JPH04226531A - ポリアミド樹脂及びその製造法並びに５−アルコキシイソフタル酸及びその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、新規なポリアミド樹脂
及びその製造法並びに５−アルコキシイソフタル酸及び
その製造法に関する。

【０００２】

【従来の技術】芳香族ジアミンと芳香族ジカルボン酸と
から合成される全芳香族ポリアミドは、耐熱性及び電気
的・機械的特性に優れているため、電気絶縁材料、高温
用材料、ある種の保護衣料用材料など、広範な工業材料
として使用されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、この種の芳香
族ポリアミドは、通常の有機溶剤に対する溶解性が悪く
、繊維、フィルム、塗膜などを形成する場合には、極め
て不都合である。また、このような芳香族ポリアミドは
、高融点及び高結晶性を有するために、射出成形や押出
成形が事実上不可能である。本発明者は、耐熱性、有機
溶剤溶解性、成膜性及び機械的性質に優れ、また、射出
成形、押出成形等の成形性の良好なポリアミド樹脂及び
その製造法並びに５−アルコキシイソフタル酸及びその
製造法を提供するものである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明は、一般式（Ｉ）

【化８】 〔式中Ａｒは芳香族ジアミンのアミノ基を除いた２価の
残基を示し、Ｒは炭素原子数１〜３０の直鎖又は分岐鎖
アルキル基を示す〕で表される繰り返し単位を有するポ
リアミド樹脂に関する。

【０００５】また、本発明は、一般式（ＩＩ）

【化９】 Ｈ２Ｎ−Ａｒ−ＮＨ２　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　（ＩＩ）〔式中Ａｒは一般式（Ｉ）における
と同じものを示す〕で表される芳香族ジアミンを一般式
（ＩＩＩ）

【化１０】 〔式中Ｒは一般式（Ｉ）におけると同じものを示し、Ｘ
はヒドロキシ基、ハロゲン原子又は炭素数１〜４のアル
コキシ基を示す〕で表される５−アルコキシイソフタル
酸又はその誘導体と重縮合させることを特徴とする前記
一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有するポリアミ
ド樹脂の製造法に関する。

【０００６】また、本発明は、一般式（ＩＶ）

【化１１
】 〔式中Ｒ′はｎ−Ｃ６Ｈ１３，ｎ−Ｃ１１Ｈ２３，ｎ−
Ｃ１２Ｈ２５又はｎ−Ｃ１８Ｈ３７、を示す〕で表され
る５−アルコキシイソフタル酸に関する。

【０００７】また、本発明は、一般式（Ｖ）

【化１２】 で表される５−ヒドロキシイソフタル酸に一般式（ＶＩ
）

【化１３】 Ｒ′−Ｘ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　（ＶＩ）〔式中Ｒ′は一般式（
ＩＶ）におけると同じものであり、Ｘはハロゲン原子を
示す〕で表されるハロゲン化アルキルを作用させること
を特徴とする一般式（ＩＶ）

【化１４】 〔式中Ｒ′は前記におけると同じものを示す〕で表され
る５−アルコキシイソフタル酸の製造法に関する。

【０００８】本発明のポリアミド樹脂は、前記一般式（
Ｉ）で表される繰り返し単位を有するものである。一般
式（Ｉ）におけるＡｒは、芳香族ジアミンのアミノ基を
除いた二価の残基であるが、この芳香族ジアミンとして
は、後述の一般式（ＩＩ）で表される芳香族ジアミンと
して例示したものをあげることができる。一般式（Ｉ）
における直鎖又は分岐鎖アルキル基Ｒの炭素原子数は、
１〜３０であるが、６〜１８であることが好ましい。３
０を越えると、耐熱性が低下する。前記アルキル基とし
ては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、
イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ
ｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキ
シル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル
基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、
オクタデシル基、エイコシル基、トリアコンチル基等が
挙げられる。

【０００９】一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有
するポリアミド樹脂は、該樹脂０．２ｇをジメチルホル
ムアミドに溶解し、１００ｍｌとした溶液の３０℃にお
ける還元粘度が０．２〜５．０ｄｌ／ｇであるものが好
ましい。この粘度が低すぎると、樹脂の機械的強度が低
下する傾向があり、高すぎると、樹脂の有機溶剤溶解性
が劣る傾向がある。

