、1
121,1.工1.2.11.□1..□、−□::ヨ
巴3苦55困苦示ヨヨヨ弓□ 1 巴6巴ヨ巴巴ち6凸ラヲ巴巴 i 工 = 工 = 工 = = エ エ エ エ 円
=1、 ○ ○ Q ○ Q ■ ○ OQ ・シ
シ Q Ql 話 ′:A 二 ネ ユ り 鋸 ふ
容 ; ; η ;−一一一一一二 −二
= 55 $ 5 5 5 050 0 :;= 二 = 二 === エ
エ 。
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]
°巴巴巴巴巴巴巴巴 巴ヨ苦呂
i シ
: Q
: 5 工 === 工 エ = = エ エ エ
:一−−−=−m−−−・ ; : i ミ i i i :fij、6 i−Eニ
ー:i ・:QCJQQQC)Q(、) QQ
C) ■55556 ぢ ぢ 555555 1 δ巴巴巴巴δ巴巴6巴 ヨシ ョ □ □ エ エ エ エ 二 = = エ エ エ =
エ 基、シシii8シシシgシシシ11 ゛巴田邑巴琶巴5巴焉ヨ吉杏呂 、== エ エ 二 エ = = 工 ====1
巴巴δ6ヲヲ巴巴ヲヲ巴巴巴: □ :巴巴巴ヨ巴巴巴巴苦巴巴玉三 ′r4 工 = エ エ エ エ エ = エ エ
= =′ 巴ヨ已巴巴苦ヨ巴5巴已巴已 ・二エエヱエ==工工エエエ= 5困 ヨヨ55’5555 ぢ 55 41 謹i シシJjシgJlシ 巴 ヨ 士 巴 ヨ ヨ 巴 = ヨ ヨ 呂 玉 呂
□ = 工 ; ; 工 2 = ’:s =
:: = 工 =□= へ −= = 工 =
工 === 工 =4QQQ ■ QC,l
シ ■ ○ ■ ■ ○ 5=:I
: 工 エ − = = 工 ====
:巴 巴 示 巴 ヨ 苦 巴 ヨ 巴 元 困 呂
玉i= :!: エ エ エ エ エ ==== 工
= □−□−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
Jl−−−−−−:−−一一一一一一一一一−−−−−
−−−−一−−−−−□−−−−−−−−−−−一−・
、、o−−−一−−2“1111101〜1−−一−伊
−−−□4−−−〜 1i:OZ :!: :I:
工 −==基、: 工 ===□ 1、= 国 = = 工 = = エ エ エ
エ1 ヨ === 呂 = L −−−= +7 □ −−−−−++1 p ρ 父、第1表及び第2表中、物性が粘稠物、ガラス状物で
ある化合物のNMRデータを第3表に示す。
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ある化合物のNMRデータを第3表に示す。
第3表
1 :2.25(s、3H)、240(s、
AH)。
AH)。
!lλ62−340(In、 3H)、 148−五5
4(邑1H)。
4(邑1H)。
i17Q−4,Q8(曵 IH)、4.15(q、2)
()。
()。
1 ・五55−!L50(机4H)、 456−4
.48(亀2H)、・’ 5i48基、54(m
、 IH)、 3.65+5.66(s、 3H)、
1.2.79−2.98(m、2H)、197(s、3
H)。
.48(亀2H)、・’ 5i48基、54(m
、 IH)、 3.65+5.66(s、 3H)、
1.2.79−2.98(m、2H)、197(s、3
H)。
、: 217 、CL75基、183(m、 2H)、
(187(t、 5H)、 ’: in9
0基、01(m、 2H)、 1.660基、82(、
aH)、 1(t92−2[7(In、 2H)、 1
15(s、 3H)、 1■ 11五38−i50(磨4H)、五87(t、 2H)
。
(187(t、 5H)、 ’: in9
0基、01(m、 2H)、 1.660基、82(、
aH)、 1(t92−2[7(In、 2H)、 1
15(s、 3H)、 1■ 11五38−i50(磨4H)、五87(t、 2H)
。
: :
1233 ’ 1.07(t、 3H)、 143(d
、 6H)、 z25(s、 3H)、、’1234
i 1.03(t、 3H)、 1.333−410(
、8H)、 11Z19 (S、 3H)、 2
.51 (s、 3H)。
、 6H)、 z25(s、 3H)、、’1234
i 1.03(t、 3H)、 1.333−410(
、8H)、 11Z19 (S、 3H)、 2
.51 (s、 3H)。
jzlo−4,QQ(m、 7H)、 4.67−”>
26(m、 fH)、 1:237 j 1106−
t70(、10H)、 2−30(s、 3H)。
26(m、 fH)、 1:237 j 1106−
t70(、10H)、 2−30(s、 3H)。
12.90(s、 3H)、 2.09−!ikg5(
m、 6H)。
m、 6H)。
1279 j cL85基、.44(m、 4H)、
2.25(s、 6H)、 :1280罷2−t
46(m、 4H)、 2.32(s、 3H)。
2.25(s、 6H)、 :1280罷2−t
46(m、 4H)、 2.32(s、 3H)。
、 i 103(s、 AH)、五52(s、 3
H)。
H)。
□ 〉34−五83(m、 6H)、 a33(d、
1H)、 :、’ 28111.13(t、 3
H)、 2.30(s、 AH)、 。
1H)、 :、’ 28111.13(t、 3
H)、 2.30(s、 AH)、 。
1”2.30−五57(弓7H)、 7.00−7.7
8(曵6H)、 i□ 本発明の一般式(1A)又は(1B)で表さnるシクロ
ヘキサン誘導体又はその塩類を製造するための原料化合
物である一般式11)及び一般式(IIIllで表さn
る化合物な、例えば以下に図示する裏道方法により製造
することができる。
8(曵6H)、 i□ 本発明の一般式(1A)又は(1B)で表さnるシクロ
ヘキサン誘導体又はその塩類を製造するための原料化合
物である一般式11)及び一般式(IIIllで表さn
る化合物な、例えば以下に図示する裏道方法により製造
することができる。
(XfV)
(式中、R1,R”、 R”、 R’、 R’ 及ヒZ
ufm記Vc同じ< L、、Rlgは低級アルキル基
を示す。)即ち、Rがアルキル基の場合、一般式(XI
V)で表されるピラゾール類と一般式(XI)で表され
る酢酸エステル類とを反応させ、一般式(Xll)で表
されるピラゾール類とし、該(XI[)で表されるピラ
ゾール類を一般式圓で表されるケトン類と反応させ、更
に閉環反応に付して一般式(III)で表される化合物
を製造することができる。
ufm記Vc同じ< L、、Rlgは低級アルキル基
を示す。)即ち、Rがアルキル基の場合、一般式(XI
V)で表されるピラゾール類と一般式(XI)で表され
る酢酸エステル類とを反応させ、一般式(Xll)で表
されるピラゾール類とし、該(XI[)で表されるピラ
ゾール類を一般式圓で表されるケトン類と反応させ、更
に閉環反応に付して一般式(III)で表される化合物
を製造することができる。
次にWが水素原子又はアルコキシカルボニル基の場合、
一般式(XIV)で表されるピラゾール類とアセトンと
を反応させ、一般式(XI )で表されるピラゾール類
とし、該(XI)で表されるピラゾール類を一般式(I
X)で表されるマロン酸エステル類と反応させ、更に閉
環反応に付して一般式(11)で表される化合物を製造
することができる。
一般式(XIV)で表されるピラゾール類とアセトンと
を反応させ、一般式(XI )で表されるピラゾール類
とし、該(XI)で表されるピラゾール類を一般式(I
X)で表されるマロン酸エステル類と反応させ、更に閉
環反応に付して一般式(11)で表される化合物を製造
することができる。
次いで一般式(厘基、)て表される化合物を加水分解反
応及び脱炭酸反応に付し、一般式0ト2)で表される化
合物を製造することができる。
応及び脱炭酸反応に付し、一般式0ト2)で表される化
合物を製造することができる。
上記の方法によって一般式(2)で表される化合物を製
造することができる。
造することができる。
一般式+II)で表される化合物は一般式(2)で表さ
れる化合物と一般式(V基、)で表されるアシルハライ
ド類とを反応させることにより製造することができる。
れる化合物と一般式(V基、)で表されるアシルハライ
ド類とを反応させることにより製造することができる。
以下に本発明の一般式(IA)又は(IB)で表される
シクロヘキサン誘導体又はその塩類の代表的な化合物の
製造例を例示する。
シクロヘキサン誘導体又はその塩類の代表的な化合物の
製造例を例示する。
製造fpiJt 5−(1,3−ジメチル基、H−ピ
ラゾール−4−イル)−3−とドaキシ−2−グロヒオ
ニルー2−シクロヘキセン基、−オンの製造(化合物A
19) プロピオン酸5−(1,5−ジメチル基、)1−ピラゾ
ール−4−イル)−5−オキソ基、−シクロヘキセニル
IJ1f(5ミリモル)及び4−N、 N−ジメチルア
ミノピリジンα122t(1ミリモル)を乾漆させたテ
トラヒドロフラン50dに溶解し、窒素雰囲気下に8時
間加熱還流し、反応を行った。反応終了後、反応液を室
温まで放冷し、反応溶媒を減圧下に留去した。残渣に水
50aJを加えた後に希塩酸でpHを4に調整し、目的
物を酢酸エチル(aoyX3)で抽出し、抽出液を乾燥
後、留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(酢酸エチル:n−ヘキサン)により精製し、目的物
1151を得た。
ラゾール−4−イル)−3−とドaキシ−2−グロヒオ
ニルー2−シクロヘキセン基、−オンの製造(化合物A
19) プロピオン酸5−(1,5−ジメチル基、)1−ピラゾ
ール−4−イル)−5−オキソ基、−シクロヘキセニル
IJ1f(5ミリモル)及び4−N、 N−ジメチルア
ミノピリジンα122t(1ミリモル)を乾漆させたテ
トラヒドロフラン50dに溶解し、窒素雰囲気下に8時
間加熱還流し、反応を行った。反応終了後、反応液を室
温まで放冷し、反応溶媒を減圧下に留去した。残渣に水
50aJを加えた後に希塩酸でpHを4に調整し、目的
物を酢酸エチル(aoyX3)で抽出し、抽出液を乾燥
後、留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(酢酸エチル:n−ヘキサン)により精製し、目的物
1151を得た。
物性m、p、9ao℃ 収率91%
製造例2. 5−(5−クロロ基、,3−ジメチル−I
H−ピラゾール−4−イル)−5−ヒドロキシ−2−プ
ロピオニル−2−シクロヘキセン基、−オンの製造(化
合物422) プロピオン酸 5−(5−クロロ基、,6−シメチルー
1H−ピラゾール−4−イル)−3−オキソ基、−シク
ロヘキセニル1,499(5ミリモル)及び4−N、N
−ジメチルアミノピリジンα1229(1ミリモル)を
乾燥させたテトラヒドロフラン80mに溶解し、窒素雰
囲気下に8時間加熱還流し、反応を行った。反応終了後
、反応液を室温まで放冷し、反応溶媒を減圧下に留去し
丸。残渣に水50mを加えた後に希塩酸でpHを4Km
l整し、目的物を酢酸エチル(40−×3)で抽出し、
抽出液を乾燥後、留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン)により精
表し、目的物1.3(H’を得た。
H−ピラゾール−4−イル)−5−ヒドロキシ−2−プ
ロピオニル−2−シクロヘキセン基、−オンの製造(化
合物422) プロピオン酸 5−(5−クロロ基、,6−シメチルー
