JPH04208596A - 多層プリント配線板の製造方法 - Google Patents
多層プリント配線板の製造方法Info
- Publication number
- JPH04208596A JPH04208596A JP34057290A JP34057290A JPH04208596A JP H04208596 A JPH04208596 A JP H04208596A JP 34057290 A JP34057290 A JP 34057290A JP 34057290 A JP34057290 A JP 34057290A JP H04208596 A JPH04208596 A JP H04208596A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- blackening
- blackened
- cu2o
- circuit board
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- Pending
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- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は銅箔配線層を少なくとも一表面層に形成した内
層用回路板を一枚以上を絶縁層(プリプレグ)を介して
積層し、この積層体全体を加熱加圧し一体化してなる多
層プリント配線板の製造方法に関する。
層用回路板を一枚以上を絶縁層(プリプレグ)を介して
積層し、この積層体全体を加熱加圧し一体化してなる多
層プリント配線板の製造方法に関する。
(従来の技術)
従来、上記多層プリント配線板の製造に用いられる内層
用回路板の回路銅の表面は製法上、平滑なものとなって
おり、多層積層する場合、この面が絶縁性接着層(プリ
プレグ)と接着するので、そのままでは接着強度が不十
分となるという問題がある。そのため多層積層する前に
内層用回路板の回路銅の表面を化学的処理(黒化処理)
して銅箔表面に1μm以下のCu 2OとCuOの針状
結晶(黒色酸化被膜)を形成することが行われている。
用回路板の回路銅の表面は製法上、平滑なものとなって
おり、多層積層する場合、この面が絶縁性接着層(プリ
プレグ)と接着するので、そのままでは接着強度が不十
分となるという問題がある。そのため多層積層する前に
内層用回路板の回路銅の表面を化学的処理(黒化処理)
して銅箔表面に1μm以下のCu 2OとCuOの針状
結晶(黒色酸化被膜)を形成することが行われている。
この黒化層はアルカリには比較的腐食され難いか酸には
容易に溶解する。そのためプリント配線板製造工程中の
酸処理工程(たとえば化学銅メツキに対する触媒性を付
与するための塩酸酸性パラジウム・銘水溶液およびその
他の酸性浴への浸漬工程等)において“ハローイングと
呼ばれる現象が発生する。この現象は第1図に示すよう
に黒化層1がスルーホール2に沿って腐食され黒化層1
が消失して、下地の銅表面が露出することにより、スル
ーホール2の周囲にピンク色のリング3が発生するもの
である。このリング3部分は黒化層1か消失して空隙が
形成されていて、そこに製造工程中の薬剤か残留し、プ
リント配線板としての信頼性を低下させる原因となる。
容易に溶解する。そのためプリント配線板製造工程中の
酸処理工程(たとえば化学銅メツキに対する触媒性を付
与するための塩酸酸性パラジウム・銘水溶液およびその
他の酸性浴への浸漬工程等)において“ハローイングと
呼ばれる現象が発生する。この現象は第1図に示すよう
に黒化層1がスルーホール2に沿って腐食され黒化層1
が消失して、下地の銅表面が露出することにより、スル
ーホール2の周囲にピンク色のリング3が発生するもの
である。このリング3部分は黒化層1か消失して空隙が
形成されていて、そこに製造工程中の薬剤か残留し、プ
リント配線板としての信頼性を低下させる原因となる。
したがって、プリント配線板としての信頼性を向上させ
るためには、このハローイングは成る限度内に抑えるこ
とが要求される。すなわち従来の方法によるとハローイ
ングの発生量(図中、距離Ωて示されリングの幅)は平
均130−150μm以上であり、数百μmになること
もあるが、このハローイングの発生量を100μm以下
にすることが望ましいとされている。
るためには、このハローイングは成る限度内に抑えるこ
とが要求される。すなわち従来の方法によるとハローイ
ングの発生量(図中、距離Ωて示されリングの幅)は平
均130−150μm以上であり、数百μmになること
もあるが、このハローイングの発生量を100μm以下
にすることが望ましいとされている。
(発明が解決しようとする課題)
したがって、本発明はこのハローイングの発生量を10
0μm以下にすることが可能な黒化層を有する多層プリ
ント配線板の製造方法を提供することを目的とする。
0μm以下にすることが可能な黒化層を有する多層プリ
ント配線板の製造方法を提供することを目的とする。
(課題を解決するための手段)
本発明は上記課題を解決するため、従来おこなわれてい
た黒化処理を繰り返しておこなうという手段を講した。
た黒化処理を繰り返しておこなうという手段を講した。
すなわち、本発明は、銅箔配線層を少なくとも一表面層
に形成した内層用回路板を一枚以上を絶縁層を介して積
