JPH04196309A - 電子線描画装置 - Google Patents
電子線描画装置Info
- Publication number
- JPH04196309A JPH04196309A JP2322886A JP32288690A JPH04196309A JP H04196309 A JPH04196309 A JP H04196309A JP 2322886 A JP2322886 A JP 2322886A JP 32288690 A JP32288690 A JP 32288690A JP H04196309 A JPH04196309 A JP H04196309A
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- Japan
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- sent
- electron beam
- lyn
- pattern
- drawn
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
、本発明は、ラスタースキャン描画方式の電子線描画装
置において、高精度に描画する方法番゛：関する。
置において、高精度に描画する方法番゛：関する。
従来技術を第１図を用いて説明する。ラスタスキャン描
画方式において２例えばＡの図形を描画する場合、電子
線（１）をＸ方向にＱｘだけ走査し、次にＸ方向にＱｙ
移動させ、再びＸ方向にΩ８走査する。同様に３回電子
線を走査することにより、Ａ図形を描画する。その時の
、偏向信号のＸ方向、Ｘ方向をＡ′に示す。一方、Ｂの
図形を描画する場合は、電子線をＸ方向にＱｘだけ１回
走査する。
画方式において２例えばＡの図形を描画する場合、電子
線（１）をＸ方向にＱｘだけ走査し、次にＸ方向にＱｙ
移動させ、再びＸ方向にΩ８走査する。同様に３回電子
線を走査することにより、Ａ図形を描画する。その時の
、偏向信号のＸ方向、Ｘ方向をＡ′に示す。一方、Ｂの
図形を描画する場合は、電子線をＸ方向にＱｘだけ１回
走査する。
その時の偏向信号のＸ方向、Ｘ方向をＢ′に示す。
描画図形Ａ、ＢどちらともＸ方向寸法は、同一である為
、Ｘ方向の偏向信号の振幅はＶｏで同一電圧である。
、Ｘ方向の偏向信号の振幅はＶｏで同一電圧である。
次に、第２図に示す様なＸ方向に長い図形Ｃの描画方法
を示す。図形Ｃを３つの図形Ａ１＋Ａ２１Ａ３ に分割
し、Ｘ方向の第２の偏向器Ｘに与える偏向信号を発生さ
せる。まずＡ１ を描画する場合は、描画開始点ａを与
える偏向信号Ｖａを偏向器Ｘに与え、前述図形Ａと同一
手順で描画する。次に、描画開始点すを与える偏向信号
ｖ１を偏向器Ｘに与え、同様にＡ２ を描画する。更に
Ａ、を描画し、図形Ｃの描画が完了する。この場合も、
Ａ、、Ａ２．Ａ、を描画する為のＸ方向の偏向振幅はＶ
ｏである。
を示す。図形Ｃを３つの図形Ａ１＋Ａ２１Ａ３ に分割
し、Ｘ方向の第２の偏向器Ｘに与える偏向信号を発生さ
せる。まずＡ１ を描画する場合は、描画開始点ａを与
える偏向信号Ｖａを偏向器Ｘに与え、前述図形Ａと同一
手順で描画する。次に、描画開始点すを与える偏向信号
ｖ１を偏向器Ｘに与え、同様にＡ２ を描画する。更に
Ａ、を描画し、図形Ｃの描画が完了する。この場合も、
Ａ、、Ａ２．Ａ、を描画する為のＸ方向の偏向振幅はＶ
ｏである。
又、第３図に示す様なＸ方向に長い図形りは、図形Ｂ１
．Ｂ２．Ｂ３に分割され、前述の図形Ｂを描画する手順
を繰り返すことにより、描画される。
．Ｂ２．Ｂ３に分割され、前述の図形Ｂを描画する手順
を繰り返すことにより、描画される。
上記従来技術での描画結果は、第４図に示す様に、Ｘ方
向に広い図形Ａでは、近接効果の影響により、Ｘ方向の
描画パターン寸法は大きくなり。
向に広い図形Ａでは、近接効果の影響により、Ｘ方向の
描画パターン寸法は大きくなり。
Ｘ方向に狭い図形Ｂでは、図形Ａと比へて、近接効果の
影響が小さく、描画パターン寸法は小さくなる。特に、
Ｘ方向に長い図形Ｃを描画した場合、Ｘ方向に広い時は
描画パターンは、図形Ａ１゜Ａ２．Ａ３のつなぎ目はオ
ーパラｙプし、図形りの場合、Ｂ１．Ｂ２．Ｂ３のつな
ぎ目は離れてしまう問題があった。
影響が小さく、描画パターン寸法は小さくなる。特に、
Ｘ方向に長い図形Ｃを描画した場合、Ｘ方向に広い時は
描画パターンは、図形Ａ１゜Ａ２．Ａ３のつなぎ目はオ
ーパラｙプし、図形りの場合、Ｂ１．Ｂ２．Ｂ３のつな
ぎ目は離れてしまう問題があった。
本発明は、描画図形を分解する際に、描画図形の短い辺
の寸法に応して、長い辺の分解寸法を変えて、描画する