1H−ピラゾール−4−イル)−3−オキソ基、−シク
ロヘキセニル1,499(5ミリモル)及び4−N、N
−ジメチルアミノピリジンα1229(1ミリモル)を
乾燥させたテトラヒドロフラン80mに溶解し、窒素雰
囲気下に8時間加熱還流し、反応を行った。反応終了後
、反応液を室温まで放冷し、反応溶媒を減圧下に留去し
丸。残渣に水50mを加えた後に希塩酸でpHを4Km
l整し、目的物を酢酸エチル(40−×3)で抽出し、
抽出液を乾燥後、留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン)により精
表し、目的物1.3(H’を得た。
物fl nD i、5462(2a1℃)収率 87
%製造fllX 2−インブチリル−3−ヒドロキシ
−5−(5−クロロ基、,3−ジメチル基、H−ビラソ
ール−4−イル)−2−シクロヘキセン基、−オンの製
造(化合物&25) イソ酪酸 5−(5−りaロー1.3−ジメチル−IH
−ピラゾール−4−イル)−3−オキノー1−シクロヘ
キセニルt56t(5ミIJ モル)を乾燥させたアセ
トニトリル15!111に溶解し、アセトンシアンヒド
リン0085f (1ミリモル)及びトリエチルアミン
t019(10ミリモル)を加え1時間加熱還流し、反
応を行った。反応終了後、反応液を室温まで放冷し、反
応溶媒を減圧下に留去した。残渣に水2Qtlを加えた
後に希塩酸でpHを4に調整し、目的物をジエチルエー
テル(50dX3)で抽出し、抽出液を乾燥後、留去し
、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エ
チル二〇−ヘキサン)により精製し、目的物1.132
を得た。
%製造fllX 2−インブチリル−3−ヒドロキシ
−5−(5−クロロ基、,3−ジメチル基、H−ビラソ
ール−4−イル)−2−シクロヘキセン基、−オンの製
造(化合物&25) イソ酪酸 5−(5−りaロー1.3−ジメチル−IH
−ピラゾール−4−イル)−3−オキノー1−シクロヘ
キセニルt56t(5ミIJ モル)を乾燥させたアセ
トニトリル15!111に溶解し、アセトンシアンヒド
リン0085f (1ミリモル)及びトリエチルアミン
t019(10ミリモル)を加え1時間加熱還流し、反
応を行った。反応終了後、反応液を室温まで放冷し、反
応溶媒を減圧下に留去した。残渣に水2Qtlを加えた
後に希塩酸でpHを4に調整し、目的物をジエチルエー
テル(50dX3)で抽出し、抽出液を乾燥後、留去し
、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エ
チル二〇−ヘキサン)により精製し、目的物1.132
を得た。
物性m、p、 B&5℃ 収率 72%製造%J4
. 2−ブチリル−5−ヒドロキシ−5−(3〜メトキ
シ基、,3−ジメチル基、H−ピラゾール−4−イル)
−2−シクロヘキセン基、−オンの製造(化合物&44
) 0 CC* Ht −n 酪酸 5−(5−メトキシ基、,3−ジメチル基、H−
ピラゾール−4−イル)−3−オキノー1−シクロヘキ
セニル1,84r(5ミリモル)及び4−N、N−ジメ
チルアミノピリジンl1122p(1ミリモル)を乾燥
させたテトラヒト07ラン80mjに溶解し、窒素雰囲
気下に8時間力ロ熱還流し、反応を行った。反応終了後
、反応液を呈@まで放冷し、反応溶媒を減圧下に留去し
た。残渣に水50−を加えた後に希塩酸でpHを4に8
I4整し、目的物を酢酸エチル(40affX 3 )
で抽出し、抽出液を乾燥後、留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(酢酸エチル二〇−ヘキサン
)により1176し、目的物t642を得だ。
. 2−ブチリル−5−ヒドロキシ−5−(3〜メトキ
シ基、,3−ジメチル基、H−ピラゾール−4−イル)
−2−シクロヘキセン基、−オンの製造(化合物&44
) 0 CC* Ht −n 酪酸 5−(5−メトキシ基、,3−ジメチル基、H−
ピラゾール−4−イル)−3−オキノー1−シクロヘキ
セニル1,84r(5ミリモル)及び4−N、N−ジメ
チルアミノピリジンl1122p(1ミリモル)を乾燥
させたテトラヒト07ラン80mjに溶解し、窒素雰囲
気下に8時間力ロ熱還流し、反応を行った。反応終了後
、反応液を呈@まで放冷し、反応溶媒を減圧下に留去し
た。残渣に水50−を加えた後に希塩酸でpHを4に8
I4整し、目的物を酢酸エチル(40affX 3 )
で抽出し、抽出液を乾燥後、留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(酢酸エチル二〇−ヘキサン
)により1176し、目的物t642を得だ。
#IJ性rH,p、7五2℃ 収率 89%製造例s
、5−(1−エチル−3−メチル−5−メチルチオ基、
H−ピラゾール−4−イル)−3−ヒドロキシ−2−シ
クロプロピルカルボニル−2−シクロヘキセン基、−オ
ンの製造(化合物墓165) 0C−り / シクロプロパンカルボン595−(1−エチル−3−メ
チル−5−メチルチオ基、H−ピラゾール−4−イル)
−3−オキソ基、−シクロヘキセニル12.5?(56
−Bミリモル)を乾燥させたアセトニトリル100dに
溶解し、アセトンシアンヒドリンQ、3?(A7ミリモ
ル)及びトリエチルアミンa2f(81,2ミリモル)
をn0え、窒素雰囲気下に8時間室温で反応を行った。
、5−(1−エチル−3−メチル−5−メチルチオ基、
H−ピラゾール−4−イル)−3−ヒドロキシ−2−シ
クロプロピルカルボニル−2−シクロヘキセン基、−オ
ンの製造(化合物墓165) 0C−り / シクロプロパンカルボン595−(1−エチル−3−メ
チル−5−メチルチオ基、H−ピラゾール−4−イル)
−3−オキソ基、−シクロヘキセニル12.5?(56
−Bミリモル)を乾燥させたアセトニトリル100dに
溶解し、アセトンシアンヒドリンQ、3?(A7ミリモ
ル)及びトリエチルアミンa2f(81,2ミリモル)
をn0え、窒素雰囲気下に8時間室温で反応を行った。
反応終了後、反応溶媒を減圧下に留去したつ得られた残
渣に水100Mを加えた後に希塩酸でpH4に調整し、
目的物を酢酸エチル(100d×3)で抽出し、抽出液
を乾燥後、留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(酢酸エチル:n−へキサン)により精製し、
目的物1t22を得た。
渣に水100Mを加えた後に希塩酸でpH4に調整し、
目的物を酢酸エチル(100d×3)で抽出し、抽出液
を乾燥後、留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(酢酸エチル:n−へキサン)により精製し、
目的物1t22を得た。
物性m−p、9五1〜9五8℃ 収率 91.1%製
造例& 5−(1−エチル−3−メチル−5ピロリジ
ノ基、H−ピラゾール−4−イル)−3−ヒドロキシ−
2−シクロプロピルカルボニル−2−シクロヘキセン基
、−オンのIn(化合物A202 ) シクロプロパンカルボン酸 5−(1−エチル−3−メ
チル−5−ピロリジノ基、H−ピラゾール−4−イル)
−5−オキソ基、−シクロヘキセニル2.2F(&2ミ
リモル)を乾燥させたアセトニトリル50ゴに溶解し、
アセトンシアンヒドリンn1r(t2ミリモル)及びト
リエチルアミン1.4r(1五6ミリモル)を加え、窒
素雰囲気下に8時間室温で反応を行った。
造例& 5−(1−エチル−3−メチル−5ピロリジ
ノ基、H−ピラゾール−4−イル)−3−ヒドロキシ−
2−シクロプロピルカルボニル−2−シクロヘキセン基
、−オンのIn(化合物A202 ) シクロプロパンカルボン酸 5−(1−エチル−3−メ
チル−5−ピロリジノ基、H−ピラゾール−4−イル)
−5−オキソ基、−シクロヘキセニル2.2F(&2ミ
リモル)を乾燥させたアセトニトリル50ゴに溶解し、
アセトンシアンヒドリンn1r(t2ミリモル)及びト
リエチルアミン1.4r(1五6ミリモル)を加え、窒
素雰囲気下に8時間室温で反応を行った。
反応終了後、反応溶媒を減圧留去し、得らnた残渣に水
50tlを加え、希塩酸でp)Iを4に調整し、目的物
を酢酸エチル(41]+jX 3 )で抽出し、抽出液
を乾燥後留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(酢酸エチル:n−へキサン)によりN:Hし目
的物を1.42得たつm、p、 6!xo−67,0
℃ 収率 6H6%製造例7.5−(3,5−ジメチ
ル基、−n−プロピル基、H−ピラゾール−4−イル)
−2−シクロプロピルカルボニル−3−ヒドロキシ−2
−シクロヘキセン基、−オンの製造(化合物&207
) aHy−n シクロプロパンカルボン酸 5−(5,5−ジ)fルー
1−n−プロピル基、H−ピラゾール−4−イル)−3
−オキソ基、−シクロヘキセニル1.779(5,6ミ
リモル)、アセトンシアンヒドリンα1p(1,1ミリ
モル)及びトリエチルアミン1.21’(12,3ミリ
モル)を乾燥させたアセトニトリル204に溶解し、窒
素雰囲気下に8#Ejf間室戸で反応を行った。
50tlを加え、希塩酸でp)Iを4に調整し、目的物
を酢酸エチル(41]+jX 3 )で抽出し、抽出液
を乾燥後留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(酢酸エチル:n−へキサン)によりN:Hし目
的物を1.42得たつm、p、 6!xo−67,0
℃ 収率 6H6%製造例7.5−(3,5−ジメチ
ル基、−n−プロピル基、H−ピラゾール−4−イル)
−2−シクロプロピルカルボニル−3−ヒドロキシ−2
−シクロヘキセン基、−オンの製造(化合物&207
) aHy−n シクロプロパンカルボン酸 5−(5,5−ジ)fルー
1−n−プロピル基、H−ピラゾール−4−イル)−3
−オキソ基、−シクロヘキセニル1.779(5,6ミ
リモル)、アセトンシアンヒドリンα1p(1,1ミリ
モル)及びトリエチルアミン1.21’(12,3ミリ
モル)を乾燥させたアセトニトリル204に溶解し、窒
素雰囲気下に8#Ejf間室戸で反応を行った。
反応終了後、反応溶媒を減圧留去し、得られた残渣に水
50−を加え、希塩酸でpHを4に調整し、目的物を酢
酸エチル(40−dX3)で抽出し、抽出液を乾燥後留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢
酸エチル:n−ヘキサン)により#製し目的物を1.5
1?得た。
50−を加え、希塩酸でpHを4に調整し、目的物を酢
酸エチル(40−dX3)で抽出し、抽出液を乾燥後留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢
酸エチル:n−ヘキサン)により#製し目的物を1.5
1?得た。
nD 1.5432 (15℃) 収率 85.3%
このものを更にfff#することにより結晶物として1
.48 ?得た。
このものを更にfff#することにより結晶物として1
.48 ?得た。
mft1la 5−(3−メチル−5−メチルスルフ
ィニル基、−オクチル基、H−ピラゾール−4−イル)
−2−シクロプロピルカルボニル−3−ヒドロキシ−2
−シクロヘキセン基、−オンの製造(化合物&260) シクロプロパンカルボン醒 5−(3−メチル−5−メ
チルスルフィニル基、−オクチル基、H−ピラゾール−
