JPH0762249B2 - 光デイスク製造装置 - Google Patents
光デイスク製造装置Info
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- JPH0762249B2 JPH0762249B2 JP61136599A JP13659986A JPH0762249B2 JP H0762249 B2 JPH0762249 B2 JP H0762249B2 JP 61136599 A JP61136599 A JP 61136599A JP 13659986 A JP13659986 A JP 13659986A JP H0762249 B2 JPH0762249 B2 JP H0762249B2
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はビデオディスク、ディジタルオーディオディス
ク（例えばコンパクトディスク）、静止画、文書ファイ
ルなどのディジタル信号を記録、再生または消去可能な
光ディスクの製造装置に関するものである。
ク（例えばコンパクトディスク）、静止画、文書ファイ
ルなどのディジタル信号を記録、再生または消去可能な
光ディスクの製造装置に関するものである。
従来の技術 一般に光ディスクはその情報密度が極めて大きいこと
や、S/N比も大きく、ノイズが少ないことなどから情報
媒体として有望視され、ビデオディスクやディジタルオ
ーディオディスクとして商品化され、ディジタル信号を
記録、再生する光ディスクとしても近年研究開発が行わ
れている。
や、S/N比も大きく、ノイズが少ないことなどから情報
媒体として有望視され、ビデオディスクやディジタルオ
ーディオディスクとして商品化され、ディジタル信号を
記録、再生する光ディスクとしても近年研究開発が行わ
れている。
第４図に従来の一般的なディジタルオーディオディスク
であるコンパクトディスクの概要を示す。これはPCM変
換されたディジタル信号が樹脂基板にピット列状に記録
され半導体レーザにより再生されるものである。
であるコンパクトディスクの概要を示す。これはPCM変
換されたディジタル信号が樹脂基板にピット列状に記録
され半導体レーザにより再生されるものである。
第４図において、１はディスク、２は樹脂基板、３は樹
脂基板２に刻まれたピット列状のディジタル信号部、４
はその表面に形成された反射膜、５は反射膜４にコーテ
ィングされた保護膜、６は保護膜５に設けられたレーベ
ル印刷膜、７は再生用の半導体レーザ光である。
脂基板２に刻まれたピット列状のディジタル信号部、４
はその表面に形成された反射膜、５は反射膜４にコーテ
ィングされた保護膜、６は保護膜５に設けられたレーベ
ル印刷膜、７は再生用の半導体レーザ光である。
反射膜４はディジタル信号を再生するため、保護膜５は
反射膜を保護するため、レーベル印刷膜６はディスクを
識別するため各々必要なものである。
反射膜を保護するため、レーベル印刷膜６はディスクを
識別するため各々必要なものである。
従来の反射膜または記録膜を形成する光ディスク製造装
置についてのべる。第２図に基板上に反射膜または記録
膜を形成する従来の薄膜形成装置の断面図を示す。８は
薄膜形成装置の真空室であり、９はその真空排気装置で
ある。蒸着源10がヒータ11の加熱により真空蒸着され、
基板２に反射膜または記録膜が形成される。
置についてのべる。第２図に基板上に反射膜または記録
膜を形成する従来の薄膜形成装置の断面図を示す。８は
薄膜形成装置の真空室であり、９はその真空排気装置で
ある。蒸着源10がヒータ11の加熱により真空蒸着され、
基板２に反射膜または記録膜が形成される。
次に、別の種類の従来の反射膜または記録膜を形成する
光ディスク製造装置についてのべる。第３図にこの装置
の断面図を示す。２つの予備真空室12と１つの主真空蒸
着室13より構成され、各々の真空室には独立した真空排
気装置14が設けられている。予備真空室12にて真空排気
され、主真空蒸着室13にて蒸着源10がヒータ11の加熱に
より真空蒸着され、基板２に反射膜または記録膜が形成
される。
光ディスク製造装置についてのべる。第３図にこの装置
の断面図を示す。２つの予備真空室12と１つの主真空蒸
着室13より構成され、各々の真空室には独立した真空排
気装置14が設けられている。予備真空室12にて真空排気
され、主真空蒸着室13にて蒸着源10がヒータ11の加熱に
