JPH04197606A - パウダ噴霧装置 - Google Patents

パウダ噴霧装置

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Publication number
JPH04197606A
JPH04197606A JP33217390A JP33217390A JPH04197606A JP H04197606 A JPH04197606 A JP H04197606A JP 33217390 A JP33217390 A JP 33217390A JP 33217390 A JP33217390 A JP 33217390A JP H04197606 A JPH04197606 A JP H04197606A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
powder
spraying
liquid
spray
ceramic substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP33217390A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Matsui
松井 博志
Yoshihiko Imamura
吉彦 今村
Kazuhiro Nishimura
一弘 西村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、焼成前のセラミック基板に焼き付き防止用パ
ウダを噴霧するパウダ噴霧装置に関する。
〈従来の技術〉 一般に、セラミック基板は、焼成前にその表面に焼き付
は防止パウダが散布される。このパウダによって複数枚
積層された状態で焼成されるセラミック基板の焼き付き
を防止するようになっている。
そして、この焼き付き防止用パウダは、従来ふるい等を
用いた手作業によってセラミック基板上に振り掛は散布
されていfこ。
〈発明が解決しようとする課題〉 ところで、上記従来例では、パウダ散布を手作業で行っ
ているためや、振り掛は散布が気流等の影響を受けやす
いために、均一な散布を行うことが難しかった。そのう
え、散布されたパウダは、散布後の基板搬送工程におけ
る僅かな衝撃や焼成前の基板積層工程に発生する微少気
流でも基板表面から滑り落ちやすく、そのために、散布
パウダの確実な基板上保持かできなかった。
このように、焼き付き防止用パウダの均一散布や確実な
セラミック基板上保持が困難であると、焼き付きを完全
に防止することができなくなるばかつか、焼成後の反り
や曲がりの原因になっていた。
そのうえ、反りや曲がりを防止するためには、積層した
セラミック基板の層間隙間を一定にする必要があり、そ
のためには粒を揃えやすい球状パウダを用いるほうがよ
い。しかしながら、従来の散布では球状パウダは滑り落
ちやすいので用いにくかった。
本発明は、このような事情に鑑みてなされ1こものであ
って、焼き付き防止用パウダをセラミック基板上に均一
に散布でき、しかも強固にセラミック基板上に付着させ
ることができるパウダ噴霧装置を提供することを目的と
している。
〈課題を解決するための手段〉 本発明は、上記目的を達成するために、焼成前のセラミ
ック基板の表面に焼き付き防止用パウダを噴霧するパウ
ダ噴霧装置であって、噴霧機構および乾燥機構を備え、
噴霧機構は、前記パウダが含有された噴霧液を形成する
噴霧液形成部と、この噴霧液をセラミック基板の表面に
噴霧する噴霧部とからなり、乾燥機構は、前記噴霧液か
噴霧されたセラミック基板を乾燥させるものであり、以
上のものからパウダ噴霧装置を構成し1こ。
く作用〉 上記構成によれば、焼き付き防止用パウダは、これを含
有した噴霧液の状態でセラミック基板上に噴霧されるの
で、均一に散布されるようになる。
また、噴霧液が噴霧されたセラミック基板を乾燥機構に
よって乾燥させるので、噴霧液は乾燥し、噴霧液中の焼
き付き防止用パウダは強固にセラミック基板表面に付着
するようになる。
〈実施例〉 以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明
する。第1図は本発明の一実施例の概略構成を示す斜視
図である。
このパウダ噴霧装置1は、噴霧機構2と乾燥機構3とを
備えている。噴霧機構2と乾燥機構3とはセラミック基
板S搬送用のベルトコンベア4に沿って設けられており
、噴霧機構2かへルトコンヘア4の進行方向後方側に、
乾燥機構3が前方側に配置されている。
噴霧機構2は噴霧液形成部5と噴霧部6とからなってい
る。噴霧液形成部5はタンク5aとこのタンク内部に設
けられた攪はんスクリュー5bとからなっている。タン
ク5aは噴霧液IOが貯蔵されている。噴霧液10は焼
き付き防止用パウダPを所定比で含有したバインダー液
Bからなっている。攪はんスクリュー5bは、図示しな
い回転駆動部により駆動されて噴霧液10を攪はんして
いる。焼き付き防止用パウダPとしては、直径30μm
の溶融球状アルミナか、また、バインダー液Bとしては
メチルセルローズが例えば用いられる。
噴霧部6は噴霧ボックス6aと噴霧ノズル6bとからな
っている。噴霧ボックス6aは底面が開放されており、
ベルトコンヘア4表面を覆って設けられている。噴霧ノ
ズル6bは噴霧ボックス6a内に収納されており、先端
をベルトコンベア4に向けて取り付けられている。また
、噴霧ノズル6bとタンク5aとは供給バイブ11によ
って連結されており、噴霧液10がタンク5aから噴霧
ノズル6bに供給されるようになっている。また、噴霧
ノズル6bにはエア供給部(図示せず)から圧縮エアが
供給されるようになっており、噴霧液10がこの圧縮エ
アと混合されて噴霧ノズル6b先端から霧状に噴霧され
るようになっている。