4−イル)−3−オキソ基、−シクロヘキセニル1,7
f(X9ミリモル)全乾燥させたアセトニトリル20−
に溶解し、アセトンシアンヒドリンα1 f (1,2
ミリモル)及びトリエチルアミン0.9f(8649モ
ル)’に710え、窒素雰囲気下に8時間室温で反応を
行った。
ィニル基、−オクチル基、H−ピラゾール−4−イル)
−2−シクロプロピルカルボニル−3−ヒドロキシ−2
−シクロヘキセン基、−オンの製造(化合物&260) シクロプロパンカルボン醒 5−(3−メチル−5−メ
チルスルフィニル基、−オクチル基、H−ピラゾール−
4−イル)−3−オキソ基、−シクロヘキセニル1,7
f(X9ミリモル)全乾燥させたアセトニトリル20−
に溶解し、アセトンシアンヒドリンα1 f (1,2
ミリモル)及びトリエチルアミン0.9f(8649モ
ル)’に710え、窒素雰囲気下に8時間室温で反応を
行った。
反応終了後、反応溶媒を減圧留去し、得られた残渣に水
150dを加え、希塩酸でpHを4に調整し、目的物を
酢酸エチル(40mX3)で抽出し、抽出液を乾燥後留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢
酸エチル二〇−へキサン)により精製し目的物を1.6
f得た。
150dを加え、希塩酸でpHを4に調整し、目的物を
酢酸エチル(40mX3)で抽出し、抽出液を乾燥後留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢
酸エチル二〇−へキサン)により精製し目的物を1.6
f得た。
@性nD t5435(21,1℃) 収率 94.1
%製造例9.5−(1,3−ジメチル基、H−ピラゾ
ール−5−イル)−2−プロピオニル−2−シクロヘキ
セン基、−オンの製造(化合物潟;1 プロピオン酸 5−(1,3−ジメチル基、H−ピラゾ
ール−5−イル)−3−オキノー1−シクロヘキセニル
17.5?(66,7ミリモル)及ヒ4−N、N−ジメ
チルアミノピリジンα85 ? (7,0ミリモル)の
混合物をテトラヒドロ7ラン200dに溶解し、2時間
別熱還流し反応を行った。
%製造例9.5−(1,3−ジメチル基、H−ピラゾ
ール−5−イル)−2−プロピオニル−2−シクロヘキ
セン基、−オンの製造(化合物潟;1 プロピオン酸 5−(1,3−ジメチル基、H−ピラゾ
ール−5−イル)−3−オキノー1−シクロヘキセニル
17.5?(66,7ミリモル)及ヒ4−N、N−ジメ
チルアミノピリジンα85 ? (7,0ミリモル)の
混合物をテトラヒドロ7ラン200dに溶解し、2時間
別熱還流し反応を行った。
反応終了後、反応液を冷却し、反応溶媒を減圧下罠留去
し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(酢
酸エチル:n−ヘキサン)(より精製し、目的物を1&
40?得た。
し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(酢
酸エチル:n−ヘキサン)(より精製し、目的物を1&
40?得た。
物p% nD 15531(121℃)収率 9五7
%要造例10安息香酸 5−(1,3−ジメチル−5−
メチルスルフィニル基、H−ピラゾール−4−イル)−
6−オキソ−2−シクロプロピルカルボニル基、−シク
ロへキセニルの製& (化合物扁110) しt− 5−(1,3−ジメチル−5−メチルスルフィニル基、
H−ピラゾール−4−イル)−3−ヒドロキシ−2−シ
クロプロピルカルボニル−2−シクロヘキセン基、−オ
ンli’(i、8ミリモル)と65%水素化ナトリウム
0.082f (2,1ミリモル)を乾燥テトラヒドロ
フラン30−に加え、30分間攪拌した。その後、該反
応液に安息香酸クロリドCL50?(11ミリモル)を
加え、室温下に一皮攪拌した。反応終了後、反応液に水
を加え、目的物をエーテル(より抽出した。抽出液を炭
酸カリウム水浴液で洗浄し、水洗、乾燥後、a縮し、残
tTLヲシリカゲル力ラムクロマトグラフイー(酢酸エ
チル)により精製し、目的w1201を得た。
%要造例10安息香酸 5−(1,3−ジメチル−5−
メチルスルフィニル基、H−ピラゾール−4−イル)−
6−オキソ−2−シクロプロピルカルボニル基、−シク
ロへキセニルの製& (化合物扁110) しt− 5−(1,3−ジメチル−5−メチルスルフィニル基、
H−ピラゾール−4−イル)−3−ヒドロキシ−2−シ
クロプロピルカルボニル−2−シクロヘキセン基、−オ
ンli’(i、8ミリモル)と65%水素化ナトリウム
0.082f (2,1ミリモル)を乾燥テトラヒドロ
フラン30−に加え、30分間攪拌した。その後、該反
応液に安息香酸クロリドCL50?(11ミリモル)を
加え、室温下に一皮攪拌した。反応終了後、反応液に水
を加え、目的物をエーテル(より抽出した。抽出液を炭
酸カリウム水浴液で洗浄し、水洗、乾燥後、a縮し、残
tTLヲシリカゲル力ラムクロマトグラフイー(酢酸エ
チル)により精製し、目的w1201を得た。
物性 粘稠物 収率 25% □
N M R(CD C1a/ T M 8 δji[
ppm)I177基、.56(m、4H)、2.50(
S、5H)。
ppm)I177基、.56(m、4H)、2.50(
S、5H)。
196(s、3H)、4.05(s、3H)。
2.00−五95(m、 6H)、 Z40−7.70
(m、 3H)。
(m、 3H)。
7.87−a17(rn、2H)。
製造例11.3−クロロ−5−(1,3−ジメチル−5
−メチルチオ基、H−ピラゾール−4−イル)−2−7
’ロピオニル−2−シクロヘキセン基、−オンの製造(
化合物A79) 3−ヒドロキシ−5−(1,3−ジメチル−5メチルチ
オ基、H−ピラゾール−4−イル)−2−プロピオニル
−2−シクロヘキセン基、−オン10F(52,5ミリ
モル)をオキザリルクロリド2Sl (230ミリモル
)に溶解し、室温で1時間攪拌反応を行った。反応終了
後、反応液を氷水100ゴ中に注ぎ、1N水酸化す)
IJウムでpH7に調整し、酢酸エチル(1oo、vx
3)で目的物を抽出し、抽出液を乾燥後、溶媒を留去し
、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:
n−ヘキサン)で#1#製して目的物952を得た。
−メチルチオ基、H−ピラゾール−4−イル)−2−7
’ロピオニル−2−シクロヘキセン基、−オンの製造(
化合物A79) 3−ヒドロキシ−5−(1,3−ジメチル−5メチルチ
オ基、H−ピラゾール−4−イル)−2−プロピオニル
−2−シクロヘキセン基、−オン10F(52,5ミリ
モル)をオキザリルクロリド2Sl (230ミリモル
)に溶解し、室温で1時間攪拌反応を行った。反応終了
後、反応液を氷水100ゴ中に注ぎ、1N水酸化す)
IJウムでpH7に調整し、酢酸エチル(1oo、vx
3)で目的物を抽出し、抽出液を乾燥後、溶媒を留去し
、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:
n−ヘキサン)で#1#製して目的物952を得た。
物性 m、p、 141.2〜j42.3℃ 収率
89,5%製造例12.3−ジエチルアミノ−5−(1
,3−ジメチル−5−メチルチオ基、H−ピラゾール−
4−イル)−2−7’ロピオニル−2−シクロヘキセン
基、−オンの製造(化合物)K 84 )I C)′11 3−クロロ−5−(1,3−ジメチル−5−メチルチオ
基、H−ピラゾール−4−イル)−2−プロピオニル−
2−シクロヘキセン基、−オンcL6f(1,8ミリモ
ル)及びジエチルアミンQ16F(2,2ミリモル)を
乾燥させたテトラヒドロ7ラン50JK溶解し、該溶液
にトリエチルアミン(:L22f(2−2ミリモル)を
加え、室温下4時間攪拌反応を行った。反応終了後、反
応溶媒を減圧留去し、得らnた残★に水50m/を刀a
え、希塩酸でpH5に調整し、酢酸エチル(40d×3
)で抽出し、抽出液を乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル二〇−へキサ
ン)で精製し、目的物04ft得た。
89,5%製造例12.3−ジエチルアミノ−5−(1
,3−ジメチル−5−メチルチオ基、H−ピラゾール−
4−イル)−2−7’ロピオニル−2−シクロヘキセン
基、−オンの製造(化合物)K 84 )I C)′11 3−クロロ−5−(1,3−ジメチル−5−メチルチオ
基、H−ピラゾール−4−イル)−2−プロピオニル−
2−シクロヘキセン基、−オンcL6f(1,8ミリモ
ル)及びジエチルアミンQ16F(2,2ミリモル)を
乾燥させたテトラヒドロ7ラン50JK溶解し、該溶液
にトリエチルアミン(:L22f(2−2ミリモル)を
加え、室温下4時間攪拌反応を行った。反応終了後、反
応溶媒を減圧留去し、得らnた残★に水50m/を刀a
え、希塩酸でpH5に調整し、酢酸エチル(40d×3
)で抽出し、抽出液を乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル二〇−へキサ
ン)で精製し、目的物04ft得た。
物i nD 1.5729(211℃) 収率 61
.2%製造例1!L 5−(3,5−ジメチル基、H−
ピラゾール−4−イル)−3−ヒドロキシ−2−シクロ
プロピルカルボニル−2−シクロヘキセン基、−オンの
製造(化合物A4) H 5−(3,5−ジメチル基、−ビニル−IH−ピラゾー
ル−4−イル)−6−ヒドロキシ−2−シクロブロビル
力ルポニル−2−7クロヘキセンー1−オン5.Bf(
19,5ミリモル)を1.4−ジオキサン50a/と水
50ゴの混合溶液に溶解し、38%塩酸水溶液4.(1
(41,6ミIJモル)を滴下した。滴下終了後、3時
間加熱還流し反応を行った。反応終了後、反応液を室温
まで放冷し、溶媒を減圧下に留去した。得らnた残!に
水100dを加えた後、希水酸化ナトリウム水溶液でp
Hを4にfJ4整し、酢酸エチル(100auX3 )
で目的物を抽出し、抽出液を乾燥後、減圧下に抽出液を
留去し、残置をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(
酢酸エチル)で精多し、目的物4.52を得た。
.2%製造例1!L 5−(3,5−ジメチル基、H−
ピラゾール−4−イル)−3−ヒドロキシ−2−シクロ
プロピルカルボニル−2−シクロヘキセン基、−オンの
製造(化合物A4) H 5−(3,5−ジメチル基、−ビニル−IH−ピラゾー
ル−4−イル)−6−ヒドロキシ−2−シクロブロビル
力ルポニル−2−7クロヘキセンー1−オン5.Bf(
19,5ミリモル)を1.4−ジオキサン50a/と水
50ゴの混合溶液に溶解し、38%塩酸水溶液4.(1
(41,6ミIJモル)を滴下した。滴下終了後、3時
間加熱還流し反応を行った。反応終了後、反応液を室温
まで放冷し、溶媒を減圧下に留去した。得らnた残!に
水100dを加えた後、希水酸化ナトリウム水溶液でp
Hを4にfJ4整し、酢酸エチル(100auX3 )
で目的物を抽出し、抽出液を乾燥後、減圧下に抽出液を
留去し、残置をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(
酢酸エチル)で精多し、目的物4.52を得た。
物性m、p、 j8aO〜191j℃ 収率 851
%製造例14. 5−(3,5−ジメチル基、−n−プ
