JPH0421661B2 - - Google Patents
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- JPH0421661B2 JPH0421661B2 JP58234723A JP23472383A JPH0421661B2 JP H0421661 B2 JPH0421661 B2 JP H0421661B2 JP 58234723 A JP58234723 A JP 58234723A JP 23472383 A JP23472383 A JP 23472383A JP H0421661 B2 JPH0421661 B2 JP H0421661B2
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07D205/00—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D205/02—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D205/06—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D205/08—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams
- C07D205/09—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams with a sulfur atom directly attached in position 4
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- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
-
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Description
本発明はアゼチジノン誘導体の製造法に関す
る。より詳しくは、本発明は一般式 〔式中R1は水素原子、ハロゲン原子又は低級
アルコキシ基を示し、R2は水素原子、ハロゲン
原子、低級アルコキシ基、アミノ基又は基
る。より詳しくは、本発明は一般式 〔式中R1は水素原子、ハロゲン原子又は低級
アルコキシ基を示し、R2は水素原子、ハロゲン
原子、低級アルコキシ基、アミノ基又は基
【式】（R5は置換もしくは非置換のフエニ
ル基、置換もしくは非置換のフエニルメチル基、
置換もしくは非置換のフエノキシメチル基又は置
換もしくは非置換のベンゾイル基を示す。）を示
すか、或いはR1とR2は両方で＝Ｏを示す。R4は
水素原子、
置換もしくは非置換のフエノキシメチル基又は置
換もしくは非置換のベンゾイル基を示す。）を示
すか、或いはR1とR2は両方で＝Ｏを示す。R4は
水素原子、
【式】
【式】又は
【式】を
示す。ここで、R7は水素原子又はカルボン酸の
保護基を示す。Z1は水素原子、ハロゲン原子、硫
黄基、酸素基又は窒素基を示す。Z2はZ1と同じで
あるか或いはZ1以外のハロゲン原子、硫黄基、酸
素基又は窒素基を示す。 R6は置換又は非置換のフエニル基を示す。〕 で表わされるアゼチジノン誘導体の製造法に関す
る。 一般式（）で表わされるアゼチジノン誘導体
は、その置換基の種類により種々のβ−ラクタム
系抗生物質へ誘導できる有用な合成中間体であ
る。例えばR4が基
保護基を示す。Z1は水素原子、ハロゲン原子、硫
黄基、酸素基又は窒素基を示す。Z2はZ1と同じで
あるか或いはZ1以外のハロゲン原子、硫黄基、酸
素基又は窒素基を示す。 R6は置換又は非置換のフエニル基を示す。〕 で表わされるアゼチジノン誘導体の製造法に関す
る。 一般式（）で表わされるアゼチジノン誘導体
は、その置換基の種類により種々のβ−ラクタム
系抗生物質へ誘導できる有用な合成中間体であ
る。例えばR4が基
【式】〔R7は水素
原子又はカルボン酸保護基を示す。〕である場合
には以下の反応式に従い、テトラヘドロン、レタ
ー，23，2187（1982）に記載の方法でセフアロス
ポリン系化合物へ変換できる。 〔式中R1，R2，R6及びR7は前記に同じ。〕 またR4が水素原子の場合には単環性β−ラク
ラム系抗生物質となる。 本発明の目的はβ−ラクタム系抗生物質の重要
な合成中間体である、一般式（）で表わされる
アゼチジノン誘導体を簡便な操作で高純度且つ高
収率にて製造し得る方法を提供することにある。 化合物（）の従来知られている製造法として
は、例えば特開昭50−129590号公報に記載の方法
がある。しかしこの方法は、高価な銀塩又は有害
な重金属塩を使用する必要があり、工業的に実施
するのは困難な方法である。そこで本発明者等
は、より実用的な化合物（）の製造法を発明す
べく鋭意研究を続けた結果、本発明を完成するに
至つた。 すなわち本発明は、一般式 〔式中R1，R2及びR4は前記に同じ。R3はチア
ゾール−２−イル基、チアジアゾール−２−イル
基、ベンゾチアゾール−２−イル基、ベンゾオキ
サゾール−２−イル基、ベンゾイミダゾール−２
−イル基、ピリミジン−２−イル基又は２−ピリ
ジル基を示す。これらの基には置換基として、ハ
ロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、低級アルコキシカルボニル基、フエニル基又
はニトロ基を有していてもよい。〕 で表わされるジチオアゼチジノン誘導体を溶媒
中、一般式 R6SO2CN （） 〔式中R6は前記に同じ。〕で表わされるスルホ
ニルシアナイド誘導体と反応させて一般式 〔式中R1，R2，R4及びR6は前記に同じ。〕で
表わされるアゼチジノン誘導体を得ることを特徴
とするアゼチジノン誘導体の製造法に係る。 本明細書においてR1として示されるハロゲン
原子の具体例としては、例えばCl，Br，Ｉ等を
挙げることができる。またR1として示される低
級アルコキシ基の具体例としては、例えばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、ｉ−プロポキシ、ブ
トキシ、ｔ−ブトキシ基等を挙げることができ
る。 本明細書においてR2として示されるハロゲン
原子の具体例としては、例えばCl，Br，Ｉ等を
挙げることができる。またR2として示される低
級アルコキシ基の具体例としては、例えばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、ｉ−プロポキシ、ブ
トキシ、ｔ−ブトキシ基等を挙げることができ
る。 本明細書においてR5として示される置換され
たフエニル基の具体例としては、例えばトリル、
４−クロロフエニル、２，４−ジクロロフエニ
ル、２，４，６−トリクロロフエニル、４−ブロ
モフエニル、２，４−ジブロモフエニル、４−メ
トキシフエニル、２，４−ジメトキシフエニル、
３，４，５−トリメトキシフエニル、４−ニトロ
フエニル、２，４−ジニトロフエニル基等を挙げ
ることができる。R5として示される置換された
フエニルメチル基の具体例としては、例えばトリ
ルメチル、４−クロロフエニルメチル、２，４−
ジクロロフエニルメチル、２，４，６−トリクロ
ロフエニルメチル、４−ブロモフエニルメチル、
２，４−ジブロモフエニルメチル、４−メトキシ
フエニルメチル、２，４−ジメトキシフエニルメ
チル、３，４，５−トリメトキシフエニルメチ
ル、４−ニトロフエニルメチル、２，４−ジニト
ロフエニルメチル、フエニルジクロロメチル、フ
エニルヒドロキシメチル、フエニルヒドロキシイ
ミノメチル、フエニルメトキシイミノメチル、フ
エニルアミノメチル、フエニルアセトキシメチル
基等を挙げることができる。R5として示される
置換されたフエノキシメチル基の具体例として
は、例えばトリルオキシメチル、４−クロロフエ
ノキシメチル、２，４−ジクロロフエノキシメチ
ル、２，４，６−トリクロロフエノキシメチル、
４−ブロモフエノキシメチル、２，４−ジブロモ
フエノキシメチル、４−メトキシフエノキシメチ
ル、２，４−ジメトキシフエノキシメチル、３，
４，５−トリメトキシフエノキシメチル、４−ニ
トロフエノキシメチル、２，４−ジニトロフエノ
キシメチル基等を挙げることができる。またR5
として示される置換されたベンゾイル基の具体例
としては、例えばトルイル、４−クロロベンゾイ
ル、２，４−ジクロロベンゾイル、２，４，６−
トリクロロベンゾイル、４−ブロモベンゾイル、
２，４−ジブロモベンゾイル、４−メトキシベン
ゾイル、２，４−ジメトキシベンゾイル、３，
４，５−トリメトキシベンゾイル、４−ニトロベ
ンゾイル、２，４−ジニトロベンゾイル基等を挙
げることができる。 本明細書においてR3として示される、置換基
としてハロゲン原子、低級アルキル基、低級アル
コキシ基、低級アルコキシカルボニル基、フエニ
ル基又はニトロ基を有していてもよいチアゾール
−２−イル基、チアジアゾール−２−イル基、ベ
ンゾチアゾール−２−イル基、ベンゾオキサゾー
ル−２−イル基、ベンゾイミダゾール−２−イル
基、ピリミジン−２−イル基又は２−ピリジル基
の具体例としては、例えばチアゾール−２−イ
ル、４−メチルチアゾール−２−イル、５−メチ
ルチアゾール−２−イル、４−フエニルチアゾー
ル−２−イル、５−フエニルチアゾール−２−イ
ル、チアジアゾール−２−イル、５−メチルチア
ジアゾール−２−イル、５−フエニルチアジアゾ
ール−２−イル、５−メトキシカルボニルチアジ
アゾール−２−イル、ベンゾチアゾール−２−イ
ル、４−メチルベンゾチアゾール−２−イル、６
−メチルベンゾチアゾール−２−イル、５−メト
キシベンゾチアゾール−２−イル、６−ニトロベ
ンゾチアゾール−２−イル、５−クロロベンゾチ
アゾール−２−イル、ベンゾオキサゾール−２−
イル、４−メチルベンゾオキサゾール−２−イ
ル、６−フエニルベンゾオキサゾール−２−イ
ル、５−メトキシベンゾオキサゾール−２−イ
ル、５−クロロベンゾオキサゾール−２−イル、
ベンゾイミダゾール−２−イル、５−メチルベン
ゾイミダゾール−２−イル、６−クロロベンゾイ
ミダゾール−２−イル、ピリミジン−２−イル、
５−メチルピリミジン−２−イル、２−ピリジル
基等を挙げることができる。 本明細書におけるR4は水素原子、
には以下の反応式に従い、テトラヘドロン、レタ
ー，23，2187（1982）に記載の方法でセフアロス
ポリン系化合物へ変換できる。 〔式中R1，R2，R6及びR7は前記に同じ。〕 またR4が水素原子の場合には単環性β−ラク
ラム系抗生物質となる。 本発明の目的はβ−ラクタム系抗生物質の重要
な合成中間体である、一般式（）で表わされる
アゼチジノン誘導体を簡便な操作で高純度且つ高
収率にて製造し得る方法を提供することにある。 化合物（）の従来知られている製造法として
は、例えば特開昭50−129590号公報に記載の方法
がある。しかしこの方法は、高価な銀塩又は有害
な重金属塩を使用する必要があり、工業的に実施
するのは困難な方法である。そこで本発明者等
は、より実用的な化合物（）の製造法を発明す
べく鋭意研究を続けた結果、本発明を完成するに
至つた。 すなわち本発明は、一般式 〔式中R1，R2及びR4は前記に同じ。R3はチア
ゾール−２−イル基、チアジアゾール−２−イル
基、ベンゾチアゾール−２−イル基、ベンゾオキ
サゾール−２−イル基、ベンゾイミダゾール−２
−イル基、ピリミジン−２−イル基又は２−ピリ
ジル基を示す。これらの基には置換基として、ハ
ロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、低級アルコキシカルボニル基、フエニル基又
はニトロ基を有していてもよい。〕 で表わされるジチオアゼチジノン誘導体を溶媒
中、一般式 R6SO2CN （） 〔式中R6は前記に同じ。〕で表わされるスルホ
ニルシアナイド誘導体と反応させて一般式 〔式中R1，R2，R4及びR6は前記に同じ。〕で
表わされるアゼチジノン誘導体を得ることを特徴
とするアゼチジノン誘導体の製造法に係る。 本明細書においてR1として示されるハロゲン
原子の具体例としては、例えばCl，Br，Ｉ等を
挙げることができる。またR1として示される低
級アルコキシ基の具体例としては、例えばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、ｉ−プロポキシ、ブ
トキシ、ｔ−ブトキシ基等を挙げることができ
る。 本明細書においてR2として示されるハロゲン
原子の具体例としては、例えばCl，Br，Ｉ等を
挙げることができる。またR2として示される低
級アルコキシ基の具体例としては、例えばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、ｉ−プロポキシ、ブ
トキシ、ｔ−ブトキシ基等を挙げることができ