より真空蒸着され、基板２に反射膜または記録膜が形成
される。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら上記のような構成では、ディスク基板は一
般的にポリカーボネート（PC）やアクリル（PMMA）など
の樹脂であるため、基板表面に水分（H2O）や酸素
（O2）などが吸着される。これが主真空室に入ることに
より、主真空室内でのH2OやO2濃度が高くなり、クライ
オポンプなどで構成された真空排気装置は短期間でダメ
ージを受け排気能力が低下し正常な真空装置として動作
しないなどの問題点を有していた。
般的にポリカーボネート（PC）やアクリル（PMMA）など
の樹脂であるため、基板表面に水分（H2O）や酸素
（O2）などが吸着される。これが主真空室に入ることに
より、主真空室内でのH2OやO2濃度が高くなり、クライ
オポンプなどで構成された真空排気装置は短期間でダメ
ージを受け排気能力が低下し正常な真空装置として動作
しないなどの問題点を有していた。
本発明は上記問題点に鑑み、光ディスクを量産性よく安
価に製造することのできる光ディスクの製造装置を提供
するものである。
価に製造することのできる光ディスクの製造装置を提供
するものである。
問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するために本発明の光ディスク製造装
置は同等能力の切替え可能な主真空排気装置を２基以上
もった主真空蒸着室と、各々独立した予備真空排気装置
をもった２室以上の前記主真空蒸着室に接続された予備
真空室とを備え、前記主真空蒸着室内にて基板上に反射
膜または記録膜を形成するようにしたものである。
置は同等能力の切替え可能な主真空排気装置を２基以上
もった主真空蒸着室と、各々独立した予備真空排気装置
をもった２室以上の前記主真空蒸着室に接続された予備
真空室とを備え、前記主真空蒸着室内にて基板上に反射
膜または記録膜を形成するようにしたものである。
作用 本発明は上記した構成によって、予備真空室にて基板上
に付着したH2O，O2などの不純物を排気し、主真空室に
て蒸着を行なう。しかも、主真空室において基板からの
H2O，O2などの影響を受けても正常な膜形成が可能なよ
うに同等能力の切替え可能な主真空排気装置を２基以上
設けている。これにより一方の主真空排気装置がダメー
ジを被っても、他方の主真空排気装置において正常な膜
形成が行える。膜形成後、次の予備真空室を通じて基板
が大気に取出され、基板上に反射膜または記録膜を連続
的に安定して形成することができる。
に付着したH2O，O2などの不純物を排気し、主真空室に
て蒸着を行なう。しかも、主真空室において基板からの
H2O，O2などの影響を受けても正常な膜形成が可能なよ
うに同等能力の切替え可能な主真空排気装置を２基以上
設けている。これにより一方の主真空排気装置がダメー
ジを被っても、他方の主真空排気装置において正常な膜
形成が行える。膜形成後、次の予備真空室を通じて基板
が大気に取出され、基板上に反射膜または記録膜を連続
的に安定して形成することができる。
実施例 以下本発明の一実施例の光ディスク製造装置について、
図面を参照しながら説明する。
図面を参照しながら説明する。
第１図は本発明の光ディスク製造装置15の断面図を示す
ものである。第１図において16は予備真空室（１）、17
は予備真空室（１）16用の真空排気装置（１）、18は予
備真空室（２）、19は予備真空室（２）18用の真空排気
装置（２）、20は主真空蒸着室、21は主真空蒸着室20用
の主真空排気装置（１）、22は同主真空排気装置（２）
で主真空排気装置（１）と同等の能力をもち、切替え可
能である。23はスパッター用ターゲットである。
ものである。第１図において16は予備真空室（１）、17
は予備真空室（１）16用の真空排気装置（１）、18は予
備真空室（２）、19は予備真空室（２）18用の真空排気
装置（２）、20は主真空蒸着室、21は主真空蒸着室20用
の主真空排気装置（１）、22は同主真空排気装置（２）
で主真空排気装置（１）と同等の能力をもち、切替え可
能である。23はスパッター用ターゲットである。
基板２が、予備真空室（１）16に入り、真空排気装置
（１）17により排気されたのち、主真空蒸着室20に入れ
られる。ここで通常は主真空排気装置（１）21により真
