JPH0421259B2 - - Google Patents
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- JPH0421259B2 JPH0421259B2 JP2312984A JP2312984A JPH0421259B2 JP H0421259 B2 JPH0421259 B2 JP H0421259B2 JP 2312984 A JP2312984 A JP 2312984A JP 2312984 A JP2312984 A JP 2312984A JP H0421259 B2 JPH0421259 B2 JP H0421259B2
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- Japan
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- reflective film
- drying chamber
- disk
- digital signal
- resin substrate
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- Expired
Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0057—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/50—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges
- G11B23/505—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges of disk carriers
- G11B23/507—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges of disk carriers combined with means for reducing influence of physical parameters, e.g. temperature change, moisture
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ビデオデイスク，デイジタルオーデ
イオデイスク（たとえばコンパクトデイスク），
静止画，文書フアイルなどのデイジタル信号記録
再生デイスクの反射膜作成装置に関するものであ
る。
イオデイスク（たとえばコンパクトデイスク），
静止画，文書フアイルなどのデイジタル信号記録
再生デイスクの反射膜作成装置に関するものであ
る。
従来例の構成とその問題点
この種のデイジタル信号記録再生デイスクは、
その情報密度が極めて大きいことや、Ｓ／Ｎ，ダ
イナミツクレンジが大きいことなど情報媒体とし
て有望視され、ビデオデイスクやデイジタルオー
デイオデイスクとして商品化されている。
その情報密度が極めて大きいことや、Ｓ／Ｎ，ダ
イナミツクレンジが大きいことなど情報媒体とし
て有望視され、ビデオデイスクやデイジタルオー
デイオデイスクとして商品化されている。
第１図に一般的なデイジタルオーデイオデイス
クであるコンパクトデイスクの概要を示す。これ
はPCM変換されたデイジタル信号が樹脂基板に
ピツト列状に記録され、半導体レーザにより再生
されるものである。第１図において１はデイスク
全体、２は樹脂基板、３は樹脂基板の表面に刻ま
れたピツト列状のデイジタル信号、４はその表面
に作成された反射膜、５は反射膜上にコーテイン
グされた保護膜、６はデイスク読取面からの再生
用の半導体レーザである。
クであるコンパクトデイスクの概要を示す。これ
はPCM変換されたデイジタル信号が樹脂基板に
ピツト列状に記録され、半導体レーザにより再生
されるものである。第１図において１はデイスク
全体、２は樹脂基板、３は樹脂基板の表面に刻ま
れたピツト列状のデイジタル信号、４はその表面
に作成された反射膜、５は反射膜上にコーテイン
グされた保護膜、６はデイスク読取面からの再生
用の半導体レーザである。
ここで、反射膜４はデイジタル信号３を半導体
レーザ６により再生する場合に照射光を反射させ
るために必要なものである。
レーザ６により再生する場合に照射光を反射させ
るために必要なものである。
第２図に真空蒸着法を用いた従来の反射膜作成
装置を示す。
装置を示す。
真空容器７の中に樹脂基板２を第２図ｂのよう
にトレイ８上に並べ、フイラメント９を加熱する
ことによりAlなどの金属を樹脂基板２の表面に
蒸着することにより反射膜４を作成する。
にトレイ８上に並べ、フイラメント９を加熱する
ことによりAlなどの金属を樹脂基板２の表面に
蒸着することにより反射膜４を作成する。
この場合、樹脂基板の表面には水分が吸着して
いるのが一般的であり、除湿が完全でない場合に
Alが酸化して、反射率の低下が生じたり、膜質
が悪くなり、高温多湿下の環境（例えば、40℃，
95％など）において膜質が劣化し反射膜としての
機能を果たさないなどの問題点を有していた。