【００１０】なお、本明細書において還元粘度（ηＳＰ
／ｃ）とは次式により求められる。

【数１】 〔式中η及びη０はそれぞれ溶液の粘度及び溶剤の粘度
を示し、ウベローデ型希釈型毛細管粘度計を用いて測定
したときの溶液及び溶媒の流下時間をそれぞれｔ及びｔ
０とした場合、η／η０＝ｔ／ｔ０であり、ｃは溶液の
樹脂濃度（ｇ／ｄｌ）である〕。

【００１１】本発明のポリアミド樹脂は、Ｎ−メチル−
２−ピロリドン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホル
ムアミド等の極性溶剤に良好に溶解する。

【００１２】本発明のポリアミド樹脂は、例えば、前記
一般式（ＩＩ）で表される芳香族ジアミンを一般式（Ｉ
ＩＩ）で表される５−アルコキシイソフタル酸又はその
誘導体と重縮合させることによって製造できる。

【００１３】一般式（ＩＩ）で表される芳香族ジアミン
としては、例えば、ｍ−トリレンジアミン、ｍ−フェニ
レンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、５−クロル−
ｍ−フェニレンジアミン、４，４′−ジアミノジフェニ
ルエーテル、３，３′−ジメチル−４，４′−ジアミノ
ジフェニルエーテル、３，３′−ジメトキシ−４，４′
−ジアミノジフェニルエーテル、３，３′−ジアミノジ
フェニルエーテル、３，４′−ジアミノジフェニルエー
テル、４，４′−ベンジジン、４，４′−ジアミノジフ
ェニルチオエーテル、３，３′−ジアミノジフェニルチ
オエーテル、４，４′−ジアミノベンゾフェノン、３，
３′−ジアミノジフェニルメタン、４，４′−ジアミノ
ジフェニルメタン、２，２′−ビス（４−アミノフェニ
ル）プロパン、２，２′−ビス（３−アミノフェニル）
プロパン、４，４′−ジアミノジフェニルスルホン、４
，４′−ジアミノジフェニルスルホキシド、３，３′−
ジアミノジフェニルスルホン、３，３′−ジアミノビフ
ェニル、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼ
ン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、
１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，
４′−〔１，３−フェニレンビス（１−メチルエチリデ
ン）〕、４，４′−〔１，４−フェニレンビス（１−メ
チルエチリデン）〕、２，２−ビス〔４−（４−アミノ
フェノキシ）フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔３−
メチル−４−（アミノフェノキシ）フェニル〕プロパン
、２，２−ビス〔３−クロロ−４−（４−アミノフェノ
キシ）フェニル〕プロパン、１，１−ビス〔４−（４−
アミノフェノキシ）フェニル〕エタン、ビス〔４−（４
−アミノフェノキシ）フェニル〕メタン、３，３′−ジ
メトキシ−４，４′−ジアミノビフェニル、ビス〔４−
（４−アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、ビス〔
４−（３−アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、２
，２−ビス〔４−（３−アミノフェノキシ）フェニル〕
プロパン、４，４′−ビス（４−アミノフェノキシ）ビ
フェニル、２，２−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ
）フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、９，９−ビス（
４−アミノフェニル）フルオレン等が挙げられる。

【００１４】上記のような芳香族ジアミンとともに、ヘ
キサメチレンジアミン、エチレンジアミン等の脂肪族ジ
アミン、１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメ
チルジシロキサン、１，３−ビス（４−アミノフェニル
）テトラメチルジシロキサン等のシロキサンジアミンな
どをジアミン成分として併用してもよいが、その場合は
、全ジアミンに対して３０モル％以下で使用することが
好ましい。これらが多すぎると、耐熱性が低下する傾向
がある。