ことにより、高精度の描画を可能とする電子線描画装置
を提供することを目的とする。たとえば、第２図の図形
Ｃを描画する場合、分解された図形Ａ□ｇ Ａ２ ｇ
ｉ のＸ方向の寸法をＱＸより短かくする。また、第３
図の図形りを描画する場合、分解された図形Ｂ０．Ｂ２
．Ｂ３のＸ方向の寸法をＱＸより長くして、描画する。
の寸法に応して、長い辺の分解寸法を変えて、描画する
ことにより、高精度の描画を可能とする電子線描画装置
を提供することを目的とする。たとえば、第２図の図形
Ｃを描画する場合、分解された図形Ａ□ｇ Ａ２ ｇ
ｉ のＸ方向の寸法をＱＸより短かくする。また、第３
図の図形りを描画する場合、分解された図形Ｂ０．Ｂ２
．Ｂ３のＸ方向の寸法をＱＸより長くして、描画する。
上記目的を達成するために、描画図形の分解部に、描画
図形の短かい辺の寸法を検出し、同寸法をアドレスに、
長い辺の分解寸法に加減する補正データを作成し、長い
辺が分解された後に、前記補正データを与えて、最終の
長い辺の分解寸法とする機能を追加したものである。
図形の短かい辺の寸法を検出し、同寸法をアドレスに、
長い辺の分解寸法に加減する補正データを作成し、長い
辺が分解された後に、前記補正データを与えて、最終の
長い辺の分解寸法とする機能を追加したものである。
以下、本発明の一実施例を説明する。第５図に電子線描
画装置を示す。電子銃５１から放射された電子線５２は
、縮小レンズ５３を通り、投影レンズ５４で試料５５上
にフォーカスされる。描画図形はＣＰＯ５６より１図形
分解回路５７に送られて１分解される。分解された後、
偏向信号Ｘ／Ｙ（５７）、と偏向信号ｘ／ｙ（５８）と
なり、電子線を試料で走査し、描画する。
画装置を示す。電子銃５１から放射された電子線５２は
、縮小レンズ５３を通り、投影レンズ５４で試料５５上
にフォーカスされる。描画図形はＣＰＯ５６より１図形
分解回路５７に送られて１分解される。分解された後、
偏向信号Ｘ／Ｙ（５７）、と偏向信号ｘ／ｙ（５８）と
なり、電子線を試料で走査し、描画する。
第６図に本発明の図形分解回路５７の詳細を説明する。
描画図形６０は図形判断部６１にて、Ｘ方向に長い図形
か、Ｘ方向に長い図形かを判断される。例えば、Ｘ方向
に長い図形の場合、ＳＷＩがＯＮして、描画図形は、Ｘ
方向図形分解部６２ａに送られる。この時、ｙ方向図形
分解部６２ｂには何も送られない。Ｘ方向に長い図形の
場合、ＳＷ２がＯＮＬ、、描画図形は、ｙ方向図形分解
部６２ｂに送られる。次に、Ｘ方向の寸法ｘｏとＸ方向
の寸法Ｑｙｎが求められ、Ｘ方向補正回路６３ａにΩｙ
□がアドレスとして送られ、Ｘ方向補正データ（ｎｙｎ
）が求められる。次に、ｘｏ と（Ｑ、７．、）がＸ方
向信号加算器６４ａに送られ、Ｘ方向偏向データｘｏと
なり、Ｘ方向信号変換部６５ａに送られ、Ｘ方向偏向器
６６ａに送られて、電子線を偏向する。同時に、Ｘ方向
形分解部６２ａで求められたｆｌＦｎは、Ｘ方向信号加
算器６４ｂに送られ、Ｘ方向信号変換部６５ｂに送られ
、Ｘ方向偏向器６６ｂに送られて、Ｘ方向に、電子線を
偏向する。
か、Ｘ方向に長い図形かを判断される。例えば、Ｘ方向
に長い図形の場合、ＳＷＩがＯＮして、描画図形は、Ｘ
方向図形分解部６２ａに送られる。この時、ｙ方向図形
分解部６２ｂには何も送られない。Ｘ方向に長い図形の
場合、ＳＷ２がＯＮＬ、、描画図形は、ｙ方向図形分解
部６２ｂに送られる。次に、Ｘ方向の寸法ｘｏとＸ方向
の寸法Ｑｙｎが求められ、Ｘ方向補正回路６３ａにΩｙ
□がアドレスとして送られ、Ｘ方向補正データ（ｎｙｎ
）が求められる。次に、ｘｏ と（Ｑ、７．、）がＸ方
向信号加算器６４ａに送られ、Ｘ方向偏向データｘｏと
なり、Ｘ方向信号変換部６５ａに送られ、Ｘ方向偏向器
６６ａに送られて、電子線を偏向する。同時に、Ｘ方向
形分解部６２ａで求められたｆｌＦｎは、Ｘ方向信号加
算器６４ｂに送られ、Ｘ方向信号変換部６５ｂに送られ
、Ｘ方向偏向器６６ｂに送られて、Ｘ方向に、電子線を
偏向する。
第７図に、偏向信号例を示す。図形Ａを描画する時は、
Ｘ方向偏向器６６ａに与えられる偏向信号は、第１図の
Ｖｏよりは小さいＶＡが与えられ、偏向量が少なくなり
、高精度の描画が成される。
Ｘ方向偏向器６６ａに与えられる偏向信号は、第１図の
Ｖｏよりは小さいＶＡが与えられ、偏向量が少なくなり
、高精度の描画が成される。
また、第４図Ｃの様な、図形の重なりが無くなり、描画
図形がシャープに得られる。図形Ｂを描画する時は、Ｘ
方向偏向器６６ａに与えられる偏向信号は第１図のＶｏ
よりは大きいＶｐ、が与えられ、偏向量が大きくなり、
高精度の描画となる。たとえば第４図りの様な図形のと