いるのが一般的であり、除湿が完全でない場合に
Alが酸化して、反射率の低下が生じたり、膜質
が悪くなり、高温多湿下の環境（例えば、40℃，
95％など）において膜質が劣化し反射膜としての
機能を果たさないなどの問題点を有していた。
発明の目的
本発明はこれらの問題点を解消するものであ
り、樹脂基板の表面に吸着した水分を除去し、膜
質の優れた反射膜を作成することができるデイジ
タル信号記録再生デイスクの反射膜作成装置を提
供するものである。
り、樹脂基板の表面に吸着した水分を除去し、膜
質の優れた反射膜を作成することができるデイジ
タル信号記録再生デイスクの反射膜作成装置を提
供するものである。
発明の構成
本発明は、装置内に密閉された乾燥室を設け、
上記乾燥室の中に、複数枚のデイスクを収納した
容器を入れ、高温除湿乾燥したアルゴン（Ar），
窒素（N2），または空気を導入することにより、
上記デイスクの表面に吸着した水分を除去するこ
とにより膜質の優れた反射膜を作成する装置に関
するものである。
上記乾燥室の中に、複数枚のデイスクを収納した
容器を入れ、高温除湿乾燥したアルゴン（Ar），
窒素（N2），または空気を導入することにより、
上記デイスクの表面に吸着した水分を除去するこ
とにより膜質の優れた反射膜を作成する装置に関
するものである。
実施例の説明
第３図に本発明のデイジタル信号記録再生デイ
スクの反射膜作成装置の一実施例を示す。反射膜
作成方法としてスパツター法を用いたもので、装
置の機構を説明するための平面図にて示す。
スクの反射膜作成装置の一実施例を示す。反射膜
作成方法としてスパツター法を用いたもので、装
置の機構を説明するための平面図にて示す。
樹脂基板２が、20枚程度並べられ樹脂基板収納
容器１０に入れられている。次に、この樹脂基板
収納容器１０が反射膜作成装置１１に設けられた
乾燥室１２に運ばれる。上記乾燥室にはシヤツタ
ー１３が設けられ、上記収納容器１０が入ればシ
ヤツター１３が閉じ乾燥室１２は密閉される。こ
の乾燥室内に高温除湿乾燥された80℃のドライ
N2が導入され、約10分間流すことにより、樹脂
基板２の表面に吸着した水分は完全に除去され
る。次に樹脂基板２は、反射膜作成装置１１内の
予備室１４から順次取入れられ、ターンテーブル
１５が回転し、Alターゲツト１６よりスパツタ
ーされ、樹脂基板２上に反射膜を作成し、取出室
１７より順次取出される。
容器１０に入れられている。次に、この樹脂基板
収納容器１０が反射膜作成装置１１に設けられた
乾燥室１２に運ばれる。上記乾燥室にはシヤツタ
ー１３が設けられ、上記収納容器１０が入ればシ
ヤツター１３が閉じ乾燥室１２は密閉される。こ
の乾燥室内に高温除湿乾燥された80℃のドライ
N2が導入され、約10分間流すことにより、樹脂
基板２の表面に吸着した水分は完全に除去され
る。次に樹脂基板２は、反射膜作成装置１１内の
予備室１４から順次取入れられ、ターンテーブル
１５が回転し、Alターゲツト１６よりスパツタ
ーされ、樹脂基板２上に反射膜を作成し、取出室
１７より順次取出される。
第４図は本発明の他の実施例であり、この場合
も反射膜作成としてはスパツター法を用い、装置
の機構を説明するため第４図ａは平面図、第４図
ｂは断面図にて示す。
も反射膜作成としてはスパツター法を用い、装置
の機構を説明するため第４図ａは平面図、第４図
ｂは断面図にて示す。
樹脂基板２を収納した容器１８が反射膜作成装
置１９の乾燥室２０に入る。乾燥室は密閉され、
この中に高温除湿乾燥された80℃のクリーンエア
ーが、導入装置２１より導入され、樹脂基板２の
表面に吹き当てられ、樹脂表面に吸着した水分が
完全に除去される。同時にイオン発生機構による
除電装置２２により樹脂基板は除電される。次に
スパツター室２３でAlがターゲツト２４よりス
パツターされ膜質の優れた反射膜が作成される。
置１９の乾燥室２０に入る。乾燥室は密閉され、
この中に高温除湿乾燥された80℃のクリーンエア
ーが、導入装置２１より導入され、樹脂基板２の
表面に吹き当てられ、樹脂表面に吸着した水分が
完全に除去される。同時にイオン発生機構による
除電装置２２により樹脂基板は除電される。次に
スパツター室２３でAlがターゲツト２４よりス
パツターされ膜質の優れた反射膜が作成される。
樹脂基板２を除湿させるガスとしてはAr，N2
または空気などが適切であり、反射膜作成方法と
しては、真空蒸着，スパツター，電子ビーム蒸
着，イオンプレーテイングなどの物理蒸着が適し
ている。
または空気などが適切であり、反射膜作成方法と
しては、真空蒸着，スパツター，電子ビーム蒸
着，イオンプレーテイングなどの物理蒸着が適し
ている。
発明の効果
以上のように本発明によれば、装置内に密閉さ
れた乾燥室を設け、上記乾燥室の中に複数枚のデ
イスクを収納した容器をおき、高温除湿乾燥した
Ar，N2または空気を導入することにより、デイ
スク表面に吸着した水分を除去することができる
ため酸化物の少ない膜質の優れた反射膜を作成す
ることができる。さらに除電効果により静電吸着
によるピンホールなどの無い良質の膜が得られ
る。
れた乾燥室を設け、上記乾燥室の中に複数枚のデ