【００１５】前記の一般式（ＩＩＩ）で表される５−ア
ルコキシイソフタル酸又はその誘導体における５−アル
コキシイソフタル酸としては、例えば、５−ｎ−ヘキシ
ルオキシイソフタル酸、５−ｎ−ドデシルオキシイソフ
タル酸、５−ｎ−オクタデシルオキシイソフタル酸等が
挙げられる。５−アルコキシイソフタル酸は、Ｊ．Ｐｏ
ｌｙｍ．Ｓｃｉ．Ｐａｒｔ　　Ａ−１、７卷３０２０（
１９６９）に記載されている方法に準じて製造すること
ができる。また、これらの５−アルコキシイソフタル酸
の誘導体としては、例えば、ジクロリド、ジブロミド等
のジハライド、例えば、メチルエステル、エチルエステ
ル等のジエステルなどが挙げられる。ジエステルにおけ
るアルコキシ基（一般式（ＩＩＩ）中のＸにおけるアル
コキシ基）の炭素原子数は１〜４である必要がある。炭
素原子数が４より多くなると、反応性が低下する。

【００１６】一般式（ＩＩＩ）で表される５−アルコキ
シイソメタル酸及びその誘導体のうちの一部のものが一
般式（ＩＶ）で表される５−アルコキシイソフタル酸で
ある。

【００１７】一般式（ＩＶ）で表される５−アルコキシ
イソフタル酸の製造法は特に限定的ではないが、以下に
示すような調製法が好適である。すなわち、一般式（Ｖ
）

【化１５】 で示される５−ヒドロキシイソフタル酸をメタノール、
エタノール等の低級アルコール（反応温度を高くするた
めに１，２−ジクロロエタン等の高沸点、非反応性、相
溶性溶媒をアルコールと同体積まで混合しても良い）中
、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の酸触媒を用い、室
温から使用した有機溶剤の還流温度までの範囲の温度で
反応させ、一般式（ＶＩＩ）

【化１６】 〔式中Ｒ″はメチル基またはエチル基を示す〕で示され
るジエステルとすることができる。

【００１８】次に、このエステルと一般式（ＶＩ）

【化
１７】 Ｒ′−Ｘ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　（ＶＩ）〔式中、Ｒ′は一般式
（ＩＶ）におけると同じもの、Ｘはハロゲン原子を示す
〕で表されるハロゲン化アルキルを、アセトン等の非プ
ロトン性極性溶媒中で炭酸カリウム等の塩基を用いて、
室温から使用した有機溶剤の還流温度までの範囲の温度
で反応させ、一般式（ＶＩＩＩ）

【化１８】 〔式中、Ｒ′は一般式（ＩＶ）と同意義、Ｒ″は一般式
（ＶＩＩ）と同意義〕で表される５−アルコキシイソフ
タル酸ジエステルとすることができる。

【００１９】つぎに、この５−アルコキシイソフタル酸
ジエステルを水中、水酸化カリウム等の強塩基を用い、
室温から水の還流温度までの範囲の温度で反応させ、一
般式（ＩＶ）

【化１９】 〔式中、Ｒ′は前述におけると同じものを示す〕で表さ
れる５−アルコキシイソフタル酸を得ることができる。

【００２０】ジカルボン酸成分として、前記一般式（Ｉ
ＩＩ）で表される５−アルコキシイソフタル酸又はその
誘導体とともに、テレフタル酸、イソフタル酸、４，４
′−ジフェニルエーテルジカルボン酸、４，４′−ジフ
ェニルカルボン酸、１，５−ナフタリンジカルボン酸、
２，６−ナフタリンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン
酸を用いてもよい。これらは、全カルボン酸成分に対し
て５０モル％以下で使用することが好ましい。これが多
すぎると、有機溶剤溶解性が低下する傾向がある。 また、ジカルボン酸成分としてアジピン酸、セバシン酸
等の脂肪族ジカルボン酸を全カルボン酸成分に対して５
０モル％以下で用いてもよい。脂肪族ジカルボン酸が多
すぎると、耐熱性が低下する傾向がある。

【００２１】上記の一般式（ＩＩ）で表される芳香族ジ
アミンと上記一般式（ＩＩＩ）で表される５−アルコキ
シイソフタル酸又はその誘導体とを重縮合させるが、こ
の重縮合方法としては、特に制限はなく、例えば低温重
縮合法、直接重縮合法、活性エステル法など採用するこ
とができる。

