JPH041920A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH041920A JPH041920A JP10027090A JP10027090A JPH041920A JP H041920 A JPH041920 A JP H041920A JP 10027090 A JP10027090 A JP 10027090A JP 10027090 A JP10027090 A JP 10027090A JP H041920 A JPH041920 A JP H041920A
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- protective film
- support
- boron nitride
- magnetic
- magnetic layer
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
非磁性支持体上に磁性層及び保護膜を順次形成して成る
磁気記録媒体及びその製造方法に関し、磁性層のダメー
ジをなくして耐久性を向上させることのできる磁気記録
媒体及びその製造方法を提供することを目的とし、 非磁性支持体上に磁性層及び保護膜を順次形成して成る
磁気記録媒体において、前記保護膜として窒化ほう素保
護膜を用いた構成とする。また、表面に磁性層が形成さ
れた非磁性支持体を真空容器の下方に配置するとともに
、・前記真空容器内の前記支持体の上方にプラズマ炎を
発生させ、この状態で、前記真空容器の上方から供給さ
れる保護膜材料のほう素粉末と窒素を蒸発させて前記支
持体の表面に窒化ほう素膜を形成する構成とする。
磁気記録媒体及びその製造方法に関し、磁性層のダメー
ジをなくして耐久性を向上させることのできる磁気記録
媒体及びその製造方法を提供することを目的とし、 非磁性支持体上に磁性層及び保護膜を順次形成して成る
磁気記録媒体において、前記保護膜として窒化ほう素保
護膜を用いた構成とする。また、表面に磁性層が形成さ
れた非磁性支持体を真空容器の下方に配置するとともに
、・前記真空容器内の前記支持体の上方にプラズマ炎を
発生させ、この状態で、前記真空容器の上方から供給さ
れる保護膜材料のほう素粉末と窒素を蒸発させて前記支
持体の表面に窒化ほう素膜を形成する構成とする。
本発明は、非磁性支持体上に磁性層及び保護膜を順次形
成して成る磁気記録媒体及びその製造方法に関するもの
である。
成して成る磁気記録媒体及びその製造方法に関するもの
である。
近年、磁気ディスク装置では、記録の高密度化に伴ない
、ヘッドは低浮上化の方向に進んでいる。
、ヘッドは低浮上化の方向に進んでいる。
このため、クラッシュの危険性が高まり、保護膜の耐久
性を向上させることが必要になっている。
性を向上させることが必要になっている。
従来、磁気ディスク装置で使用される磁気ディスク（磁
気記録媒体）においては、基板上への薄膜形成にスパッ
タ法、蒸着法が採用されている。
気記録媒体）においては、基板上への薄膜形成にスパッ
タ法、蒸着法が採用されている。
しかし、このスパッタ法、蒸着法により薄膜を形成する
従来方式では、飽和蒸気圧が各温度で著しく異なるため
、蒸発速度等の膜形成′条件の再現性に乏しく、組成が
均一でち密な薄膜が得られない。さらに、保護膜材料と
してカーボン等が使用されているが、グラファイト膜で
は、弱耐久性のため保護膜を厚くする必要があり、また
、ダイヤモンド膜では、高耐久性のため保護膜を薄くで
きるが、従来のスパッタ法、蒸着法ではあまり正確なダ
イヤモンド構造ができず、かつ条件の把握も困難で、利
用できない。
従来方式では、飽和蒸気圧が各温度で著しく異なるため
、蒸発速度等の膜形成′条件の再現性に乏しく、組成が
均一でち密な薄膜が得られない。さらに、保護膜材料と
してカーボン等が使用されているが、グラファイト膜で
は、弱耐久性のため保護膜を厚くする必要があり、また
、ダイヤモンド膜では、高耐久性のため保護膜を薄くで
きるが、従来のスパッタ法、蒸着法ではあまり正確なダ
イヤモンド構造ができず、かつ条件の把握も困難で、利
用できない。
本発明は、磁性層のダメージをなくして耐久性を向上さ
せることのできる磁気記録媒体及びその製造方法を提供
することを目的としている。
せることのできる磁気記録媒体及びその製造方法を提供
することを目的としている。
〔課題を解決するための手段］
上述の目的を達成するため、本発明では、非磁性体上に
磁性層及び保護膜を順次形成して成る磁気記録媒体にお