空に排気されたのち、ターゲット23により基板２上に基
板２上にアルミニウム（Al）反射膜が形成される。次
に、反射膜の形成された基板は予備真空室（２）18に入
り、大気に取出される。その後、予備真空室（２）18は
真空排気装置（２）19により真空に排気される。この工
程により順次基板上にAl反射膜が形成される。
（１）17により排気されたのち、主真空蒸着室20に入れ
られる。ここで通常は主真空排気装置（１）21により真
空に排気されたのち、ターゲット23により基板２上に基
板２上にアルミニウム（Al）反射膜が形成される。次
に、反射膜の形成された基板は予備真空室（２）18に入
り、大気に取出される。その後、予備真空室（２）18は
真空排気装置（２）19により真空に排気される。この工
程により順次基板上にAl反射膜が形成される。
しかしながら、基板は一般的にはポリカーボネート（P
C）やアクリル（PMMA）などの樹脂製であるため、その
表面に水分（H2O）、酸素（O2）などの不純物が大量に
付着している。また、近年高排気速度を得るためにクラ
イオポンプが一般的に主真空排気装置として使用されて
いるが、これは前述のH2OやO2などには極めてダメージ
を受け易く大量のH2O，O2などによりその排気能力が低
下し寿命に到る。この場合に、主真空排気装置（２）22
に切り替えれば時間のロスなく本製造装置は正常に動作
することができる。この間に主真空排気装置（１）の排
気能力再生を行えば、次に主真空排気装置（２）に寿命
が来ても、主真空排気装置（１）で正常動作が可能とな
る。このように本発明の光ディスク製造装置によれば、
安定して連続的に反射膜または記録膜の形成ができる。
C）やアクリル（PMMA）などの樹脂製であるため、その
表面に水分（H2O）、酸素（O2）などの不純物が大量に
付着している。また、近年高排気速度を得るためにクラ
イオポンプが一般的に主真空排気装置として使用されて
いるが、これは前述のH2OやO2などには極めてダメージ
を受け易く大量のH2O，O2などによりその排気能力が低
下し寿命に到る。この場合に、主真空排気装置（２）22
に切り替えれば時間のロスなく本製造装置は正常に動作
することができる。この間に主真空排気装置（１）の排
気能力再生を行えば、次に主真空排気装置（２）に寿命
が来ても、主真空排気装置（１）で正常動作が可能とな
る。このように本発明の光ディスク製造装置によれば、
安定して連続的に反射膜または記録膜の形成ができる。
発明の効果 以上のように本発明は、同等能力の切替え可能な主真空
排気装置を２基以上もった主真空蒸着室と、各々独立し
た予備真空排気装置をもった２室以上の前記主真空蒸着
室に接続された予備真空室とを備え、前記主真空蒸着室
内にて基板上に反射膜または記録膜を形成するようにし
たものであり、一方の主真空排気装置が基板より持込み
の不純物によりダメージを受けても、他方の主真空排気
装置に切替えることにより正常動作が可能となる。この
ように、本光ディスク製造装置は時間のロスなく安定し
て連続的に、反射膜または記録膜を形成することができ
るので、安価に大量に光ディスクを提供することができ
る。
排気装置を２基以上もった主真空蒸着室と、各々独立し
た予備真空排気装置をもった２室以上の前記主真空蒸着
室に接続された予備真空室とを備え、前記主真空蒸着室
内にて基板上に反射膜または記録膜を形成するようにし
たものであり、一方の主真空排気装置が基板より持込み
の不純物によりダメージを受けても、他方の主真空排気
装置に切替えることにより正常動作が可能となる。この
ように、本光ディスク製造装置は時間のロスなく安定し
て連続的に、反射膜または記録膜を形成することができ
るので、安価に大量に光ディスクを提供することができ
る。
第１図は本発明の一実施例における光ディスク製造装置
の断面図、第２図は従来の光ディスクの薄膜形成装置の
断面図、第３図は他の従来の光ディスクの薄膜形成装置
の断面図、第４図（ａ），（ｂ），（ｃ）は光ディスク
の一種であるディジタルオーディオディスクの各々平面
図、断面図、および要部拡大図である。 １……ディスク、２……基板、15……光ディスク製造装
置、16……予備真空室（１）、17……真空排気装置
（１）、18……予備真空室（２）、19……真空排気装置
（２）、20……主真空蒸着室、21……主真空排気装置
（１）、22……主真空排気装置（２）、23……ターゲッ
ト。