層し、この積層体全体を加熱加圧し一体化してなる多層
プリント配線板の製造方法において、 該内層用回路板の積層に際し、予め脱脂処理した該内層
用回路板を第1の黒化処理に供しCuOとCu 2Oか
らなる第1の黒化層を形成し、ついてこの第1の黒化層
を所定厚さとなるまでエツチングしたのち、さらに第2
の黒化処理に供し、Cu2Oが富化された第2の黒化層
を形成させることを特徴とするプリント配線板の製造方
法を提供するものである。
に形成した内層用回路板を一枚以上を絶縁層を介して積
層し、この積層体全体を加熱加圧し一体化してなる多層
プリント配線板の製造方法において、 該内層用回路板の積層に際し、予め脱脂処理した該内層
用回路板を第1の黒化処理に供しCuOとCu 2Oか
らなる第1の黒化層を形成し、ついてこの第1の黒化層
を所定厚さとなるまでエツチングしたのち、さらに第2
の黒化処理に供し、Cu2Oが富化された第2の黒化層
を形成させることを特徴とするプリント配線板の製造方
法を提供するものである。
本発明は、従来おこなわれていた黒化処理ののち、形成
された黒化層が適当に薄くなるまでエツチングをおこな
い、ついで更に黒化処理を繰り返すことにより、Cu
2O富化が黒化層にもたらされ、このCu 2O富化層
かハローイング現象を著しく抑制し得ることを見出し本
発明に到達したしのである。すなわち、従来の単一の黒
化処理においては、黒化層中のCu 2OのCuOに対
する比(Cu2O/Cu0X100)はせいぜい38%
程度であるが、本発明のように2段の黒化処理により、
この比を約80%またはそれ以上に高めることができ、
このようなCu 2Oの富化によりハローイング現象を
著しく抑制し得る。
された黒化層が適当に薄くなるまでエツチングをおこな
い、ついで更に黒化処理を繰り返すことにより、Cu
2O富化が黒化層にもたらされ、このCu 2O富化層
かハローイング現象を著しく抑制し得ることを見出し本
発明に到達したしのである。すなわち、従来の単一の黒
化処理においては、黒化層中のCu 2OのCuOに対
する比(Cu2O/Cu0X100)はせいぜい38%
程度であるが、本発明のように2段の黒化処理により、
この比を約80%またはそれ以上に高めることができ、
このようなCu 2Oの富化によりハローイング現象を
著しく抑制し得る。
なお、第1の黒化処理条件としては、従来と同様でよく
、たとえばアルカリ性亜塩素酸ナトリウム水溶液、アル
カリ性過硫酸カリ水溶液等を用い、たとえば80−10
0℃で黒化層が0.6−0゜9μm程度の厚みに成長す
るのに十分な時間、たとえば1−10分またはそれ以上
、浸漬処理することによっておこなわれる。工程(6)
のエツチング条件としては第1の黒化層を溶解しつる酸
溶液、たとえば希硫酸などのオキソ酸、希塩酸に代表さ
れる塩基酸、ハロゲン化水素酸、アンモニア水等が用い
られる。また、エツチング時間は第1の黒化層が0.2
μm前後、好ましくは0.15−0.2Oμm程度残る
まで、たとえば十数秒ないし30秒とする。第2の黒化
処理条件としては、第1の黒化処理と同様の酸化性溶液
を用い、さらに同様の温度で適当時間、すなわち、黒化
層中のCu 2OのCuOに対する%比(Cu2O/C
u0X100)が80%前後またはそれ以上富化される
程度までおこなうことか好ましい。
、たとえばアルカリ性亜塩素酸ナトリウム水溶液、アル
カリ性過硫酸カリ水溶液等を用い、たとえば80−10
0℃で黒化層が0.6−0゜9μm程度の厚みに成長す
るのに十分な時間、たとえば1−10分またはそれ以上
、浸漬処理することによっておこなわれる。工程(6)
のエツチング条件としては第1の黒化層を溶解しつる酸
溶液、たとえば希硫酸などのオキソ酸、希塩酸に代表さ
れる塩基酸、ハロゲン化水素酸、アンモニア水等が用い
られる。また、エツチング時間は第1の黒化層が0.2
μm前後、好ましくは0.15−0.2Oμm程度残る
まで、たとえば十数秒ないし30秒とする。第2の黒化
処理条件としては、第1の黒化処理と同様の酸化性溶液
を用い、さらに同様の温度で適当時間、すなわち、黒化
層中のCu 2OのCuOに対する%比(Cu2O/C
u0X100)が80%前後またはそれ以上富化される
程度までおこなうことか好ましい。
(作用)
Cu 2OはCuOより相対的に耐酸性が大きいので2
回目の黒化処理により形成されたC u 2O富化の黒
化層によりの耐酸性が向上し、ハローイング現象の発生
が著しく抑制されるものと考えられる。
回目の黒化処理により形成されたC u 2O富化の黒
化層によりの耐酸性が向上し、ハローイング現象の発生
が著しく抑制されるものと考えられる。
(実施例)
以下、本発明を実施例を参照して説明する実施例1
以下の工程により多層プリント配線板を製造した。
(1) まず、表裏両面に銅箔を貼着したガラス・エポ
キシ胴貼積層板(340mIIX510+*■×1.6
mm)を用い、従来同様のフォトエツチングにより、内
層用印刷回路板を製造した。
キシ胴貼積層板(340mIIX510+*■×1.6
mm)を用い、従来同様のフォトエツチングにより、内
層用印刷回路板を製造した。
(2) ニュウトラル・クリーン 68(商標、シラプ
レー社製)の25%溶液を用い、60℃で脱脂処理をお
こなったのち、水洗した。
レー社製)の25%溶液を用い、60℃で脱脂処理をお
こなったのち、水洗した。
(3) エッチ(Etch) 746(商標、シラプ
