JPH04215843A - 無水フタル酸製造用触媒 - Google Patents
無水フタル酸製造用触媒Info
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- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims abstract description 179
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 42
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 42
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 15
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 61
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 38
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 32
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 29
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 28
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 22
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims abstract description 16
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910000108 silver(I,III) oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims abstract description 9
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 49
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 23
- 239000011149 active material Substances 0.000 claims description 14
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 7
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims 2
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Inorganic materials O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 239000013543 active substance Substances 0.000 abstract description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 12
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Chemical compound O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000000969 carrier Substances 0.000 abstract description 2
- YEAUATLBSVJFOY-UHFFFAOYSA-N tetraantimony hexaoxide Chemical compound O1[Sb](O2)O[Sb]3O[Sb]1O[Sb]2O3 YEAUATLBSVJFOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 abstract 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229940078552 o-xylene Drugs 0.000 abstract 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 abstract 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 37
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 24
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- FLJPGEWQYJVDPF-UHFFFAOYSA-L caesium sulfate Chemical compound [Cs+].[Cs+].[O-]S([O-])(=O)=O FLJPGEWQYJVDPF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 14
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 13
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 10
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N ammonium dihydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].OP(O)([O-])=O LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical group [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 6
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 6
- YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I pentachloroniobium Chemical compound Cl[Nb](Cl)(Cl)(Cl)Cl YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- YDZQQRWRVYGNER-UHFFFAOYSA-N iron;titanium;trihydrate Chemical compound O.O.O.[Ti].[Fe] YDZQQRWRVYGNER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L oxygen(2-);titanium(4+);sulfate Chemical compound [O-2].[Ti+4].[O-]S([O-])(=O)=O DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 5
- RTHYXYOJKHGZJT-UHFFFAOYSA-N rubidium nitrate Inorganic materials [Rb+].[O-][N+]([O-])=O RTHYXYOJKHGZJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000348 titanium sulfate Inorganic materials 0.000 description 5
- KHAUBYTYGDOYRU-IRXASZMISA-N trospectomycin Chemical compound CN[C@H]([C@H]1O2)[C@@H](O)[C@@H](NC)[C@H](O)[C@H]1O[C@H]1[C@]2(O)C(=O)C[C@@H](CCCC)O1 KHAUBYTYGDOYRU-IRXASZMISA-N 0.000 description 5
- -1 Tl2O Inorganic materials 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000387 ammonium dihydrogen phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 235000019837 monoammonium phosphate Nutrition 0.000 description 4
- 239000006012 monoammonium phosphate Substances 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- FJOLTQXXWSRAIX-UHFFFAOYSA-K silver phosphate Chemical compound [Ag+].[Ag+].[Ag+].[O-]P([O-])([O-])=O FJOLTQXXWSRAIX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 229940019931 silver phosphate Drugs 0.000 description 4
- 229910000161 silver phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- GHPGOEFPKIHBNM-UHFFFAOYSA-N antimony(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Sb+3].[Sb+3] GHPGOEFPKIHBNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O azanium;oxido(dioxo)vanadium Chemical compound [NH4+].[O-][V](=O)=O UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- WNZQDUSMALZDQF-UHFFFAOYSA-N 2-benzofuran-1(3H)-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)OCC2=C1 WNZQDUSMALZDQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 2
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 229910001448 ferrous ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000003891 ferrous sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 239000011790 ferrous sulphate Substances 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L iron(2+) sulfate (anhydrous) Chemical compound [Fe+2].[O-]S([O-])(=O)=O BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910000359 iron(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 2
- FYWSTUCDSVYLPV-UHFFFAOYSA-N nitrooxythallium Chemical compound [Tl+].[O-][N+]([O-])=O FYWSTUCDSVYLPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 2
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOPBYBDAPCDYFK-UHFFFAOYSA-N Cs2O Inorganic materials [O-2].[Cs+].[Cs+] KOPBYBDAPCDYFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004865 K2 O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- 229910019639 Nb2 O5 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- AKUNKIJLSDQFLS-UHFFFAOYSA-M dicesium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Cs+].[Cs+] AKUNKIJLSDQFLS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical class [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L potassium sulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052939 potassium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011151 potassium sulphates Nutrition 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 229910001953 rubidium(I) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- YPNVIBVEFVRZPJ-UHFFFAOYSA-L silver sulfate Chemical compound [Ag+].[Ag+].[O-]S([O-])(=O)=O YPNVIBVEFVRZPJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000367 silver sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 1
- GFNGCDBZVSLSFT-UHFFFAOYSA-N titanium vanadium Chemical compound [Ti].[V] GFNGCDBZVSLSFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、無水フタル酸製造用
触媒に関し、詳しくはオルトキシレンおよび/またはナ
フタレンを分子状酸素または分子状酸素含有ガスにより
気相接触酸化して無水フタル酸を製造するための触媒に
関する。
触媒に関し、詳しくはオルトキシレンおよび/またはナ
フタレンを分子状酸素または分子状酸素含有ガスにより
気相接触酸化して無水フタル酸を製造するための触媒に
関する。
【0002】
【従来の技術】酸化バナジウムおよび酸化チタンを主成
分とする触媒活性物質を不活性担体に担持させた無水フ
タル酸製造用触媒は、広く知られており、例えば特公昭
47−15323号、特公昭49−41036号、特公
昭52−4538号、特開昭47−5661号、特開昭
49−89694号の各公報に記載されている。これら
の触媒は、それぞれ特徴を有し、工業的に使用されて実
績を上げているものもある。
分とする触媒活性物質を不活性担体に担持させた無水フ
タル酸製造用触媒は、広く知られており、例えば特公昭
47−15323号、特公昭49−41036号、特公
昭52−4538号、特開昭47−5661号、特開昭
49−89694号の各公報に記載されている。これら
の触媒は、それぞれ特徴を有し、工業的に使用されて実
績を上げているものもある。
【0003】しかし、触媒性能の向上の余地はいまだ残
されており、まず、選択率についてみれば、製造装置の
規模からして1パーセントの収率の向上であってもその
経済的効果は大きい。さらに、選択率の向上は、製品を
得るまでの熱処理や蒸留操作を容易にすることから、こ
の選択率の向上によって高品質の製品を安価に製造でき
るという効果も期待することができる。このように、選
択率の向上は、原料を有効に用いるためにも重要である
。
されており、まず、選択率についてみれば、製造装置の
規模からして1パーセントの収率の向上であってもその
経済的効果は大きい。さらに、選択率の向上は、製品を
得るまでの熱処理や蒸留操作を容易にすることから、こ
の選択率の向上によって高品質の製品を安価に製造でき
るという効果も期待することができる。このように、選
択率の向上は、原料を有効に用いるためにも重要である
。
【0004】そのほかに、生産性の向上および触媒活性
の維持による安定した生産の確保なども重要である。生
産性を向上させる方法の一つは、原料ガス濃度を上げる
など高負荷反応条件下に酸化反応を行うことである。し
かし、オルトキシレンまたはナフタレンから無水フタル
酸を得る反応は、著しい発熱を伴うので、高濃度条件下
ではホットスポット部における温度上昇が激しく、過度
の酸化反応が生じて、無水フタル酸の収率が低下すると
同時に触媒の劣化が著しく促進されることになる。
の維持による安定した生産の確保なども重要である。生
産性を向上させる方法の一つは、原料ガス濃度を上げる
など高負荷反応条件下に酸化反応を行うことである。し
かし、オルトキシレンまたはナフタレンから無水フタル
酸を得る反応は、著しい発熱を伴うので、高濃度条件下
ではホットスポット部における温度上昇が激しく、過度
の酸化反応が生じて、無水フタル酸の収率が低下すると
同時に触媒の劣化が著しく促進されることになる。
【0005】このような高負荷反応条件下での使用に耐
える触媒も、例えば本特許出願人により特公昭59−1
378号公報などに提案されている。
える触媒も、例えば本特許出願人により特公昭59−1
378号公報などに提案されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、従来公知
の触媒に比べて触媒性能が一段と改良され、無水フタル
酸の製造に好適な触媒を提供しようとするものである。 従って、この発明の一つの目的は、オルトキシレンおよ
び/またはナフタレンの気相接触酸化により高選択率で
無水フタル酸を生成する無水フタル酸製造用触媒を提供
することである。
の触媒に比べて触媒性能が一段と改良され、無水フタル
酸の製造に好適な触媒を提供しようとするものである。 従って、この発明の一つの目的は、オルトキシレンおよ
び/またはナフタレンの気相接触酸化により高選択率で
無水フタル酸を生成する無水フタル酸製造用触媒を提供
することである。
【0007】この発明の他の目的は、オルトキシレンお
よび/またはナフタレンの気相接触酸化により無水フタ
ル酸を生成する触媒であって、耐久性に優れ、長期間の
使用によっても触媒活性の低下が少なく、無水フタル酸
の安定した生産を可能とする無水フタル酸製造用触媒を
提供することである。この発明のさらに別の目的は、オ
ルトキシレンおよび/またはナフタレンの気相接触酸化
による無水フタル酸の製造において、高負荷反応条件下
においても、高選択率で無水フタル酸の製造を可能とし
、かつ耐久性に優れ、長期間にわたり無水フタル酸の安
定した生産を可能とする無水フタル酸製造用触媒を提供
することである。
よび/またはナフタレンの気相接触酸化により無水フタ
ル酸を生成する触媒であって、耐久性に優れ、長期間の
使用によっても触媒活性の低下が少なく、無水フタル酸
の安定した生産を可能とする無水フタル酸製造用触媒を
提供することである。この発明のさらに別の目的は、オ
ルトキシレンおよび/またはナフタレンの気相接触酸化
による無水フタル酸の製造において、高負荷反応条件下
においても、高選択率で無水フタル酸の製造を可能とし
、かつ耐久性に優れ、長期間にわたり無水フタル酸の安
定した生産を可能とする無水フタル酸製造用触媒を提供
することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】発明者らは、上記課題を
解決するために鋭意研究を重ねた結果、バナジウム−チ
タン系触媒に触媒活性物質の一成分として銀を導入する
ことによって上記目的が達成できることを知り、この知
見に基づいて、この発明を完成するに至った。すなわち
、この発明は、オルトキシレンおよび/またはナフタレ
ンを分子状酸素または分子状酸素含有ガスにより気相接
触酸化して無水フタル酸を製造するための触媒において
、酸化バナジウムをV2 O5 として1〜20重量部
、比表面積が10〜60m2 /gのアナターゼ型酸化
チタンをTiO2 として99〜80重量部、さらにこ
れら2成分の合計100重量部当りカリウム、セシウム
、ルビジウムおよびタリウムから選ばれる少なくとも1
種の元素を酸化物として0.05〜1.2重量部および
銀をAg2 Oとして0.05〜2重量部含有する触媒
活性物質を耐熱性無機質担体に担持させてなることを特
徴とする無水フタル酸製造用触媒(以下、この触媒を「
触媒(1)」という)に関する。
解決するために鋭意研究を重ねた結果、バナジウム−チ
タン系触媒に触媒活性物質の一成分として銀を導入する
ことによって上記目的が達成できることを知り、この知
見に基づいて、この発明を完成するに至った。すなわち
、この発明は、オルトキシレンおよび/またはナフタレ
ンを分子状酸素または分子状酸素含有ガスにより気相接
触酸化して無水フタル酸を製造するための触媒において
、酸化バナジウムをV2 O5 として1〜20重量部
、比表面積が10〜60m2 /gのアナターゼ型酸化
チタンをTiO2 として99〜80重量部、さらにこ
れら2成分の合計100重量部当りカリウム、セシウム
、ルビジウムおよびタリウムから選ばれる少なくとも1
種の元素を酸化物として0.05〜1.2重量部および