ロピル基、H〜ヒラソール−4−イル)−2−シクロプ
ロピルカルボニル−3−ヒドロキシ−2−シクロヘキセ
ン基、−オンの製造(化合物5糸207) H Cj(丁−n 5−(3,5−ジメチル基、H−ピラゾール−4−イA
−) −2−ンクロプロビル力ルボニルー3−ヒドロキ
シ−2−シクロヘキセン基、−オン1.0f(17ミリ
モル)とカリウムter t−ブトキッドαqy(th
oミリモル)を乾葉させたジメチルスルホキシド20
−に溶解し、ヨウ化n−プロビルαEl(4,4ミリモ
ル)を滴下した。、滴下終了後、室温で10時間反応を
行った。
%製造例14. 5−(3,5−ジメチル基、−n−プ
ロピル基、H〜ヒラソール−4−イル)−2−シクロプ
ロピルカルボニル−3−ヒドロキシ−2−シクロヘキセ
ン基、−オンの製造(化合物5糸207) H Cj(丁−n 5−(3,5−ジメチル基、H−ピラゾール−4−イA
−) −2−ンクロプロビル力ルボニルー3−ヒドロキ
シ−2−シクロヘキセン基、−オン1.0f(17ミリ
モル)とカリウムter t−ブトキッドαqy(th
oミリモル)を乾葉させたジメチルスルホキシド20
−に溶解し、ヨウ化n−プロビルαEl(4,4ミリモ
ル)を滴下した。、滴下終了後、室温で10時間反応を
行った。
反応終了後、反応液に水100IE/を加え、エーテル
洗浄(50JE/×2)シ、水層を希塩酸水溶液でpH
を4に調整し、目的物を酢酸エチル(10Q−×3)で
抽出し、抽出液を乾燥後留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(酢酸エチル二〇−へキサン)に
より精製し目的物を1.0?得た。
洗浄(50JE/×2)シ、水層を希塩酸水溶液でpH
を4に調整し、目的物を酢酸エチル(10Q−×3)で
抽出し、抽出液を乾燥後留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(酢酸エチル二〇−へキサン)に
より精製し目的物を1.0?得た。
物性m、p、 79.7−79.9℃ 収率 855
%友造例15. 5−(5,5−ジメチル基、−l−プ
ロピル基、H−ピラゾール−4−イル)−2−7クロプ
ロビルカルボニルー3−ヒドロキシ−2−7クロヘキセ
ンー1−オンの製造(化合物魔232) H 5−(3,5−ジメチル基、H−ピラゾール−4−イル
)−2−シクロプロピルカルボニル−3−ヒドロキン−
2−シクロヘキセン基、−オント0f(17ミリモル)
とカリウムtert−ブトキシドα9y(aOミリモル
)を乾燥させたジメチルスルホキシド20mに溶解し、
ヨウ化イングロピルn8f(t4ミリモル)を滴下した
。滴下終了後、室温で9時間反応を行った。
%友造例15. 5−(5,5−ジメチル基、−l−プ
ロピル基、H−ピラゾール−4−イル)−2−7クロプ
ロビルカルボニルー3−ヒドロキシ−2−7クロヘキセ
ンー1−オンの製造(化合物魔232) H 5−(3,5−ジメチル基、H−ピラゾール−4−イル
)−2−シクロプロピルカルボニル−3−ヒドロキン−
2−シクロヘキセン基、−オント0f(17ミリモル)
とカリウムtert−ブトキシドα9y(aOミリモル
)を乾燥させたジメチルスルホキシド20mに溶解し、
ヨウ化イングロピルn8f(t4ミリモル)を滴下した
。滴下終了後、室温で9時間反応を行った。
反応終了後、反応液に水100dを加え、エーテル洗浄
(50mX 2 ) L、、水層を希塩酸水浴液でpH
を4に調整し、目的物を酢酸エチル(100ゼ×3)で
抽出し、抽出液を乾燥後留去し、残渣を7す力ゲルカラ
ムクロマトグラフィ−(酢酸エチル=n−ヘキサノ)に
より謂襄し目的蜜を1.12得た。
(50mX 2 ) L、、水層を希塩酸水浴液でpH
を4に調整し、目的物を酢酸エチル(100ゼ×3)で
抽出し、抽出液を乾燥後留去し、残渣を7す力ゲルカラ
ムクロマトグラフィ−(酢酸エチル=n−ヘキサノ)に
より謂襄し目的蜜を1.12得た。
物q m、p、 97.2−99.6’C収率 953
%製造f1116. 5−(3,5−ジメチル基、基、
−ブチル基、H−ピラゾール−4−イル)−2−シクロ
プロピルカルボニル−3−ヒドロキシ−2−シクロヘキ
セン基、−オンの製造(化合物A248) CaHe基、 5−(5,5−ジメチル基、H−ピラゾール−4−イル
)−2−シクロプロピルカルボニル−3−ヒドロキシ−
2−7クロヘキセンー1−オンasy(isミリモル)
とカリウムter t−ブトキシドCL49(5,8ミ
リモル)を乾燥させたテトラヒドロフラン20adに溶
解し、ヨウ化インブチル149(Z22H9ル)を滴下
した。滴下終了後、8時間加熱還流し反応を行った。
%製造f1116. 5−(3,5−ジメチル基、基、
−ブチル基、H−ピラゾール−4−イル)−2−シクロ
プロピルカルボニル−3−ヒドロキシ−2−シクロヘキ
セン基、−オンの製造(化合物A248) CaHe基、 5−(5,5−ジメチル基、H−ピラゾール−4−イル
)−2−シクロプロピルカルボニル−3−ヒドロキシ−
2−7クロヘキセンー1−オンasy(isミリモル)
とカリウムter t−ブトキシドCL49(5,8ミ
リモル)を乾燥させたテトラヒドロフラン20adに溶
解し、ヨウ化インブチル149(Z22H9ル)を滴下
した。滴下終了後、8時間加熱還流し反応を行った。
反応終了後、反応液に水100111を加え、エーテル
洗浄(50,t/X2 ) L、水層を希塩酸水溶液で
pHを4に調整し、目的上を酢酸エチル(10〇−×3
)で抽出し、抽出液を乾燥後留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン
)により精製し目的物を02y得た。
洗浄(50,t/X2 ) L、水層を希塩酸水溶液で
pHを4に調整し、目的上を酢酸エチル(10〇−×3
)で抽出し、抽出液を乾燥後留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン
)により精製し目的物を02y得た。
物i nD t5485(00℃)収$ 3H3%
製造例17. 5− (3−クロロ基、−エチル−5−
メチルスルフィニル−tH−ピラソール−4−イル)−
2−シクロプロピルカルボニル−5−ヒドロキシ−2−
シクロヘキセ/基、−オンの製造(化合物滝152) C,H5 5−(3−クロロ基、−エチル−5−メチルチオ基、H
−ピラゾール−4−イル)−2−シクロプロピルカルボ
ニル−6−ヒドロキシ−2−シクロヘキセン基、−オン
α9a?(2,8ミ+)モル)ヲエタノール10dに溶
解し、水5dに溶解したベルオキソ−硫酸カリウム1.
02f(1,7ミリモル)を加えた後、室温にて10時
間で反応を行った。
製造例17. 5− (3−クロロ基、−エチル−5−
メチルスルフィニル−tH−ピラソール−4−イル)−
2−シクロプロピルカルボニル−5−ヒドロキシ−2−
シクロヘキセ/基、−オンの製造(化合物滝152) C,H5 5−(3−クロロ基、−エチル−5−メチルチオ基、H
−ピラゾール−4−イル)−2−シクロプロピルカルボ
ニル−6−ヒドロキシ−2−シクロヘキセン基、−オン
α9a?(2,8ミ+)モル)ヲエタノール10dに溶
解し、水5dに溶解したベルオキソ−硫酸カリウム1.
02f(1,7ミリモル)を加えた後、室温にて10時
間で反応を行った。
反応終了後、反応溶媒を減圧留去し、得らnた残渣から
塩化メチレンで目的物を抽出し、抽出液を乾燥後留去し
、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(メタノ
ール:酢酸エチル)により′nII梨し目的物をα57
2得た。
塩化メチレンで目的物を抽出し、抽出液を乾燥後留去し
、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(メタノ
ール:酢酸エチル)により′nII梨し目的物をα57
2得た。
!吻住m、p、140基、41℃ 収率 56%製造例
1a 5−(1−エチル−3−メチル−5−メチルス
ルフィニル基、)I−ビラシールー−’4−イ#)−3
−ヒドロキン−2−シクロプロピルカルボニル−2−フ
クロヘキセン基、−オンの製造(化合物鳥176) H 5−(1−エチル−5−メチル−5−メチルチオ基、H
−ピラゾール−4−イル)−3−ヒドロキシ−2−シク
ロプロピルカルボニル−2−シクロヘキセン基、−オン
9.3 f (278ミリモル)をエタノール300−
に溶解し、水300M1に溶解したボタシウム パーオ
キシモノスル7エイト9.49(15,3617モル)
を加えた後、室温下10時間反応を行った。
1a 5−(1−エチル−3−メチル−5−メチルス
ルフィニル基、)I−ビラシールー−’4−イ#)−3
−ヒドロキン−2−シクロプロピルカルボニル−2−フ
クロヘキセン基、−オンの製造(化合物鳥176) H 5−(1−エチル−5−メチル−5−メチルチオ基、H
−ピラゾール−4−イル)−3−ヒドロキシ−2−シク
ロプロピルカルボニル−2−シクロヘキセン基、−オン
9.3 f (278ミリモル)をエタノール300−
に溶解し、水300M1に溶解したボタシウム パーオ
キシモノスル7エイト9.49(15,3617モル)
を加えた後、室温下10時間反応を行った。
反応終了後、反応溶媒を減圧下に留去した。
目的物を含む残渣から目的物を塩化メチレン(200ゴ
×3)で抽出し、抽出液を乾燥後、留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(メタノール:酢酸エ
チル)によりfMRし、目門物aOりを得た。
×3)で抽出し、抽出液を乾燥後、留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(メタノール:酢酸エ
チル)によりfMRし、目門物aOりを得た。
物性m−p、 13cL1〜j31.1℃ 収率 82
.1%↓造例19.5−(1−エチル−6−メチル−5
−メチルスルフィニル−IH−ピラゾール−4−イk
) −3−ヒドロキシ−2−シクロプロピルカルボニル
−2−シクロヘキセン基、−オンのナトリウム塩の製造
(化合14177)金属ナトリウム20mり(1187
ミリアトム)を乾燥エタノール1odK溶解し、該溶液
に5−(1−エチル−6−メチル−5−メチルスルフィ
ニル基、H−ピラゾール−4−イル)−3−ヒドロキシ
ル2−シクロブロピルカルボニル−2−シクロヘキセン
基、−オン[139(1186ミリモル)を加え、1時
間室温にて反応を行った。
.1%↓造例19.5−(1−エチル−6−メチル−5
−メチルスルフィニル−IH−ピラゾール−4−イk
) −3−ヒドロキシ−2−シクロプロピルカルボニル
−2−シクロヘキセン基、−オンのナトリウム塩の製造
(化合14177)金属ナトリウム20mり(1187
ミリアトム)を乾燥エタノール1odK溶解し、該溶液
に5−(1−エチル−6−メチル−5−メチルスルフィ
ニル基、H−ピラゾール−4−イル)−3−ヒドロキシ
ル2−シクロブロピルカルボニル−2−シクロヘキセン
基、−オン[139(1186ミリモル)を加え、1時
間室温にて反応を行った。
反応終了後、溶媒を留去し、残渣を乾燥剤として塩化カ
ルシウムを用いて、減圧下約70℃に加熱し、乾燥させ
、目的物α522を得だ。
ルシウムを用いて、減圧下約70℃に加熱し、乾燥させ
、目的物α522を得だ。
物性 ガラス状