ぎれが無くなり、細長い図形の描画が可能となる。
図形がシャープに得られる。図形Ｂを描画する時は、Ｘ
方向偏向器６６ａに与えられる偏向信号は第１図のＶｏ
よりは大きいＶｐ、が与えられ、偏向量が大きくなり、
高精度の描画となる。たとえば第４図りの様な図形のと
ぎれが無くなり、細長い図形の描画が可能となる。
本発明によれば、特に細長い図形を描画する場合に、描
画図形のとぎれが無くなり、高精度の描画が可能となる
。また、幅の異なる長方形が混存した複数の描画図形を
含む描画パターンでも、−度に描画できるので、スルー
プットの改善も図れる。
画図形のとぎれが無くなり、高精度の描画が可能となる
。また、幅の異なる長方形が混存した複数の描画図形を
含む描画パターンでも、−度に描画できるので、スルー
プットの改善も図れる。
第１図、第２図、第３図は従来の描画方式による偏向信
号例を示す図、第４図は従来の描画方式による描画例を
示す図、第５図、第６図は本発明の一実施例を示す図、
第７図は本発明による偏向信号例を示す図である。 ５７・・・図形分解回路、６１・・・図形判断部、６２
ａ・・・Ｘ方向図形分解部、６３ａ・・・Ｘ方向補正回
路、６４ａ・・・Ｘ方向信号加算器。
−１代理人 弁理士 小川勝馬 〜〜 第１図 第２図 第３図 ！ 第５図 第６図 ６３水 ７図
号例を示す図、第４図は従来の描画方式による描画例を
示す図、第５図、第６図は本発明の一実施例を示す図、
第７図は本発明による偏向信号例を示す図である。 ５７・・・図形分解回路、６１・・・図形判断部、６２
ａ・・・Ｘ方向図形分解部、６３ａ・・・Ｘ方向補正回
路、６４ａ・・・Ｘ方向信号加算器。
−１代理人 弁理士 小川勝馬 〜〜 第１図 第２図 第３図 ！ 第５図 第６図 ６３水 ７図
Claims (1)
- １、電子線を発生する手段、前記電子線を収束する手段
、収束された電子線を試料上で、スポット状にフォーカ
スさせる手段、及び前記電子線で試料上を走査する為の
偏向手段を備えたいわゆる、ラスタースキャン描画方式
の電子線描画装置において、描画図形が長方形に分解さ
れた後に、前記、長方形の短辺寸法に応じて、長辺寸法
に補正を与える機能を設けたことを特徴とする電子線描
画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2322886A JPH04196309A (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 電子線描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2322886A JPH04196309A (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 電子線描画装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04196309A true JPH04196309A (ja) | 1992-07-16 |
Family
ID=18148717
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2322886A Pending JPH04196309A (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 電子線描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04196309A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008158118A (ja) * | 2006-12-22 | 2008-07-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 電子線描画における描画方法及び矩形領域分割方法 |
-
1990
- 1990-11-28 JP JP2322886A patent/JPH04196309A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008158118A (ja) * | 2006-12-22 | 2008-07-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 電子線描画における描画方法及び矩形領域分割方法 |
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