銀をAg2 Oとして0.05〜2重量部含有する触媒
活性物質を耐熱性無機質担体に担持させてなることを特
徴とする無水フタル酸製造用触媒(以下、この触媒を「
触媒(1)」という)に関する。
【0009】さらに、この発明は、オルトキシレンおよ
び/またはナフタレンを分子状酸素または分子状酸素含
有ガスにより気相接触酸化して無水フタル酸を製造する
ための触媒において、酸化バナジウムをV2 O5 と
して1〜20重量部、比表面積が10〜60m2 /g
のアナターゼ型酸化チタンをTiO2 として99〜8
0重量部、さらにこれら2成分の合計100重量部当り
ニオブをNb2 O5 として0〜1重量部、カリウム
、セシウム、ルビジウムおよびタリウムから選ばれる少
なくとも1種の元素を酸化物として0.05〜1.2重
量部、リンをP2 O5 として0〜1.2重量部、ア
ンチモンをSb2 O3 として0〜5重量部および銀
をAg2 Oとして0.05〜2重量部含有する(ただ
し、ニオブ、リン、およびアンチモンのそれぞれの含有
量が同時に0となることはない)触媒活性物質を耐熱性
無機質担体に担持させてなることを特徴とする無水フタ
ル酸製造用触媒(以下、この触媒を「触媒(2)」とい
う)に関する。
び/またはナフタレンを分子状酸素または分子状酸素含
有ガスにより気相接触酸化して無水フタル酸を製造する
ための触媒において、酸化バナジウムをV2 O5 と
して1〜20重量部、比表面積が10〜60m2 /g
のアナターゼ型酸化チタンをTiO2 として99〜8
0重量部、さらにこれら2成分の合計100重量部当り
ニオブをNb2 O5 として0〜1重量部、カリウム
、セシウム、ルビジウムおよびタリウムから選ばれる少
なくとも1種の元素を酸化物として0.05〜1.2重
量部、リンをP2 O5 として0〜1.2重量部、ア
ンチモンをSb2 O3 として0〜5重量部および銀
をAg2 Oとして0.05〜2重量部含有する(ただ
し、ニオブ、リン、およびアンチモンのそれぞれの含有
量が同時に0となることはない)触媒活性物質を耐熱性
無機質担体に担持させてなることを特徴とする無水フタ
ル酸製造用触媒(以下、この触媒を「触媒(2)」とい
う)に関する。
【0010】以下、この発明をさらに詳細に説明する。
この発明の特徴の一つは、触媒活性物質の一成分として
、比表面積が10〜60m2 /g、好ましくは15〜
40m2 /gのアナターゼ型酸化チタンを使用するこ
とである。このアナターゼ型酸化チタンの比表面積が1
0m2 /g未満では、得られる触媒の活性が低く、一
方、60m2 /gを超えると触媒の耐久性が悪くなり
、短期間で収率が低下して好ましくない。
、比表面積が10〜60m2 /g、好ましくは15〜
40m2 /gのアナターゼ型酸化チタンを使用するこ
とである。このアナターゼ型酸化チタンの比表面積が1
0m2 /g未満では、得られる触媒の活性が低く、一
方、60m2 /gを超えると触媒の耐久性が悪くなり
、短期間で収率が低下して好ましくない。
【0011】この発明においては、上記アナターゼ型酸
化チタンのなかでも、平均粒子径が0.4〜0.7μm
、好ましくは0.45〜0.60μmであって、実質的
に球状のものが特に好適に使用される。上記この発明に
おいて特に好適に使用されるアナターゼ型酸化チタンは
、「溶液法」として知られる方法で製造され、多孔性で
ありながら機械的強度が高く、通常のボールミルなどの
機械的粉砕ではつぶれず「一次粒子」とみなし得るほど
の強度を有する。しかし、このアナターゼ型酸化チタン
は、0.4〜0.7μmの範囲の大きな平均粒子径を有
するにも拘らず10〜60m2 /gという高い比表面
積を有するもので、本質的には小さな径をもつ一次粒子
の会合体である。従って、このアナターゼ型酸化チタン
は、真球である必要はなく実質的に球状であればよい。
化チタンのなかでも、平均粒子径が0.4〜0.7μm
、好ましくは0.45〜0.60μmであって、実質的
に球状のものが特に好適に使用される。上記この発明に
おいて特に好適に使用されるアナターゼ型酸化チタンは
、「溶液法」として知られる方法で製造され、多孔性で
ありながら機械的強度が高く、通常のボールミルなどの
機械的粉砕ではつぶれず「一次粒子」とみなし得るほど
の強度を有する。しかし、このアナターゼ型酸化チタン
は、0.4〜0.7μmの範囲の大きな平均粒子径を有
するにも拘らず10〜60m2 /gという高い比表面
積を有するもので、本質的には小さな径をもつ一次粒子
の会合体である。従って、このアナターゼ型酸化チタン
は、真球である必要はなく実質的に球状であればよい。
【0012】上記溶液法によれば、イルメナイト(Fe
OTiO2 )を固化法による酸化チタンの製造に比べ
濃度の低い硫酸、通常は70〜80%程度の硫酸で処理
し、硫酸チタンを得、次いで該チタンを150〜180
°Cで加圧下に加水分解し、さらに600〜900°C
で焼成を行うことによって、アナターゼ型酸化チタンを
得ることができる。なお、このアナターゼ型酸化チタン
には、原料鉱石との関係から、鉄、亜鉛、アルミニウム
、マンガン、クロム、カルシウム、鉛などが混入する場
合もあるが、酸化チタンに対して酸化物として0.5重
量%以下であれば触媒性能上とくに問題はない。
OTiO2 )を固化法による酸化チタンの製造に比べ
濃度の低い硫酸、通常は70〜80%程度の硫酸で処理
し、硫酸チタンを得、次いで該チタンを150〜180
°Cで加圧下に加水分解し、さらに600〜900°C
で焼成を行うことによって、アナターゼ型酸化チタンを
得ることができる。なお、このアナターゼ型酸化チタン
には、原料鉱石との関係から、鉄、亜鉛、アルミニウム
、マンガン、クロム、カルシウム、鉛などが混入する場
合もあるが、酸化チタンに対して酸化物として0.5重
量%以下であれば触媒性能上とくに問題はない。
【0013】この発明で使用する耐熱性無機質担体は、
触媒の焼成温度および無水フタル酸を製造する際の触媒
温度よりも充分高い温度で長時間安定であり、また触媒
活性物質と反応しないことが必要である。このような耐
熱無機質担体の例としては、シリコンカーバイド(Si
C)、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化チタンなどを
使用することができる。これらのうちでも、アルミナ(
Al2O3 )含量が20重量%以下、好ましくは5重
量%以下であり、また見掛け気孔率が10%以上、好ま
しくは15〜45%以上のシリコンカーバイド担体が好
適に使用される。特に、アルミナ含量が5重量%以下、
シリコンカーバイド含量が95重量%以上で、かつ見掛
け気孔率が15〜45%のシリコンカーバイド担体が好
適に使用される。更に好適なものとしては、純度98%
以上のシリコンカーバイドの粉末を自焼結させて得られ
るシリコンカーバイド担体を挙げることができる。
触媒の焼成温度および無水フタル酸を製造する際の触媒
温度よりも充分高い温度で長時間安定であり、また触媒
活性物質と反応しないことが必要である。このような耐
熱無機質担体の例としては、シリコンカーバイド(Si
C)、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化チタンなどを
使用することができる。これらのうちでも、アルミナ(
Al2O3 )含量が20重量%以下、好ましくは5重
量%以下であり、また見掛け気孔率が10%以上、好ま
しくは15〜45%以上のシリコンカーバイド担体が好
適に使用される。特に、アルミナ含量が5重量%以下、
シリコンカーバイド含量が95重量%以上で、かつ見掛
け気孔率が15〜45%のシリコンカーバイド担体が好
適に使用される。更に好適なものとしては、純度98%
以上のシリコンカーバイドの粉末を自焼結させて得られ
るシリコンカーバイド担体を挙げることができる。
【0014】上記耐熱性無機質担体の形状については、
特に制限はないが、球状または円柱状のものが取扱い上
好適であり、その平均直径が2〜15mm程度のものが
好適に使用される。この発明の触媒(1)は、上記耐熱
性無機質担体に、酸化バナジウムをV2 O5 として
1〜20重量部、アナターゼ型酸化チタンをTiO2
として99〜80重量部、さらにこれら2成分の合計1
00重量部当りカリウム、セシウム、ルビジウムおよび
タリウムから選ばれる少なくとも1種の元素を酸化物と
して0.05〜1.2重量部、および銀をAg2 Oと
して0.05〜2重量部含有する触媒活性成分を担持さ
せると得られる。
特に制限はないが、球状または円柱状のものが取扱い上
好適であり、その平均直径が2〜15mm程度のものが
好適に使用される。この発明の触媒(1)は、上記耐熱
性無機質担体に、酸化バナジウムをV2 O5 として
1〜20重量部、アナターゼ型酸化チタンをTiO2
として99〜80重量部、さらにこれら2成分の合計1
00重量部当りカリウム、セシウム、ルビジウムおよび
タリウムから選ばれる少なくとも1種の元素を酸化物と
して0.05〜1.2重量部、および銀をAg2 Oと
して0.05〜2重量部含有する触媒活性成分を担持さ
せると得られる。
【0015】この発明の一つの特徴は、前記したように
、触媒活性物質の一成分として銀を導入したことであり
、触媒(1)における銀含量はAg2 Oとして0.0
5〜2重量部であり、好ましくは0.1〜1重量部であ
る。銀含量が多すぎても少なすぎても、この発明の目的
を達成することができない。すなわち、銀の添加量がA
g2 Oとして0.05重量部未満では、銀の添加によ
る性能の向上の効果が低くなる。また、銀の添加量が2
重量部を越えると、触媒の性能に逆に悪影響を与え、無
水フタル酸への選択率を下げる。
、触媒活性物質の一成分として銀を導入したことであり
、触媒(1)における銀含量はAg2 Oとして0.0
5〜2重量部であり、好ましくは0.1〜1重量部であ
る。銀含量が多すぎても少なすぎても、この発明の目的
を達成することができない。すなわち、銀の添加量がA
g2 Oとして0.05重量部未満では、銀の添加によ
る性能の向上の効果が低くなる。また、銀の添加量が2
重量部を越えると、触媒の性能に逆に悪影響を与え、無
水フタル酸への選択率を下げる。
【0016】この発明の触媒(2)は、耐熱性無機質担
体に、酸化バナジウムをV2 O5 として1〜20重
量部、アナターゼ型酸化チタンをTiO2 として99
〜80重量部、さらにこれら2成分の合計100重量部
当りニオブをNb2 O5 として0〜1重量部、カリ
ウム、セシウム、ルビジウムおよびタリウムから選ばれ
る少なくとも1種の元素を酸化物として0.05〜1.
2重量部、リンをP2 O5 として0〜1.2重量部
、アンチモンをSb2 O3 として0〜5重量部、さ
らに銀をAg2 Oとして0.05〜2重量部含有する
(ただし、ニオブ、リン、およびアンチモンのそれぞれ
の含有量が同時に0となることはない)触媒活性物質を
担持させると得られる。
体に、酸化バナジウムをV2 O5 として1〜20重
量部、アナターゼ型酸化チタンをTiO2 として99
〜80重量部、さらにこれら2成分の合計100重量部
当りニオブをNb2 O5 として0〜1重量部、カリ
ウム、セシウム、ルビジウムおよびタリウムから選ばれ
る少なくとも1種の元素を酸化物として0.05〜1.
2重量部、リンをP2 O5 として0〜1.2重量部
、アンチモンをSb2 O3 として0〜5重量部、さ
らに銀をAg2 Oとして0.05〜2重量部含有する
(ただし、ニオブ、リン、およびアンチモンのそれぞれ
の含有量が同時に0となることはない)触媒活性物質を
担持させると得られる。
【0017】この触媒(2)においても、触媒(1)と
同様に、銀含量はAg2 Oとして0.05〜2重量部
であり、好ましくは0.1〜1重量部である。銀含量が
多すぎても少なすぎても、この発明の目的を達成するこ
とができない。なお、触媒(2)において、ニオブをN
b2 O5 として0.01〜1重量部、リンをP2
O5 として0.2〜1.2重量部、およびアンチモン
をSb2 O3 として0.5〜5重量部含有する触媒
活性物質を耐熱性無機質担体に担持させてなる触媒は、
無水フタル酸の選択率を向上させるので特に好ましい。
同様に、銀含量はAg2 Oとして0.05〜2重量部
であり、好ましくは0.1〜1重量部である。銀含量が
多すぎても少なすぎても、この発明の目的を達成するこ
とができない。なお、触媒(2)において、ニオブをN
b2 O5 として0.01〜1重量部、リンをP2
O5 として0.2〜1.2重量部、およびアンチモン
をSb2 O3 として0.5〜5重量部含有する触媒
活性物質を耐熱性無機質担体に担持させてなる触媒は、
無水フタル酸の選択率を向上させるので特に好ましい。
【0018】触媒(1)および触媒(2)を調製する際
の、バナジウム、ニオブ、カリウム、セシウム、ルビジ
ウム、タリウム、リンおよびアンチモンの各成分の出発
原料としては、V2 O5 、Nb2 O5 、K2
O、Cs2 O、Rb2 O、Tl2 O、P2 O5
、Sb2 O3 などの酸化物の他に、各元素のアン
モニウム塩、硝酸塩、硫酸塩、ハロゲン化物、有機酸塩
、水酸化物など加熱によって上記のような酸化物に変化
する化合物から適宜選択することができる。
の、バナジウム、ニオブ、カリウム、セシウム、ルビジ
ウム、タリウム、リンおよびアンチモンの各成分の出発
原料としては、V2 O5 、Nb2 O5 、K2
O、Cs2 O、Rb2 O、Tl2 O、P2 O5
、Sb2 O3 などの酸化物の他に、各元素のアン
モニウム塩、硝酸塩、硫酸塩、ハロゲン化物、有機酸塩
、水酸化物など加熱によって上記のような酸化物に変化
する化合物から適宜選択することができる。
【0019】銀成分に関しては、Ag2 Oの他、硝酸
塩、アンモニウム塩、硫酸塩、ハロゲン化物、有機酸塩
、水酸化物、アミン錯体、リン酸塩、硫化物などを使用
することができる。なお、これらのうちには、ハロゲン
化銀やリン酸銀のように触媒調製時における加熱条件下
では、酸化物にならないものもあるが、この発明におい
ては支障なく使用することができる。また、リン酸銀を
用いた場合、さらに触媒活性物質としてリン成分を添加
する際には、このリン酸銀中のリンの量は考慮する必要
はなく、リン成分の酸化物としての量が上記範囲内にあ
るようにすればよい。
塩、アンモニウム塩、硫酸塩、ハロゲン化物、有機酸塩
、水酸化物、アミン錯体、リン酸塩、硫化物などを使用
することができる。なお、これらのうちには、ハロゲン
化銀やリン酸銀のように触媒調製時における加熱条件下
では、酸化物にならないものもあるが、この発明におい
ては支障なく使用することができる。また、リン酸銀を
用いた場合、さらに触媒活性物質としてリン成分を添加
する際には、このリン酸銀中のリンの量は考慮する必要
はなく、リン成分の酸化物としての量が上記範囲内にあ
るようにすればよい。
【0020】この発明の触媒調製時における、上記触媒
活性物質を耐熱性無機質担体に担持させる方法について
は特に制限はなく、一般に用いられている方法によって
担持させることができる。特に、外部から加熱可能な回
転ドラムに一定量の担体を入れ、これを200〜300
°Cに保ちつつ触媒活性物質を含有するスラリーを噴霧
して触媒活性物質を担持させるようにする方法が最も簡
便である。
活性物質を耐熱性無機質担体に担持させる方法について
は特に制限はなく、一般に用いられている方法によって
担持させることができる。特に、外部から加熱可能な回
転ドラムに一定量の担体を入れ、これを200〜300
°Cに保ちつつ触媒活性物質を含有するスラリーを噴霧
して触媒活性物質を担持させるようにする方法が最も簡
便である。
【0021】触媒活性物質の耐熱性無機質担体に対する
担持量は、使用する担体の大きさによって異なるが、通
常、担体100cc当り3〜20gとするのが好適であ
る。上記担体に触媒活性物質を担持させて得られる触媒
活性物質層は、0.15〜0.45μmの直径を有する
細孔が占める合計細孔容積が10μm以下の直径を有す
る細孔が占める全細孔容積の50%以上であるような表
面特性を有するのが好ましく、特に0.15〜0.45
μmの直径を有する細孔が占める合計細孔容積を10μ
m以下の直径を有する細孔が占める全細孔容積の75%
以上を占めるような表面特性を有するのが好ましい。
担持量は、使用する担体の大きさによって異なるが、通
常、担体100cc当り3〜20gとするのが好適であ
る。上記担体に触媒活性物質を担持させて得られる触媒
活性物質層は、0.15〜0.45μmの直径を有する
細孔が占める合計細孔容積が10μm以下の直径を有す
る細孔が占める全細孔容積の50%以上であるような表
面特性を有するのが好ましく、特に0.15〜0.45
μmの直径を有する細孔が占める合計細孔容積を10μ
m以下の直径を有する細孔が占める全細孔容積の75%
以上を占めるような表面特性を有するのが好ましい。
【0022】このような表面特性を有する触媒活性層を
設けることによって、この発明の目的をさらに効果的に
達成することができる。上記のような表面特性を有する
触媒活性物質層は、例えば前記回転ドラムを用いた担持
方法において、アナターゼ型酸化チタンの本質的な一次
粒子の粒径に応じてスラリー濃度を調整することによっ
て容易に形成することができる(特公昭49−4103
6号公報参照)。具体的には、一次粒子の粒径が0.0
05〜0.05μmであるアナターゼ型酸化チタンを使
用する場合、スラリー濃度を5〜25重量%、好ましく
は10〜20重量%に、また一次粒子の粒径が0.05
μmより大きいアナターゼ型酸化チタンを使用する場合
には、スラリー濃度を10〜40重量%、好ましくは1
5〜25重量%に調整することによって、上記表面特性
を有する触媒活性物質層を形成することができる。
設けることによって、この発明の目的をさらに効果的に
達成することができる。上記のような表面特性を有する
触媒活性物質層は、例えば前記回転ドラムを用いた担持
方法において、アナターゼ型酸化チタンの本質的な一次
粒子の粒径に応じてスラリー濃度を調整することによっ
て容易に形成することができる(特公昭49−4103
6号公報参照)。具体的には、一次粒子の粒径が0.0
05〜0.05μmであるアナターゼ型酸化チタンを使
用する場合、スラリー濃度を5〜25重量%、好ましく
は10〜20重量%に、また一次粒子の粒径が0.05
μmより大きいアナターゼ型酸化チタンを使用する場合
には、スラリー濃度を10〜40重量%、好ましくは1
5〜25重量%に調整することによって、上記表面特性
を有する触媒活性物質層を形成することができる。
【0023】この発明において、細孔容積は水銀圧入式
ポロシメーターによって測定した細孔径分布から求めた
。アナターゼ型チタンの比表面積はBET法により測定
し、また平均直径は透過型電子顕微鏡を用いて測定した
。上記のように触媒活性物質層を担持した後、450〜
700°C、好ましくは500〜600°Cの温度で、
空気流通下2〜10時間程度焼成すると、この発明の触
媒が得られる。
ポロシメーターによって測定した細孔径分布から求めた
。アナターゼ型チタンの比表面積はBET法により測定
し、また平均直径は透過型電子顕微鏡を用いて測定した
。上記のように触媒活性物質層を担持した後、450〜
700°C、好ましくは500〜600°Cの温度で、
空気流通下2〜10時間程度焼成すると、この発明の触
媒が得られる。
【0024】この発明の触媒を用いたオルトキシレンお
よび/またはナフタレンの酸化反応は、通常の反応条件
下に実施することができる。例えば、内径が5〜40m
m、好ましくは15〜27mmの反応管に触媒を1〜5
m、好ましくは1.5〜3mの高さに充填し、この反応
管を熱媒体によって300〜400°C、好ましくは3
30〜380°Cの温度に保持し、この反応管に原料の
オルトキシレンおよび/またはナフタレンを空気または
5〜21容量%の分子状酸素を含有するガスとともに、
空気の場合は5〜70g/Nm3 (空気)、また分子
状酸素含有ガスの場合は5〜110g/Nm3 (分子
状酸素含有ガス)の割合で、空間速度1000〜600
0hr−1(STP)、好ましくは1000〜4000
hr−1(STP)で導入する。
よび/またはナフタレンの酸化反応は、通常の反応条件
下に実施することができる。例えば、内径が5〜40m
m、好ましくは15〜27mmの反応管に触媒を1〜5
m、好ましくは1.5〜3mの高さに充填し、この反応
管を熱媒体によって300〜400°C、好ましくは3
30〜380°Cの温度に保持し、この反応管に原料の
オルトキシレンおよび/またはナフタレンを空気または
5〜21容量%の分子状酸素を含有するガスとともに、
空気の場合は5〜70g/Nm3 (空気)、また分子
状酸素含有ガスの場合は5〜110g/Nm3 (分子
状酸素含有ガス)の割合で、空間速度1000〜600
0hr−1(STP)、好ましくは1000〜4000
hr−1(STP)で導入する。
【0025】上記酸化反応において、反応管内の触媒層
を2層以上に分割して複数個の反応帯を設け、これら反
応帯に触媒活性を制御した複数個の触媒を、反応管の原
料ガス導入入口部から出口部に向かって、より活性が高
くなるように配置することにより、この発明の触媒を有
利に使用することができる。この発明の触媒(2)を例
にして具体的に説明すれば、まず反応管を2層に分けて
入口部には全触媒層高の30〜70%となる層高に所定
の触媒(前段触媒)を、出口部の残りの層高に前段触媒
に比べて活性がより高い触媒(後段触媒)を充填する。 触媒組成が同一であるが活性の異なる触媒は、例えばリ
ン成分の含量を変更することによって容易に調製するこ
とができる。具体的には、リン成分を酸化物として0.