【００２２】低温重縮合法を採用する場合には、一般式
（ＩＩ）で表される芳香族ジアミン１当量に対して一般
式（ＩＩＩ）で表される５−アルコキシイソフタル酸の
ジハライドを好ましくは０．９〜１．２当量使用し、ト
リエチルアミン、酸化プロピレン、スチレンオキシド、
シクロヘキセンオキシド等の１，２−エポキシドなどの
酸受容剤の存在下、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメ
チルアセトアミド等の非反応性極性溶剤中でマイナス十
数℃から、使用した有機溶剤の還流温度までの範囲の温
度で反応させることができる。

【００２３】また、直接重縮合法を採用する場合には、
一般式（ＩＩ）で表される芳香族ジアミンと一般式（Ｉ
ＩＩ）で表される５−アルコキシイソフタル酸を当量又
はほぼ当量で使用し、トリフェニルホスファイト、三塩
化リン、縮合リン酸エステル等のリン系触媒及びピリジ
ン又は上記と同様の非反応性極性溶剤中で室温から使用
した有機溶剤の還流温度までの範囲の温度で反応させる
ことができる。この場合、リン系触媒は、上記ジカルボ
ン酸又は上記芳香族ジアミンと当量又はほぼ当量で使用
され、ピリジン又は有機溶剤は、上記ジカルボン酸又は
上記芳香族ジアミンに対して１０モル％以上使用するの
が好ましい。

【００２４】また、活性エステル法を採用する場合には
、一般式（ＩＩＩ）で表される５−アルコキシイソフタ
ル酸のジハライドと１−ヒドロキシベンゾトリアゾール
との反応によりベンゾトリアジルエステルを製造し、こ
のエステルと上記一般式（ＩＩ）で表される芳香族ジア
ミンを当量又はほぼ当量使用し、上記したのと同様の非
反応性極性有機溶剤中で室温又はそれ以上の温度で反応
させることができる。

【００２５】いずれかの方法で得えられた反応液をメタ
ノール等の低級アルコール、水等の上記有機溶剤と相溶
性であって、樹脂に対して貧溶媒である溶剤の大過剰に
注いで、沈殿物を得る。これをろ別し、乾燥することに
よって本発明のポリアミド樹脂を回収することができる
。

【００２６】本発明のポリアミド樹脂は、脂肪族側鎖を
有しており、その嵩高さのために従来の芳香族ポリアミ
ドに比較してはるかに優れた有機溶剤溶解性を有し、他
の溶剤可溶性の樹脂と同様にキャスト法によりフィルム
、塗膜などに成膜することができ、そのフィルム、塗膜
などは、優れた耐熱性を示し、機械的性質にも優れ、電
子絶縁材料、耐熱性接着剤、高温用材料として使用する
のに好適である。

【００２７】

【実施例】次に、実施例により本発明を説明する。

【００２８】実施例１リービッヒ冷却管、温度計を付け
た三口フラスコに５−ヒドロキシイソフタル酸１００ｇ
（０．５５ｍｏｌ）を入れ、メタノール３００ｍｌ、１
，２−ジクロロエタン３００ｍｌ、硫酸５０ｍｌを添加
し懸濁させた。懸濁液を加熱撹拌すると５−ヒドロキシ
イソフタル酸は完全に溶解した。１日加熱還流し、反応
終了後メタノールを減圧留去し析出した白色固形物をジ
エチルエーテルに溶解した。このジエチルエーテル溶液
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧で溶媒を留去
し、得られた白色結晶を再結晶（メタノール／ヘキサン
）により精製し、５−ヒドロキシイソフタル酸ジメチル
エステルを得た。 収量　　１０４．１ｇ　　収率　　９０．２％

【００２
９】つぎにリービッヒ冷却管、温度計を付けた三口フラ
スコに５−ヒドロキシイソフタル酸ジメチルエステル５
０ｇ（０．２４ｍｏｌ）、臭化ヘキシル５０ｇ（０．３
７ｍｏｌ）、炭酸カリウム３５ｇ（０．２５ｍｏｌ）、
ヨウ化カリウム０．２ｇ（０．００１２ｍｏｌ）を入れ
、アセトン５００ｍｌに懸濁した。この懸濁液を１日加
熱還流し、反応終了後、沈殿物を濾過して除き、溶媒を
減圧留去した。得られた５−ヘキシルオキシイソフタル
酸ジメチルエステルは、精製せずに次の反応に用いた。

【００３０】リービッヒ冷却管、温度計を付けた三口フ
ラスコに前述で得られた５−ヘキシルオキシイソフタル
酸ジメチルエステルを入れ、水酸化カリウム５０ｇ（０
．８９ｍｏｌ）の水溶液（２５０ｍｌ）に懸濁した。７
時間加熱還流し、反応終了後この水溶液を塩化メチレン
で洗浄した。水層を濃塩酸でｐＨ１に調整し、硫酸アン
モニウムを用いて塩析しながらジエチルエーテルで抽出
した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。溶媒を減圧で留去し、得られた白色結晶
を再結晶（アセトン）により精製し、５−ｎ−ヘキシル
オキシイソフタル酸を得た。

【００３１】収量５４．８ｇ　　収率８６．５％（５−
ヒドロキシイソフタル酸ジメチルエステルから）ｍｐ（
℃）２３４〜２３８ １Ｈ−ＮＭＲ（６０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）０．６−
２．０（ｂｒ，１１Ｈ），３．８−４．３（ｂｒ，２Ｈ
），７．６９（ｓ，２Ｈ），８．１４（ｓ，１Ｈ）ＩＲ
（ＫＢｒ，ｃｍ−１）２９５４，２６４２，２５７１，
１７１１，１５９７，１４６６，１４１６，１３１１，
１２７７，１０４７

【００３２】実施例２臭化ヘキシル５０ｇ（０．３７ｍ
ｏｌ）の代わりに臭化ウンデシル８７ｇ（０．３７ｍｏ
ｌ）を使用した以外は、実施例１と同様の操作を行い、
白色結晶の５−ウンデシルオキシイソフタル酸を得た。

【００３３】収量６３．３ｇ　　収率７８．４％（５−
ヒドロキシイソフタル酸ジメチルエステルから）ｍｐ（
℃）１８９〜１９４ １Ｈ−ＮＭＲ（６０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）０．６−
２．０（ｂｒ，２１Ｈ），３．８−４．２（ｂｒ，２Ｈ
），７．６０（ｓ，２Ｈ），８．０４（ｓ，１Ｈ）ＩＲ
（ＫＢｒ，ｃｍ−１）２９２７，２６３４，２５６５，
１７０９，１５９３，１４６６，１４１２，１３０８，
１２７３，９１４

【００３４】実施例３臭化ヘキシル５０ｇ（０．３７ｍ
ｏｌ）の代わりに臭化ラウリル９２ｇ（０．３７ｍｏｌ
）を使用した以外は、実施例１と同様の操作を行い、白
色結晶の５−ドデシルオキシイソフタル酸を得た。

【００３５】収量３２．３ｇ　　収率３８．４％（５−
ヒドロキシイソフタル酸ジメチルエステルから）ｍｐ（
℃）１７３〜１７６ １Ｈ−ＮＭＲ（６０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）０．６−
２．０（ｂｒ，２３Ｈ），３．８−４．２（ｂｒ，２Ｈ
），７．５５（ｓ，２Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ）ＩＲ
（ＫＢｒ，ｃｍ−１）２９２０，２６３６，２５６１，
１６９５，１５９７，１４６６，１３０９，１２７７，
１０５７

【００３６】実施例４臭化ヘキシル５０ｇ（０．３７ｍ
ｏｌ）の代わりに臭化ステアリル１２３ｇ（０．３７ｍ
ｏｌ）を使用した以外は、実施例１と同様の操作を行い
、白色結晶の５−オクタデシルオキシイソフタル酸を得
た。

【００３７】収量９３．１ｇ　　收率８３．８％（５−
ヒドロキシイソフタル酸ジメチルエステルから）ｍｐ（
℃）１５７〜１６１ １Ｈ−ＮＭＲ（６０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）０．７−
２．０（ｂｒ，３５Ｈ），３．８−４．３（ｂｒ，２Ｈ
），７．７４（ｓ，２Ｈ），８．１８，ｓ，１Ｈ）ＩＲ
（ＫＢｒ，ｃｍ−１）２９１８，２６３８，２５６７，
１７０７，１６９５，１５９７，１４７０，１４２７，
１３１１，１２７９，１０５７

【００３８】実施例５撹拌装置、窒素導入管及び温度計
を備えた四口フラスコに窒素下に２，２−ビス〔４−（
４−アミノフェノキシ）フェニル〕プロパン６．０７ｇ
（１４．８ミリモル）及び酸化プロピレン２．６ｇ（４
４．８ミリモル）を入れ、Ｎ−メチル−２−ピロリドン
４０ｍｌに溶解した。撹拌しながら、５−ｎ−ヘキシル
オキシイソフタル酸クロリド４．５０ｇ（１４．８ミリ
モル）を少しずつ添加した。このとき、系内の温度は３
０℃以下に保った。反応系の粘度が高くなるので、所望
の粘度になったら撹拌を停止し、反応液を大量の水に注
ぎ、ポリマーを単離し、１００℃で減圧乾燥した。

【００３９】このようにして得られたポリアミド樹脂の
還元粘度、収率、有機溶剤溶解性及びフィルム作成後の
耐熱性の指標であるガラス転移温度を第１表に示した。 また、上記ポリアミド樹脂の赤外線吸収スペクトル（フ
ィルム法）を図１に示した。図１から明らかなとおり、
１６５３ｃｍ−１にアミド結合のカルボニルの吸収及び
３３０４ｃｍ−１にＮ−Ｈ伸縮振動に基づく吸収が認め
られ、アミド結合が形成されていることが確認できた。

【００４０】実施例６ ２，２−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル
〕プロパン６．０７ｇ（１４．８ミリモル）の代わりに
４，４′−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル５
．４５ｇ（１４．８ミリモル）を使用した以外は、実施
例５と同様の操作を行った。試験結果を表１に示した。 また、得られたポリアミド樹脂の赤外線吸収スペクトル
を図２に示した。

【００４１】実施例７ ２，２−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル
〕プロパン６．０７ｇ（１４．８ミリモル）の代わりに
ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕スルホ
ン６．４２ｇ（１４．８ミリモル）を使用した以外は、
実施例５と同様の操作を行った。試験結果を表１に示し
た。また、得られたポリアミド樹脂の赤外線吸収スペク
トルを図３に示した。

【００４２】実施例８ ２，２−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル
〕プロパン６．０７ｇ（１４．８ミリモル）の代わりに
１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン４．３
３ｇ（１４．８ミリモル）を使用した以外は、実施例５
と同様の操作を行った。試験結果を表１に示した。また
、得られたポリアミド樹脂の赤外線吸収スペクトルを図
４に示した。

【００４３】実施例９ ２，２−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル
〕プロパン６．０７ｇ（１４．８ミリモル）の代わりに
１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン４．３
３ｇ（１４．８ミリモル）を使用した以外は、実施例５
と同様の操作を行った。試験結果を表１に示した。また
、得られたポリアミド樹脂の赤外線吸収スペクトルを図
５に示した。

【００４４】実施例１０ ２，２−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル
〕プロパン６．０７ｇ（１４．８ミリモル）の代わりに
４，４′−ジアミノジフェニルエーテル２．９６ｇ（１
４．８ミリモル）を使用した以外は、実施例５と同様の
操作を行った。試験結果を表１に示した。また、得られ
たポリアミド樹脂の赤外線吸収スペクトルを図６に示し
た。

【００４５】実施例１１ ２，２−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル
〕プロパン６．０７ｇ（１４．８ミリモル）の代わりに
ｍ−フェニレンジアミン１．６０ｇ（１４．８ミリモル
）を使用した以外は、実施例５と同様の操作を行った。 試験結果を表１に示した。また、得られたポリアミド樹
脂の赤外線吸収スペクトルを図７に示した。

【００４６】実施例１２ ２，２−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル
〕プロパン６．０７ｇ（１４．８ミリモル）の代わりに
ｐ−フェニレンジアミン１．６０ｇ（１４．８ミリモル
）を使用した以外は、実施例５と同様の操作を行った。 試験結果を表１に示した。また、得られたポリアミド樹
脂の赤外線吸収スペクトルを図８に示した。

【００４７】なお、表１に示したガラス転移温度は、熱
機械分析による熱膨張係数の変位温度を、昇温速度１０
℃／分で測定したものである。溶解性は、ポリアミド樹
脂５００ｍｇを１ｍｌの有機溶剤と混合し、下記の基準
で評価した。 ＋………樹脂が可溶した。 ±………樹脂が膨潤した。 −………樹脂は不溶であった。

【００４８】

【表１】

【００４９】

【発明の効果】本発明の５−アルコキシイソフタル酸を
用いたポリアミド樹脂は、耐熱性、有機溶剤溶解性、成
膜性及び機械的性質に優れており、射出成形、押出成形
等の成形性も良好で、電気絶縁材料、耐熱性接着剤、高
温用材料などに好適である。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例５で得られたポリアミド樹脂の赤外線吸
収スペクトル。

【図２】実施例６で得られたポリアミド樹脂の赤外線吸
収スペクトル。

【図３】実施例７で得られたポリアミド樹脂の赤外線吸
収スペクトル。

【図４】実施例８で得られたポリアミド樹脂の赤外線吸
収スペクトル。

【図５】実施例９で得られたポリアミド樹脂の赤外線吸
収スペクトル。

【図６】実施例１０で得られたポリアミド樹脂の赤外線
吸収スペクトル。

【図７】実施例１１で得られたポリアミド樹脂の赤外線
吸収スペクトル。

【図８】実施例１２で得られたポリアミド樹脂の赤外線
吸収スペクトル。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　一般式（Ｉ） 【化１】 〔式中Ａｒは芳香族ジアミンのアミノ基を除いた２価の
   残基を示し、Ｒは炭素原子数１〜３０の直鎖又は分岐鎖
   アルキル基を示す〕で表される繰り返し単位を有するポ
   リアミド樹脂。
2. 【請求項２】　　ポリアミド樹脂０．２ｇをジメチルホ
   ルムアミドに溶解し、１００ｍｌとした溶液の３０℃に
   おける還元粘度が０．２〜５．０ｄｌ／ｇである請求項
   １記載のポリアミド樹脂。
3. 【請求項３】　　一般式（ＩＩ） 【化２】 Ｈ２Ｎ−Ａｒ−ＮＨ２　　　　　　　　　　　　　　　
   　　　　　（ＩＩ）〔式中Ａｒは一般式（Ｉ）における
   と同じものを示す）で表される芳香族ジアミンを一般式
   （ＩＩＩ）【化３】 〔式中Ｒは一般式（Ｉ）におけると同じものを示し、Ｘ
   はヒドロキシ基、ハロゲン原子又は炭素数１〜４のアル
   コキシ基を示す〕で表される５−アルコキシイソフタル
   酸又はその誘導体と重縮合させることを特徴とする請求
   項１記載のポリアミド樹脂の製造法。
4. 【請求項４】　　一般式（ＩＶ） 【化４】 〔式中Ｒ′はｎ−Ｃ６Ｈ１３，ｎ−Ｃ１１Ｈ２３，ｎ−
   Ｃ１２Ｈ２５又はｎ−Ｃ１８Ｈ３７、を示す〕で表され
   る５−アルコキシイソフタル酸。
5. 【請求項５】　　一般式（Ｖ） 【化５】 で表される５−ヒドロキシイソフタル酸に一般式（ＶＩ
   ） 【化６】Ｒ′−Ｘ　　　　　　　　　　　　　　　　　
   　　　　　　　　　　　　　　　（ＶＩ）〔式中Ｒ′は
   一般式（ＩＶ）におけると同じものであり、Ｘはハロゲ
   ン原子を示す〕で表されるハロゲン化アルキルを作用さ
   せることを特徴とする一般式（ＩＶ） 【化７】 〔式中Ｒ′は前記一般式（ＩＶ）におけると同じものを
   示す〕で表される５−アルコキシイソフタル酸の製造法
   。