JPH04202042A - 大理石模様を有する陶磁器製品の製造方法 - Google Patents

大理石模様を有する陶磁器製品の製造方法

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JPH04202042A
JPH04202042A JP33449690A JP33449690A JPH04202042A JP H04202042 A JPH04202042 A JP H04202042A JP 33449690 A JP33449690 A JP 33449690A JP 33449690 A JP33449690 A JP 33449690A JP H04202042 A JPH04202042 A JP H04202042A
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salts
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Shigeo Sakai
酒井 滋夫
Harumi Masuda
増田 晴美
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MIYAWAKI GUREIZU KOGYO KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、陶磁器素地の表面に釉薬を施すことにより、
大理石模様を有する陶磁器製品を製造する方法に関する
ものである。
[従来の技術] 陶磁器製品の釉薬による装飾法、特に天然石調等の自然
石模様の現出方法としては、(L)、 fllj薬の溶
融粘性を利用して、自然な連続模様を得る方法、 (2)半透明釉、透明釉、又は明度の異なる釉を複数回
施釉して、自然な連続模様を得る方法等か現在までに呈
示されてはいるか、商業的な生産はなされてはいない。
[発明か解決しようとする課題] 上記の方法は、いずれも焼成過程を経て、模様を現出せ
んとしたものであり、模様の形態は焼成条件に依存せざ
るを得ない。しかし、釉薬の溶融粘性は焼成温度により
大きな影響を受け、透明度も焼成温度や、冷却過程に左
右されるところが大である。
このように、上記方法は模様現出において、十分な焼成
条件のコントロールを必要と(7ており、−数的に普及
できずに至っているのか現状である。
以上のような現状から、釉薬業界において、焼成条件に
影響されずに安定した模様の現出法か一3= 望まれていた。
[課題を解決するための手段] 釉薬スリップの粘性か違うことによって、抽藁を素地上
へ滴下したときの融滴か、様々に異なる状態になること
は一般に知られている。
本発明者はこのことに着目し7、更に技術的に発展させ
て特定の模様を得ることに成功したものである。すなわ
ち、複数の釉薬を多層施釉する方法において各々、の釉
薬スリップの粘性と拡散度をコントロールすることによ
って、釉薬により大理石模様を得ることを可能にしたも
のである。
第1図は、本発明による釉薬の模様化か進んで行く状態
を模式的に示した図であり、第2図は、第1図を断面か
らみた図である。第1図、第2図において、参照番号 
1 は素地、2 は下釉、3 は−ヒ融滴、図中(a、
 )、(b)及び(c)の間の矢印は上釉の融滴か拡散
する経時変化を示している。
釉薬スリップの特性、すなわち、粘性と拡散度が、模様
に与える効果について説明すると、(1)粘性が小さい
と滴下し、た融滴か、外に向かって拡がり易く、粘性か
大きいと融滴は拡がり難い。
(2)拡散度が大きいき〆商工(7た融滴は外に向かっ
て拡がり易く、融滴は滑らかな凸状態を示し、拡散度が
小さいと滴下した融滴は外に向かって拡がり難く、融滴
は突起様の凸状態を示す。
釉薬スリップの特性をコントロールする方法は特に重要
である。
特性のコントロール法について次に述べる。
釉薬スリップの粘性は、一般に粘性調節剤と呼ばれるも
のを用いてコントロールされる。
本発明で使用される釉薬は一般に陶磁器製品に用いられ
るものであればどんなものでもよい。
釉薬は特定されるものではないか、例えば比較的低温焼
成用のものとして、フリ:/ト釉、鉛釉、硼酸釉、アル
カリ釉等が使用でき、比較的高温焼成用のものとして、
アルカリ石灰釉、石灰釉、石灰亜鉛釉、石灰バリウム釉
、石灰マグネシア釉、タルク釉、長石釉等か使用できる
本発明において、粘性調節剤きしては釉薬業界で一般に
使用されているものでよいが、ゴム、ゼラチン、C,M
、C.、PVA、アルギン酸ソーダ、ビーガム、可塑性
粘土、酸性白土、ベントナイト及びNaC1、N a 
CO3、NH,CI、Alc13、CHxCOOH,B
aCl2、CaC12等を用いることができる。界面活
性剤としては釉薬スリップの種類、性質等により一般に
知られている種々のものが使用可能であるが、高級アル
コール硫酸エステル、アルキルスルホン酸塩、アルキル
ベンセンスルホン酸塩、アルキルリン酸エステル塩のよ
うなアニオン系界面活性剤、脂肪族アミン塩酸塩、脂肪
族第4級アンモニウム塩、ピリジウム塩、スルホニウム
塩、ホスホニウム塩のようなカチオン系界面活性剤、ア
ミノ酸型活性剤、ベタイン型活性剤、硫酸エステル塩型
活性剤、イミダシリン型活性剤、リン酸エステル塩型活
性剤のような両性界面活性剤、及びポリオキシエチレン
アルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル
、ポリオキンエチレングリコール脂肪酸エステル、ポリ
オキシエチレン脂肪酸アミトエーチル、多価アルコール
脂肪酸エステルのような非イオン系界面活性剤を用いる
ことかできる。
拡散度は釉薬スリップの粘性と界面活性剤の添加量によ
ってコントロールされる。本発明者は検討の結果、大理
石模様を得るのに、釉薬スリップの粘性及び界面活性剤
と拡散度(その大きさを拡散指数で表す)との間に次の
関係があることを見い出した。その関係を第3図に示す
。図中η1、η2及びη3は釉薬スリップの粘度を表し
、ηlくη2くη3である。第3図から分かるように、
釉薬スリップの粘度 (η)界面活性剤の添加量(c)
と拡散指数(a)の間には a=に−f  (c、  η) の関係か成り立つ。たたし、kは界面活性剤の種類によ
って決まる定数である。
本発明者は、下釉の粘性と上釉の拡散指数を変化させて
、大理石模様のでき方を調へた結果、ある限界が存在す
ることを見いだした。粘性と拡散指数及び模様との関係
を表1に示す。
表1 注、△、1.限界条件 Oo、良好条件(実施例) −10,不良(大理石模様ができなかった)上記表から
分かる様に、下釉粘性は 0. 5〜12 ポイズの範
囲が好ましく、上釉の拡散指数は 5〜90 か好まし
い。
このようにして得た下釉の釉薬スリップと上釉の釉薬ス
リップを順に陶磁器素地に施釉する。
この際、上釉は下釉が乾かないうちに施釉する。
施釉後、通常の方法で焼成することにより、所望の大理
石模様を有する陶磁器製品か得られる。
釉薬は着色されていなくてもよいが、上釉と下釉のいず
れか一方は着色している必要かある。
また、着色している場合J:NJと下釉の色は必ずしも
異なっている必要はない。また、上釉と下釉の釉薬の種
類は同しても異なっていてもよい。
[実施例] 以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。各実
施例で使用した素地の種類、釉薬の種類、下釉又は上釉
の粘度、−上釉又は下釉の拡散指数を表2、表3に示し
た。
表2 表2 (続き) 表3 表3(続き) 実施例1 乾燥レンガ素地上へ、グレーマット釉(C。
M、  C,によって粘性調節を行い粘度を0. 5ポ
イズにしたもの)。を下釉として流し掛けで施釉した。
釉薬が乾燥する前に白色光沢釉(高級アルコール系界面
活性剤0.5重量%を添加することによって拡散指数を
36に調節したもの)を、スプレーにて滴下して上釉を
施釉し、乾燥後に、1100’ C,18時間トンネル
キルンにて焼成して、大理石模様の装飾レンガを得た。
実施例2〜6 実施例1と同様の方法で、材料及び焼成温度を表2及び
表3のように変えて、様々な色課の大理石模様の装飾陶
磁器製品を得た。
[発明の効果] 焼成温度等の焼成条件に影響されず、安定した大理石模
様の陶磁器製品が得られる。
特に工程上装置面の改良を必要とせず、従来の工程、装
置で施釉が可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明による釉薬の模様化が進んで行く状態
を模式的に示した図であり、第2図は、第1図を断面か
らみた図であり、第3図は拡散指数と界面活性剤添加量
との関係を示す図である。  1.1.素地、 219.下釉、 311.上融滴、 (a)、、、滴下直後の状態、 (b)、(c)、、、滴下した釉層が拡散していく状態