N M R(D!0 /D S S 、δft1L p
pm )[190基、,00(m、4H)、t35(t
、3H)。
pm )[190基、,00(m、4H)、t35(t
、3H)。
2.44(s、3H)、2.25−2.49(m、3H
)。
)。
2.65−2.85(m、2H)、111(S、3H)
。
。
1l55基、65(,1)f)、4.59(q、2H)
。
。
製造ガ2(l 5−(5,5−ジメチル基、H−ピラゾ
ール−4−イル)−2−シクロプロピルカルボニル−3
−ヒドロキシ−2−シクロヘキセン基、−オン塩酸塩の
製造(化合物黒5)H 5−(5,5−ジメチル基、H−ピラゾール−4−イル
)〜2−シクロプロピルカルボニルー3−ヒドロキシ−
2−シクロヘキセン基、−オンG、5/(1,8ミリモ
ル)と12%塩酸1.4−ジオキサン溶液29(6,6
ミリモル)を1.4−ジオキサン20 m K 711
11え、10分間室窟にて反応を行ったっ 反応終了後、析出した結晶を1果し、エーテルで洗浄し
、減圧下に500で乾燥させ、目的物α57得た。
ール−4−イル)−2−シクロプロピルカルボニル−3
−ヒドロキシ−2−シクロヘキセン基、−オン塩酸塩の
製造(化合物黒5)H 5−(5,5−ジメチル基、H−ピラゾール−4−イル
)〜2−シクロプロピルカルボニルー3−ヒドロキシ−
2−シクロヘキセン基、−オンG、5/(1,8ミリモ
ル)と12%塩酸1.4−ジオキサン溶液29(6,6
ミリモル)を1.4−ジオキサン20 m K 711
11え、10分間室窟にて反応を行ったっ 反応終了後、析出した結晶を1果し、エーテルで洗浄し
、減圧下に500で乾燥させ、目的物α57得た。
物件 m、p、 28[19−28&2℃ 収率89,
5%本発明の一般式(IA)又は(IB) で表される
シクロヘキサン誘導体又はその塩類を有効成分とする殺
虫剤は、特に半翅目害虫に対して顕著な効果を示し、そ
のうちでも果樹、作物等に寄生し、葉の退色、萎ちょう
による生育阻害を起こす吸汗害虫に対して有効で、例え
ば水稲の代表的な有害害虫であるトビイロウンカ(Ni
Ia−parvata lugens )、セジロウン
カ(Sogatel 1afurcifera )、
ヒメトビウンカ(Laodelphax5triate
llus )等のウンカ類、ナス、トマト、きゅうり、
インゲン、大豆等の野菜項、ワタ、朶、茶等の時用作物
や、ミカン、ブドウ、ナシ、リンゴ、カキ等の果gI4
に加害するオンシツコナジラミ(Trialeurod
es vaporaiorum )、ミカンキジラミ(
Dialeurodes citri )、ミカントゲ
コナジラミ(AIeurocanthuS 5pin
iferus )、ブト1クコナシラミ(Aleuro
lobus taonabae )、タバココナジラミ
(Bemisia tabaci ) 、イチゴコナジ
ラミ(Trialeurodes packardi
)等ノコナシラミ類、ナシキジラミ(Psylla p
yrisuga )、クワキジラミ(Anomoneu
ra mori )、 ミカンキジラミ(1)iap
horina citri )、リンゴキジラミ(Ps
ylla mori )等のキジラミ類、ツノロウカイ
ガラムシ(Ceroplastes pseudoce
riferus )、ミカ7r)pカイカ7ムシ(Pu
lvinaria aurantii)、ミカ7−v
ルカイガラムシ(Pseudaonidia dupl
ex)、サンホーゼカイガラムシ(Quadraspi
diotusperniciosus )、ヤノネカイ
ガラA シ(Unasp’+’:yanoneosis
)等のカイガラムシ類、ナシグンバイ(Stepha
nitis nasbi )、ツツジグンバイ(8te
phanitis pyrioides )等のダンバ
イムシ類に対して有効である。
5%本発明の一般式(IA)又は(IB) で表される
シクロヘキサン誘導体又はその塩類を有効成分とする殺
虫剤は、特に半翅目害虫に対して顕著な効果を示し、そ
のうちでも果樹、作物等に寄生し、葉の退色、萎ちょう
による生育阻害を起こす吸汗害虫に対して有効で、例え
ば水稲の代表的な有害害虫であるトビイロウンカ(Ni
Ia−parvata lugens )、セジロウン
カ(Sogatel 1afurcifera )、
ヒメトビウンカ(Laodelphax5triate
llus )等のウンカ類、ナス、トマト、きゅうり、
インゲン、大豆等の野菜項、ワタ、朶、茶等の時用作物
や、ミカン、ブドウ、ナシ、リンゴ、カキ等の果gI4
に加害するオンシツコナジラミ(Trialeurod
es vaporaiorum )、ミカンキジラミ(
Dialeurodes citri )、ミカントゲ
コナジラミ(AIeurocanthuS 5pin
iferus )、ブト1クコナシラミ(Aleuro
lobus taonabae )、タバココナジラミ
(Bemisia tabaci ) 、イチゴコナジ
ラミ(Trialeurodes packardi
)等ノコナシラミ類、ナシキジラミ(Psylla p
yrisuga )、クワキジラミ(Anomoneu
ra mori )、 ミカンキジラミ(1)iap
horina citri )、リンゴキジラミ(Ps
ylla mori )等のキジラミ類、ツノロウカイ
ガラムシ(Ceroplastes pseudoce
riferus )、ミカ7r)pカイカ7ムシ(Pu
lvinaria aurantii)、ミカ7−v
ルカイガラムシ(Pseudaonidia dupl
ex)、サンホーゼカイガラムシ(Quadraspi
diotusperniciosus )、ヤノネカイ
ガラA シ(Unasp’+’:yanoneosis
)等のカイガラムシ類、ナシグンバイ(Stepha
nitis nasbi )、ツツジグンバイ(8te
phanitis pyrioides )等のダンバ
イムシ類に対して有効である。
本発明の殺虫剤は水田害虫であるウンカ類及び果樹、野
菜等の害虫であるコナララミ類、キジラミ類に対して、
特異的に殺虫効果を示し、その作用性は特に成虫に対し
て効果的で、ウンカ類、コナララミ類、キジラミ類、カ
イガラム・シ類、ダンバイムシ類等の稲、果樹、野菜等
への吸汗行動を抑制し死に到らしめるものである。
菜等の害虫であるコナララミ類、キジラミ類に対して、
特異的に殺虫効果を示し、その作用性は特に成虫に対し
て効果的で、ウンカ類、コナララミ類、キジラミ類、カ
イガラム・シ類、ダンバイムシ類等の稲、果樹、野菜等
への吸汗行動を抑制し死に到らしめるものである。
従って、水稲、果樹、野菜等の害虫類の発生゛が予測さ
れる時期に合わせて、害虫類の発生前又は発生か確認さ
れた時点で水稲、果樹、野菜等の水田水、茎葉又は土壌
等江処理することにより本発明の殺虫剤の所期の効果が
奏せられるものである。
れる時期に合わせて、害虫類の発生前又は発生か確認さ
れた時点で水稲、果樹、野菜等の水田水、茎葉又は土壌
等江処理することにより本発明の殺虫剤の所期の効果が
奏せられるものである。
しかし、本発明はこれらの態様のみに限定されるもので
はない。
はない。
本発明の一般式(IA)又は(IB)で表されるシクロ
ヘキサン誘導体又はその塩類を殺虫剤として便用する場
合、IIk薬製剤上の常法(従い、使用上都合の良い形
状Kg剤して使用するのが一般的である。即ち、本発明
の一般式(IA)又ri(IB>で表されるシクロヘキ
サン誘導体又はその塩類を適当な不活性担体に、又は必
要に応じて補助剤と一緒に、適当な割付に配合して溶解
、分離、@濁、混合、含浸、吸着若しくは何者させ、適
宜の剤形、例えば慢濁剤、乳剤、液剤、水利剤、粒剤、
粉剤、錠剤等Kn剤して使用すれば良い。
ヘキサン誘導体又はその塩類を殺虫剤として便用する場
合、IIk薬製剤上の常法(従い、使用上都合の良い形
状Kg剤して使用するのが一般的である。即ち、本発明
の一般式(IA)又ri(IB>で表されるシクロヘキ
サン誘導体又はその塩類を適当な不活性担体に、又は必
要に応じて補助剤と一緒に、適当な割付に配合して溶解
、分離、@濁、混合、含浸、吸着若しくは何者させ、適
宜の剤形、例えば慢濁剤、乳剤、液剤、水利剤、粒剤、
粉剤、錠剤等Kn剤して使用すれば良い。
本発明で便用できる不活性担体としてぼ固体又V′i液
体の何れであっても良く、固体の担体になりうる材料と
しては、例えばダイズ粉、穀物粉、木粉、樹皮粉、鉱粉
、タバコ茎粉、クルミ穀粉、ふすま、繊維素粉末、植物
エキス抽出後の残渣、粉砕合成樹脂等の合成重合体、粘
土類(例えばカオリン、ベントナイト、酸性白土等)、
タルク類(例えばタルク、ピロフィライト等ン、シリカ
類(例えば珪藻土、珪砂、雲母、ホワイトカーボン〔含
水微粉珪素、言水珪酸ともいゎれる合成高分散珪酸で、
製品により珪酸カルシウムを主成分として含む本のもあ
る。〕)、活性炭、イオウ粉末、軽石、焼成珪藻土、レ
ンガ粉砕物、フライアッシュ、砂、炭酸カルシウム、燐
酸カルシウム等の無機鉱物性粉末、硫安、燐安、硝安、
尿素、塩安等の化学肥料、堆肥等を挙げることができる
。これらは単独で若しくは二種以上の混合物の形で使用
される。
体の何れであっても良く、固体の担体になりうる材料と
しては、例えばダイズ粉、穀物粉、木粉、樹皮粉、鉱粉
、タバコ茎粉、クルミ穀粉、ふすま、繊維素粉末、植物
エキス抽出後の残渣、粉砕合成樹脂等の合成重合体、粘
土類(例えばカオリン、ベントナイト、酸性白土等)、
タルク類(例えばタルク、ピロフィライト等ン、シリカ
類(例えば珪藻土、珪砂、雲母、ホワイトカーボン〔含
水微粉珪素、言水珪酸ともいゎれる合成高分散珪酸で、
製品により珪酸カルシウムを主成分として含む本のもあ
る。〕)、活性炭、イオウ粉末、軽石、焼成珪藻土、レ
ンガ粉砕物、フライアッシュ、砂、炭酸カルシウム、燐
酸カルシウム等の無機鉱物性粉末、硫安、燐安、硝安、
尿素、塩安等の化学肥料、堆肥等を挙げることができる
。これらは単独で若しくは二種以上の混合物の形で使用
される。
液体の担体になりうる材料としては、そn自体溶媒症を
有するものの他、溶媒能を有さすとも補助剤の助けによ
り有効成分化合物を分散させうることとなるものから選
択され、例えば代表例として次に挙げる担体を例示でき
るが、これらは単独で若しくは2撞以上の混合物の形で
使用され、例えば水、アルコール類(例えばメタノール
、エタノール、イングロバノール、ブタノール、エチレ
ングリコール等)、ケトン類(例えばアセトン、メチル
エチルケトン、メチルインブチルケトン、ジイソブチル
ケトン、シクロヘキサノン等)、エーテル類(fll工
ばエチルエーテル、ジオキサン、セロソルブ、ジプロピ
ルエーテル、テトラヒドロフラン等)、脂肪族炭化水素
類(例えばガソリン、鉱油等)、芳香疾大化水素類(例
えばベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ
、アルキルナフタレン等)、・・ロゲン化炭化水素類(
例えばジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭X、塩
g化ベンゼン等)、エステル類(例えば酢酸エチル、ジ
イソプロピルフタノート、ジブチルフタレート、ジオク
チルフタレート等)、アミド類(例えばジメチルホルム
アミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
