JPH0419617B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0419617B2 JPH0419617B2 JP4628083A JP4628083A JPH0419617B2 JP H0419617 B2 JPH0419617 B2 JP H0419617B2 JP 4628083 A JP4628083 A JP 4628083A JP 4628083 A JP4628083 A JP 4628083A JP H0419617 B2 JPH0419617 B2 JP H0419617B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disk
- digital signal
- reflective film
- signal recording
- take
- Prior art date
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- Expired
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 7
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 claims description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 claims description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の別用分野
本発明は、ビデオデイスク、デイジタルオーデ
イスク（たとえばコンパクトデイスク）、静止画、
文書フアイルなどのデイジタル信号記録再生デイ
スクの製造方法に関するものである。
イスク（たとえばコンパクトデイスク）、静止画、
文書フアイルなどのデイジタル信号記録再生デイ
スクの製造方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
この種のデイジタル信号記録再生デイスクは、
その情報密度が極めて大きいことや、Ｓ／Ｎ、ノ
イズなど少ないことで情報媒体として有望視さ
れ、ビデオデイスクやデイジタルオーデイオデイ
スクなどとして商品化されている。
その情報密度が極めて大きいことや、Ｓ／Ｎ、ノ
イズなど少ないことで情報媒体として有望視さ
れ、ビデオデイスクやデイジタルオーデイオデイ
スクなどとして商品化されている。
第１図に一般的なデイジタルオーデイオデイス
クの概要を示す。これはPCM変換されたデイジ
タル信号がプラステイツクデイスクに凹凸状に記
録され、これが半導体レーザによつて再生される
ものである。第１図において、１はデイスク全
体、２はプラステイツク基板、３はプラステイツ
ク基板２の表面に凹凸状に刻まれたデイジタル信
号、４はその表面に作成された反射膜、５は反射
膜４の表面にコーテイングされた保護膜、６はデ
イスク１の裏面から照射される再生用の半導体レ
ーザである。
クの概要を示す。これはPCM変換されたデイジ
タル信号がプラステイツクデイスクに凹凸状に記
録され、これが半導体レーザによつて再生される
ものである。第１図において、１はデイスク全
体、２はプラステイツク基板、３はプラステイツ
ク基板２の表面に凹凸状に刻まれたデイジタル信
号、４はその表面に作成された反射膜、５は反射
膜４の表面にコーテイングされた保護膜、６はデ
イスク１の裏面から照射される再生用の半導体レ
ーザである。
ここで、反射膜４はデイジタル信号３を半導体
レーザ６によつて再生する場合に、照射光を反射
させるために必要なものである。
レーザ６によつて再生する場合に、照射光を反射
させるために必要なものである。
第２図に真空蒸着法を用いた従来の反射膜作成
方法を示す。
方法を示す。
真空容器７の中に、デイスク１を第２図ｂのよ
うに並べた基材８を配置し、フイラメント９を加
熱し、Alなどの金属をデイスク１の表面に蒸着
することにより反射膜４を作成する。
うに並べた基材８を配置し、フイラメント９を加
熱し、Alなどの金属をデイスク１の表面に蒸着
することにより反射膜４を作成する。
この場合、装置の自動化は困難であり、処理枚
数に制限があり、量産化が適さないことや、デイ
スク基板を加熱する機構がないため反射膜４の密
着性が弱いこと、たとえ加熱するにしても装置が
複雑となることなど、量産に適さないという欠点
がある。
数に制限があり、量産化が適さないことや、デイ
スク基板を加熱する機構がないため反射膜４の密
着性が弱いこと、たとえ加熱するにしても装置が
複雑となることなど、量産に適さないという欠点
がある。
発明の目的
本発明は、これらの欠点を除去し、大量にしか
も連続的に、早く、かつ性能的にも安定に反射膜
を作成することのできるデイジタル信号記録再生
デイスクの製造方法を提供するものである。
も連続的に、早く、かつ性能的にも安定に反射膜
を作成することのできるデイジタル信号記録再生
デイスクの製造方法を提供するものである。
発明の構成
本発明は同一真空容器内の２個所以上にデイス
クの取出入部を設けるとともに、これと同数の反
射膜作成装置を設け、その中心に配置したターン
テーブルの外周にデイスクを垂直方向に保持し、
このターンテーブルを回転させることによつてデ
イスクの取出入と、デイスク表面への反射膜の蒸