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)陶磁器素地上に、粘性調節剤を加えた釉薬スリッ
    プを下釉として施した後、下釉と同色又は異色の、粘性
    調節剤を加えた釉薬スリップを上釉として、下釉が乾く
    前に、下釉の上に施した後、焼成することからなり、上
    釉と下釉のどちらか一方に界面活性剤を含むことを特徴
    とする、大理石模様を有する陶磁器製品の製造方法。
  2. (2)ゴム、ゼラチン、C.M.C.、PVA、アルギ
    ン酸ソーダ、ビーガム、可塑性粘土、酸性白土、ベント
    ナイト、及びNaCl、Na_2CO_3、NH_4C
    l、AlCl_3、CH_3COOH、BaCl_2、
    CaCl_2等の粘性調節剤により、粘度が0.5〜1
    2ポイズになるように調節された釉薬スリップを用いる
    、請求項1に記載の方法。
  3. (3)界面活性剤として、高級アルコール硫酸エステル
    、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸
    塩、アルキルリン酸エステル塩のようなアニオン系界面
    活性剤、脂肪族アミン塩酸塩、脂肪族第4級アンモニウ
    ム塩、ピリジウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩
    のようなカチオン系界面活性剤、アミノ酸型活性剤、ベ
    タイン型活性剤、硫酸エステル塩型活性剤、イミダゾリ
    ン型活性剤、リン酸エステル塩型活性剤のような両性界
    面活性剤、及びポリオキシエチレンアルキルエーテル、
    ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレ
    ングリコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪
    酸アミドエーテル、多価アルコール脂肪酸エステルのよ
    うな非イオン系界面活性剤を用い、拡散指数が5〜90
    である釉薬スリップを用いる、請求項1に記載の方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2001354485A (ja) * 2000-06-07 2001-12-25 Nippon Chem Ind Co Ltd 釉の安定化剤および釉の安定化方法
CN114804821A (zh) * 2021-01-27 2022-07-29 广东宏威陶瓷实业有限公司 一种仿自然石瓷砖及其制备工艺

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