いて、前記保護膜として窒化ほう素保護膜を用いた構成
とする。また、表面に磁性層が形成された非磁性保護膜
を真空容器の下方に配置するとともに、前記真空容器内
の前記支持体の上方にプラズマ炎を発生させ、この状態
で、前記真空容器の上方から供給される保護膜材料のほ
う素粉末と窒素を蒸発させて前記支持体の表面に窒化ほ
う素膜を形成する構成とする。
磁性層及び保護膜を順次形成して成る磁気記録媒体にお
いて、前記保護膜として窒化ほう素保護膜を用いた構成
とする。また、表面に磁性層が形成された非磁性保護膜
を真空容器の下方に配置するとともに、前記真空容器内
の前記支持体の上方にプラズマ炎を発生させ、この状態
で、前記真空容器の上方から供給される保護膜材料のほ
う素粉末と窒素を蒸発させて前記支持体の表面に窒化ほ
う素膜を形成する構成とする。
保護膜材料は、支持体の上方でプラズマの１０．０００
°Ｃを越える高温により一瞬のうちに蒸発し、これによ
り支持体上に窒化ほう素薄膜の保護膜が形成される。こ
のようにして形成された保護膜は、組成の変動がなく均
一なものとなる。また、プラズマ炎発生空間は支持体の
上方にあって該支持体と平行になっているため、形成さ
れる薄膜はち密なものとなる。
°Ｃを越える高温により一瞬のうちに蒸発し、これによ
り支持体上に窒化ほう素薄膜の保護膜が形成される。こ
のようにして形成された保護膜は、組成の変動がなく均
一なものとなる。また、プラズマ炎発生空間は支持体の
上方にあって該支持体と平行になっているため、形成さ
れる薄膜はち密なものとなる。
以下、図面に関連して本発明の詳細な説明する。
第１図は磁気ディスク（磁気記録媒体）１００の構造を
示す断面図で、該磁気ディスク１００は、アルミニウム
等の円板状非磁性支持体１０１の表面に、強磁性金属薄
膜（磁性層）１０２及び窒化ほう素保護膜１０３を順次
形成して成る。なお、実際には、磁気ディスク１００は
、表面に減摩用の潤滑剤層１０４を形成して使用される
。
示す断面図で、該磁気ディスク１００は、アルミニウム
等の円板状非磁性支持体１０１の表面に、強磁性金属薄
膜（磁性層）１０２及び窒化ほう素保護膜１０３を順次
形成して成る。なお、実際には、磁気ディスク１００は
、表面に減摩用の潤滑剤層１０４を形成して使用される
。
この磁気ディスク１００の窒化ほう素保護膜１０３の形
成に使用する装置の構造概要を第２図に示す。第２図に
おいて、１は真空容器、２は真空容器１の上部に設けら
れた保護膜材料、プラズマ炎形成材料の供給部、３は高
周波コイル、４は真空容器１内の下方に設けられた保持
台、５は排気部である。保持台４は、真空容器１の外部
に設けられた図示しない駆動源により駆動されて回転す
るようになっている。排気部５は、真空容器１内を所定
圧に保つためのもので、外部の図示しない排気ポンプに
弁等を介し接続している。
成に使用する装置の構造概要を第２図に示す。第２図に
おいて、１は真空容器、２は真空容器１の上部に設けら
れた保護膜材料、プラズマ炎形成材料の供給部、３は高
周波コイル、４は真空容器１内の下方に設けられた保持
台、５は排気部である。保持台４は、真空容器１の外部
に設けられた図示しない駆動源により駆動されて回転す
るようになっている。排気部５は、真空容器１内を所定
圧に保つためのもので、外部の図示しない排気ポンプに
弁等を介し接続している。
窒化ほう素保護膜の形成は、この装置を用い次の手順で
行われる。
行われる。
保護膜形成に際しては、表面に磁性層が形成された非磁
性支持体１０１を保持台４上にセットし、高周波コイル
３に通電して供給部２の供給口６からプラズマガス（Ａ
ｒ）及びシースガス（０２）を供給する。供給されたガ
スは、供給部２の下部周辺から点線矢印線で示すように
真空容器１内に吹き出し、高周波コイル３による磁界に
より励起されてプラズマ炎となる。このプラズマ炎は、
支持体１０１の上方で該支持体１０１と平行な空間に形
成される。この状態で、支持体１０１を回転させ、供給
部２の上方の供給ロアから保護膜材料を供給する。保護
膜材料としては、ほう素粉末をキャリアガス（Ｎ、）中
に分散させたもの、あるいは窒化ほう素粉末をキャリア
ガスに分散させたものを用いる。供給された保護膜材料
は、供給部２の下部中央から実線矢印線で示すように真
空容器１内に吹き出し、上記プラズマ炎の１０，０００
°Ｃを越える高温によって一瞬のうちに蒸発して支持体
１０１の表面（強磁性金属薄膜上）に蒸着する。なお、
プラズマ炎発生により昇温する真空容器１の周壁は、冷
却水人口８から流入して冷却水出口９から流出する冷却
水によって冷却される。