着を順次行ない、上記デイジタル信号記録再生デ
イスクの表面に反射膜を作成するようにしたもの
である。
クの取出入部を設けるとともに、これと同数の反
射膜作成装置を設け、その中心に配置したターン
テーブルの外周にデイスクを垂直方向に保持し、
このターンテーブルを回転させることによつてデ
イスクの取出入と、デイスク表面への反射膜の蒸
着を順次行ない、上記デイジタル信号記録再生デ
イスクの表面に反射膜を作成するようにしたもの
である。
実施例の説明
第３図に本発明のデイジタル信号記録再生テイ
スクの製造方法の一実施例を示す。ここで、デイ
スクは垂直方向に保持されているため、装置全体
を上面図で示す。
スクの製造方法の一実施例を示す。ここで、デイ
スクは垂直方向に保持されているため、装置全体
を上面図で示す。
第３図は、デイスクの取出入と反射膜作成工程
が同一真空容器１１内に２個所設けられた実施例
を示す。
が同一真空容器１１内に２個所設けられた実施例
を示す。
デイスク１は予備真空１０を通じて真空容器１
１内に入れられ、ターンテーブル１２の外周に設
けた第１の回転位置（デイスク取出入位置）１３
に取付けられる。次にターンテーブル１２が回転
し、デイスク１が第２回転位置（スパツタ位置）
１４に移動し、ここでターゲツト１５によつて
Alがスパツタリングされデイスク１の表面に反
射膜が作成される。
１内に入れられ、ターンテーブル１２の外周に設
けた第１の回転位置（デイスク取出入位置）１３
に取付けられる。次にターンテーブル１２が回転
し、デイスク１が第２回転位置（スパツタ位置）
１４に移動し、ここでターゲツト１５によつて
Alがスパツタリングされデイスク１の表面に反
射膜が作成される。
次にターンテーブル１２が回転し、第３の回転
位置（デイスク取出入位置）１６に移動し、ここ
で予備真空室１７を通じてデイスク１が取出され
る。同時にここで、別のデイスク１が予備真空室
７を通じて、第３の回転位置１６に取入れられ
る。
位置（デイスク取出入位置）１６に移動し、ここ
で予備真空室１７を通じてデイスク１が取出され
る。同時にここで、別のデイスク１が予備真空室
７を通じて、第３の回転位置１６に取入れられ
る。
次にこのデイスク１は第４の回転位置（スパツ
タ位置）１８に移動し、ここでターゲツト１９よ
りAlがスパツタリングされ、デイスク１の表面
に反射膜が作成される。
タ位置）１８に移動し、ここでターゲツト１９よ
りAlがスパツタリングされ、デイスク１の表面
に反射膜が作成される。
次に、このデイスク１は再び第１の回転位置１
３に移動し、予備真空室１０を通じて、真空容器
１１から取出される。
３に移動し、予備真空室１０を通じて、真空容器
１１から取出される。
このように、上記実施例によれば、２つのデイ
スク取出入部１０，１７を設け、２つの反射膜作
成装置（ターゲツト１５，１９）を有するため、
デイスク取出入部を１個所しか設けないものに比
べてデイスク１を量産化することができる。
スク取出入部１０，１７を設け、２つの反射膜作
成装置（ターゲツト１５，１９）を有するため、
デイスク取出入部を１個所しか設けないものに比
べてデイスク１を量産化することができる。
第４図は本発明の他の実施例であり、２個所の
デイスク取出入部と、それと同数の基板加熱工程
と反射膜作成工程を設けた場合を示す。
デイスク取出入部と、それと同数の基板加熱工程
と反射膜作成工程を設けた場合を示す。
予備真空室１０より取入れられたデイスク１
は、第３図の実施例と同様の工程を経る過程で回
転位置（基板加熱位置）２０にてヒータ２１より
基板の加熱が行なわれ、次に回転位置１４（Al
スパツタリングの工程）を経て、予備真空室１７
より取出される。これと同時に、予備真空室１７
より別のデイスク１が取入れられ、回転位置（基
板加熱位置）２２にてヒータ２３より基板の加熱
が行なわれ、次に回転位置（Alスパツタリング
工程）１８を経て予備真空室１０より取出され
る。
は、第３図の実施例と同様の工程を経る過程で回
転位置（基板加熱位置）２０にてヒータ２１より
基板の加熱が行なわれ、次に回転位置１４（Al
スパツタリングの工程）を経て、予備真空室１７
より取出される。これと同時に、予備真空室１７
より別のデイスク１が取入れられ、回転位置（基
板加熱位置）２２にてヒータ２３より基板の加熱
が行なわれ、次に回転位置（Alスパツタリング
工程）１８を経て予備真空室１０より取出され
る。
なお、反射膜は、真空蒸着、スパツタリング、
イオンプレーテイングなどの物理蒸着で作成する
ことが望ましい。
イオンプレーテイングなどの物理蒸着で作成する
ことが望ましい。
発明の効果
以上のように、本発明によれば、同一真空容器
内に２個所以上のデイスク取出入部と、同数の反
射膜作成装置を設け、ターンテーブルの外周に垂
直方向に保持したデイスクをターンテーブルとと
もに回転させて反射膜を作成するため、１つのデ
イスク取出入部しかもたないものに比べて高能率
化が図れ、又加熱工程を加えれば信頼性も向上
し、自動化も可能であるため安価にデイスクを作
成することができるという優れた効果が得られ
る。
内に２個所以上のデイスク取出入部と、同数の反
射膜作成装置を設け、ターンテーブルの外周に垂
直方向に保持したデイスクをターンテーブルとと
もに回転させて反射膜を作成するため、１つのデ
イスク取出入部しかもたないものに比べて高能率
化が図れ、又加熱工程を加えれば信頼性も向上
し、自動化も可能であるため安価にデイスクを作