る。 本明細書においてR5として示される置換され
たフエニル基の具体例としては、例えばトリル、
４−クロロフエニル、２，４−ジクロロフエニ
ル、２，４，６−トリクロロフエニル、４−ブロ
モフエニル、２，４−ジブロモフエニル、４−メ
トキシフエニル、２，４−ジメトキシフエニル、
３，４，５−トリメトキシフエニル、４−ニトロ
フエニル、２，４−ジニトロフエニル基等を挙げ
ることができる。R5として示される置換された
フエニルメチル基の具体例としては、例えばトリ
ルメチル、４−クロロフエニルメチル、２，４−
ジクロロフエニルメチル、２，４，６−トリクロ
ロフエニルメチル、４−ブロモフエニルメチル、
２，４−ジブロモフエニルメチル、４−メトキシ
フエニルメチル、２，４−ジメトキシフエニルメ
チル、３，４，５−トリメトキシフエニルメチ
ル、４−ニトロフエニルメチル、２，４−ジニト
ロフエニルメチル、フエニルジクロロメチル、フ
エニルヒドロキシメチル、フエニルヒドロキシイ
ミノメチル、フエニルメトキシイミノメチル、フ
エニルアミノメチル、フエニルアセトキシメチル
基等を挙げることができる。R5として示される
置換されたフエノキシメチル基の具体例として
は、例えばトリルオキシメチル、４−クロロフエ
ノキシメチル、２，４−ジクロロフエノキシメチ
ル、２，４，６−トリクロロフエノキシメチル、
４−ブロモフエノキシメチル、２，４−ジブロモ
フエノキシメチル、４−メトキシフエノキシメチ
ル、２，４−ジメトキシフエノキシメチル、３，
４，５−トリメトキシフエノキシメチル、４−ニ
トロフエノキシメチル、２，４−ジニトロフエノ
キシメチル基等を挙げることができる。またR5
として示される置換されたベンゾイル基の具体例
としては、例えばトルイル、４−クロロベンゾイ
ル、２，４−ジクロロベンゾイル、２，４，６−
トリクロロベンゾイル、４−ブロモベンゾイル、
２，４−ジブロモベンゾイル、４−メトキシベン
ゾイル、２，４−ジメトキシベンゾイル、３，
４，５−トリメトキシベンゾイル、４−ニトロベ
ンゾイル、２，４−ジニトロベンゾイル基等を挙
げることができる。 本明細書においてR3として示される、置換基
としてハロゲン原子、低級アルキル基、低級アル
コキシ基、低級アルコキシカルボニル基、フエニ
ル基又はニトロ基を有していてもよいチアゾール
−２−イル基、チアジアゾール−２−イル基、ベ
ンゾチアゾール−２−イル基、ベンゾオキサゾー
ル−２−イル基、ベンゾイミダゾール−２−イル
基、ピリミジン−２−イル基又は２−ピリジル基
の具体例としては、例えばチアゾール−２−イ
ル、４−メチルチアゾール−２−イル、５−メチ
ルチアゾール−２−イル、４−フエニルチアゾー
ル−２−イル、５−フエニルチアゾール−２−イ
ル、チアジアゾール−２−イル、５−メチルチア
ジアゾール−２−イル、５−フエニルチアジアゾ
ール−２−イル、５−メトキシカルボニルチアジ
アゾール−２−イル、ベンゾチアゾール−２−イ
ル、４−メチルベンゾチアゾール−２−イル、６
−メチルベンゾチアゾール−２−イル、５−メト
キシベンゾチアゾール−２−イル、６−ニトロベ
ンゾチアゾール−２−イル、５−クロロベンゾチ
アゾール−２−イル、ベンゾオキサゾール−２−
イル、４−メチルベンゾオキサゾール−２−イ
ル、６−フエニルベンゾオキサゾール−２−イ
ル、５−メトキシベンゾオキサゾール−２−イ
ル、５−クロロベンゾオキサゾール−２−イル、
ベンゾイミダゾール−２−イル、５−メチルベン
ゾイミダゾール−２−イル、６−クロロベンゾイ
ミダゾール−２−イル、ピリミジン−２−イル、
５−メチルピリミジン−２−イル、２−ピリジル
基等を挙げることができる。 本明細書におけるR4は水素原子、
【式】又は
【式】を示す。
ここでR7は水素原子又はカルボン酸の保護基
を示す。カルボン酸保護基としてはTheodora
Ｗ Greeneによる“Protective Groups im
Organic Synthesis”第５章に記載の保護基を広
く使用でき、具体的には、ベンジル、ｐ−メトキ
シベンジル、トリメトキシベンジル、トリメトキ
シジクロロベンジル、ピペロニル、ジフエニルメ
チル、ビス（ｐ−メトキシフエニル）メチル、ジ
トリルメチル、フエニル−ｐ−メトキシフエニル
メチル、α−ｐ−メトキシフエニルエチル、α−
ｐ−メトキシフエニル−β−トリクロロエチル、
トリクロロエチル、フローレニル、ｔ−ブチル、
トリチル、α−ジフエニルエチル、クミル、ｐ−
ニトロベンジル、ｏ−ニトロベンジル、ｏ，ｐ−
ジニトロベンジル、フエネシル、ｐ−ブロモフエ
ネシル、１−メトキシカルボニル−２−オキソプ
ロピル、メトキシエトキシメチル、メトキシメチ
ル、ベンジルオキシメチル、ｉ−プロポキシメチ
ル基等を例示できる。 Z1は水素原子、ハロゲン原子、硫黄基、酸素基
又は窒素基を示す。Z2はZ1と同じであるか或いは
Z1以外のハロゲン原子、硫黄基、酸素基又は窒素
基を示す。Z1およびZ2で示される置換基として
は、例えば臭素、塩素、弗素等のハロゲン原子、
メチルチオ、エチルチオ、フエニルチオ、パラニ
トロフエニルチオ、ペンタクロロフエニルチオ、
２−ピリジルチオ、２−ベンゾチアジアゾリルチ
オ、１，３，４−チアジアゾール−５−イルチ
オ、２−置換−１，３，４−チアジアゾール−５
−イルチオ、１，２，３，４−テトラゾール−５
−イルチオ、１−置換−１，２，３，４−テトラ
ゾール−５−イルチオ、Ｏ−エチルジチオカルボ
ネート、Ｎ，Ｎ−ジエチルジチオカルバメート、
フエニルスルホニル、パラメチルフエニルスルホ
ニル基等の硫黄基、ヒドロキシ、メトキシ、エト
キシ、アセトキシ、ベンゾイルオキシ、ニトロソ
オキシ、ニトリルオキシ基、ジフエニルホスホニ
ルオキシ、メタンスルホナト、Ｎ−モルホニル、
ジフエニルメチルオキシ基等の酸素基、ジメチル
アミノ、ピペリジン−１−イル基等の窒素基など
が挙げられる。 本明細書においてR6で示される置換されたフ
エニルの具体例としては、例えばトリル、キシリ
ル、４−クロロフエニル、２，４−ジクロロフエ
ニル、２，４，６−トリクロロフエニル、４−ブ
ロモフエニル、２，４−ジブロモフエニル、４−
メトキシフエニル、２，４−ジメトキシフエニ
ル、３，４，５−トリメトキシフエニル、４−ニ
トロフエニル、２，４−ジニトロフエニル基等を
挙げることができる。 本発明は、化合物（）と化合物（）とを酢
酸エチル中、水の存在下反応させると化合物
（）が得られるが、無水条件下では化合物（）
は得られず、原料である化合物（）及び（）
が未反応で回収されると言う予見し難い事実を発
見し、さらに研究を発展させて完成されるに至つ
たものである。すなわち本発明は、以下の反応式
で示される原理に基づくものである。 つまり、少くとも１分子のR6SO2 又はR3S
が存在すれば化合物（）と化合物（）とは上
記反応式で示された触媒反応を開始して化合物
（）が得られる。化合物（）と化合物（）
が水の存在下反応して化合物（）が得られたの
は、まず化合物（）と水が反応して少くとも１
分子のR6SO2 が生成して、それが上記触媒反
応を開始したものと考えられる。このことより
R6SO2 ，R3S 又は化合物（）と反応して
R6SO2 を生成する化合物が触媒量存在すれば
化合物（）と化合物（）が反応して化合物
（）が得られると考え、種々の化合物を検討し
た結果、本発明を完成した。 本発明で触媒として使用できる化合物として
は、例えば一般式 R6SO2H （） 〔式中R6は前記に同じ。〕で表わされるスルフ
イン酸又はその無機もしくは有機の塩、一般式 R3SH （） 〔式中R3は前記に同じ。〕で表わされるチオー
ル又はその無機もしくは有機の塩、化合物（）
と反応してS6SO2 を生成する求核性化合物等が
挙げられる。求核性化合物の例としては、例えば
水、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等のアルカリ金属水酸化物、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノー
ル、ブタノール等の低級アルコール又はその無機
もしくは有機の塩、フエノール、クレゾール、ｐ
−メトキシフエノール、ｐ−ニトロフエノール等
のフエノール類又はその無機もしくは有機の塩、
メタンチオール、エタンチオール、プロパンチオ
ール、チオフエノール、チオクレゾール、ｐ−ニ
トロチオフエノール等の化合物（）以外のチオ
ール類又はその無機もしくは有機の塩、メタンス
ルフイン酸、エタンスルフイン酸、プロパンスル
フイン酸等の化合物（）以外のスルフイン酸又
はその無機もしくは有機の塩、酢酸、プロピオン
酸等のカルボン酸又はその無機もしくは有機の塩
等を挙げることができる。 本発明を実施するには、溶媒中化合物（）と
化合物（）を前記触媒の存在下反応させる。メ
タノール、エタノール等の低級アルコールを溶媒
として使用する場合は、もちろん別の触媒を加え
る必要はない。その他の場合、触媒の使用量は理
論的には１分子の触媒があれば良いが、通常化合
物（）に対して0.0001〜0.1当量加えるのが良
い。化合物（）は化合物（）に対して通常１
〜５当量、好ましくは１〜２当量用いるのが良
い。反応は、通常０℃から使用溶媒の還流温度の
範囲で行なわれ、好ましくは20℃から使用溶媒の
還流温度の範囲で行なわれる。反応時間は反応温
度、化合物（）及び化合物（）の種類により
違うが、通常0.1〜15時間で反応は完結する。溶
媒の使用量は、通常化合物（）に対して１〜
200重量倍、好ましくは１〜50重量倍程度である。
本発明に用いられる溶媒は、化合物（）、化合
物（）及び用いる触媒を溶解する溶媒であれば
特に限定されるものではない。しかも完全に溶解
する必要はなく、一部分溶解することができれば
良い。本発明に用いる溶媒の具体例としては例え
ば、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ギ
酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メ
チル、プロピオン酸エチル等のエステル類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、ジクロルメタン、ジブロムメタン、クロロホ
ルム、ブロモホルム、四塩化炭素、ジクロルエタ
ン、ジブロムエタン、トリクロルエタン等のハロ
ゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジプロピ
ルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等のエーテル類、ニトロメタ
ン、ニトロエタン、ニトロプロパン等のニトロア
ルカン類、アセトニトリル、プロピオニトリル、
ブチロニトリル、バレロニトリル等のニトリル
類、メタノール、エタノール、プロパノール、イ
ソプロパノール、ブタノール等のアルコール類等
を挙げることができる。これらの溶媒は単一溶媒
として用いることもできるし、２種以上の混合溶
媒として用いることもできる。 本発明に用いる化合物（）は、例えばテトラ
ヘドロン レター，3351（1969）に記載されてい
る方法で合成できる。あるいは相当するスルホニ
ルハライドとシアン化アルカリ金属を用いて反応
系内で生成させてもよい。本発明の出発原料
（）は種々の方法を用いて合成できる。種々の
合成ルートの内ペニシリンよりの合成ルートとし
ては、例えばテトラヘドロン レター，3001
（1973）；J.Amer.Chem.Soc.，86，5307（1964）；
特公昭56−14665号公報；特開昭57−29587号公
報；第９回国際複素環会議予稿集、300ページ
（1983）；特開昭57−59896号公報；特開昭57−
183793号公報；特開昭57−183794号公報等に記載
の方法、又はそれらの組合せにより合成できる。
その方法を反応式にまとめると下記のようにな
る。 〔式中R1，R2，R3，R4，R5及びR7は前記に同
じ。〕 しかし本発明に用いられる出発原料（）は、
この合成ルートで製造される化合物に限定される
ものではなく、全合成、半合成を含めて種々の方
法により得られるジチオアゼチジノンが本発明の
出発原料として供せられる。 本発明の目的化合物は反応終了後、常法により
抽出単離し、カラムクロマトグラフあるいは再結
晶により精製することができる。 以下に実施例を示して本発明を説明するが、本
発明はこれら実施例に限定されるものではない。 実施例 １ ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート560mgとベンゼンスルホニルシ
アナイド302mgをアセトン５mlに溶かし、これに
水0.5mlを加え、加熱しアセトンを還流させなが
ら1.5時間反応させる。アセトンを減圧下留去し
得られた残渣を、ベンゼン10mlに溶かす。このベ
ンゼン溶液を水洗し、乾燥（Na2SO4）、減圧濃