イスクを収納した容器をおき、高温除湿乾燥した
Ar，N2または空気を導入することにより、デイ
スク表面に吸着した水分を除去することができる
ため酸化物の少ない膜質の優れた反射膜を作成す
ることができる。さらに除電効果により静電吸着
によるピンホールなどの無い良質の膜が得られ
る。
本発明の高温除湿乾燥したガスによるデイスク
表面の除湿は、赤外線ヒータなどによる基板加熱
法に比べて、極めて除湿効果が優れている。
表面の除湿は、赤外線ヒータなどによる基板加熱
法に比べて、極めて除湿効果が優れている。
また、本発明によれば、装置内に乾燥室を設け
ることにより装置の小型化と自動化，量産化を図
ることができるという効果がある。
ることにより装置の小型化と自動化，量産化を図
ることができるという効果がある。
第１図ａ，ｂ，ｃは一般的なデイジタル信号記
録再生デイスクの平面図、断面図および要部拡大
図、第２図ａ，ｂは従来のデイジタル信号記録再
生デイスクの反射膜作成装置の断面図および樹脂
基板の取付けを示す平面図、第３図は本発明の一
実施例を示す平面図、第４図ａ，ｂは本発明の他
の実施例を示す平面図と断面図である。 １……デイスク、２……樹脂基板、３……デイ
ジタル信号、４……反射膜、５……保護膜、６…
…半導体レーザ、１０，１８……樹脂基板収納容
器、１１，１９……反射膜作成装置、１２，２０
……乾燥室、１３……シヤツター、１４……予備
室、１５……ターンテーブル、１６，２４……タ
ーゲツト、１７……取出室、２１……高温除湿乾
燥空気導入装置、２２……除電装置、２３……ス
パツター室。
録再生デイスクの平面図、断面図および要部拡大
図、第２図ａ，ｂは従来のデイジタル信号記録再
生デイスクの反射膜作成装置の断面図および樹脂
基板の取付けを示す平面図、第３図は本発明の一
実施例を示す平面図、第４図ａ，ｂは本発明の他
の実施例を示す平面図と断面図である。 １……デイスク、２……樹脂基板、３……デイ
ジタル信号、４……反射膜、５……保護膜、６…
…半導体レーザ、１０，１８……樹脂基板収納容
器、１１，１９……反射膜作成装置、１２，２０
……乾燥室、１３……シヤツター、１４……予備
室、１５……ターンテーブル、１６，２４……タ
ーゲツト、１７……取出室、２１……高温除湿乾
燥空気導入装置、２２……除電装置、２３……ス
パツター室。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 装置内に密閉された乾燥室を設け、上記乾燥
室の中に、複数枚のデイスクを収納した容器を保
持する工程で、高温除湿乾燥したアルゴン
（Ar），窒素（N2）などのガスまたは空気を導入
することにより、上記デイスクの表面に吸着した
水分を除去する機構を有することを特徴とするデ
イジタル信号記録再生デイスクの反射膜作成装
置。 ２ 乾燥室内に除電装置を設けたことを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載のデイジタル信号記
録再生デイスクの反射膜作成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59023129A JPS60167147A (ja) | 1984-02-09 | 1984-02-09 | デイジタル信号記録再生デイスクの反射膜作成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59023129A JPS60167147A (ja) | 1984-02-09 | 1984-02-09 | デイジタル信号記録再生デイスクの反射膜作成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60167147A JPS60167147A (ja) | 1985-08-30 |
| JPH0421259B2 true JPH0421259B2 (ja) | 1992-04-09 |
Family
ID=12101908
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59023129A Granted JPS60167147A (ja) | 1984-02-09 | 1984-02-09 | デイジタル信号記録再生デイスクの反射膜作成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60167147A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2542189B2 (ja) * | 1986-04-19 | 1996-10-09 | 富士写真フイルム株式会社 | 放射線画像読取装置 |
-
1984
- 1984-02-09 JP JP59023129A patent/JPS60167147A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60167147A (ja) | 1985-08-30 |
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