の断面図、第２図は従来の光ディスクの薄膜形成装置の
断面図、第３図は他の従来の光ディスクの薄膜形成装置
の断面図、第４図（ａ），（ｂ），（ｃ）は光ディスク
の一種であるディジタルオーディオディスクの各々平面
図、断面図、および要部拡大図である。 １……ディスク、２……基板、15……光ディスク製造装
置、16……予備真空室（１）、17……真空排気装置
（１）、18……予備真空室（２）、19……真空排気装置
（２）、20……主真空蒸着室、21……主真空排気装置
（１）、22……主真空排気装置（２）、23……ターゲッ
ト。
Claims (1)
- 【請求項１】同等能力の切替え可能な主真空排気装置を
２基以上もった主真空蒸着室と、各々独立した予備真空
排気装置をもった２室以上の前記主真空蒸着室に接続さ
れた予備真空室とを備え、前記主真空蒸着室内にて基板
上に反射膜または記録膜を形成するようにした光ディス
ク製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61136599A JPH0762249B2 (ja) | 1986-06-12 | 1986-06-12 | 光デイスク製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61136599A JPH0762249B2 (ja) | 1986-06-12 | 1986-06-12 | 光デイスク製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62294174A JPS62294174A (ja) | 1987-12-21 |
| JPH0762249B2 true JPH0762249B2 (ja) | 1995-07-05 |
Family
ID=15179065
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61136599A Expired - Fee Related JPH0762249B2 (ja) | 1986-06-12 | 1986-06-12 | 光デイスク製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0762249B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0426762A (ja) * | 1990-05-17 | 1992-01-29 | Rohm Co Ltd | 真空容器における回転導入機構 |
| DE19617155B4 (de) * | 1995-06-28 | 2007-07-26 | Oc Oerlikon Balzers Ag | Sputterbeschichtungsstation, Verfahren zur Herstellung sputterbeschichteter Werkstücke und Verwendung der Station oder des Verfahrens zur Beschichtung scheibenförmiger Substrate |
| JP2011106000A (ja) * | 2009-11-19 | 2011-06-02 | Showa Denko Kk | インライン式真空成膜装置及び磁気記録媒体の製造方法 |
| JP5930791B2 (ja) | 2011-04-28 | 2016-06-08 | 日東電工株式会社 | 真空成膜方法、及び該方法によって得られる積層体 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS438448Y1 (ja) * | 1964-07-27 | 1968-04-15 | ||
| JPS5814337A (ja) * | 1981-07-17 | 1983-01-27 | Pioneer Electronic Corp | デイスク等の被処理物の連続メタライジング装置 |
-
1986
- 1986-06-12 JP JP61136599A patent/JPH0762249B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62294174A (ja) | 1987-12-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |