JPH04226996A - 新規ホスホベタイン及びその製造方法 - Google Patents
新規ホスホベタイン及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH04226996A JPH04226996A JP3114686A JP11468691A JPH04226996A JP H04226996 A JPH04226996 A JP H04226996A JP 3114686 A JP3114686 A JP 3114686A JP 11468691 A JP11468691 A JP 11468691A JP H04226996 A JPH04226996 A JP H04226996A
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- Japan
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- phosphobetaine
- general formula
- phosphate
- formula
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- Emulsifying, Dispersing, Foam-Producing Or Wetting Agents (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、毛髪、皮膚化粧品等の
基剤、保湿剤等として有用な新規ホスホベタイン及びそ
の製造方法に関する。
基剤、保湿剤等として有用な新規ホスホベタイン及びそ
の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
毛髪や皮膚にしっとりした感触を付与する目的で、シャ
ンプー、リンス、化粧品等に保湿剤を配合することが行
われている。これまでに実用上使用されている保湿剤と
しては、プロピレングリコール、グリセリン、尿素、ソ
ルビトール、アルコールのアルキレンオキサイド付加物
などがある。しかし、これらは保湿性、吸湿性、吸湿速
度又は感触等の点で満足し得るものではなかった。また
、ヒアルロン酸などの天然多糖成分は保湿性能や感触の
点で比較的優れているが、これらが高価であるゆえ、比
較的高価な化粧品などにその使用範囲が限定されるとい
う欠点があった。
毛髪や皮膚にしっとりした感触を付与する目的で、シャ
ンプー、リンス、化粧品等に保湿剤を配合することが行
われている。これまでに実用上使用されている保湿剤と
しては、プロピレングリコール、グリセリン、尿素、ソ
ルビトール、アルコールのアルキレンオキサイド付加物
などがある。しかし、これらは保湿性、吸湿性、吸湿速
度又は感触等の点で満足し得るものではなかった。また
、ヒアルロン酸などの天然多糖成分は保湿性能や感触の
点で比較的優れているが、これらが高価であるゆえ、比
較的高価な化粧品などにその使用範囲が限定されるとい
う欠点があった。
【０００３】即ち、従来から保湿性に優れしかも安価な
、シャンプー、リンス及び化粧品等に配合して使用でき
る化合物の開発が望まれていた。
、シャンプー、リンス及び化粧品等に配合して使用でき
る化合物の開発が望まれていた。
【０００４】
【課題を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者らは鋭意研究を行った結果、保湿性に優れしかも
安価である、毛髪、皮膚化粧品等の基剤、保湿剤等とし
て有用な新規ホスホベタイン及びその製造方法を見出し
、本発明を完成した。
発明者らは鋭意研究を行った結果、保湿性に優れしかも
安価である、毛髪、皮膚化粧品等の基剤、保湿剤等とし
て有用な新規ホスホベタイン及びその製造方法を見出し
、本発明を完成した。
【０００５】即ち、本発明は、一般式（Ｉ）で示される
ホスホベタインを提供するものである。
ホスホベタインを提供するものである。
【０００６】
【化５】
【０００７】ここで、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３は同一又は異な
って水素原子、炭素数１〜４のアルキル基もしくはアル
ケニル基、又は炭素数１〜４のヒドロキシアルキル基も
しくはヒドロキシアルケニル基を示し、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ
３のうち少なくとも一つは炭素数１〜４のヒドロキシア
ルキル基もしくはヒドロキシアルケニル基である。Ｍ
は、同一又は異なって水素原子又は陽イオンを示す。ｍ
は０以上の数を示し、ｎ は１以上の数を示す。但し
、 ｍ＋ｎ は単糖、オリゴ糖、糖アルコール又はグリ