成することができるという優れた効果が得られ
る。
第１図ａ〜ｃは一般的なデイジタル信号記録再
生デイスクの平面図、断面図および要部断面図、
第２図ａ，ｂは従来のデイジタル信号記録再生デ
イスクの製造方法の概略を示す図およびその基板
にデイスクを取付けた状態を示す斜視図、第３図
は本発明の一実施例の上面図、第４図は本発明の
他の実施例の上面図である。 １……デイスク、２……プラステイツク基板、
３……デイジタル信号、４……反射膜、５……保
護膜、１０，１７……予備真空室、１１……真空
容器、１２……ターンテーブル、１３……第１の
回転位置（デイスク取出入位置）、１４……第２
の回転位置（スパツタ位置）、１５……ターゲツ
ト、１６……第３の回転位置（デイスク取出入位
置）、１８……第４の回転位置（スパツタ位置）、
１９……ターゲツト、２０，２２……基板加熱位
置、２１，２３……ヒータ。
生デイスクの平面図、断面図および要部断面図、
第２図ａ，ｂは従来のデイジタル信号記録再生デ
イスクの製造方法の概略を示す図およびその基板
にデイスクを取付けた状態を示す斜視図、第３図
は本発明の一実施例の上面図、第４図は本発明の
他の実施例の上面図である。 １……デイスク、２……プラステイツク基板、
３……デイジタル信号、４……反射膜、５……保
護膜、１０，１７……予備真空室、１１……真空
容器、１２……ターンテーブル、１３……第１の
回転位置（デイスク取出入位置）、１４……第２
の回転位置（スパツタ位置）、１５……ターゲツ
ト、１６……第３の回転位置（デイスク取出入位
置）、１８……第４の回転位置（スパツタ位置）、
１９……ターゲツト、２０，２２……基板加熱位
置、２１，２３……ヒータ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 同一真空容器内に２個所以上のデイスク取出
入部を設けるとともにそれと同数の反射膜作成装
置を設け、上記真空容器の中心に設けたターンテ
ーブルの外周にデイジタル信号記録再生デイスク
を垂直方向に保持し、このターンテーブルを回転
させることによつてデイスクの取出入、デイスク
表面への反射膜の蒸着を順次行ない、上記デイジ
タル信号記録再生デイスクの表面に反射膜を作成
することを特徴とするデイジタル信号記録再生デ
イスクの製造方法。 ２ デイスク取出入工程と蒸着工程との間に基板
加熱工程を設けたことを特徴とする特許請求範囲
第１項記載のデイジタル信号記録再生デイスクの
製造方法。 ３ 反射膜を、真空蒸着、スパツタリング、イオ
ンプレーテイングなどの物理蒸着で作成すること
を特徴とする特許請求範囲第１項記載のデイジタ
ル信号記録再生デイスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58046280A JPS59172173A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | ディジタル信号記録再生ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58046280A JPS59172173A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | ディジタル信号記録再生ディスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59172173A JPS59172173A (ja) | 1984-09-28 |
| JPH0419617B2 true JPH0419617B2 (ja) | 1992-03-31 |
Family
ID=12742815
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58046280A Granted JPS59172173A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | ディジタル信号記録再生ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59172173A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4664935A (en) * | 1985-09-24 | 1987-05-12 | Machine Technology, Inc. | Thin film deposition apparatus and method |
| WO2001031647A1 (de) * | 1999-10-22 | 2001-05-03 | Data Disc Robots Gmbh | Verfahren und vorrichtung zum trocknen von datenträgerplatten |
| JP4572993B1 (ja) | 2009-09-04 | 2010-11-04 | 富士ゼロックス株式会社 | 梱包材 |
-
1983
- 1983-03-18 JP JP58046280A patent/JPS59172173A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59172173A (ja) | 1984-09-28 |
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