2〜0.4重量部使用することによって前段触媒を、ま
た0.4〜1.2重量部使用することによって、前段触
媒に比べて活性のより高い後段触媒を調製することがで
きる。また、カリウム、セシウム、ルビジウムおよびタ
リウムから選ばれる元素の種類および/または量を変更
することによっても触媒活性を制御することができる。
を2層以上に分割して複数個の反応帯を設け、これら反
応帯に触媒活性を制御した複数個の触媒を、反応管の原
料ガス導入入口部から出口部に向かって、より活性が高
くなるように配置することにより、この発明の触媒を有
利に使用することができる。この発明の触媒(2)を例
にして具体的に説明すれば、まず反応管を2層に分けて
入口部には全触媒層高の30〜70%となる層高に所定
の触媒(前段触媒)を、出口部の残りの層高に前段触媒
に比べて活性がより高い触媒(後段触媒)を充填する。 触媒組成が同一であるが活性の異なる触媒は、例えばリ
ン成分の含量を変更することによって容易に調製するこ
とができる。具体的には、リン成分を酸化物として0.
2〜0.4重量部使用することによって前段触媒を、ま
た0.4〜1.2重量部使用することによって、前段触
媒に比べて活性のより高い後段触媒を調製することがで
きる。また、カリウム、セシウム、ルビジウムおよびタ
リウムから選ばれる元素の種類および/または量を変更
することによっても触媒活性を制御することができる。
【0026】上記のような条件下に酸化反応を行うこと
により、触媒層内のホットスポットにおける蓄熱が抑制
され、これによって熱負荷による触媒の劣化が防止され
、工業的に長期間安定した運転を実施することができる
。また、ホットスポットにおける過度の酸化反応が防止
されて、選択率の向上など種々の効果が得られる。この
ような効果は、原料ガス濃度を上げるなどの高負荷反応
条件下において顕著であり、オルトキシレンまたはナフ
タレン濃度を上げることによって生産性を著しく向上さ
せることができる。
により、触媒層内のホットスポットにおける蓄熱が抑制
され、これによって熱負荷による触媒の劣化が防止され
、工業的に長期間安定した運転を実施することができる
。また、ホットスポットにおける過度の酸化反応が防止
されて、選択率の向上など種々の効果が得られる。この
ような効果は、原料ガス濃度を上げるなどの高負荷反応
条件下において顕著であり、オルトキシレンまたはナフ
タレン濃度を上げることによって生産性を著しく向上さ
せることができる。
【0027】
【発明の効果】この発明の触媒を使用することによって
、オルトキシレンおよび/またはナフタレンから高選択
率で無水フタル酸を製造することができる。従って、無
水フタル酸製品を得るまでの熱処理や蒸留操作が容易と
なり、従来法に比べて、より安価に高品質の製品を得る
ことができる。
、オルトキシレンおよび/またはナフタレンから高選択
率で無水フタル酸を製造することができる。従って、無
水フタル酸製品を得るまでの熱処理や蒸留操作が容易と
なり、従来法に比べて、より安価に高品質の製品を得る
ことができる。
【0028】この発明の触媒は、耐久性に優れ、このた
め工業的に長時間安定した運転が可能となる。この発明
の触媒は、原料ガス濃度を上げるなど高負荷反応条件下
においても、高選択率で無水フタル酸を生成し、また長
期間使用しても耐久性に優れていることから、この発明
の触媒の使用によって無水フタル酸製造の生産性が著し
く向上する。
め工業的に長時間安定した運転が可能となる。この発明
の触媒は、原料ガス濃度を上げるなど高負荷反応条件下
においても、高選択率で無水フタル酸を生成し、また長
期間使用しても耐久性に優れていることから、この発明
の触媒の使用によって無水フタル酸製造の生産性が著し
く向上する。
【0029】従って、この発明の触媒は、無水フタル酸
の製造に極めて有用な触媒であるということができる。
の製造に極めて有用な触媒であるということができる。
【0030】
【実施例】以下に、実施例を上げて、この発明を更に具
体的に説明する。 −実施例1− (触媒の調製) イルメナイトに80%の濃硫酸を混合し、充分反応を行
った後、水で希釈して硫酸チタン水溶液を得た。これに
還元剤として鉄片を加え、イルメナイト中の鉄分を第一
鉄イオンに還元した後、冷却して硫酸第一鉄として析出
分離した。このようにして得られた硫酸チタン水溶液に
150°Cに加熱した水蒸気を吹き込み、含水酸化チタ
ンを沈澱させた。これを水洗、酸洗および二次水洗した
後、800°Cの温度で空気流通下に4時間焼成した。 これをジェット気流粉砕処理し、平均粒子径約0.5μ
mで比表面積22m2 /gのアナターゼ型酸化チタン
(以下、単に「酸化チタン」という場合もある)を得た
。
体的に説明する。 −実施例1− (触媒の調製) イルメナイトに80%の濃硫酸を混合し、充分反応を行
った後、水で希釈して硫酸チタン水溶液を得た。これに
還元剤として鉄片を加え、イルメナイト中の鉄分を第一
鉄イオンに還元した後、冷却して硫酸第一鉄として析出
分離した。このようにして得られた硫酸チタン水溶液に
150°Cに加熱した水蒸気を吹き込み、含水酸化チタ
ンを沈澱させた。これを水洗、酸洗および二次水洗した
後、800°Cの温度で空気流通下に4時間焼成した。 これをジェット気流粉砕処理し、平均粒子径約0.5μ
mで比表面積22m2 /gのアナターゼ型酸化チタン
(以下、単に「酸化チタン」という場合もある)を得た
。
【0031】脱イオン水6400ccに蓚酸200gを
溶解して蓚酸水溶液とし、これにメタバナジン酸アンモ
ニウム47.25g、第一リン酸アンモニウム5.98
g、塩化ニオブ18.79g、硫酸セシウム5.90g
、硝酸銀5.39gおよび三酸化アンチモン36.73
gを添加し、充分攪拌した。このようにして得られた溶
液に酸化チタン1800gを加え、乳化機により攪拌し
て触媒スラリー液を調整した。
溶解して蓚酸水溶液とし、これにメタバナジン酸アンモ
ニウム47.25g、第一リン酸アンモニウム5.98
g、塩化ニオブ18.79g、硫酸セシウム5.90g
、硝酸銀5.39gおよび三酸化アンチモン36.73
gを添加し、充分攪拌した。このようにして得られた溶
液に酸化チタン1800gを加え、乳化機により攪拌し
て触媒スラリー液を調整した。
【0032】外部から加熱できる直径35cm、長さ8
0cmのステンレス製回転炉中に直径6mmの球状で、
見掛け気孔率35%のSiC自焼結担体2000ccを
入れ、200〜250°Cに予熱しておき、炉を回転さ
せながら担体上に上記触媒スラリー液を噴霧して、触媒
活性物質を8g/100cc(担体)の割合で担持させ
た。その後、空気を流通させながら電気炉中で580°
Cの温度で6時間焼成して、触媒(A)を調製した。
0cmのステンレス製回転炉中に直径6mmの球状で、
見掛け気孔率35%のSiC自焼結担体2000ccを
入れ、200〜250°Cに予熱しておき、炉を回転さ
せながら担体上に上記触媒スラリー液を噴霧して、触媒
活性物質を8g/100cc(担体)の割合で担持させ
た。その後、空気を流通させながら電気炉中で580°
Cの温度で6時間焼成して、触媒(A)を調製した。