セリンがそれぞれ有する水酸基の数を超えない数を示す
。〕また、本発明は、一般式（ＩＩ）
って水素原子、炭素数１〜４のアルキル基もしくはアル
ケニル基、又は炭素数１〜４のヒドロキシアルキル基も
しくはヒドロキシアルケニル基を示し、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ
３のうち少なくとも一つは炭素数１〜４のヒドロキシア
ルキル基もしくはヒドロキシアルケニル基である。Ｍ
は、同一又は異なって水素原子又は陽イオンを示す。ｍ
は０以上の数を示し、ｎ は１以上の数を示す。但し
、 ｍ＋ｎ は単糖、オリゴ糖、糖アルコール又はグリ
セリンがそれぞれ有する水酸基の数を超えない数を示す
。〕また、本発明は、一般式（ＩＩ）
【０００８】
【化６】
【０００９】で表されるリン酸エステルに、一般式（Ｉ
ＩＩ）
ＩＩ）
【００１０】
【化７】
【００１１】で表されるエポキシ化合物を反応させるこ
とを特徴とする、前記一般式（Ｉ）で表されるホスホベ
タインの製造方法を提供するものである。
とを特徴とする、前記一般式（Ｉ）で表されるホスホベ
タインの製造方法を提供するものである。
【００１２】上記一般式（Ｉ）中の Ｚは単糖、オリゴ
糖、糖アルコール又はグリセリンよりｍ＋ｎ 個（ｍ
及びｎ は前記の意味を示す）の水酸基を除いた残基で
あり、この場合において単糖の例としては、アロース、
アルトロース、グルコース、マンノース、グロース、イ
ドース、ガラクトース、タロース、フルクトース、イノ
シトール、リボース、アラビノース、キシロース、リキ
ソース、リブロース等が挙げられる。またこれら単糖の
水酸基が、少なくとも１つを除いて、例えばアシル化、
エーテル化、アルキレンオキサイド付加、アセタール化
など適当な有機残基で修飾されたものでもよい。
糖、糖アルコール又はグリセリンよりｍ＋ｎ 個（ｍ
及びｎ は前記の意味を示す）の水酸基を除いた残基で
あり、この場合において単糖の例としては、アロース、
アルトロース、グルコース、マンノース、グロース、イ
ドース、ガラクトース、タロース、フルクトース、イノ
シトール、リボース、アラビノース、キシロース、リキ
ソース、リブロース等が挙げられる。またこれら単糖の
水酸基が、少なくとも１つを除いて、例えばアシル化、
エーテル化、アルキレンオキサイド付加、アセタール化
など適当な有機残基で修飾されたものでもよい。
【００１３】さらにオリゴ糖の例としては、マルトース
、イソマルトース、マルトトリオース、マルトテトラオ
ース、マルトヘプタオースなどのマルトオリゴ糖、シク
ロデキストリン、セロビオースなどのセロオリゴ糖、マ
ンノオリゴ糖、フルクトオリゴ糖、ショ糖、乳糖などが
挙げられる。またこれらオリゴ糖の水酸基が、少なくと
も１つを除いて、例えばアシル化、エーテル化、アルキ
レンオキサイド付加、アセタール化など適当な有機残基
で修飾されたものでもよい。
、イソマルトース、マルトトリオース、マルトテトラオ
ース、マルトヘプタオースなどのマルトオリゴ糖、シク
ロデキストリン、セロビオースなどのセロオリゴ糖、マ
ンノオリゴ糖、フルクトオリゴ糖、ショ糖、乳糖などが
挙げられる。またこれらオリゴ糖の水酸基が、少なくと
も１つを除いて、例えばアシル化、エーテル化、アルキ
レンオキサイド付加、アセタール化など適当な有機残基
で修飾されたものでもよい。
【００１４】さらに糖アルコールの例としては、例えば
単糖を還元して得られるソルビトール、マンニトール、
ガラクチトール、キシリトール、アラビニトール、リビ
トールなどや、オリゴ糖を還元して得られるマルチトー
ルなどが挙げられる。またこれら糖アルコールの水酸基
が、少なくとも１つを除いて、例えばアシル化、エーテ
ル化、アルキレンオキサイド付加、アセタール化など適
当な有機残基で修飾されたものでもよい。
単糖を還元して得られるソルビトール、マンニトール、
ガラクチトール、キシリトール、アラビニトール、リビ
トールなどや、オリゴ糖を還元して得られるマルチトー
ルなどが挙げられる。またこれら糖アルコールの水酸基
が、少なくとも１つを除いて、例えばアシル化、エーテ
ル化、アルキレンオキサイド付加、アセタール化など適
当な有機残基で修飾されたものでもよい。
【００１５】前記式（Ｉ）で示される本発明化合物にお
いて、Ｒ１， Ｒ２， Ｒ３は同一又は異なって水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基もしくはアルケニル基、
又は炭素数１〜４のヒドロキシアルキル基もしくはヒド
ロキシアルケニル基を示し、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３のうち少
なくとも一つは炭素数１〜４のヒドロキシアルキル基も
しくはヒドロキシアルケニル基である。炭素数１〜４の