等)、ニトリル類(例えばアセトニトリル等)、ジメチ
ルスルホキシド類等を挙げることができる。
有するものの他、溶媒能を有さすとも補助剤の助けによ
り有効成分化合物を分散させうることとなるものから選
択され、例えば代表例として次に挙げる担体を例示でき
るが、これらは単独で若しくは2撞以上の混合物の形で
使用され、例えば水、アルコール類(例えばメタノール
、エタノール、イングロバノール、ブタノール、エチレ
ングリコール等)、ケトン類(例えばアセトン、メチル
エチルケトン、メチルインブチルケトン、ジイソブチル
ケトン、シクロヘキサノン等)、エーテル類(fll工
ばエチルエーテル、ジオキサン、セロソルブ、ジプロピ
ルエーテル、テトラヒドロフラン等)、脂肪族炭化水素
類(例えばガソリン、鉱油等)、芳香疾大化水素類(例
えばベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ
、アルキルナフタレン等)、・・ロゲン化炭化水素類(
例えばジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭X、塩
g化ベンゼン等)、エステル類(例えば酢酸エチル、ジ
イソプロピルフタノート、ジブチルフタレート、ジオク
チルフタレート等)、アミド類(例えばジメチルホルム
アミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
等)、ニトリル類(例えばアセトニトリル等)、ジメチ
ルスルホキシド類等を挙げることができる。
池の補助剤としては次に例示する代表的な補助剤をあげ
ることができ、こnらの補助剤は目的に応じて使用され
、単独で、ある場合は二種以上の補助剤を併用し、又あ
る場合には全く補助剤を便用しないことも可能である。
ることができ、こnらの補助剤は目的に応じて使用され
、単独で、ある場合は二種以上の補助剤を併用し、又あ
る場合には全く補助剤を便用しないことも可能である。
有効成分化合物の乳化、分散、可溶化及び/又は湿潤の
目的のために界面活性剤が使用され、例えばポリオキシ
エチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキ
ルアリールエーテル、ポリオキシエチレン高級脂肪酸エ
ステル、ポリオキシエチレン樹脂酸エステル、ポリオキ
シエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチ
レンソルビタンモノオレエート、アルキルアリールスル
ホン酸塩、ナフタレンスルホン酸縮合物、リグニンスル
ホン酸塩、高級アルコール硫酸エステル等の界面活性剤
を例示することができる。
目的のために界面活性剤が使用され、例えばポリオキシ
エチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキ
ルアリールエーテル、ポリオキシエチレン高級脂肪酸エ
ステル、ポリオキシエチレン樹脂酸エステル、ポリオキ
シエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチ
レンソルビタンモノオレエート、アルキルアリールスル
ホン酸塩、ナフタレンスルホン酸縮合物、リグニンスル
ホン酸塩、高級アルコール硫酸エステル等の界面活性剤
を例示することができる。
又有効成分化合物の分散安定化、粘着及び/又は結合の
目的のために、次に例示する補助剤を使用することもで
き、例えばカゼイン、ゼラチン、澱粉、メチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、アラビアゴム、ポリ
ビニルアルコール、松根油、糠油、ベントナイト、リグ
ニンスルホン酸塩等の補助剤を使用することもできる。
目的のために、次に例示する補助剤を使用することもで
き、例えばカゼイン、ゼラチン、澱粉、メチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、アラビアゴム、ポリ
ビニルアルコール、松根油、糠油、ベントナイト、リグ
ニンスルホン酸塩等の補助剤を使用することもできる。
固体製品の流動性改良のために次に挙げる補助剤を愛用
することもでき、例え〜はワックス、ステアリン酸塩、
燐酸アルキルエステル等の補助剤を使用できる。
することもでき、例え〜はワックス、ステアリン酸塩、
燐酸アルキルエステル等の補助剤を使用できる。
懸濁ヰ製品の解こう剤として、例えばナフタレンスルホ
ン酸縮合物、縮合燐酸塩等の補助剤を愛用することもで
きる。
ン酸縮合物、縮合燐酸塩等の補助剤を愛用することもで
きる。
消泡剤としては、例えばシリコーン油等の補助剤を使用
することもできる。
することもできる。
有効成分化合物の配合割合は必要・て応じて加減するこ
とができ、例えば粉剤威いμ粒剤とする場合はα01〜
50重i/に%、又乳剤或いは水和剤とする場合も同様
[101〜50重蓋%が適当である。
とができ、例えば粉剤威いμ粒剤とする場合はα01〜
50重i/に%、又乳剤或いは水和剤とする場合も同様
[101〜50重蓋%が適当である。
本発明の一般式TI)で表されるシクロヘキサン誘導体
又はその塩類を有効成分とする殺虫剤は、害虫類を防除
するために、そのまま、又は水等で適宜希釈し、若しく
は懸濁させた形で殺虫に有効な量を、当該害虫に、又は
当該害虫の発生若しくは生育が好ましくない場所におい
て使用すれば艮い。例えば水稲害虫であるウンカ虐を防
除するには、本発明の殺虫剤を水稲の茎葉又は水稲が植
えられている水田土壌や水田水に処理しても良い。
又はその塩類を有効成分とする殺虫剤は、害虫類を防除
するために、そのまま、又は水等で適宜希釈し、若しく
は懸濁させた形で殺虫に有効な量を、当該害虫に、又は
当該害虫の発生若しくは生育が好ましくない場所におい
て使用すれば艮い。例えば水稲害虫であるウンカ虐を防
除するには、本発明の殺虫剤を水稲の茎葉又は水稲が植
えられている水田土壌や水田水に処理しても良い。
本発明の一般式(IA)又は(IB)で表されるシクロ
ヘキサン誘導体又はその塩類を有効成分とする殺虫剤の
使用tVig々の因子、例えば目的、対象害虫、作物の
発生/生育状況、害虫の発生傾向、天候、IM境条件、
剤型、施用方法、施用場所又は施用時期等により変動す
るが、有効成分化合物として10アール当たり12〜3
時の範囲から目的に応じて適宜選択す扛ば良い。
ヘキサン誘導体又はその塩類を有効成分とする殺虫剤の
使用tVig々の因子、例えば目的、対象害虫、作物の
発生/生育状況、害虫の発生傾向、天候、IM境条件、
剤型、施用方法、施用場所又は施用時期等により変動す
るが、有効成分化合物として10アール当たり12〜3
時の範囲から目的に応じて適宜選択す扛ば良い。
本発明の一般式(IA)又は(IB)で表されるシクロ
ヘキサン誘導体又はその塩類を有効成分とする殺虫剤を
更に防除対象害虫、防除適期の拡大のため、或いは薬量
の低減をはかる目的で他の殺虫剤又は殺菌剤と混合して
使用することも可能である。
ヘキサン誘導体又はその塩類を有効成分とする殺虫剤を
更に防除対象害虫、防除適期の拡大のため、或いは薬量
の低減をはかる目的で他の殺虫剤又は殺菌剤と混合して
使用することも可能である。
以下に本発明の代表的な処方例及び試験例を示すが本発
明はこれらに限足されるものではない。
明はこれらに限足されるものではない。
処方例1゜
化合物41 50部キシレン
40部ボリオギシエチレンノニル
フェニルエーテルとアルキルベンゼンスルホン酸カルシ
ウムとの混合物 1a部以上を
均一に混合して乳剤とする。
40部ボリオギシエチレンノニル
フェニルエーテルとアルキルベンゼンスルホン酸カルシ
ウムとの混合物 1a部以上を
均一に混合して乳剤とする。
処方例2
化合物&15 3部クレー粉末
82部珪藻士粉末
15部以上を均一に混合して粉剤とする。
82部珪藻士粉末
15部以上を均一に混合して粉剤とする。
処方例五
化合物A58 5部ベントナイトと
クレーの混合粉末 90部リすニンスルホン
酸カルシ’7A 5i以上を均一に
混合し、適音の水を加えて混練し、造粒、乾燥して粒剤
とする。
クレーの混合粉末 90部リすニンスルホン
酸カルシ’7A 5i以上を均一に
混合し、適音の水を加えて混練し、造粒、乾燥して粒剤
とする。
処方倒毛
化合物A72 20部カオリンと合
成高分散珪酸 75部ポリオキシエチレンノニ
ルフ1ニル エーテルとアルキルベンゼンスルホン 酸カルシウムとの混合物 5部以上
を均一に混合して水利剤とする。
成高分散珪酸 75部ポリオキシエチレンノニ
ルフ1ニル エーテルとアルキルベンゼンスルホン 酸カルシウムとの混合物 5部以上
を均一に混合して水利剤とする。
試験例1.トビイロウンカ殺虫試験
本発明化合物を有効成分とする薬剤の200ppmのf
a度の薬液に稲の実生(品攬:金甫K)を30秒間浸漬
した。風乾後にガラス試験管に入n1トビイロウンカ(
Nilaparvata lugens ) 3 合を
各10頭づつ接種した後、綿栓をした、接種8日後に生
死玉数を調査し、下記の式により死去率を算出し、判定
基準に従って判定した。
a度の薬液に稲の実生(品攬:金甫K)を30秒間浸漬
した。風乾後にガラス試験管に入n1トビイロウンカ(
Nilaparvata lugens ) 3 合を
各10頭づつ接種した後、綿栓をした、接種8日後に生
死玉数を調査し、下記の式により死去率を算出し、判定
基準に従って判定した。
試験Fi25℃の恒温室内で行った。
死虫数
死去率(%”” ia目1「×”0
判定基準
A−一一一死虫率90%以上
B−・−・−・死去率70〜90%未満C−,−・−・
死生率50〜70%未満D・・・・−死虫率50%禾情
。
死生率50〜70%未満D・・・・−死虫率50%禾情
。
結果を第4表に示す。
第4表
第 4 表 (続き)
18s: 200. A 昌1012DO,A1842
00、C′、:112□:200A85 □ 200
、 A 1113 、20OA1862001 A
111141200人’ 87 ’ 200
、 A 、:116. 200 1 A′ 92
200 □ A ”118’ 200
A94 □ 200 A 11q !
2oo、 c: 95 200 121
、20OA・ 96 ’ 200 ” 12!
+1 20OA98 200 A 1125
. 200 A1 99 200 C1
128zoo、 A100.200 :+29
1 20OA・ +01 200 B
l +31’ 200 A’1021 20
0 A ; 133 200 A・1
03 200 ′ A :1134 200
A11041 2001 巴35:2ooAA
・1 第 4 表 (ifcさ) 、14q 2001 A i; 17t
200 A150 200 B
・ 172 200 A+51 2
00 A ″ 173 200 A
1521 200 、 A I: 174’
200 A 1+53 200 、 A
t175 200 A =・:155・ 20
0:A−;176200A1156 200 A
;l 177 200 A 。
00、C′、:112□:200A85 □ 200
、 A 1113 、20OA1862001 A
111141200人’ 87 ’ 200
、 A 、:116. 200 1 A′ 92
200 □ A ”118’ 200
A94 □ 200 A 11q !
2oo、 c: 95 200 121
、20OA・ 96 ’ 200 ” 12!