レー社製)15%およびH2O210%を含む溶液を用
い、ソフトエツチングを60秒問おこない、ついで水洗
した。
レー社製)15%およびH2O210%を含む溶液を用
い、ソフトエツチングを60秒問おこない、ついで水洗
した。
(4) ついで、コケイ酸(44g/、ff)を用いて
酸洗したのち、水洗した。
酸洗したのち、水洗した。
(5) NaOH21g/N5Na3PO412H
O17g/II!およびNaCl0 43g/、l!
を含む黒化処理浴に90℃で270秒間浸漬し、第1の
黒化処理をおこない、厚み0. 6μmの第1の黒化層
を形成したのち、水洗した。
O17g/II!およびNaCl0 43g/、l!
を含む黒化処理浴に90℃で270秒間浸漬し、第1の
黒化処理をおこない、厚み0. 6μmの第1の黒化層
を形成したのち、水洗した。
(6) 10%H2SO4に上記黒化処理済み内層用
印刷回路板を2O−30秒間浸漬し、上記第1の黒化層
を約0.2μmの厚さとなるまでエツチングしたのち、
水洗した。
印刷回路板を2O−30秒間浸漬し、上記第1の黒化層
を約0.2μmの厚さとなるまでエツチングしたのち、
水洗した。
(7) 上記工程(5)と同様の黒化処理浴を用い、8
0℃で180秒間、上記内層用印刷回路板を浸漬し、第
2の黒化処理をおこない、第2の黒化層を形成したのち
、水洗および湯洗をおこない、さらに130’Cて乾燥
させた。この処理の結果得られた黒化層中のCu 2O
のCuOに対する比(Cu O/Cu0X100)は
80%以上であることが薄膜用X線回折装置により判明
した。
0℃で180秒間、上記内層用印刷回路板を浸漬し、第
2の黒化処理をおこない、第2の黒化層を形成したのち
、水洗および湯洗をおこない、さらに130’Cて乾燥
させた。この処理の結果得られた黒化層中のCu 2O
のCuOに対する比(Cu O/Cu0X100)は
80%以上であることが薄膜用X線回折装置により判明
した。
(8)この乾燥した内層用印刷回路板、数枚を従来同様
に外層用銅箔とともに絶縁接着層を介して重ね、加熱加
圧し、多層プリント配線板を作成した。
に外層用銅箔とともに絶縁接着層を介して重ね、加熱加
圧し、多層プリント配線板を作成した。
(9) 次に、この多層プリント配線板に直径0.35
mm(7)Fリルで穴開は加工し、スルーボールを形成
した。
mm(7)Fリルで穴開は加工し、スルーボールを形成
した。
(10) ついで従来同様の酸洗等をおこなったのち、
無電解銅メツキ、パネルメッキ(2Oμm)(第1銅メ
ツキ)をおこなった。
無電解銅メツキ、パネルメッキ(2Oμm)(第1銅メ
ツキ)をおこなった。
(11) さらに水洗、酸洗等の常套処理をおこなった
のち、レジストによるパターニング、これをマスクとし
て電解銅メツキ(第2銅メツキ、2Oμm)等を経て多
層プリント配線板を得た。
のち、レジストによるパターニング、これをマスクとし
て電解銅メツキ(第2銅メツキ、2Oμm)等を経て多
層プリント配線板を得た。
次に、このように得られた多層プリント配線板のハロー
イング発生量について測定をしたところ、ピンクリング
の幅、pは約64μmであった。
イング発生量について測定をしたところ、ピンクリング
の幅、pは約64μmであった。
なお、比較のため、上記工程(6)および(7)を省略
した以外は同様の工程により多層プリント配線板を作成
したところ、ピンクリングの幅、pは約140μmであ
り、本発明の方法がハローイング発生量を50%以上、
低減し得ることが確認された。
した以外は同様の工程により多層プリント配線板を作成
したところ、ピンクリングの幅、pは約140μmであ
り、本発明の方法がハローイング発生量を50%以上、
低減し得ることが確認された。
実施例2
工程5の第1の黒化処理浴を80−95°C1浸漬時間
を180−480秒とし、工程6のエツチング時間を3
0〜60秒、工程7の第2の黒化処理時間を12O−4
80秒にそれぞれ変化させた以外は実施例1と同様に処
理し多層プリント配線板を作成し、ピンクリングの幅、
gのMj定をおこなったところ、28−95μmの値か
得られた。
を180−480秒とし、工程6のエツチング時間を3
0〜60秒、工程7の第2の黒化処理時間を12O−4
80秒にそれぞれ変化させた以外は実施例1と同様に処
理し多層プリント配線板を作成し、ピンクリングの幅、
gのMj定をおこなったところ、28−95μmの値か
得られた。
(発明の効果)
以上説明したように、本発明によれば、黒化処理を繰り
返す簡単な2段階黒化処理によりハローイング発生量を
著しく抑制することか可能となり、その結果、多層プリ
ント配線板としての信頼性を著しく向上させることがで
きる。
返す簡単な2段階黒化処理によりハローイング発生量を
著しく抑制することか可能となり、その結果、多層プリ
ント配線板としての信頼性を著しく向上させることがで
きる。
第1図はハローイング現象を説明するための平面図であ
る。 1・・・黒化層、2・・・スルーホール、3・・・リン
グ。
る。 1・・・黒化層、2・・・スルーホール、3・・・リン
グ。
Claims (1)
- (1)銅箔配線層を少なくとも一表面層に形成した内層
用回路板を一枚以上を絶縁層を介して積層し、この積層
体全体を加熱加圧し一体化してなる多層プリント配線板
の製造方法において、該内層用回路板の積層に際し、予
め脱脂処理した該内層用回路板を第1の黒化処理に供し