【0033】触媒(A)の組成および触媒活性物質層に
おける、0.15〜0.45μmの直径を有する細孔が
占める合計細孔容積の10μm以下の細孔が占める全細
孔容積に対する割合(容量%)、ならびに触媒の調製に
使用した酸化チタンの平均粒子径および比表面積(以下
、これらを「触媒特性」と総称する)を表1に示す。 なお、0.15〜0.45μmの直径を有する細孔が占
める容積の全細孔容積に対する割合は、水銀圧入式ポロ
シメーターによる細孔分布の測定結果より求めた。
おける、0.15〜0.45μmの直径を有する細孔が
占める合計細孔容積の10μm以下の細孔が占める全細
孔容積に対する割合(容量%)、ならびに触媒の調製に
使用した酸化チタンの平均粒子径および比表面積(以下
、これらを「触媒特性」と総称する)を表1に示す。 なお、0.15〜0.45μmの直径を有する細孔が占
める容積の全細孔容積に対する割合は、水銀圧入式ポロ
シメーターによる細孔分布の測定結果より求めた。
【0034】上記触媒(A)の調製において、第一リン
酸アンモニウムの添加量を23.92gに変更した以外
は上記方法と同様にして触媒(B)を調製した。 触媒(B)の触媒特性を表1に示す。 なお、触媒(B)中のリン成分含量は触媒(A)のそれ
よりも多く、触媒(B)の活性は触媒(A)の活性より
も高い。 (酸化反応) 355°Cの温度に保たれた溶融塩浴中に浸した内径2
5mm、長さ3mの鉄製反応管に、先ず触媒(B)を後
段触媒として原料ガス出口部に1mの高さに充填し、次
いで触媒(A)を前段触媒として入口部に1.5mの高
さに充填した。
酸アンモニウムの添加量を23.92gに変更した以外
は上記方法と同様にして触媒(B)を調製した。 触媒(B)の触媒特性を表1に示す。 なお、触媒(B)中のリン成分含量は触媒(A)のそれ
よりも多く、触媒(B)の活性は触媒(A)の活性より
も高い。 (酸化反応) 355°Cの温度に保たれた溶融塩浴中に浸した内径2
5mm、長さ3mの鉄製反応管に、先ず触媒(B)を後
段触媒として原料ガス出口部に1mの高さに充填し、次
いで触媒(A)を前段触媒として入口部に1.5mの高
さに充填した。
【0035】オルトキシレンを酸素10容量%、水蒸気
10容量%および窒素80容量%よりなる合成ガスに対
して85g/Nm3 (合成ガス)の割合で混合した混
合ガスを上記反応管の上部入口から空間速度(SV)2
500hr−1(STP)で導入してオルトキシレンの
酸化反応を行った。反応初期、反応開始から3ヵ月後、
反応開始から6ヵ月後の無水フタル酸の収率を測定し、
その結果を表2に示した。なお、オルトキシレンの転化
率はほぼ100%であり、上記収率は無水フタル酸の選
択率とみなし得るものである。
10容量%および窒素80容量%よりなる合成ガスに対
して85g/Nm3 (合成ガス)の割合で混合した混
合ガスを上記反応管の上部入口から空間速度(SV)2
500hr−1(STP)で導入してオルトキシレンの
酸化反応を行った。反応初期、反応開始から3ヵ月後、
反応開始から6ヵ月後の無水フタル酸の収率を測定し、
その結果を表2に示した。なお、オルトキシレンの転化
率はほぼ100%であり、上記収率は無水フタル酸の選
択率とみなし得るものである。
【0036】
−実施例2−
実施例1(触媒の調製)において、硝酸銀5.39gの
代わりに硫酸銀4.94gを使用した以外は実施例1(
触媒の調製)と同様にして触媒(C)、(D)を調製し
、以下実施例1(酸化反応)と同様にして酸化反応を行
った。触媒(C)、(D)の触媒特性を表1に、酸化反
応の結果を表2に示す。
代わりに硫酸銀4.94gを使用した以外は実施例1(
触媒の調製)と同様にして触媒(C)、(D)を調製し
、以下実施例1(酸化反応)と同様にして酸化反応を行
った。触媒(C)、(D)の触媒特性を表1に、酸化反
応の結果を表2に示す。
【0037】
−実施例3−
実施例1(触媒の調製)において、硝酸銀5.39gの
代わりにリン酸銀4.42gを使用した以外は実施例1
(触媒の調製)と同様にして触媒(E)、(F)を調製
し、以下実施例1(酸化反応)と同様にして酸化反応を
行った。触媒(E)、(F)の触媒特性を表1に、酸化
反応の結果を表2に示す。
代わりにリン酸銀4.42gを使用した以外は実施例1
(触媒の調製)と同様にして触媒(E)、(F)を調製
し、以下実施例1(酸化反応)と同様にして酸化反応を
行った。触媒(E)、(F)の触媒特性を表1に、酸化
反応の結果を表2に示す。
【0038】
−比較例1−
実施例1(触媒の調製)において、硫酸セシウムの添加
量を8.25gとし、また銀を添加しなかった以外は実
施例1(触媒の調製)と同様にして触媒(K)、(L)
を調製し、以下実施例1(酸化反応)と同様にして酸化
反応を行った。触媒(K)、(L)の触媒特性を表1に
、酸化反応の結果を表2に示す。
量を8.25gとし、また銀を添加しなかった以外は実
施例1(触媒の調製)と同様にして触媒(K)、(L)
を調製し、以下実施例1(酸化反応)と同様にして酸化
反応を行った。触媒(K)、(L)の触媒特性を表1に
、酸化反応の結果を表2に示す。
【0039】
−実施例4−
(触媒の調製)
イルメナイトに80%の濃硫酸を混合し、充分反応を行
った後、水で希釈して硫酸チタン水溶液とした。これに
還元剤として鉄片を加え、イルメナイト中の鉄分を第一
鉄イオンに還元した後、冷却して硫酸第一鉄として析出
分離した。このようにして得られた硫酸チタン水溶液に
、150°Cに加熱された水蒸気を吹き込み、含水酸化
チタンを沈澱させた。これを水洗、酸洗および二次水洗
した後、700°Cの温度で空気流通下4時間焼成した
。これをジェット気流粉砕処理し、平均粒子径約0.4
5μmでBET法で測定した比表面積33m2 /gの
アナターゼ型酸化チタンを得た。
った後、水で希釈して硫酸チタン水溶液とした。これに
還元剤として鉄片を加え、イルメナイト中の鉄分を第一
鉄イオンに還元した後、冷却して硫酸第一鉄として析出
分離した。このようにして得られた硫酸チタン水溶液に
、150°Cに加熱された水蒸気を吹き込み、含水酸化
チタンを沈澱させた。これを水洗、酸洗および二次水洗
した後、700°Cの温度で空気流通下4時間焼成した
。これをジェット気流粉砕処理し、平均粒子径約0.4
5μmでBET法で測定した比表面積33m2 /gの
アナターゼ型酸化チタンを得た。
【0040】脱イオン水6400ccに蓚酸900gを
溶解させて蓚酸水溶液とし、この水溶液にメタバナジン
酸アンモニウム408.60g、第一リン酸アンモニウ
ム10.34g、塩化ニオブ17.33g、硫酸セシウ
ム2.72g、硫酸カリウム3.92g、硝酸銀31.
05gおよび三酸化アンチモン42.35gを添加し、
充分攪拌した。このようにして得られた溶液に上記酸化
チタン1800gを加え、乳化機により攪拌して、触媒
スラリーを調製した。
溶解させて蓚酸水溶液とし、この水溶液にメタバナジン
酸アンモニウム408.60g、第一リン酸アンモニウ
ム10.34g、塩化ニオブ17.33g、硫酸セシウ
ム2.72g、硫酸カリウム3.92g、硝酸銀31.