+1 20OA98 200 A 1125
. 200 A1 99 200 C1
128zoo、 A100.200 :+29
1 20OA・ +01 200 B
l +31’ 200 A’1021 20
0 A ; 133 200 A・1
03 200 ′ A :1134 200
A11041 2001 巴35:2ooAA
・1 第 4 表 (ifcさ) 、14q 2001 A i; 17t
200 A150 200 B
・ 172 200 A+51 2
00 A ″ 173 200 A
1521 200 、 A I: 174’
200 A 1+53 200 、 A
t175 200 A =・:155・ 20
0:A−;176200A1156 200 A
;l 177 200 A 。
’157 200.A ・ 178 20
0’A’158’ 200 A ’□11
79 200 A □1sq: 20
0 A ’1180 200 A
・、16o、 2001 A 11181
20OA ・1161 200 A ’1
82 200 A’’162 200’
B 、183 200 A′ 163
・ 200 ′ 巴84 ′ 20OA
11 人 164・ 200’A 己85,20OA。
0’A’158’ 200 A ’□11
79 200 A □1sq: 20
0 A ’1180 200 A
・、16o、 2001 A 11181
20OA ・1161 200 A ’1
82 200 A’’162 200’
B 、183 200 A′ 163
・ 200 ′ 巴84 ′ 20OA
11 人 164・ 200’A 己85,20OA。
第4表(貌き)
1203・200□A 228 200 C; 2
04 、 200 λ ’229 200
A第 4 表 (続き) 240 200 A 267
200 A’241 200. A
’268 200 B :242 200’
A 269 200 A
243 200 A : 2701200
人 ・’244 20OA’271’ 200
A’245 200 ’2721 200
A ミ・ 246 2001 A ’273
’ 200 A 。
04 、 200 λ ’229 200
A第 4 表 (続き) 240 200 A 267
200 A’241 200. A
’268 200 B :242 200’
A 269 200 A
243 200 A : 2701200
人 ・’244 20OA’271’ 200
A’245 200 ’2721 200
A ミ・ 246 2001 A ’273
’ 200 A 。
247 2001 A 2y4 ′ 20
0 A 1248 200、
275’ 200’ C・ 249
200 A 276 200
A“ 250 20(l A 、2
77 200 A255 200
λ □278’200 A 。
0 A 1248 200、
275’ 200’ C・ 249
200 A 276 200
A“ 250 20(l A 、2
77 200 A255 200
λ □278’200 A 。
:254 20(l A ’280’ 200
A 。
A 。
255 200 281 200
A256 200 A 28
5 200 C1257200A
’295 200 、 A :258 20
0 ’ A 297 200 :A il−
一−−□−−−−−−−−−−−−−−→−−−−−−
−−−−−−−−−−−−−一−−−−−−−−−−−
−−−−−−一一一。
A256 200 A 28
5 200 C1257200A
’295 200 、 A :258 20
0 ’ A 297 200 :A il−
一−−□−−−−−−−−−−−−−−→−−−−−−
−−−−−−−−−−−−−一−−−−−−−−−−−
−−−−−−一一一。
第 4 表 (続き)
、314; 200 A 、s2b: 20
0. A□3151 200 C’528’
200 A 。
0. A□3151 200 C’528’
200 A 。
1316 200 B ’330’ 200
1 −4 1、:317・ 200 、 A ’、3
32 、 200− λ 。
1 −4 1、:317・ 200 、 A ’、3
32 、 200− λ 。
: sls l 200 、 A ’ sss
、 200・ A :、319 200 C,
534,2001CI・320 ’、 IC’、
556 :、 200 :、 C:3221 20
0 A ssy : 2001 A325
200 A ’55B’ 200 A
。
、 200・ A :、319 200 C,
534,2001CI・320 ’、 IC’、
556 :、 200 :、 C:3221 20
0 A ssy : 2001 A325
200 A ’55B’ 200 A
。
324 ’ 200 C559’ 200 、
□ A ;325 200 A ’試
峡例2 オンシツコナジラミ殺虫試験。
□ A ;325 200 A ’試
峡例2 オンシツコナジラミ殺虫試験。
本発明化合物を有効酸−分とする薬剤の1100ppの
濃度の薬液にトマト小葉(品種:ボンテローザ)を30
秒間浸漬した。風乾後、葉柄部を湿潤させた脱脂綿でく
るみ、ガラス円筒(直径5傷×高さ20 an )に入
れた。オンシツコナジラミ(Trialeurodes
vaporariorum )成虫を各10頭放飼し
、円筒上部をガーゼで蓋をした。放飼7日後に生死を調
査し、試験列1に準じて死去率を算出し、判定を行った
。
濃度の薬液にトマト小葉(品種:ボンテローザ)を30
秒間浸漬した。風乾後、葉柄部を湿潤させた脱脂綿でく
るみ、ガラス円筒(直径5傷×高さ20 an )に入
れた。オンシツコナジラミ(Trialeurodes
vaporariorum )成虫を各10頭放飼し
、円筒上部をガーゼで蓋をした。放飼7日後に生死を調
査し、試験列1に準じて死去率を算出し、判定を行った
。
試験ば25Cの恒温室で行った。
結果を第5表に示す。
第 5 表
特許出願人 日本餐薬株式会社 −
゛、
代 理 人 弁理士 萼 優 美 −巳ほか2名
Claims (11)
- (1)一般式( I A) ▲数式、化学式、表等があります▼( I A) [式中、R^1^′は水素原子、エチル基、n−プロピ
ル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s−ブチル基を示
し、R^2は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜
5のアルキル基を示し、R^3^′はハロゲン原子、炭
素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のアル
コキシ基炭素原子数1〜5のアルキルチオ基、炭素原子
数1〜5のアルキルスルフィニル基、炭素原子数1〜5
のアルキルスルホニル基又は−N(R^7^′)R^8
^′(式中、R^7^′及びR^8^′は同一若しくは
異なっても良く、水素原子又は炭素原子数1〜3のアル
キル基を示し、R^7^′及びR^8^′は4〜6のメ
チレン基で結合されても良い。)を示し、R^4^′は
水素原子、炭素原子数1〜5のアルキル基又は炭素原子
数2〜5のアルコキシカルボニル基を示し、R^5^′
は水酸基、フェニルカルボニルオキシ基又は同一若しく
は異なっても良く、ハロゲン原子、炭素原子数1〜3の
アルキル基若しくは炭素原子数1〜3のアルコキシ基か
ら選択される1〜5個の置換基をフェニル環上に有する
フェニルカルボニルオキシ基を示し、R^6^′は炭素
原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数3〜6のシクロ
アルキル基又は炭素原子数1〜3のアルキル基により置
換されたシクロアルキル基を示す。 但し、R^1^′がエチル基を、R^2^′がメチル基
を、R^3^′がハロゲン原子又はメチルチオ基を、R
^4^′が水素原子を及びR^5^′が水酸基を同時に
示す場合、R^6^′はエチル基又はn−プロピル基以
外の置換基を示す。] で表されるシクロヘキサン誘導体又はその塩類。 - (2)R^1′がエチル基、n−プロピル基、を示し、
R^2^′が水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜
5のアルキル基を示し、R^3^′が炭素原子数1〜5
のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルキルチオ基、炭
素原子数1〜5のアルキルスルフィニル基、炭素原子数
1〜5のアルキルスルホニル基又は−N(R^7^′)
R^8^′(式中、R^7^′及びR^8^′は同一若
しくは異なっても良く、水素原子又は炭素原子数1〜3
のアルキル基を示す。)を示し、R^4^′が水素原子
を示し、R^5^′が水酸基を示し、R^6^′が炭素
原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数3〜6のシクロ
アルキル基又は炭素原子数1〜3のアルキル基により置
換されたシクロアルキル基を示すが、但し、R^1^′
がエチル基を、R^2^′がメチル基を、R^3^′が
メチルチオ基を、R^4^′が水素原子を、R^5^′
が水酸基を同時に示す場合、R^6^′はエチル基又は
n−プロピル基以外の置換基を示す、請求項第1項記載
のシクロヘキサン誘導体又はその塩類。 - (3)一般式(IIA) ▲数式、化学式、表等があります▼(IIA) [式中、R^1^′は水素原子、エチル基、n−プロピ
ル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s−ブチル基を示
し、R^2^′は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数
1〜5のアルキル基を示し、R^3^′はハロゲン原子
、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5の
アルコキシ基、炭素原子数1〜5のアルキルチオ基、炭
素原子数1〜5のアルキルスルフィニル基、炭素原子数
1〜5のアルキルスルホニル基又は−N(R^7^′)
R^8^′(式中、R^7^′及びR^8^′は同一若
しくは異なっても良く、水素原子又は炭素原子数1〜3
のアルキル基を示し、R^7^′及びR^8^′は4〜
6のメチレン基で結合されても良い。)を示し、R^4
^′は水素原子、炭素原子数1〜5のアルキル基又は炭
素原子数2〜5のアルコキシカルボニル基を示し、R^
6^′は炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数3
〜6のシクロアルキル基又は炭素原子数1〜3のアルキ
ル基により置換されたシクロアルキル基を示す。 但し、R^1^′がエチル基を、R^2^′がメチル基
を、R^3^′がハロゲン原子又はメチルチオ基を及び
R^4^′が水素原子を同時に示す場合、R^6^′は
エチル基又はn−プロピル基以外の置換基を示す。]で
表されるシクロヘキサン類を触媒の存在下に転位反応す
ることを特徴とする一般式( I A′)▲数式、化学式
、表等があります▼( I A′) (式中、R^1^′、R^2^′、R^3^′、R^4
^′及びR^6^′は前記に同じ。)で表されるシクロ
ヘキサン誘導体又はその塩類の製造方法。 - (4)一般式( I B) ▲数式、化学式、表等があります▼( I B) [式中、R^1は水素原子、炭素原子数1〜16のアル
キル基、炭素原子数1〜5のハロアルキル基、炭素原子
数2〜5のアルケニル基、炭素原子数2〜5のアルコキ
シアルキル基、フェニル基、同一若しくは異なっても良
く、ハロゲン原子、炭素原子数1〜3のアルキル基若し
くは炭素原子数1〜3のアルコキシ基から選択される1
〜5個の置換基を有するフェニル基、ベンジル基又は同
一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、炭素原子数
1〜3のアルキル基若しくは炭素原子数1〜3のアルコ
キシ基から選択される1〜5個の置換基を有するベンジ
ル基を示し、R^2は水素原子、ハロゲン原子、炭素原
子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のハロアル
キル基、フェニル基又は同一若しくは異なっても良く、
ハロゲン原子、炭素原子数1〜3のアルキル基若しくは
炭素原子数1〜3のアルコキシ基から選択される1〜5
個の置換基を有するフェニル基を示し、R^3は水素原
子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭
素原子数1〜5のハロアルキル基、炭素原子数1〜5の
アルコキシ基、炭素原子数1〜5のハロアルコキシ基、
炭素原子数1〜5のアルキルチオ基、炭素原子数1〜5
のハロアルキルチオ基、炭素原子数1〜5のアルキルス
ルフィニル基、炭素原子数1〜5のハロアルキルスルフ
ィニル基、炭素原子数1〜5のアルキルスルホニル基、
炭素原子数1〜5のハロアルキルスルホニル基、フェノ
キシ基、同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、
炭素原子数1〜3のアルキル基若しくは炭素原子数1〜
3のアルコキシ基から選択される1〜5個の置換基を有
するフェノキシ基、フェニルチオ基、同一若しくは異な
っても良く、ハロゲン原子、炭素原子数1〜3のアルキ
ル基若しくは炭素原子数1〜3のアルコキシ基から選択
される1〜5個の置換基を有するフェニルチオ基、−N
(R^7)R^8(式中、R^7及びR^8は同一若し
くは異なっても良く、水素原子又は炭素原子数1〜3の
アルキル基を示し、R^7及びR^8は4〜6のメチレ