縮する。得られた残渣をシリカゲルを用いてカラ
ムクロマトグラフイーにより精製すると収率95％
でｐ−メトキシベンジル２−（３−フエニルアセ
トアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−２−ア
ゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３−ブテ
ノエートが得られた。このもののNMRスペクト
ルはその構造と良く一致していた。NMRスペク
トルは表にまとめて示す。 実施例 ２ ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート529mgとベンゼンスルホニルシ
アナイド157mgを酢酸エチル５mlに溶かし、これ
に水0.5mlを加え80℃に加熱し１時間反応させる。
室温まで冷却後反応溶液を水洗し、乾燥
（Na2SO4）、減圧濃縮する。得られた残渣をシリ
カゲルを用いてカラムクロマトグラフイーにより
精製すると収率88％でｐ−メトキシベンジル ２
−（３−フエニルアセトアミド−４−ベンゼンス
ルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イル）−
３−メチル−３−ブテノエートが得られた。この
もののNMRスペクトルは実施例１で得られたも
のと完全に一致した。 実施例 ３ ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート478mgとベンゼンスルホニルシ
アナイド155mgをクロロホルム５mlに溶かし、こ
れに水0.25mlを加え、加熱しクロロホルムを還流
させながら1.5時間反応させる。室温まで冷却後
反応溶液を水洗し、乾燥（Na2SO4）、減圧濃縮
する。得られた残渣をシリカゲルを用いてカラム
クロマトグラフイーにより精製すると収率89％で
ｐ−メトキシベンジル ２−（３−フエニルアセ
トアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−２−ア
ゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３−ブテ
ノエートが得られた。このもののNMRスペクト
ルは実施例１で得られたものと完全に一致した。 実施例 ４ ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート542mgとベンゼンスルホニルシ
アナイド176mgをアセトニトリル５mlに溶かし、
これに水0.25mlを加え、67℃に加熱しながら1.5
時間反応させる。アセトニトリルを減圧下留去
し、得られた残渣をベンゼン10mlに溶かす。この
ベンゼン溶液を水洗し、乾燥（Na2SO4）、減圧
濃縮する。得られた残渣をシリカゲルを用いてカ
ラムクロマトグラフイーにより精製すると収率93
％でｐ−メトキシベンジル ２−（３−フエニル
アセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−２
−アゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３−
ブテノエートが得られた。このもののNMRスペ
クトルは実施例１で得られたものと完全に一致し
た。 実施例 ５ ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート290mgとベンゼンスルホニルシ
アナイド94mgをアセトン３mlに溶かし、これにベ
ンゼンスルフイン酸ナトリウム３mgを加え室温で
２時間反応させる。アセトンを減圧下留去し、得
られた残渣をシリカゲルを用いてカラムクロマト
グラフイーにより精製すると収率96％でｐ−メト
キシベンジル ２−（３−フエニルアセトアミド
−４−ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノ
ン−１−イル）−３−メチル−３−ブテノエート
が得られた。このもののNMRスペクトルは実施
例１で得られたものと完全に一致した。 実施例 ６ ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート345mgとベンゼンスルホニルシ
アナイド112mgをアセトン3.5mlに溶かし、これに
ベンゼンスルフイン酸５mgを加え、加熱しアセト
ンを還流させながら８時間反応させる。アセトン
を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルを用
いてカラムクロマトグラフイーにより精製すると
86％でｐ−メトキシベンジル ２−（３−フエニ
ルアセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−
２−アゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３
−ブテノエートが得られた。このもののNMRス
ペクトルは実施例１で得られたものと完全に一致
した。 実施例 ７ ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート343mgとベンゼンスルホニルシ
アナイド111mgを酢酸エチル3.5mlに溶かし、これ
に２−メルカプトベンゾチアゾール５mgを加え、
加熱し酢酸エチルを還流させながら８時間反応さ
せる。酢酸エチルを減圧下留去し、得られた残渣
をシリカゲルを用いてカラムクロマトグラフイー
により精製すると収率80％でｐ−メトキシベンジ
ル ２−（３−フエニルアセトアミド−４−ベン
ゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イ
ル）−３−メチル−３−ブテノエートが得られた。
このもののNMRスペクトルは実施例１で得られ
たものと完全に一致した。 実施例 ８ ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート400mgとベンゼンスルホニルシ
アナイド130mgをテトラヒドロフラン４mlに溶か
し、これに水酸化ナトリウム３mgを加え、室温で
２時間反応させる。テトラヒドロフランを減圧下
留去し、得られた残渣をベンゼン10mlに溶かす。
このベンゼン溶液を水洗し、乾燥（Na2SO4）、
減圧濃縮する。得られた残渣をシリカゲルを用い
てカラムクロマトグラフイーにより精製すると収
率91％でｐ−メトキシベンジル ２−（３−フエ
ニルアセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ
−２−アゼチジノン−１−イル）−３−メチル−
ブテノエートが得られた。このもののNMRスペ
クトルは実施例１で得られたものと完全に一致し
た。 実施例 ９ ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート453mgとベンゼンスルホニルシ
アナイド147mgをテトラヒドロフラン4.5mlに溶か
し、これにナトリウムメトキシドの28％メタノー
ル溶液20μを加え、室温で50分間反応させる。
テトラヒドロフランを減圧下留去し、得られた残
渣をベンゼン10mlに溶かす。このベンゼン溶液を
水洗し、乾燥（Na2SO4）、減圧濃縮する。得ら
れた残渣をシリカゲルを用いてカラムクロマトグ
ラフイーにより精製すると収率93％でｐ−メトキ
シベンジル ２−（３−フエニルアセトアミド−
４−ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン
−１−イル）−３−メチル−ブテノエートが得ら
れた。このもののNMRスペクトルは実施例１で
得られたものと完全に一致した。 実施例 10 ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート290mgとベンゼンスルホニルシ
アナイド94mgをテトラヒドロフラン３mlに溶か
し、これに２−メルカプトベンゾチアゾール ナ
トリウム塩３mgを加え、室温で２時間反応させ
る。テトラヒドロフランを減圧下留去し、得られ
た残渣をシリカゲルを用いてカラムクロマトグラ
フイーにより精製すると収率91％でｐ−メトキシ
ベンジル ２−（３−フエニルアセトアミド−４
−ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−
１−イル）−３−メチル−３−ブテノエートが得
られた。このもののNMRスペクトルは実施例１
で得られたものと完全に一致した。 実施例 11 ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート316mgとベンゼンスルホニルシ
アナイド102mgをテトラヒドロフラン３mlに溶か
し、これに２−メルカプトベンゾチアゾール ア
ニリン塩５mgを加え、室温で10時間反応させる。
テトラヒドロフランを減圧下留去し、得られた残
渣をシリカゲルを用いてカラムクロマトグラフイ
ーにより精製すると収率85％でｐ−メトキシベン
ジル ２−（３−フエニルアセチルアミド−４−
ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１
−イル）−３−メチル−ブテノエートが得られた。
このもののNMRスペクトルは実施例１で得られ
たものと完全に一致した。 実施例 12 ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート316mgとベンゼンスルホニルシ
アナイド102mgを酢酸エチル1.5mlとメタノール
1.5mlの混合溶媒に溶かし、加熱し溶媒を還流さ
せながら２時間反応させる。減圧下溶媒を留去
し、得られた残渣をシリカゲルを用いてカラムク
ロマトグラフイーにより精製すると収率82％でｐ
−メトキシベンジル ２−（３−フエニルアセト
アミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼ
チジノン−１−イル）−３−メチル−３−ブテノ
エートが得られた。このもののNMRスペクトル
は実施例１で得られたものと完全に一致した。 実施例 13 ベンジル ２−〔３−フエノキシアセトアミド
−４−（５−メトキシベンゾチアゾール−２−イ
ルジチオ）−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−
メチル−ブテノエート250mgとベンゼンスルホニ
ルシアナイド79mgをアセトン2.5mgをアセトン2.5
mlに溶かし、これにベンゼンスルフイン酸ナトリ
ウム３mgを加え室温で２時間反応させる。次いで
実施例５と同様の処理を行い、ベンジル ２−
（３−フエノキシアセトアミド−４−ベンゼンス
ルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イル）−
３−メチル−３−ブテノエートを得た。（98％）
このもののNMRスペクトルはその構造と良く一
致していた。NMRスペクトルは表にまとめて
示す。 実施例 14 ベンジル ２−〔３−フエノキシアセトアミド
−４−（５−メチルチアジアゾール−２−イルジ
チオ）−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチ
ル−３−ブテノエート255mgとベンゼンスルホニ
ルシアナイド90mgをアセトン2.5mlに溶かし、こ
れにベンゼンスルフイン酸ナトリウム３mgを加え
室温で２時間反応させる。次いで実施例５と同様
の処理を行い、ベンジル ２−（３−フエノキシ
アセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−２
−アゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３−
ブテノエートを得た。（85％）このもののNMR
スペクトルは実施例13で得られたものと完全に一
致した。 実施例 15 メチル ２−〔３−フエニルアセトアミド−４
−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）−２−アゼチジ
ノン−１−イル〕−３−メチル−３−ブテノエー
ト480mgとｐ−トルエンスルホニルシアナイド203
mgをアセトン５mlに溶かし、これにトルエンスル
フイン酸ナトリウム３mgを加え室温で２時間反応
させる。次いで実施例５と同様の処理を行い、メ
チル ２−〔３−フエニルアセトアミド−４−（ｐ
−トルエンスルホニルチオ）−２−アゼチジノン
−１−イル〕−３−メチル−３−ブテノエートを
得た。（96％）このもののNMRスペクトルはそ
の構造と良く一致していた。NMRスペクトルは
表にまとめて示す。 実施例 16 ３，４，５−トリメトキシベンジル ２−〔３
−フエノキシアセトアミド−４−（２−ベンゾチ
アゾリルジチオ）−２−アゼチジノン−１−イル〕
−３−メチル−３−ブテノエート210mgとベンゼ
ンスルホニルシアナイド61mgをアセトン2.5mlに
溶かし、これにベンゼンスルフイン酸ナトリウム
３mgを加え室温で２時間反応させる。次いで実施
例５と同様の処理を行い、３，４，５−トリメト
キシベンジル ２−（３−フエノキシアセトアミ
ド−４−ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジ
ノン−１−イル）−３−メチル−３−ブテノエー
トを得た。（95％）このもののNMRスペクトル
はその構造と良く一致していた。NMRスペクト
ルは表にまとめて示す。 実施例 17 ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエノキシ
アセトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチ
オ）−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル
−３−ブテノエート340mgとベンゼンスルホニル
シアナイド107mgをアセトン3.5mlに溶かし、これ
にベンゼンスルフイン酸ナトリウム３mgを加え室
温で２時間反応させる。次いで実施例５と同様の
処理を行い、ｐ−メトキシベンジル ２−（３−
フエノキシアセトアミド−４−ベンゼンスルホニ
ルチオ−２−アゼチジノン−１−イル）−３−メ
チル−３−ブテノエートを得た。（90％）このも
ののNMRスペクトルはその構造と良く一致して
いた。NMRスペクトルは表にまとめて示す。 実施例 18 ベンジル ２−〔３−フエノキシアセトアミド
−４−（６−ニトロベンゾチアゾール−２−イル
ジチオ）−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メ
チル−３−ブテノエート362mgとベンゼンスルホ
ニルシアナイド112mgをアセトン3.5mlに溶かし、
これにベンゼンスルフイン酸ナトリウム３mgを加
え室温で２時間反応させる。次いで実施例５と同
様の処理を行い、ベンジル ２−（３−フエノキ
シアセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−
２−アゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３
−ブテノエートを得た。（81％）このものの
NMRスペクトルは実施例13で得られたものと完
全に一致した。 実施例 19 ３，４，５−トリメトキシ−２，６−ジクロロ
ベンジル ２−〔３−フエノキシアセトアミド−
４−（４−メチルベンゾチアゾール−２−イルジ
チオ）−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチ
ル−３−ブテノエート268mgとベンゼンスルホニ
ルシアナイド69mgをアセトン３mlに溶かし、これ
にベンゼンスルフイン酸ナトリウム３mgを加え室
温で２時間反応させる。次いで実施例５と同様の
処理を行い、３，４，５−トリメトキシ−２，６
−ジクロロベンジル ２−（３−フエノキシアセ
トアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−２−ア
ゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３−ブテ
ノエートを得た。（85％）このもののNMRスペ
クトルはその構造と良く一致していた。NMRス
ペクトルは表にまとめて示す。 実施例 20 ｐ−ブロモフエナシル ２−〔３−フエノキシ
アセトアミド−４−（６−メチルベンゾチアゾー
ル−２−イルジチオ）−２−アゼチジノン−１−
イル〕−３−メチル−３−ブテノエート412mgとベ
ンゼンスルホニルシアナイド114mgをアセトン44
mlに溶かし、これにベンゼンスルフイン酸ナトリ
ウム３mgを加え室温で２時間反応させる。次いで
実施例５と同様の処理を行い、ｐ−ブロモフエナ
シル ２−（３−フエノキシアセトアミド−４−
ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１
−イル）−３−メチル−３−ブテノエートを得た。
（94％）このもののNMRスペクトルはその構造
と良く一致していた。NMRスペクトルは表に
まとめて示す。 実施例 21 メトキシエトキシメチル ２−〔３−フエノキ
シアセトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジ
チオ）−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチ
ル−３−ブテノエート294mgとベンゼンスルホニ
ルシアナイド102mgをアセトン３mlに溶かし、こ
れにベンゼンスルフイン酸ナトリウム３mgを加
え、室温で２時間反応させる。次いで実施例５と
同様の処理を行い、メトキシエトキシメチル ２
−（３−フエノキシアセトアミド−４−ベンゼン
スルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イル）
−３−メチル−３−ブテノエートを得た。（78％）
このもののNMRスペクトルはその構造と良く一
致していた。NMRスペクトルは表にまとめて
示す。 実施例 22 メトキシメチル ２−〔３−フエノキシアセト
アミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）−２
−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−３−
ブテノエート305mgとベンゼンスルホニルシアナ
イド109mgをアセトン３mlに溶かし、これにベン
ゼンスルフイン酸ナトリウム３mgを加え、室温で
２時間反応させる。次いで実施例５と同様の処理
を行い、メトキシメチル ２−（３−フエノキシ
アセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−２
−アゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３−
ブテノエートを得た。（75％）このもののNMR
スペクトルはその構造と良く一致していた。
NMRスペクトルは表にまとめて示す。 実施例 23 ９−フルオレニル ２−〔３−フエノキシアセ
トアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）−
２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−３
−ブテノエート372mgとベンゼンスルホニルシア
ナイド110mgをアセト４mlに溶かし、これにベン
ゼンスルフイン酸ナトリウム３mgを加え、室温で
２時間反応させる。次いで実施例５と同様の処理
を行い、９−フルオレニル２−（３−フエノキシ
アセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−２
−アゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３−
ブテノエートを得た。（85％）このもののNMR
スペクトルはその構造と良く一致していた。
NMRスペクトルは表にまとめて示す。 実施例 24 ９−フルオレニル ２−〔３−フエニルアセト
アミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）−２
−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−３−
ブテノエート289mgとベンゼンスルホニルシアナ
イド87mgをアセトン３mlに溶かし、これにベンゼ
ンスルフイン酸ナトリウム３mgを加え、室温で２
時間反応させる。次いで実施例５と同様の処理を
行い、９−フルオレニル ２−（３−フエニルア
セトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−２−
アゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３−ブ
テノエートを得た。（90％）このもののNMRス
ペクトルはその構造と良く一致していた。NMR
スペクトルは表にまとめて示す。 実施例 25 ｐ−ニトロベンジル ２−〔３−フエニルアセ
トアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）−
２−アゼチジノン−１−イル〕３−メチル−３−
ブテノエート250mgとベンゼンスルホニルシアナ
イド79mgをアセトン2.5mlに溶かし、これにベン
ゼンスルフイン酸ナトリウム３mgを加れ、室温で
２時間反応させる。次いで実施例５と同様の処理
を行い、ｐ−ニトロベンジル ２−（３−フエニ
ルアセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−
２−アゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３
−ブテノエートを得た。（94％）このものの
NMRスペクトルはその構造と良く一致してい
た。NMRスペクトルは表にまとめて示す。 実施例 26 ｏ−ニトロベンジル ２−〔３−フエニルアセ
トアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）−
２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−３
−ブテノエート310mgとベンゼンスルホニルシア
ナイド98mgをアセトン３mlに溶かし、これにベン
ゼンスルフイン酸ナトリウム３mgを加え、室温で
２時間反応させる。次いで実施例５と同様の処理
を行い、ｏ−ニトロベンジル ２−（３−フエニ
ルアセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−
２−アゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３
−ブテノエートを得た。（93％）このものの
NMRスペクトルはその構造と良く一致してい
た。NMRスペクトルは表にまとめて示す。 実施例 27 １−メトキシカルボニル−２−オキソプロピル
２−〔３−フエノキシアセトアミド−４−（２−ベ
ンゾチアゾリルジチオ）−２−アゼチジノン−１
−イル〕−３−メチル−３−ブテノエート352mgと
ベンゼンスルホニルシアナイド112mgをアセトン
3.5mlに溶かし、これにベンゼンスルフイン酸ナ
トリウム３mgを加え、室温で２時間反応させる。
次いで実施例５と同様の処理を行い、１−メトキ
シカルボニル−２−オキソプロピル ２−（３−
フエノキシアセトアミド−４−ベンゼンスルホニ
ルチオ−２−アゼチジノン−１−イル）−３−メ
チル−３−ブテノエートを得た。（90％）このも
ののNMRスペクトルはその構造と良く一致して
いた。NMRスペクトルは表にまとめて示す。 実施例 28 メチル ２−〔３−フエニルアセトアミド−４
−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）−２−アゼチジ
ノン−１−イル〕−３−メチル−３−ブテノエー
ト180mgとｐ−クロロベンゼンスルホニルシアナ
イド85mgをアセトン２mlに溶かしｐ−クロロベン
ゼンスルフイン酸ナトリウム３mgを加え、室温で
２時間反応させる。次いで実施例５と同様の処理
を行い、メチル ２〔３−フエニルアセトアミド
−４−（ｐ−クロロベンゼンスルホニルチオ）−２
−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−３−
ブテノエートを得た。（86％）このもののNMR
スペクトルはその構造と良く一致していた。
NMRスペクトルは表にまとめて示す。 実施例 29 メチル ２−〔３−フエニルアセトアミド−４
−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）−２−アゼチジ
ノン−１−イル〕−３−メチル−３−ブテノエー
ト203mgとｐ−ニトロベンゼンスルホニルシアナ
イド101mgをアセトン２mlに溶かし、ｐ−ニトロ
ベンゼンスルフイン酸ナトリウム３mgを加え、室
温で２時間反応させる。次いで実施例５と同様の
処理を行い、メチル ２−〔３−フエニルアセト
アミド−４−（ｐ−ニトロベンゼンスルホニルチ
オ）−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル
−３−ブテノエートを得た。（72％）このものの
NMRスペクトルはその構造と良く一致してい
た。NMRスペクトルは表にまとめて示す。 実施例 30 メチル ２−〔３−フエニルアセトアミド−４
−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）−２−アゼチジ
ノン−１−イル〕−３−メチル−３−ブテノエー
ト231mgとｏ−ニトロベンゼンスルホニルシアナ
イド115mgをアセトン2.5mlに溶かしベンゼンスル
フイン酸ナトリウム３mgを加え、室温で２時間反
応させる。次いで実施例５と同様の処理を行い、
メチル２−〔３−フエニルアセトアミド−４−（ｏ
−ニトロベンゼンスルホニルチオ）−２−アゼチ
ジノン−１−イル〕−３−メチル−３−ブテノエ
ートを得た。（70％）このもののNMRスペクト
ルはその構造と良く一致していた。NMRスペク
トルは表にまとめて示す。 実施例 31 ベンジル ２−〔３−フエニルアセトアミド−
４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）−２−アゼチ
ジノン−１−イル〕−３−メチル−３−ブテノエ
ート308mgとｐ−ニトロベンゼンスルホニルシア
ナイド133mgをアセトン３mlに溶かし、これに水
0.3mlを加え、加熱しアセトンを還流させながら
２時間反応させる。次いで実施例１と同様の処理
を行い、ベンジル ２−〔３−フエニルアセトア
ミド−４−（ｐ−ニトロベンゼンスルホニルチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエートを得た。（77％）このものの
NMRスペクトルはその構造と良く一致してい
た。NMRスペクトルは表にまとめて示す。 実施例 32 ベンジル ２−〔３−フエニルアセトアミド−
４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）−２−アゼチ
ジノン−１−イル〕−３−メチル−３−ブテノエ
ート189mgとｐ−メトキシベンゼンスルホニルシ
アナイド76mgをアセトン２mlに溶かし、これに水
0.2mlを加え、加熱しアセトンを還流させながら
２時間反応させる。次いで実施例１と同様の処理
を行い、ベンジル ２−〔３−フエニルアセトア
ミド−４−（ｐ−メトキシベンゼンスルホニルチ
オ）−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル
−３−ブテノエートを得た。（93％）このものの
NMRスペクトルはその構造と良く一致してい
た。NMRスペクトルは表にまとめて示す。 実施例 33 ｐ−ニトロベンジル ２−〔３−メトキシ−３
−フエニルアセトアミド−４−（２−ベンゾチア
ゾリルチオ）−２−アゼチジノン−１−イル〕−３
−メチル−３−ブテノエート315mgとベンゼンス
ルホニルシアナイド95mgをアセトン３mlに溶か
し、ベンゼンスルフイン酸ナトリウム３mgを加
え、室温で２時間反応させる。次いで実施例５と
同様の処理を行い、ｐ−ニトロベンジル ２−
（３−メトキシ−３−フエニルアセトアミド−４
−ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−
１−イル）−３−メチル−３−ブテノエートを得
た。（88％）このもののNMRスペクトルはその
構造と良く一致していた。NMRスペクトルは表
にまとめて示す。
を示す。カルボン酸保護基としてはTheodora
Ｗ Greeneによる“Protective Groups im
Organic Synthesis”第５章に記載の保護基を広
く使用でき、具体的には、ベンジル、ｐ−メトキ
シベンジル、トリメトキシベンジル、トリメトキ
シジクロロベンジル、ピペロニル、ジフエニルメ
チル、ビス（ｐ−メトキシフエニル）メチル、ジ
トリルメチル、フエニル−ｐ−メトキシフエニル
メチル、α−ｐ−メトキシフエニルエチル、α−
ｐ−メトキシフエニル−β−トリクロロエチル、
トリクロロエチル、フローレニル、ｔ−ブチル、
トリチル、α−ジフエニルエチル、クミル、ｐ−
ニトロベンジル、ｏ−ニトロベンジル、ｏ，ｐ−
ジニトロベンジル、フエネシル、ｐ−ブロモフエ
ネシル、１−メトキシカルボニル−２−オキソプ
ロピル、メトキシエトキシメチル、メトキシメチ
ル、ベンジルオキシメチル、ｉ−プロポキシメチ
ル基等を例示できる。 Z1は水素原子、ハロゲン原子、硫黄基、酸素基
又は窒素基を示す。Z2はZ1と同じであるか或いは
Z1以外のハロゲン原子、硫黄基、酸素基又は窒素
基を示す。Z1およびZ2で示される置換基として
は、例えば臭素、塩素、弗素等のハロゲン原子、
メチルチオ、エチルチオ、フエニルチオ、パラニ
トロフエニルチオ、ペンタクロロフエニルチオ、
２−ピリジルチオ、２−ベンゾチアジアゾリルチ
オ、１，３，４−チアジアゾール−５−イルチ
オ、２−置換−１，３，４−チアジアゾール−５
−イルチオ、１，２，３，４−テトラゾール−５
−イルチオ、１−置換−１，２，３，４−テトラ
ゾール−５−イルチオ、Ｏ−エチルジチオカルボ
ネート、Ｎ，Ｎ−ジエチルジチオカルバメート、
フエニルスルホニル、パラメチルフエニルスルホ
ニル基等の硫黄基、ヒドロキシ、メトキシ、エト
キシ、アセトキシ、ベンゾイルオキシ、ニトロソ
オキシ、ニトリルオキシ基、ジフエニルホスホニ
ルオキシ、メタンスルホナト、Ｎ−モルホニル、
ジフエニルメチルオキシ基等の酸素基、ジメチル
アミノ、ピペリジン−１−イル基等の窒素基など
が挙げられる。 本明細書においてR6で示される置換されたフ
エニルの具体例としては、例えばトリル、キシリ
ル、４−クロロフエニル、２，４−ジクロロフエ
ニル、２，４，６−トリクロロフエニル、４−ブ
ロモフエニル、２，４−ジブロモフエニル、４−
メトキシフエニル、２，４−ジメトキシフエニ
ル、３，４，５−トリメトキシフエニル、４−ニ
トロフエニル、２，４−ジニトロフエニル基等を
挙げることができる。 本発明は、化合物（）と化合物（）とを酢
酸エチル中、水の存在下反応させると化合物
（）が得られるが、無水条件下では化合物（）
は得られず、原料である化合物（）及び（）
が未反応で回収されると言う予見し難い事実を発
見し、さらに研究を発展させて完成されるに至つ
たものである。すなわち本発明は、以下の反応式
で示される原理に基づくものである。 つまり、少くとも１分子のR6SO2 又はR3S
が存在すれば化合物（）と化合物（）とは上
記反応式で示された触媒反応を開始して化合物
（）が得られる。化合物（）と化合物（）
が水の存在下反応して化合物（）が得られたの
は、まず化合物（）と水が反応して少くとも１
分子のR6SO2 が生成して、それが上記触媒反
応を開始したものと考えられる。このことより
R6SO2 ，R3S 又は化合物（）と反応して
R6SO2 を生成する化合物が触媒量存在すれば
化合物（）と化合物（）が反応して化合物
（）が得られると考え、種々の化合物を検討し
た結果、本発明を完成した。 本発明で触媒として使用できる化合物として
は、例えば一般式 R6SO2H （） 〔式中R6は前記に同じ。〕で表わされるスルフ
イン酸又はその無機もしくは有機の塩、一般式 R3SH （） 〔式中R3は前記に同じ。〕で表わされるチオー
ル又はその無機もしくは有機の塩、化合物（）
と反応してS6SO2 を生成する求核性化合物等が
挙げられる。求核性化合物の例としては、例えば
水、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等のアルカリ金属水酸化物、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノー
ル、ブタノール等の低級アルコール又はその無機
もしくは有機の塩、フエノール、クレゾール、ｐ
−メトキシフエノール、ｐ−ニトロフエノール等
のフエノール類又はその無機もしくは有機の塩、
メタンチオール、エタンチオール、プロパンチオ
ール、チオフエノール、チオクレゾール、ｐ−ニ
トロチオフエノール等の化合物（）以外のチオ
ール類又はその無機もしくは有機の塩、メタンス
ルフイン酸、エタンスルフイン酸、プロパンスル
フイン酸等の化合物（）以外のスルフイン酸又
はその無機もしくは有機の塩、酢酸、プロピオン
酸等のカルボン酸又はその無機もしくは有機の塩
等を挙げることができる。 本発明を実施するには、溶媒中化合物（）と
化合物（）を前記触媒の存在下反応させる。メ
タノール、エタノール等の低級アルコールを溶媒
として使用する場合は、もちろん別の触媒を加え
る必要はない。その他の場合、触媒の使用量は理
論的には１分子の触媒があれば良いが、通常化合
物（）に対して0.0001〜0.1当量加えるのが良
い。化合物（）は化合物（）に対して通常１
〜５当量、好ましくは１〜２当量用いるのが良
い。反応は、通常０℃から使用溶媒の還流温度の
範囲で行なわれ、好ましくは20℃から使用溶媒の
還流温度の範囲で行なわれる。反応時間は反応温
度、化合物（）及び化合物（）の種類により
違うが、通常0.1〜15時間で反応は完結する。溶
媒の使用量は、通常化合物（）に対して１〜
200重量倍、好ましくは１〜50重量倍程度である。
本発明に用いられる溶媒は、化合物（）、化合
物（）及び用いる触媒を溶解する溶媒であれば
特に限定されるものではない。しかも完全に溶解
する必要はなく、一部分溶解することができれば
良い。本発明に用いる溶媒の具体例としては例え
ば、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ギ
酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メ
チル、プロピオン酸エチル等のエステル類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、ジクロルメタン、ジブロムメタン、クロロホ
ルム、ブロモホルム、四塩化炭素、ジクロルエタ
ン、ジブロムエタン、トリクロルエタン等のハロ
ゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジプロピ
ルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等のエーテル類、ニトロメタ
ン、ニトロエタン、ニトロプロパン等のニトロア
ルカン類、アセトニトリル、プロピオニトリル、
ブチロニトリル、バレロニトリル等のニトリル
類、メタノール、エタノール、プロパノール、イ
ソプロパノール、ブタノール等のアルコール類等
を挙げることができる。これらの溶媒は単一溶媒
として用いることもできるし、２種以上の混合溶
媒として用いることもできる。 本発明に用いる化合物（）は、例えばテトラ
ヘドロン レター，3351（1969）に記載されてい
る方法で合成できる。あるいは相当するスルホニ
ルハライドとシアン化アルカリ金属を用いて反応
系内で生成させてもよい。本発明の出発原料
（）は種々の方法を用いて合成できる。種々の
合成ルートの内ペニシリンよりの合成ルートとし
ては、例えばテトラヘドロン レター，3001
（1973）；J.Amer.Chem.Soc.，86，5307（1964）；
特公昭56−14665号公報；特開昭57−29587号公
報；第９回国際複素環会議予稿集、300ページ
（1983）；特開昭57−59896号公報；特開昭57−
183793号公報；特開昭57−183794号公報等に記載
の方法、又はそれらの組合せにより合成できる。
その方法を反応式にまとめると下記のようにな
る。 〔式中R1，R2，R3，R4，R5及びR7は前記に同
じ。〕 しかし本発明に用いられる出発原料（）は、
この合成ルートで製造される化合物に限定される
ものではなく、全合成、半合成を含めて種々の方
法により得られるジチオアゼチジノンが本発明の
出発原料として供せられる。 本発明の目的化合物は反応終了後、常法により
抽出単離し、カラムクロマトグラフあるいは再結
晶により精製することができる。 以下に実施例を示して本発明を説明するが、本
発明はこれら実施例に限定されるものではない。 実施例 １ ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート560mgとベンゼンスルホニルシ
アナイド302mgをアセトン５mlに溶かし、これに
水0.5mlを加え、加熱しアセトンを還流させなが
ら1.5時間反応させる。アセトンを減圧下留去し
得られた残渣を、ベンゼン10mlに溶かす。このベ
ンゼン溶液を水洗し、乾燥（Na2SO4）、減圧濃
縮する。得られた残渣をシリカゲルを用いてカラ
ムクロマトグラフイーにより精製すると収率95％
でｐ−メトキシベンジル２−（３−フエニルアセ
トアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−２−ア
ゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３−ブテ
ノエートが得られた。このもののNMRスペクト
ルはその構造と良く一致していた。NMRスペク
トルは表にまとめて示す。 実施例 ２ ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート529mgとベンゼンスルホニルシ
アナイド157mgを酢酸エチル５mlに溶かし、これ
に水0.5mlを加え80℃に加熱し１時間反応させる。
室温まで冷却後反応溶液を水洗し、乾燥
（Na2SO4）、減圧濃縮する。得られた残渣をシリ
カゲルを用いてカラムクロマトグラフイーにより
精製すると収率88％でｐ−メトキシベンジル ２
−（３−フエニルアセトアミド−４−ベンゼンス
ルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イル）−
３−メチル−３−ブテノエートが得られた。この
もののNMRスペクトルは実施例１で得られたも
のと完全に一致した。 実施例 ３ ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート478mgとベンゼンスルホニルシ
アナイド155mgをクロロホルム５mlに溶かし、こ
れに水0.25mlを加え、加熱しクロロホルムを還流
させながら1.5時間反応させる。室温まで冷却後
反応溶液を水洗し、乾燥（Na2SO4）、減圧濃縮
する。得られた残渣をシリカゲルを用いてカラム
クロマトグラフイーにより精製すると収率89％で
ｐ−メトキシベンジル ２−（３−フエニルアセ
トアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−２−ア
ゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３−ブテ
ノエートが得られた。このもののNMRスペクト
ルは実施例１で得られたものと完全に一致した。 実施例 ４ ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート542mgとベンゼンスルホニルシ
アナイド176mgをアセトニトリル５mlに溶かし、
これに水0.25mlを加え、67℃に加熱しながら1.5
時間反応させる。アセトニトリルを減圧下留去
し、得られた残渣をベンゼン10mlに溶かす。この
ベンゼン溶液を水洗し、乾燥（Na2SO4）、減圧
濃縮する。得られた残渣をシリカゲルを用いてカ
ラムクロマトグラフイーにより精製すると収率93
％でｐ−メトキシベンジル ２−（３−フエニル
アセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−２
−アゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３−
ブテノエートが得られた。このもののNMRスペ
クトルは実施例１で得られたものと完全に一致し
た。 実施例 ５ ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート290mgとベンゼンスルホニルシ
アナイド94mgをアセトン３mlに溶かし、これにベ
ンゼンスルフイン酸ナトリウム３mgを加え室温で
２時間反応させる。アセトンを減圧下留去し、得
られた残渣をシリカゲルを用いてカラムクロマト
グラフイーにより精製すると収率96％でｐ−メト
キシベンジル ２−（３−フエニルアセトアミド
−４−ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノ
ン−１−イル）−３−メチル−３−ブテノエート
が得られた。このもののNMRスペクトルは実施
例１で得られたものと完全に一致した。 実施例 ６ ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート345mgとベンゼンスルホニルシ
アナイド112mgをアセトン3.5mlに溶かし、これに
ベンゼンスルフイン酸５mgを加え、加熱しアセト
ンを還流させながら８時間反応させる。アセトン
を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルを用
いてカラムクロマトグラフイーにより精製すると
86％でｐ−メトキシベンジル ２−（３−フエニ
ルアセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−
２−アゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３
−ブテノエートが得られた。このもののNMRス
ペクトルは実施例１で得られたものと完全に一致
した。 実施例 ７ ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート343mgとベンゼンスルホニルシ
アナイド111mgを酢酸エチル3.5mlに溶かし、これ
に２−メルカプトベンゾチアゾール５mgを加え、
加熱し酢酸エチルを還流させながら８時間反応さ
せる。酢酸エチルを減圧下留去し、得られた残渣
をシリカゲルを用いてカラムクロマトグラフイー
により精製すると収率80％でｐ−メトキシベンジ
ル ２−（３−フエニルアセトアミド−４−ベン
ゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イ
ル）−３−メチル−３−ブテノエートが得られた。
このもののNMRスペクトルは実施例１で得られ
たものと完全に一致した。 実施例 ８ ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート400mgとベンゼンスルホニルシ
アナイド130mgをテトラヒドロフラン４mlに溶か
し、これに水酸化ナトリウム３mgを加え、室温で
２時間反応させる。テトラヒドロフランを減圧下
留去し、得られた残渣をベンゼン10mlに溶かす。
このベンゼン溶液を水洗し、乾燥（Na2SO4）、
減圧濃縮する。得られた残渣をシリカゲルを用い
てカラムクロマトグラフイーにより精製すると収
率91％でｐ−メトキシベンジル ２−（３−フエ
ニルアセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ
−２−アゼチジノン−１−イル）−３−メチル−
ブテノエートが得られた。このもののNMRスペ
クトルは実施例１で得られたものと完全に一致し
た。 実施例 ９ ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート453mgとベンゼンスルホニルシ
アナイド147mgをテトラヒドロフラン4.5mlに溶か
し、これにナトリウムメトキシドの28％メタノー
ル溶液20μを加え、室温で50分間反応させる。
テトラヒドロフランを減圧下留去し、得られた残
渣をベンゼン10mlに溶かす。このベンゼン溶液を
水洗し、乾燥（Na2SO4）、減圧濃縮する。得ら
れた残渣をシリカゲルを用いてカラムクロマトグ
ラフイーにより精製すると収率93％でｐ−メトキ
シベンジル ２−（３−フエニルアセトアミド−
４−ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン
−１−イル）−３−メチル−ブテノエートが得ら
れた。このもののNMRスペクトルは実施例１で
得られたものと完全に一致した。 実施例 10 ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート290mgとベンゼンスルホニルシ
アナイド94mgをテトラヒドロフラン３mlに溶か
し、これに２−メルカプトベンゾチアゾール ナ
トリウム塩３mgを加え、室温で２時間反応させ
る。テトラヒドロフランを減圧下留去し、得られ
た残渣をシリカゲルを用いてカラムクロマトグラ
フイーにより精製すると収率91％でｐ−メトキシ
ベンジル ２−（３−フエニルアセトアミド−４
−ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−
１−イル）−３−メチル−３−ブテノエートが得
られた。このもののNMRスペクトルは実施例１
で得られたものと完全に一致した。 実施例 11 ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート316mgとベンゼンスルホニルシ
アナイド102mgをテトラヒドロフラン３mlに溶か
し、これに２−メルカプトベンゾチアゾール ア
ニリン塩５mgを加え、室温で10時間反応させる。
テトラヒドロフランを減圧下留去し、得られた残
渣をシリカゲルを用いてカラムクロマトグラフイ
ーにより精製すると収率85％でｐ−メトキシベン
ジル ２−（３−フエニルアセチルアミド−４−
ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１
−イル）−３−メチル−ブテノエートが得られた。
このもののNMRスペクトルは実施例１で得られ
たものと完全に一致した。 実施例 12 ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエニルア
セトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエート316mgとベンゼンスルホニルシ
アナイド102mgを酢酸エチル1.5mlとメタノール
1.5mlの混合溶媒に溶かし、加熱し溶媒を還流さ
せながら２時間反応させる。減圧下溶媒を留去
し、得られた残渣をシリカゲルを用いてカラムク
ロマトグラフイーにより精製すると収率82％でｐ
−メトキシベンジル ２−（３−フエニルアセト
アミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼ
チジノン−１−イル）−３−メチル−３−ブテノ
エートが得られた。このもののNMRスペクトル
は実施例１で得られたものと完全に一致した。 実施例 13 ベンジル ２−〔３−フエノキシアセトアミド
−４−（５−メトキシベンゾチアゾール−２−イ
ルジチオ）−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−
メチル−ブテノエート250mgとベンゼンスルホニ
ルシアナイド79mgをアセトン2.5mgをアセトン2.5
mlに溶かし、これにベンゼンスルフイン酸ナトリ
ウム３mgを加え室温で２時間反応させる。次いで
実施例５と同様の処理を行い、ベンジル ２−
（３−フエノキシアセトアミド−４−ベンゼンス
ルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イル）−
３−メチル−３−ブテノエートを得た。（98％）
このもののNMRスペクトルはその構造と良く一
致していた。NMRスペクトルは表にまとめて
示す。 実施例 14 ベンジル ２−〔３−フエノキシアセトアミド
−４−（５−メチルチアジアゾール−２−イルジ
チオ）−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチ
ル−３−ブテノエート255mgとベンゼンスルホニ
ルシアナイド90mgをアセトン2.5mlに溶かし、こ
れにベンゼンスルフイン酸ナトリウム３mgを加え
室温で２時間反応させる。次いで実施例５と同様
の処理を行い、ベンジル ２−（３−フエノキシ
アセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−２
−アゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３−
ブテノエートを得た。（85％）このもののNMR
スペクトルは実施例13で得られたものと完全に一
致した。 実施例 15 メチル ２−〔３−フエニルアセトアミド−４
−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）−２−アゼチジ
ノン−１−イル〕−３−メチル−３−ブテノエー
ト480mgとｐ−トルエンスルホニルシアナイド203
mgをアセトン５mlに溶かし、これにトルエンスル
フイン酸ナトリウム３mgを加え室温で２時間反応
させる。次いで実施例５と同様の処理を行い、メ
チル ２−〔３−フエニルアセトアミド−４−（ｐ
−トルエンスルホニルチオ）−２−アゼチジノン
−１−イル〕−３−メチル−３−ブテノエートを
得た。（96％）このもののNMRスペクトルはそ
の構造と良く一致していた。NMRスペクトルは
表にまとめて示す。 実施例 16 ３，４，５−トリメトキシベンジル ２−〔３
−フエノキシアセトアミド−４−（２−ベンゾチ
アゾリルジチオ）−２−アゼチジノン−１−イル〕
−３−メチル−３−ブテノエート210mgとベンゼ
ンスルホニルシアナイド61mgをアセトン2.5mlに
溶かし、これにベンゼンスルフイン酸ナトリウム
３mgを加え室温で２時間反応させる。次いで実施
例５と同様の処理を行い、３，４，５−トリメト
キシベンジル ２−（３−フエノキシアセトアミ
ド−４−ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジ
ノン−１−イル）−３−メチル−３−ブテノエー
トを得た。（95％）このもののNMRスペクトル
はその構造と良く一致していた。NMRスペクト
ルは表にまとめて示す。 実施例 17 ｐ−メトキシベンジル ２−〔３−フエノキシ
アセトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチ
オ）−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル
−３−ブテノエート340mgとベンゼンスルホニル
シアナイド107mgをアセトン3.5mlに溶かし、これ
にベンゼンスルフイン酸ナトリウム３mgを加え室
温で２時間反応させる。次いで実施例５と同様の
処理を行い、ｐ−メトキシベンジル ２−（３−
フエノキシアセトアミド−４−ベンゼンスルホニ
ルチオ−２−アゼチジノン−１−イル）−３−メ
チル−３−ブテノエートを得た。（90％）このも
ののNMRスペクトルはその構造と良く一致して
いた。NMRスペクトルは表にまとめて示す。 実施例 18 ベンジル ２−〔３−フエノキシアセトアミド
−４−（６−ニトロベンゾチアゾール−２−イル
ジチオ）−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メ
チル−３−ブテノエート362mgとベンゼンスルホ
ニルシアナイド112mgをアセトン3.5mlに溶かし、
これにベンゼンスルフイン酸ナトリウム３mgを加
え室温で２時間反応させる。次いで実施例５と同
様の処理を行い、ベンジル ２−（３−フエノキ
シアセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−
２−アゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３
−ブテノエートを得た。（81％）このものの
NMRスペクトルは実施例13で得られたものと完
全に一致した。 実施例 19 ３，４，５−トリメトキシ−２，６−ジクロロ
ベンジル ２−〔３−フエノキシアセトアミド−
４−（４−メチルベンゾチアゾール−２−イルジ
チオ）−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチ
ル−３−ブテノエート268mgとベンゼンスルホニ
ルシアナイド69mgをアセトン３mlに溶かし、これ
にベンゼンスルフイン酸ナトリウム３mgを加え室
温で２時間反応させる。次いで実施例５と同様の
処理を行い、３，４，５−トリメトキシ−２，６
−ジクロロベンジル ２−（３−フエノキシアセ
トアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−２−ア
ゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３−ブテ
ノエートを得た。（85％）このもののNMRスペ
クトルはその構造と良く一致していた。NMRス
ペクトルは表にまとめて示す。 実施例 20 ｐ−ブロモフエナシル ２−〔３−フエノキシ
アセトアミド−４−（６−メチルベンゾチアゾー
ル−２−イルジチオ）−２−アゼチジノン−１−
イル〕−３−メチル−３−ブテノエート412mgとベ
ンゼンスルホニルシアナイド114mgをアセトン44
mlに溶かし、これにベンゼンスルフイン酸ナトリ
ウム３mgを加え室温で２時間反応させる。次いで
実施例５と同様の処理を行い、ｐ−ブロモフエナ
シル ２−（３−フエノキシアセトアミド−４−
ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−１
−イル）−３−メチル−３−ブテノエートを得た。
（94％）このもののNMRスペクトルはその構造
と良く一致していた。NMRスペクトルは表に
まとめて示す。 実施例 21 メトキシエトキシメチル ２−〔３−フエノキ
シアセトアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジ
チオ）−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチ
ル−３−ブテノエート294mgとベンゼンスルホニ
ルシアナイド102mgをアセトン３mlに溶かし、こ
れにベンゼンスルフイン酸ナトリウム３mgを加
え、室温で２時間反応させる。次いで実施例５と
同様の処理を行い、メトキシエトキシメチル ２
−（３−フエノキシアセトアミド−４−ベンゼン
スルホニルチオ−２−アゼチジノン−１−イル）
−３−メチル−３−ブテノエートを得た。（78％）
このもののNMRスペクトルはその構造と良く一
致していた。NMRスペクトルは表にまとめて
示す。 実施例 22 メトキシメチル ２−〔３−フエノキシアセト
アミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）−２
−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−３−
ブテノエート305mgとベンゼンスルホニルシアナ
イド109mgをアセトン３mlに溶かし、これにベン
ゼンスルフイン酸ナトリウム３mgを加え、室温で
２時間反応させる。次いで実施例５と同様の処理
を行い、メトキシメチル ２−（３−フエノキシ
アセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−２
−アゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３−
ブテノエートを得た。（75％）このもののNMR
スペクトルはその構造と良く一致していた。
NMRスペクトルは表にまとめて示す。 実施例 23 ９−フルオレニル ２−〔３−フエノキシアセ
トアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）−
２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−３
−ブテノエート372mgとベンゼンスルホニルシア
ナイド110mgをアセト４mlに溶かし、これにベン
ゼンスルフイン酸ナトリウム３mgを加え、室温で
２時間反応させる。次いで実施例５と同様の処理
を行い、９−フルオレニル２−（３−フエノキシ
アセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−２
−アゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３−
ブテノエートを得た。（85％）このもののNMR
スペクトルはその構造と良く一致していた。
NMRスペクトルは表にまとめて示す。 実施例 24 ９−フルオレニル ２−〔３−フエニルアセト
アミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）−２
−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−３−
ブテノエート289mgとベンゼンスルホニルシアナ
イド87mgをアセトン３mlに溶かし、これにベンゼ
ンスルフイン酸ナトリウム３mgを加え、室温で２
時間反応させる。次いで実施例５と同様の処理を
行い、９−フルオレニル ２−（３−フエニルア
セトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−２−
アゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３−ブ
テノエートを得た。（90％）このもののNMRス
ペクトルはその構造と良く一致していた。NMR
スペクトルは表にまとめて示す。 実施例 25 ｐ−ニトロベンジル ２−〔３−フエニルアセ
トアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）−
２−アゼチジノン−１−イル〕３−メチル−３−
ブテノエート250mgとベンゼンスルホニルシアナ
イド79mgをアセトン2.5mlに溶かし、これにベン
ゼンスルフイン酸ナトリウム３mgを加れ、室温で
２時間反応させる。次いで実施例５と同様の処理
を行い、ｐ−ニトロベンジル ２−（３−フエニ
ルアセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−
２−アゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３
−ブテノエートを得た。（94％）このものの
NMRスペクトルはその構造と良く一致してい
た。NMRスペクトルは表にまとめて示す。 実施例 26 ｏ−ニトロベンジル ２−〔３−フエニルアセ
トアミド−４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）−
２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−３
−ブテノエート310mgとベンゼンスルホニルシア
ナイド98mgをアセトン３mlに溶かし、これにベン
ゼンスルフイン酸ナトリウム３mgを加え、室温で
２時間反応させる。次いで実施例５と同様の処理
を行い、ｏ−ニトロベンジル ２−（３−フエニ
ルアセトアミド−４−ベンゼンスルホニルチオ−
２−アゼチジノン−１−イル）−３−メチル−３
−ブテノエートを得た。（93％）このものの
NMRスペクトルはその構造と良く一致してい
た。NMRスペクトルは表にまとめて示す。 実施例 27 １−メトキシカルボニル−２−オキソプロピル
２−〔３−フエノキシアセトアミド−４−（２−ベ
ンゾチアゾリルジチオ）−２−アゼチジノン−１
−イル〕−３−メチル−３−ブテノエート352mgと
ベンゼンスルホニルシアナイド112mgをアセトン
3.5mlに溶かし、これにベンゼンスルフイン酸ナ
トリウム３mgを加え、室温で２時間反応させる。
次いで実施例５と同様の処理を行い、１−メトキ
シカルボニル−２−オキソプロピル ２−（３−
フエノキシアセトアミド−４−ベンゼンスルホニ
ルチオ−２−アゼチジノン−１−イル）−３−メ
チル−３−ブテノエートを得た。（90％）このも
ののNMRスペクトルはその構造と良く一致して
いた。NMRスペクトルは表にまとめて示す。 実施例 28 メチル ２−〔３−フエニルアセトアミド−４
−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）−２−アゼチジ
ノン−１−イル〕−３−メチル−３−ブテノエー
ト180mgとｐ−クロロベンゼンスルホニルシアナ
イド85mgをアセトン２mlに溶かしｐ−クロロベン
ゼンスルフイン酸ナトリウム３mgを加え、室温で
２時間反応させる。次いで実施例５と同様の処理
を行い、メチル ２〔３−フエニルアセトアミド
−４−（ｐ−クロロベンゼンスルホニルチオ）−２
−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−３−
ブテノエートを得た。（86％）このもののNMR
スペクトルはその構造と良く一致していた。
NMRスペクトルは表にまとめて示す。 実施例 29 メチル ２−〔３−フエニルアセトアミド−４
−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）−２−アゼチジ
ノン−１−イル〕−３−メチル−３−ブテノエー
ト203mgとｐ−ニトロベンゼンスルホニルシアナ
イド101mgをアセトン２mlに溶かし、ｐ−ニトロ
ベンゼンスルフイン酸ナトリウム３mgを加え、室
温で２時間反応させる。次いで実施例５と同様の
処理を行い、メチル ２−〔３−フエニルアセト
アミド−４−（ｐ−ニトロベンゼンスルホニルチ
オ）−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル
−３−ブテノエートを得た。（72％）このものの
NMRスペクトルはその構造と良く一致してい
た。NMRスペクトルは表にまとめて示す。 実施例 30 メチル ２−〔３−フエニルアセトアミド−４
−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）−２−アゼチジ
ノン−１−イル〕−３−メチル−３−ブテノエー
ト231mgとｏ−ニトロベンゼンスルホニルシアナ
イド115mgをアセトン2.5mlに溶かしベンゼンスル
フイン酸ナトリウム３mgを加え、室温で２時間反
応させる。次いで実施例５と同様の処理を行い、
メチル２−〔３−フエニルアセトアミド−４−（ｏ