CuOとCu_2Oからなる第1の黒化層を形成し、つ
いでこの第1の黒化層を所定厚さとなるまでエッチング
したのち、さらに第2の黒化処理に供し、Cu_2Oが
富化された第2の黒化層を形成させることを特徴とする
プリント配線板の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34057290A JPH04208596A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 多層プリント配線板の製造方法 |
| EP91120415A EP0488299B1 (en) | 1990-11-30 | 1991-11-28 | Method of manufacturing a multi-layered wiring board |
| DE69112181T DE69112181T2 (de) | 1990-11-30 | 1991-11-28 | Verfahren zur Herstellung einer Mehrschichtverdrahtungsplatine. |
| US07/801,400 US5264049A (en) | 1990-11-30 | 1991-12-02 | Method of manufacturing a multi-layered wiring board |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34057290A JPH04208596A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 多層プリント配線板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04208596A true JPH04208596A (ja) | 1992-07-30 |
Family
ID=18338282
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34057290A Pending JPH04208596A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 多層プリント配線板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04208596A (ja) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56167399A (en) * | 1980-05-27 | 1981-12-23 | Tokyo Shibaura Electric Co | Method of surface treating multilayer printed board inner layer plate |
| JPS62242531A (ja) * | 1986-04-15 | 1987-10-23 | 東芝ケミカル株式会社 | 銅張積層板の黒化処理方法 |
| JPH0244799A (ja) * | 1988-08-05 | 1990-02-14 | Matsushita Electric Works Ltd | 多層配線基板の製造方法 |
| JPH02230794A (ja) * | 1989-03-03 | 1990-09-13 | Matsushita Electric Works Ltd | 内層用回路板の銅回路の処理方法 |
| JPH02273994A (ja) * | 1989-04-15 | 1990-11-08 | Matsushita Electric Works Ltd | 内層用回路板の銅回路の処理方法 |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP34057290A patent/JPH04208596A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56167399A (en) * | 1980-05-27 | 1981-12-23 | Tokyo Shibaura Electric Co | Method of surface treating multilayer printed board inner layer plate |
| JPS62242531A (ja) * | 1986-04-15 | 1987-10-23 | 東芝ケミカル株式会社 | 銅張積層板の黒化処理方法 |
| JPH0244799A (ja) * | 1988-08-05 | 1990-02-14 | Matsushita Electric Works Ltd | 多層配線基板の製造方法 |
| JPH02230794A (ja) * | 1989-03-03 | 1990-09-13 | Matsushita Electric Works Ltd | 内層用回路板の銅回路の処理方法 |
| JPH02273994A (ja) * | 1989-04-15 | 1990-11-08 | Matsushita Electric Works Ltd | 内層用回路板の銅回路の処理方法 |
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