乾燥機構3は、ヒータ、温風器等からなり、ベルトコン
ベア4上方に設けられている。
なお、ベルトコンベア4には、その終端に次工程連結用
のンユート12か取り付けられており、さらに、ヘルド
コンヘア4の裏面側には余剰パウダPを掻き取るスクレ
イパ13と、掻きとられた余剰パウダPを受ける受は皿
14が設けられている。
次に、上記構成のパウダ噴霧装置1によるパウダP噴霧
を説明する。
タンク゛5a内には予め噴霧液10か注入されている。
そして、この噴霧液10は攪はんスクリュー5bによっ
て絶えず攪はんされており、これによって、噴霧液10
中の焼き付き防止用パウダPとバインダー液Bとが均一
に混合されている。この噴霧液10が供給パイプ11に
よって噴霧ノズル6bに供給される。そして、噴霧7ノ
ズル6bにおいてエア供給部の圧縮エアと混合されて、
噴霧液10がノズル先端より噴霧ボックス6a内に噴霧
される。
セラミック基板S・・はヘルドコンベア4によって連続
搬送されており、ます噴霧ホックス6a内に搬入される
。そして、噴霧ボックス6a内において上方から噴霧液
10が噴霧される。噴霧液IOは噴霧ボックス6a内の
均一な雰囲気内で噴霧されるのでセラミック基板S上に
均一に散布される。
噴霧が終了して噴霧ボックス5bから搬出されたセラミ
ンク基板Sは、ベルトコンヘア4の搬送によって乾燥部
3の下方に達し、この乾燥部3下方を通過する間に乾燥
部3によって乾燥される。
セラミック基板Sは乾燥か進むと、表面に噴霧された噴
霧液IO中のバインダー液Bが蒸発し、残留する焼き付
き防止用パウダPだけがセラミック基板S表面に強固に
付着する。また、このようにセラミック基板Sは乾燥さ
れるので、湿気を帯びて積層作業等の次工程がやりづら
くなるといった不都合もない。
そして、乾燥が終了して乾燥部3から搬出されたセラミ
ック基板Sはベルトコンヘア4の搬送によって、シュー
ト12から次の工程へと移送される。
なお、上記工程によりベルトコンベア4の表面にはセラ
ミック基板Sと同様にパウダPが付着することになるが
、この付着パウダPはベルトコンベア4の裏面側に設け
られたスクレイパ13によって掻き取られて受は皿I4
に受は止められる。この掻き取りパウダPは再使用する
ことも可能である。
また、本実施例の場合、残留パウダPを上記したように
掻き取ることや噴霧を噴霧ボックス内て行うため、装置
周辺にはパウダPが飛散するこがなく、したがって、清
掃の必要がない。
〈発明の効果〉 以上のように本発明によれば、焼き付き防止用パウダを
噴霧液としてセラミック基板上に噴霧するので、気流等
の影響を受けることかなくなり、均一に散布することか
できるようになった。
また、乾燥機構によって乾燥させるので、湿気で次工程
作業がやりづらくなるといった不都合を起こすことなく
噴霧液中の焼き付き防止用7くラグを強固にセラミック
基板表面に付着させることかできるようになっfこ。
そのため、セラミック基板の焼き付けを完全に防止する
ことができるとともに、焼成後の反りや曲がりをなくす
ことができfこ。
また、焼き付き防止用パウダが飛散することがなくなっ
たので、粒径の小さい球状パウダを使用することができ
、均一散布と相俟ってより反りや曲がりを防止すること
ができるようになった。
さらに、噴霧液の混合比を調整することにより、パウダ
散布量を精度よく制御することかできるようになった。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の概略を説明する斜視図であ
る。 2・・・噴霧機構 3・−乾燥機構 5・・噴霧液形成部 6・・噴霧部 IO・・噴霧液 S ・セラミック基板 P・焼き付き防止用パウダ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)焼成前のセラミック基板(S)の表面に焼き付き
    防止用パウダ(P)を噴霧するパウダ噴霧装置であって
    、 噴霧機構(2)および乾燥機構(3)を備え、噴霧機構
    (2)は、前記パウダ(P)が含有された噴霧液(10
    )を形成する噴霧液形成部(5)と、この噴霧液(10
    )をセラミック基板(S)に噴霧する噴霧部(6)とか
    らなり、 乾燥機構(3)は、前記噴霧液(10)が噴霧されたセ
    ラミック基板(S)を乾燥させるものであることを特徴
    とするパウダ噴霧装置。
JP33217390A 1990-11-28 1990-11-28 パウダ噴霧装置 Pending JPH04197606A (ja)

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JP33217390A JPH04197606A (ja) 1990-11-28 1990-11-28 パウダ噴霧装置

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JP33217390A JPH04197606A (ja) 1990-11-28 1990-11-28 パウダ噴霧装置

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JPH04197606A true JPH04197606A (ja) 1992-07-17

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ID=18251979

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JP33217390A Pending JPH04197606A (ja) 1990-11-28 1990-11-28 パウダ噴霧装置

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