05gおよび三酸化アンチモン42.35gを添加し、
充分攪拌した。このようにして得られた溶液に上記酸化
チタン1800gを加え、乳化機により攪拌して、触媒
スラリーを調製した。
【0041】上記スラリーを用い、実施例1と同様にし
て触媒活性物質を担持させた。担持率は8.0g/10
0cc(担体)であった。その後、空気を流通させなが
ら電気炉中560°Cの温度で6時間焼成して触媒(G
)を調製した。上記触媒(G)の調製において、第一リ
ン酸アンモニウムの使用量を31.02gとした以外は
触媒(G)の調製と同様にして触媒(H)を調製した。 (酸化反応) 365°Cに保たれた溶融塩浴中に浸した内径25mm
、長さ3mの鉄製反応管に先ず後段触媒として触媒(H
)を1mの高さに充填し、次いで前段触媒として触媒(
G)を1.5mの高さに充填し、反応管上部からナフタ
レンを酸素10容量%、水蒸気10容量%および窒素8
0容量%からなる合成ガスに対して85g/Nm3 (
合成ガス)の割合で混合したガスを空間速度2500h
r−1(STP)で導入して酸化反応を行った。
て触媒活性物質を担持させた。担持率は8.0g/10
0cc(担体)であった。その後、空気を流通させなが
ら電気炉中560°Cの温度で6時間焼成して触媒(G
)を調製した。上記触媒(G)の調製において、第一リ
ン酸アンモニウムの使用量を31.02gとした以外は
触媒(G)の調製と同様にして触媒(H)を調製した。 (酸化反応) 365°Cに保たれた溶融塩浴中に浸した内径25mm
、長さ3mの鉄製反応管に先ず後段触媒として触媒(H
)を1mの高さに充填し、次いで前段触媒として触媒(
G)を1.5mの高さに充填し、反応管上部からナフタ
レンを酸素10容量%、水蒸気10容量%および窒素8
0容量%からなる合成ガスに対して85g/Nm3 (
合成ガス)の割合で混合したガスを空間速度2500h
r−1(STP)で導入して酸化反応を行った。
【0042】触媒(G)、(H)の触媒特性を表1に、
酸化反応の結果を表2に示す。 −比較例2− 実施例4(触媒の調製)において、硫酸カリウムの添加
量を1.96gとし、また硝酸銀の添加量を77.63
gとした以外は触媒(G)、(H)の調製と同様にして
触媒(M)、(N)を調製し、以下実施例4(酸化反応
)と同様にして反応を行った。
酸化反応の結果を表2に示す。 −比較例2− 実施例4(触媒の調製)において、硫酸カリウムの添加
量を1.96gとし、また硝酸銀の添加量を77.63
gとした以外は触媒(G)、(H)の調製と同様にして
触媒(M)、(N)を調製し、以下実施例4(酸化反応
)と同様にして反応を行った。
【0043】触媒(M)、(N)の触媒特性を表1に、
酸化反応の結果を表2に示す。 −実施例5− (触媒の調製) 脱イオン水6400ccに蓚酸200gを溶解して蓚酸
水溶液を調製し、この水溶液にメタバナジン酸アンモニ
ウム96.48g、硫酸セシウム4.82g、硝酸タリ
ウム1.18gおよび硝酸銀2.75gを添加し、充分
攪拌した。このようにして得られた溶液に実施例1で使
用したと同じアナターゼ型チタンをTiO2 として1
800gを添加し、乳化機により攪拌してスラリーを得
た。
酸化反応の結果を表2に示す。 −実施例5− (触媒の調製) 脱イオン水6400ccに蓚酸200gを溶解して蓚酸
水溶液を調製し、この水溶液にメタバナジン酸アンモニ
ウム96.48g、硫酸セシウム4.82g、硝酸タリ
ウム1.18gおよび硝酸銀2.75gを添加し、充分
攪拌した。このようにして得られた溶液に実施例1で使
用したと同じアナターゼ型チタンをTiO2 として1
800gを添加し、乳化機により攪拌してスラリーを得
た。
【0044】上記スラリーを用い、実施例1と同様の方
法で触媒活性物質を担持させた。担持量は、8.0g/
100cc(担体)であった。その後、空気を流通させ
ながら電気炉中で550℃の温度で6時間焼成して触媒
(I)(前段触媒)を調製した。上記触媒(I)の調製
において、硫酸セシウムおよび硝酸タリウムの代わりに
硝酸ルビジウム2.96gを使用した以外は触媒(I)
の調製と同様にして触媒(J)(後段触媒)を調製した
。 (酸化反応) 実施例1において、原料ガスとして、酸素21容量%お
よび窒素79容量%からなる合成ガスに対し、オルトキ
シレンを70g/Nm3 (合成ガス)の割合で混合し
た混合ガスを使用し、これを反応管の上部入口から空間
速度3000hr−1(STP)で導入した以外は実施
例1と同様にして酸化反応を行った。
法で触媒活性物質を担持させた。担持量は、8.0g/
100cc(担体)であった。その後、空気を流通させ
ながら電気炉中で550℃の温度で6時間焼成して触媒
(I)(前段触媒)を調製した。上記触媒(I)の調製
において、硫酸セシウムおよび硝酸タリウムの代わりに
硝酸ルビジウム2.96gを使用した以外は触媒(I)
の調製と同様にして触媒(J)(後段触媒)を調製した
。 (酸化反応) 実施例1において、原料ガスとして、酸素21容量%お
よび窒素79容量%からなる合成ガスに対し、オルトキ
シレンを70g/Nm3 (合成ガス)の割合で混合し
た混合ガスを使用し、これを反応管の上部入口から空間
速度3000hr−1(STP)で導入した以外は実施
例1と同様にして酸化反応を行った。
【0045】触媒(I)、(J)の触媒特性を表1に、
酸化反応の結果を表2に示す。 −実施例6− 実施例5(触媒の調製)における触媒(I)の調製にお
いて、塩化ニオブ19.06gを加える以外は触媒(I
)の調製と同様にして触媒(Q)を調製した。また、触
媒(J)の調製において、硝酸ルビジウムの添加量を4
.44gとしリン酸第一アンモニウム6.08gを加え
た以外は触媒(J)の調製と同様にして触媒(R)を調
製した。
酸化反応の結果を表2に示す。 −実施例6− 実施例5(触媒の調製)における触媒(I)の調製にお
いて、塩化ニオブ19.06gを加える以外は触媒(I
)の調製と同様にして触媒(Q)を調製した。また、触
媒(J)の調製において、硝酸ルビジウムの添加量を4
.44gとしリン酸第一アンモニウム6.08gを加え
た以外は触媒(J)の調製と同様にして触媒(R)を調
製した。
【0046】以下実施例5(酸化反応)と同様にして酸
化反応を行った。触媒(Q)、(R)の触媒特性を表1
に、酸化反応の結果を表2に示す。 −実施例7− 実施例5(触媒の調製)において、三酸化アンチモン1
8.75gを加えた以外は実施例5(触媒の調製)と同
様にして触媒(S)、(T)を調製し、以下実施例5(
酸化反応)と同様にして酸化反応を行った。
化反応を行った。触媒(Q)、(R)の触媒特性を表1
に、酸化反応の結果を表2に示す。 −実施例7− 実施例5(触媒の調製)において、三酸化アンチモン1
8.75gを加えた以外は実施例5(触媒の調製)と同
様にして触媒(S)、(T)を調製し、以下実施例5(
酸化反応)と同様にして酸化反応を行った。
【0047】触媒(S)、(T)の触媒特性を表1に、
酸化反応の結果を表2に示す。 −実施例8− 実施例5(触媒の調製)における触媒(I)の調製にお
いて、硫酸セシウムの添加量を6.02gとし塩化ニオ
ブ19.06gおよびリン酸第一アンモニウム6.08
gを加えた以外は触媒(I)の調製と同様にして触媒(
U)調製した。
酸化反応の結果を表2に示す。 −実施例8− 実施例5(触媒の調製)における触媒(I)の調製にお
いて、硫酸セシウムの添加量を6.02gとし塩化ニオ
ブ19.06gおよびリン酸第一アンモニウム6.08
gを加えた以外は触媒(I)の調製と同様にして触媒(
U)調製した。
【0048】また、触媒(J)の調製において、硝酸ル
ビジウムの添加量を4.44gとしリン酸第一アンモニ
ウム6.08gおよび三酸化アンチモン18.75gを
加えた以外は触媒(J)の調製と同様にして触媒(V)
を調製した。以下実施例5(酸化反応)と同様にして酸
化反応を行った。触媒(U)、(V)の触媒特性を表1
に、酸化反応の結果を表2に示す。
ビジウムの添加量を4.44gとしリン酸第一アンモニ
ウム6.08gおよび三酸化アンチモン18.75gを
加えた以外は触媒(J)の調製と同様にして触媒(V)
を調製した。以下実施例5(酸化反応)と同様にして酸
化反応を行った。触媒(U)、(V)の触媒特性を表1
に、酸化反応の結果を表2に示す。
【0049】
−実施例9−
実施例5(触媒の調製)における触媒(I)の調製にお
いて、塩化ニオブ19.06gおよび三酸化アンチモン
18.75gを加えた以外は触媒(I)の調製と同様に
して触媒(W)調製した。また、触媒(J)の調製にお
いて、硝酸ルビジウムの添加量を4.44gとし塩化ニ
オブ19.06g、リン酸第一アンモニウム6.08g
および三酸化アンチモン18.75gを加えた以外は触
媒(J)の調製と同様にして触媒(X)を調製した。
いて、塩化ニオブ19.06gおよび三酸化アンチモン
18.75gを加えた以外は触媒(I)の調製と同様に
して触媒(W)調製した。また、触媒(J)の調製にお
いて、硝酸ルビジウムの添加量を4.44gとし塩化ニ
オブ19.06g、リン酸第一アンモニウム6.08g
および三酸化アンチモン18.75gを加えた以外は触
媒(J)の調製と同様にして触媒(X)を調製した。