−ニトロベンゼンスルホニルチオ）−２−アゼチ
ジノン−１−イル〕−３−メチル−３−ブテノエ
ートを得た。（70％）このもののNMRスペクト
ルはその構造と良く一致していた。NMRスペク
トルは表にまとめて示す。 実施例 31 ベンジル ２−〔３−フエニルアセトアミド−
４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）−２−アゼチ
ジノン−１−イル〕−３−メチル−３−ブテノエ
ート308mgとｐ−ニトロベンゼンスルホニルシア
ナイド133mgをアセトン３mlに溶かし、これに水
0.3mlを加え、加熱しアセトンを還流させながら
２時間反応させる。次いで実施例１と同様の処理
を行い、ベンジル ２−〔３−フエニルアセトア
ミド−４−（ｐ−ニトロベンゼンスルホニルチオ）
−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル−
３−ブテノエートを得た。（77％）このものの
NMRスペクトルはその構造と良く一致してい
た。NMRスペクトルは表にまとめて示す。 実施例 32 ベンジル ２−〔３−フエニルアセトアミド−
４−（２−ベンゾチアゾリルジチオ）−２−アゼチ
ジノン−１−イル〕−３−メチル−３−ブテノエ
ート189mgとｐ−メトキシベンゼンスルホニルシ
アナイド76mgをアセトン２mlに溶かし、これに水
0.2mlを加え、加熱しアセトンを還流させながら
２時間反応させる。次いで実施例１と同様の処理
を行い、ベンジル ２−〔３−フエニルアセトア
ミド−４−（ｐ−メトキシベンゼンスルホニルチ
オ）−２−アゼチジノン−１−イル〕−３−メチル
−３−ブテノエートを得た。（93％）このものの
NMRスペクトルはその構造と良く一致してい
た。NMRスペクトルは表にまとめて示す。 実施例 33 ｐ−ニトロベンジル ２−〔３−メトキシ−３
−フエニルアセトアミド−４−（２−ベンゾチア
ゾリルチオ）−２−アゼチジノン−１−イル〕−３
−メチル−３−ブテノエート315mgとベンゼンス
ルホニルシアナイド95mgをアセトン３mlに溶か
し、ベンゼンスルフイン酸ナトリウム３mgを加
え、室温で２時間反応させる。次いで実施例５と
同様の処理を行い、ｐ−ニトロベンジル ２−
（３−メトキシ−３−フエニルアセトアミド−４
−ベンゼンスルホニルチオ−２−アゼチジノン−
１−イル）−３−メチル−３−ブテノエートを得
た。（88％）このもののNMRスペクトルはその
構造と良く一致していた。NMRスペクトルは表
にまとめて示す。
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
実施例 34〜36
実施例１と同様の処理を行ない、表２に示す化
合物を得た。NMRスペクトルを表３に示す。
合物を得た。NMRスペクトルを表３に示す。
【表】
【表】
【表】
実施例 37〜48
実施例５と同様の条件下反応を行つて、表４に
示す化合物を得た。NMRスペクトルを表５に示
す。
示す化合物を得た。NMRスペクトルを表５に示
す。
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
実施例 49
実施例33において、ベンゼンスルフイン酸ナト
リウムを用いずに反応を行なうと、室温下８時間
後に反応が終了した。実施例５と同様の後処理を
行ない、収率82％で生成物を得た。このものの
NMRスペクトルは、実施例33のものと完全に一
致した。 実施例 50 実施例40において、ベンゼンスルフイン酸ナト
リウムを用いずに反応を行なうと、室温下10時間
後に反応が終了した。実施例５と同様の後処理を
行ない、収率86％で生成物を得た。このものの
NMRスペクトルは、実施例40のものと完全に一
致した。 実施例 51 実施例43において、ベンゼンスルフイン酸ナト
リウムを用いずに反応を行なうと、室温下９時間
後に反応が終了した。実施例５と同様の後処理を
行ない、収率88％で生成物を得た。このものの
NMRスペクトルは、実施例43のものと完全に一
致した。
リウムを用いずに反応を行なうと、室温下８時間
後に反応が終了した。実施例５と同様の後処理を
行ない、収率82％で生成物を得た。このものの
NMRスペクトルは、実施例33のものと完全に一
致した。 実施例 50 実施例40において、ベンゼンスルフイン酸ナト
リウムを用いずに反応を行なうと、室温下10時間
後に反応が終了した。実施例５と同様の後処理を
行ない、収率86％で生成物を得た。このものの
NMRスペクトルは、実施例40のものと完全に一
致した。 実施例 51 実施例43において、ベンゼンスルフイン酸ナト
リウムを用いずに反応を行なうと、室温下９時間
後に反応が終了した。実施例５と同様の後処理を
行ない、収率88％で生成物を得た。このものの
NMRスペクトルは、実施例43のものと完全に一
致した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ［式中R1は水素原子、ハロゲン原子又は低級
アルコキシ基を示し、R2は水素原子、ハロゲン
原子、低級アルコキシ基、アミノ基又は基
【式】（R5は置換もしくは非置換のフエニ ル基、置換もしくは非置換のフエニルメチル基、
置換もしくは非置換のフエノキシメチル基又は置
換もしくは非置換のベンゾイル基を示す。）を示
すか、或いはR1とR2は両方で＝Ｏを示す。R3は
チアゾール−２−イル基、チアジアゾール−２−
イル基、ベンゾチアゾール−２−イル基、ベンゾ
オキサゾール−２−イル基、ベンゾイミダゾール
−２−イル基、ピリミジン−２−イル基又は２−
ピリジル基を示す。これらの基には置換基とし
て、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、低級アルコキシカルボニル基、フエニル
基又はニトロ基を有していてもよい。R4は水素
原子、【式】 【式】又は【式】を 示す。ここで、R7は水素原子又はカルボン酸の
保護基を示す。Z1は水素原子、ハロゲン原子、硫
黄基、酸素基又は窒素基を示す。Z2はZ1と同じで
あるか或いはZ1以外のハロゲン原子、硫黄基、酸
素基又は窒素基を示す。］ で表わされるジチオアゼチジノン誘導体を有機溶
媒中、一般式 R6SO2CN （） ［式中R6は置換又は非置換のフエニル基を示
す。］ で表わされるスルホニルシアナイド誘導体と反応
させて、一般式 ［式中R1，R2，R4及びR6は前記に同じ。］ で表わされるアゼチジノン誘導体を得ることを特
徴とするアゼチジノン誘導体の製造法。 ２ 一般式 ［式中R1は水素原子、ハロゲン原子又は低級
アルコキシ基を示し、R2は水素原子、ハロゲン
原子、低級アルコキシ基、アミノ基又は基
【式】（R5は置換もしくは非置換のフエニ ル基、置換もしくは非置換のフエニルメチル基、
置換もしくは非置換のフエノキシメチル基又は置
換もしくは非置換のベンゾイル基を示す。）を示
すか、或いはR1とR2は両方で＝Ｏを示す。R3は
チアゾール−２−イル基、チアジアゾール−２−
イル基、ベンゾチアゾール−２−イル基、ベンゾ
オキサゾール−２−イル基、ベンゾイミダゾール
−２−イル基、ピリミジン−２−イル基又は２−
ピリジル基を示す。これらの基には置換基とし
て、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、低級アルコキシカルボニル基、フエニル
基又はニトロ基を有していてもよい。R4は水素
原子、【式】 【式】又は【式】を 示す。ここで、R7は水素原子又はカルボン酸の
保護基を示す。Z1は水素原子、ハロゲン原子、硫
黄基、酸素基又は窒素基を示す。Z2はZ1と同じで
あるか或いはZ1以外のハロゲン原子、硫黄基、酸
素基又は窒素基を示す。］ で表わされるジチオアゼチジノン誘導体と、一般
式 R6SO2CN （） ［式中R6は置換もしくは非置換のフエニル基
を示す。］で表わされるスルホニルシアナイド誘
導体とを、有機溶媒中、一般式 R6SO2H ［式中R6は前記に同じ。］で表わされるスルフ
イン酸又はその無機もしくは有機の塩、一般式 R3SH ［式中R3は前記に同じ。］で表わされるチオー
ル又はその無機もしくは有機の塩及び一般式
（）の化合物と反応してR6SO2を生成する求
核性化合物から選ばれた少くとも１種の存在下に
反応させて、一般式 ［式中R1，R2，R4及びR6は前記に同じ。］ で表わされるアゼチジノン誘導体を得ることを特
徴とするアゼチジノン誘導体の製造法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58234723A JPS60126263A (ja) | 1983-12-12 | 1983-12-12 | アゼチジノン誘導体の製造法 |
| GB08429528A GB2152497B (en) | 1983-11-28 | 1984-11-22 | Process for the preparation of azetidinone derivatives |
| CH563784A CH661503A5 (de) | 1983-11-28 | 1984-11-26 | Verfahren zur herstellung von azetidinon-verbindungen. |
| DE19843443225 DE3443225C2 (de) | 1983-11-28 | 1984-11-27 | Verfahren zur Herstellung von Azetidinon-Derivaten |
| FR8418034A FR2555578B1 (fr) | 1983-11-28 | 1984-11-27 | Procede de preparation de derives d'azetidinone |
| US06/680,723 US4713452A (en) | 1983-12-12 | 1984-12-12 | Process for preparation of azetidinone derivatives |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58234723A JPS60126263A (ja) | 1983-12-12 | 1983-12-12 | アゼチジノン誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60126263A JPS60126263A (ja) | 1985-07-05 |
| JPH0421661B2 true JPH0421661B2 (ja) | 1992-04-13 |
Family
ID=16975360
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58234723A Granted JPS60126263A (ja) | 1983-11-28 | 1983-12-12 | アゼチジノン誘導体の製造法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4713452A (ja) |
| JP (1) | JPS60126263A (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU498131B2 (en) * | 1974-02-26 | 1979-02-15 | Ciba-Geigy Ag | Production of cephems by cyclization |
| GB1503639A (en) * | 1974-02-26 | 1978-03-15 | Ciba Geigy Ag | Process for the manufacture of 3-hydroxy-crotonic acid derivatives |
| US4147864A (en) * | 1975-02-20 | 1979-04-03 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the manufacture of 7β-amino-3-cephem-3-ol-4 carboxylic acid compounds |
-
1983
- 1983-12-12 JP JP58234723A patent/JPS60126263A/ja active Granted
-
1984
- 1984-12-12 US US06/680,723 patent/US4713452A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60126263A (ja) | 1985-07-05 |
| US4713452A (en) | 1987-12-15 |
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