ン基で結合されても良い。)又は炭素原子数2〜5のア
ルキルカルボニルオキシ基を示し、R^2及びR^3は
一緒になって炭素原子数2〜5のメチレン基を示すこと
もできる。R^4は水素原子、炭素原子数1〜5のアル
キル基又は炭素原子数2〜5のアルコキシカルボニル基
を示し、R^5は水酸基、ハロゲン原子、炭素原子数1
〜5のアルキルチオ基、炭素原子数1〜5のアルケニル
チオ基、−N(R^9)R^1^0(式中、R^9及び
R^1^0は同一若しくは異なっても良く、水素原子、
炭素原子数1〜3のアルキル基又は炭素原子数1〜3の
アルケニル基を示す。)、炭素原子数2〜8のアルキル
カルボニルオキシ基、シクロアルキルの炭素原子数が3
〜6のシクロアルキルカルボニルオキシ基、フェニルカ
ルボニルオキシ基又は同一若しくは異なっても良く、ハ
ロゲン原子、炭素原子数1〜3のアルキル基若しくは炭
素原子数1〜3のアルコキシ基から選択される1〜5個
の置換基をフェニル環上に有するフェニルカルボニルオ
キシ基を示し、R^6は炭素原子数1〜18のアルキル
基、炭素原子数3〜6のシクロアルキル基、同一又は異
なっても良く、ハロゲン原子若しくは炭素原子数1〜3
のアルキル基により置換されたシクロアルキル基、炭素
原子数2〜17のアルケニル基、炭素原子数2〜8のア
ルコキシアルキル基、炭素原子数2〜8のアルキルチオ
アルキル基、フェノキシアルキル基又は同一若しくは異
なっても良く、ハロゲン原子、炭素原子数1〜3のアル
キル基若しくは炭素原子数1〜3のアルコキシ基から選
択される1〜5個の置換基をフェニル環上に有するフェ
ノキシアルキル基を示す。]で表されるシクロヘキサン
誘導体又はその塩類を有効成分として含有することを特
徴とする殺虫剤。 - (5)一般式( I )において、R^1が炭素原子数1
〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のハロアルキル基
又は炭素原子数2〜5のアルケニル基を示し、R^2が
水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜5のアルキル
基又は炭素原子数1〜5のハロアルキル基を示し、R^
3が炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5
のアルコキシ基、炭素原子数1〜5のアルキルチオ基、
炭素原子数1〜5のハロアルキルチオ基、炭素原子数1
〜5のアルキルスルフィニル基、炭素原子数1〜5のア
ルキルスルホニル基又は−N(R^7)R^8(式中、
R^7及びR^8は同一若しくは異なっても良く、水素
原子又は炭素原子数1〜5のアルキル基を示す。)を示
し、R^4が水素原子を示し、R^5が水酸基を示し、
R^6が炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数3
〜6のシクロアルキル基又は同一又は異なっても良く、
ハロゲン原子若しくは炭素原子数1〜30アルキル基に
より置換されたシクロアルキル基を示すシクロヘキサン
誘導体又はその塩類を有効成分として含有する請求項第
4項記載の殺虫剤。 - (6)一般式( I )においてR^1が炭素原子数1〜
5のアルキル基を示し、R^2が炭素原子数1〜5のア
ルキル基を示し、R^3が炭素原子数1〜5のアルキル
基、炭素原子数1〜5のアルキルチオ基、炭素原子数1
〜5のアルキルスルフィニル基又は−N(R^7)R^
8(式中、R^7及びR^8は同一若しくは異なっても
良く、水素原子又は炭素原子数1〜3のアルキル基又は
炭素原子数1〜3のアルケニル基を示す。)を示し、R
^4が水素原子を示し、R^5が水酸基を示し、R^6
が炭素原子数3〜6のシクロアルキル基を示すシクロヘ
キサン誘導体又はその塩類を有効成分として含有する請
求項第5項記載の殺虫剤。 - (7)殺虫剤が半翅目害虫用である請求項第4、5及び
6項のいずれか1項に記載の殺虫剤。 - (8)一般式( I B) ▲数式、化学式、表等があります▼( I B) [式中、R^1は水素原子、炭素原子数1〜16のアル
キル基、炭素原子数1〜5のハロアルキル基、炭素原子
数2〜5のアルケニル基、炭素原子数2〜5のアルコキ
シアルキル基、フェニル基、同一若しくは異なっても良
く、ハロゲン原子、炭素原子数1〜3のアルキル基若し
くは炭素原子数1〜3のアルコキシ基から選択される1
〜5個の置換基を有するフェニル基、ベンジル基又は同
一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、炭素原子数
1〜3のアルキル基若しくは炭素原子数1〜3のアルコ
キシ基から選択される1〜5個の置換基を有するベンジ
ル基を示し、R^2は水素原子、ハロゲン原子、炭素原
子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のハロアル
キル基、フェニル基又は同一若しくは異なっても良く、
ハロゲン原子、炭素原子数1〜3のアルキル基若しくは
炭素原子数1〜3のアルコキシ基から選択される1〜5
個の置換基を有するフェニル基を示し、R^3は水素原
子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭
素原子数1〜5のハロアルキル基、炭素原子数1〜5の
アルコキシ基、炭素原子数1〜5のハロアルコキシ基、
炭素原子数1〜5のアルキルチオ基、炭素原子数1〜5
のハロアルキルチオ基、炭素原子数1〜5のアルキルス
ルフィニル基、炭素原子数1〜5のハロアルキルスルフ
ィニル基、炭素原子数1〜5のアルキルスルホニル基、
炭素原子数1〜5のハロアルキルスルホニル基、フェノ
キシ基、同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、
炭素原子数1〜3のアルキル基若しくは炭素原子数1〜
3のアルコキシ基から選択される1〜5個の置換基を有
するフェノキシ基、フェニルチオ基、同一若しくは異な
っても良く、ハロゲン原子、炭素原子数1〜3のアルキ
ル基若しくは炭素原子数1〜3のアルコキシ基から選択
される1〜5個の置換基を有するフェニルチオ基、−N
(R^7)R^8(式中、R^7及びR^8は同一若し
くは異なっても良く、水素原子又は炭素原子数1〜3の
アルキル基を示し、R^7及びR^8は4〜6のメチレ
ン基で結合されても良い。)又は炭素原子数2〜5のア
ルキルカルボニルオキシ基を示し、R^2及びR^3は
一緒になって炭素原子数2〜5のメチレン基を示すこと
もできる。R^4は水素原子、炭素原子数1〜5のアル
キル基又は炭素原子数2〜5のアルコキシカルボニル基
を示し、R^5は水酸基、ハロゲン原子、炭素原子数1
〜5のアルキルチオ基、炭素原子数1〜5のアルケニル
チオ基、−N(R^9)R^1^0(式中、R^9及び
R^1^0は同一若しくは異なっても良く、水素原子、
炭素原子数1〜3のアルキル基又は炭素原子数1〜3の
アルケニル基を示す。)、炭素原子数2〜8のアルキル
カルボニルオキシ基、シクロアルキルの炭素原子数が3
〜6のシクロアルキルカルボニルオキシ基、フェニルカ
ルボニルオキシ基又は同一若しくは異なっても良く、ハ
ロゲン原子、炭素原子数1〜3のアルキル基若しくは炭
素原子数1〜3のアルコキシ基から選択される1〜5個
の置換基をフェニル環上に有するフェニルカルボニルオ
キシ基を示し、R^6は炭素原子数1〜18のアルキル
基、炭素原子数3〜6のシクロアルキル基、同一又は異
なっても良く、ハロゲン原子若しくは炭素原子数1〜3
のアルキル基により置換されたシクロアルキル基、炭素
原子数2〜17のアルケニル基、炭素原子数2〜8のア
ルコキシアルキル基、炭素原子数2〜8のアルキルチオ
アルキル基、フェノキシアルキル基又は同一若しくは異
なっても良く、ハロゲン原子、炭素原子数1〜3のアル
キル基若しくは炭素原子数1〜3のアルコキシ基から選
択される1〜5個の置換基をフェニル環上に有するフェ
ノキシアルキル基を示す。]で表されるシクロヘキサン
誘導体又はその塩類を有効成分として含有する殺虫剤を
、植物に対する有害虫が発生又は発生が予測される植物
又はその周辺に10アール当たり有効成分量として1g
〜3kgの範囲で処理することを特徴とする殺虫方法。 - (9)一般式( I )において、R^1が炭素原子数1
〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のハロアルキル基
又は炭素原子数2〜5のアルケニル基を示し、R^2が
水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜5のアルキル
基又は炭素原子数1〜5のハロアルキル基を示し、R^
3が炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5
のアルコキシ基、炭素原子数1〜5のアルキルチオ基、
炭素原子数1〜5のハロアルキルチオ基、炭素原子数1
〜5のアルキルスルフィニル基、炭素原子数1〜5のア
ルキルスルホニル基又は−N(R^7)R^8(式中、
R^7及びR^8は同一若しくは異なっても良く、水素
原子又は炭素原子数1〜3のアルキル基を示す。)を示
し、R^4が水素原子を示し、R^5が水酸基を示し、
R^6が炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数3
〜6のシクロアルキル基又は同一又は異なっても良く、
ハロゲン原子若しくは炭素原子数1〜3のアルキル基に
より置換されたシクロアルキル基を示すシクロヘキサン
誘導体又はその塩類を有効成分として含有する殺虫剤を
植物に対する有害虫が発生又は発生が予測される植物又
はその周辺に10アール当たり有効成分量として1g〜
3kgの範囲で処理することを特徴とする請求項第8項
記載の殺虫方法。 - (10)一般式( I )において、R^1が炭素原子数
1〜5のアルキル基を示し、R^2が炭素原子数1〜5
のアルキル基を示し、R^3が炭素原子数1〜5のアル
キル基、炭素原子数1〜5のアルキルチオ基、炭素原子
数1〜5のアルキルスルフィニル基又は−N(R^7)
R^8(式中、R^7及びR^8は同一若しくは異なっ
ても良く、水素原子又は炭素原子数1〜3のアルキル基
を示す。)を示し、R^4が水素原子を示し、R^5が
水酸基を示し、R^6が炭素原子数3〜6のシクロアル
キル基を示すシクロヘキサン誘導体又はその塩類を有効
成分として含有する殺虫剤を植物に対する有害虫が発生
又は発生が予測される植物又はその周辺に10アール当
たり有効成分量として1g〜3kgの範囲で処理するこ
とを特徴とする請求項第9項記載の殺虫方法。 - (11)有害虫が半翅目害虫である請求項第8、9及び
10項のいずれか1項記載の殺虫方法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11182689 | 1989-04-28 | ||
| JP2-93569 | 1990-04-09 | ||
| JP9356990 | 1990-04-09 | ||
| JP1-111826 | 1990-04-09 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0418076A true JPH0418076A (ja) | 1992-01-22 |
| JP2935127B2 JP2935127B2 (ja) | 1999-08-16 |
Family
ID=26434902
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2112535A Expired - Lifetime JP2935127B2 (ja) | 1989-04-28 | 1990-04-28 | シクロヘキサン誘導体又はその塩類、その製造方法及びその用途並びにその使用方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2935127B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2025178102A1 (ja) * | 2024-02-20 | 2025-08-28 | 日産化学株式会社 | アリールテトラヒドロピリジン化合物及び有害生物防除剤 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3310418A1 (de) | 1983-03-23 | 1984-09-27 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Cyclohexan-1,3-dion, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung zur bekaempfung unerwuenschten pflanzenwuchses |
-
1990
- 1990-04-28 JP JP2112535A patent/JP2935127B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2025178102A1 (ja) * | 2024-02-20 | 2025-08-28 | 日産化学株式会社 | アリールテトラヒドロピリジン化合物及び有害生物防除剤 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2935127B2 (ja) | 1999-08-16 |
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