【0050】以下実施例5(酸化反応)と同様にして酸
化反応を行った。触媒(W)、(X)の触媒特性を表1
に、酸化反応の結果を表2に示す。 −比較例3− 実施例5(触媒の調製)における触媒(I)の調製にお
いて、硫酸セシウムの添加量を6.03gとし、また硝
酸銀を添加しなかった以外は触媒(I)の調製と同様に
して触媒(O)(前段触媒)を調製した。
化反応を行った。触媒(W)、(X)の触媒特性を表1
に、酸化反応の結果を表2に示す。 −比較例3− 実施例5(触媒の調製)における触媒(I)の調製にお
いて、硫酸セシウムの添加量を6.03gとし、また硝
酸銀を添加しなかった以外は触媒(I)の調製と同様に
して触媒(O)(前段触媒)を調製した。
【0051】また、触媒(O)の調製において、硝酸ル
ビジウムの添加量を4.44gとし、また硝酸銀を添加
しなかった以外は触媒(O)の調製と同様にして触媒(
P)(後段触媒)を調製した。以下、実施例5と同様に
して酸化反応を行った。触媒(O)、(P)の触媒特性
を表1に、酸化反応の結果を表2に示す。
ビジウムの添加量を4.44gとし、また硝酸銀を添加
しなかった以外は触媒(O)の調製と同様にして触媒(
P)(後段触媒)を調製した。以下、実施例5と同様に
して酸化反応を行った。触媒(O)、(P)の触媒特性
を表1に、酸化反応の結果を表2に示す。
【0052】上記実施例および比較例において、酸化反
応は触媒に対する負荷を一定にして継続し、その間、オ
ルソキシレンの酸化反応の場合は副生するフタリドの量
を0.1重量%以下に制御するように溶融塩温度を設定
し、またナフタレンの酸化反応の場合は副生するナフト
キノンの量を0.5重量%以下に制御するように溶融塩
温度を設定した。
応は触媒に対する負荷を一定にして継続し、その間、オ
ルソキシレンの酸化反応の場合は副生するフタリドの量
を0.1重量%以下に制御するように溶融塩温度を設定
し、またナフタレンの酸化反応の場合は副生するナフト
キノンの量を0.5重量%以下に制御するように溶融塩
温度を設定した。
【0053】
【表1】
【0054】
【表2】
【0055】
【表3】
【0056】実施例1から3と比較例1との比較、およ
び実施例5から9と比較例3との比較から、銀を添加す
ることによる無水フタル酸収率の向上は明かであり、ま
た実施例4と比較例2との比較から、銀の添加量に制限
があることが分かる。表1および表2に示したように、
この発明にかかる銀を添加した触媒は、添加しないもの
に比べ、約2%の無水フタル酸収率の向上が認められ、
さらに、3ヵ月および6ヵ月経過後の性能も非常に安定
しており、大きな経済効果が期待できる。例えば、現在
、年間4万トンの無水フタル酸を製造しているとすれば
、2%の収率の向上により4百トンの無水フタル酸が原
料の消費量を増やすことなく得られることとなるのであ
る。
び実施例5から9と比較例3との比較から、銀を添加す
ることによる無水フタル酸収率の向上は明かであり、ま
た実施例4と比較例2との比較から、銀の添加量に制限
があることが分かる。表1および表2に示したように、
この発明にかかる銀を添加した触媒は、添加しないもの
に比べ、約2%の無水フタル酸収率の向上が認められ、
さらに、3ヵ月および6ヵ月経過後の性能も非常に安定
しており、大きな経済効果が期待できる。例えば、現在
、年間4万トンの無水フタル酸を製造しているとすれば
、2%の収率の向上により4百トンの無水フタル酸が原
料の消費量を増やすことなく得られることとなるのであ
る。
Claims (3)
- 【請求項1】 オルトキシレンおよび/またはナフタ
レンを分子状酸素または分子状酸素含有ガスにより気相
接触酸化して無水フタル酸を製造するための触媒におい
て、酸化バナジウムをV2 O5 として1〜20重量
部、比表面積が10〜60m2 /gのアナターゼ型酸
化チタンをTiO2 として99〜80重量部、さらに
これら2成分の合計100重量部当りカリウム、セシウ
ム、ルビジウムおよびタリウムから選ばれる少なくとも
1種の元素を酸化物として0.05〜1.2重量部およ
び銀をAg2 Oとして0.05〜2重量部含有する触
媒活性物質を耐熱性無機質担体に担持させてなることを
特徴とする無水フタル酸製造用触媒。 - 【請求項2】 オルトキシレンおよび/またはナフタ
レンを分子状酸素または分子状酸素含有ガスにより気相
接触酸化して無水フタル酸を製造するための触媒におい
て、酸化バナジウムをV2 O5 として1〜20重量
部、比表面積が10〜60m2 /gのアナターゼ型酸
化チタンをTiO2 として99〜80重量部、さらに
これら2成分の合計100重量部当りニオブをNb2
O5 として0〜1重量部、カリウム、セシウム、ルビ
ジウムおよびタリウムから選ばれる少なくとも1種の元
素を酸化物として0.05〜1.2重量部、リンをP2
O5 として0〜1.2重量部、アンチモンをSb2
O3 として0〜5重量部、および銀をAg2 Oと
して0.05〜2重量部含有する(ただし、ニオブ、リ
ン、およびアンチモンのそれぞれの含有量が同時に0と
なることはない)触媒活性物質を耐熱性無機質担体に担
持させてなることを特徴とする無水フタル酸製造用触媒
。 - 【請求項3】 耐熱性無機質担体に担持した触媒活性
物質層において、0.15〜0.45μmの直径を有す
る細孔が占める合計細孔容積が10μm以下の直径を有
する細孔が占める全細孔容積の50%以上である請求項
1または2記載の無水フタル酸製造用触媒。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3047053A JPH0729056B2 (ja) | 1990-03-16 | 1991-03-12 | 無水フタル酸製造用触媒 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2-63975 | 1990-03-16 | ||
| JP6397590 | 1990-03-16 | ||
| JP3047053A JPH0729056B2 (ja) | 1990-03-16 | 1991-03-12 | 無水フタル酸製造用触媒 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04215843A true JPH04215843A (ja) | 1992-08-06 |
| JPH0729056B2 JPH0729056B2 (ja) | 1995-04-05 |
Family
ID=26387202
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3047053A Expired - Fee Related JPH0729056B2 (ja) | 1990-03-16 | 1991-03-12 | 無水フタル酸製造用触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0729056B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007530252A (ja) * | 2004-03-26 | 2007-11-01 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | 銀−酸化バナジウム相およびプロモーター相を有する触媒 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ZA200200049B (en) | 2001-01-25 | 2002-07-16 | Nippon Catalytic Chem Ind | Fixed-bed shell-and-tube reactor and its usage. |
| EP2295136A4 (en) | 2008-06-30 | 2011-12-28 | Nippon Catalytic Chem Ind | METHOD OF PACKAGING A SOLID PARTICLE SUBSTANCE IN A MULTI-TUBE FIXED BED REACTOR |
| JP2011121048A (ja) | 2009-12-09 | 2011-06-23 | Rohm & Haas Co | 固体触媒物質をブレンドし、管状構造物に装填する方法 |
-
1991
- 1991-03-12 JP JP3047053A patent/JPH0729056B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007530252A (ja) * | 2004-03-26 | 2007-11-01 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | 銀−酸化バナジウム相およびプロモーター相を有する触媒 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0729056B2 (ja) | 1995-04-05 |
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