性支持体１０１を保持台４上にセットし、高周波コイル
３に通電して供給部２の供給口６からプラズマガス（Ａ
ｒ）及びシースガス（０２）を供給する。供給されたガ
スは、供給部２の下部周辺から点線矢印線で示すように
真空容器１内に吹き出し、高周波コイル３による磁界に
より励起されてプラズマ炎となる。このプラズマ炎は、
支持体１０１の上方で該支持体１０１と平行な空間に形
成される。この状態で、支持体１０１を回転させ、供給
部２の上方の供給ロアから保護膜材料を供給する。保護
膜材料としては、ほう素粉末をキャリアガス（Ｎ、）中
に分散させたもの、あるいは窒化ほう素粉末をキャリア
ガスに分散させたものを用いる。供給された保護膜材料
は、供給部２の下部中央から実線矢印線で示すように真
空容器１内に吹き出し、上記プラズマ炎の１０，０００
°Ｃを越える高温によって一瞬のうちに蒸発して支持体
１０１の表面（強磁性金属薄膜上）に蒸着する。なお、
プラズマ炎発生により昇温する真空容器１の周壁は、冷
却水人口８から流入して冷却水出口９から流出する冷却
水によって冷却される。
このように、本発明の窒化ほう素保護膜は、保護膜材料
をプラズマ炎により一瞬のうちに蒸発させて蒸着するこ
とにより形成されるため、組成の変動がなく均一なもの
となる。また、プラズマ炎発生空間は支持゛体１０１上
にあって該支持体１０１と平行になっているため、形成
される薄膜はち密なものとなる。
をプラズマ炎により一瞬のうちに蒸発させて蒸着するこ
とにより形成されるため、組成の変動がなく均一なもの
となる。また、プラズマ炎発生空間は支持゛体１０１上
にあって該支持体１０１と平行になっているため、形成
される薄膜はち密なものとなる。
以上述べたように、本発明によれば、均一でち密な窒化
ほう素膜を得ることができるため、磁性層のダメ、−ジ
をなくしてディスク耐久性を向上させることができ、ヘ
ッドの低浮上化に寄与するところ大である。
ほう素膜を得ることができるため、磁性層のダメ、−ジ
をなくしてディスク耐久性を向上させることができ、ヘ
ッドの低浮上化に寄与するところ大である。
第１図は本発明の磁気記録媒体の構造を示す断面図、
第２図は本発明の実施例の窒化ほう素保護膜の形成に使
用する装置の構造概要説明図で、図中、 １は真空容器、 １００は磁気ディスク（磁気記録媒体）、１０１は非磁
性支持体、 １０２は強磁性金属薄膜（磁性層）、 １０３は窒化ほう素保護膜である。
用する装置の構造概要説明図で、図中、 １は真空容器、 １００は磁気ディスク（磁気記録媒体）、１０１は非磁
性支持体、 １０２は強磁性金属薄膜（磁性層）、 １０３は窒化ほう素保護膜である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、非磁性支持体（１０１）上に磁性層及び保護膜を順
次形成して成る磁気記録媒体において、前記保護膜とし
て窒化ほう素保護膜（１０３）を用いたことを特徴とす
る磁気記録媒体。 ２、表面に磁性層が形成された非磁性支持体（１０１）
を真空容器（１）の下方に配置するとともに、 前記真空容器（１）内の前記支持体（１０１）の上方に
プラズマ炎を発生させ、この状態で、前記真空容器の上
方から供給される保護膜材料のほう素粉末と窒素を前記
プラズマ炎により蒸発させて前記支持体（１０１）の表
面に窒化ほう素保護膜（１０３）を形成することを特徴
とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10027090A JPH041920A (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10027090A JPH041920A (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH041920A true JPH041920A (ja) | 1992-01-07 |
Family
ID=14269514
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10027090A Pending JPH041920A (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH041920A (ja) |
-
1990
- 1990-04-18 JP JP10027090A patent/JPH041920A/ja active Pending
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