ヒドロキシアルキル基もしくはヒドロキシアルケニル基
としては、例えば、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチ
ル、ヒドロキシプロピル、ジヒドロキシプロピル、ヒド
ロキシブチル、ヒドロキシプロペニル、ヒドロキシブテ
ニル等の基が挙げられる。また、炭素数１〜４のアルキ
ル基もしくはアルケニル基としては、例えば、メチル、
エチル、プロピル、ブチル、プロペニル、ブテニル等の
基が挙げられる。
いて、Ｒ１， Ｒ２， Ｒ３は同一又は異なって水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基もしくはアルケニル基、
又は炭素数１〜４のヒドロキシアルキル基もしくはヒド
ロキシアルケニル基を示し、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３のうち少
なくとも一つは炭素数１〜４のヒドロキシアルキル基も
しくはヒドロキシアルケニル基である。炭素数１〜４の
ヒドロキシアルキル基もしくはヒドロキシアルケニル基
としては、例えば、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチ
ル、ヒドロキシプロピル、ジヒドロキシプロピル、ヒド
ロキシブチル、ヒドロキシプロペニル、ヒドロキシブテ
ニル等の基が挙げられる。また、炭素数１〜４のアルキ
ル基もしくはアルケニル基としては、例えば、メチル、
エチル、プロピル、ブチル、プロペニル、ブテニル等の
基が挙げられる。
【００１６】前記一般式（Ｉ）で示される本発明のホス
ホベタインは、前記一般式（ＩＩ）で示されるリン酸エ
ステルと、前記一般式（ＩＩＩ）で示されるエポキシ化
合物とを反応させることにより得られるが、一般式（Ｉ
Ｉ）で示されるリン酸エステルとしては、例えばグルコ
ース−１−リン酸、グルコース−６−リン酸、マンノー
ス−１−リン酸、マンノース−６−リン酸、ガラクトー
ス−１−リン酸、ガラクトース−６−リン酸、フルクト
ース−１−リン酸、フルクトース−６−リン酸、フルク
トース−１，６ −ジリン酸、リボース−１−リン酸、
キシロース−５−リン酸、イノシトールリン酸、ショ糖
リン酸、マルトースリン酸、マルトトリオースリン酸、
マルトテトラオースリン酸、マルトペンタオースリン酸
、マルトヘキサオースリン酸、マルトヘプタオースリン
酸、シクロデキストリンリン酸、セロビオースリン酸、
ラクトースリン酸、ソルビトールリン酸、マンニトール
リン酸、ガラクチトールリン酸、キシリトールリン酸、
アラビニトールリン酸、リビトールリン酸、マルチトー
ルリン酸、グリセロリン酸等の無機塩または有機塩が挙
げられ、一般式（ＩＩ）におけるＭは特に限定されない
が、例えば水素原子又はアルカリ金属、アンモニウム基
、アルキルアンモニウム基、酸性アミノ酸基、トリアル
カノールアミンの陽イオン残基などが挙げられる。
ホベタインは、前記一般式（ＩＩ）で示されるリン酸エ
ステルと、前記一般式（ＩＩＩ）で示されるエポキシ化
合物とを反応させることにより得られるが、一般式（Ｉ
Ｉ）で示されるリン酸エステルとしては、例えばグルコ
ース−１−リン酸、グルコース−６−リン酸、マンノー
ス−１−リン酸、マンノース−６−リン酸、ガラクトー
ス−１−リン酸、ガラクトース−６−リン酸、フルクト
ース−１−リン酸、フルクトース−６−リン酸、フルク
トース−１，６ −ジリン酸、リボース−１−リン酸、
キシロース−５−リン酸、イノシトールリン酸、ショ糖
リン酸、マルトースリン酸、マルトトリオースリン酸、
マルトテトラオースリン酸、マルトペンタオースリン酸
、マルトヘキサオースリン酸、マルトヘプタオースリン
酸、シクロデキストリンリン酸、セロビオースリン酸、
ラクトースリン酸、ソルビトールリン酸、マンニトール
リン酸、ガラクチトールリン酸、キシリトールリン酸、
アラビニトールリン酸、リビトールリン酸、マルチトー
ルリン酸、グリセロリン酸等の無機塩または有機塩が挙
げられ、一般式（ＩＩ）におけるＭは特に限定されない
が、例えば水素原子又はアルカリ金属、アンモニウム基
、アルキルアンモニウム基、酸性アミノ酸基、トリアル
カノールアミンの陽イオン残基などが挙げられる。
【００１７】一般式（ＩＩＩ）で示されるエポキシ化合
物は例えば公知の方法に従って、対応するアルカノール
アミンとエピハロヒドリンとの反応により容易に製造す
ることができる。一般式（ＩＩＩ）における
物は例えば公知の方法に従って、対応するアルカノール
アミンとエピハロヒドリンとの反応により容易に製造す
ることができる。一般式（ＩＩＩ）における
【００１８
】
】
【化８】
【００１９】は、特に限定されないが、例えばハロゲン
原子、アルキル硫酸エステルの陰イオン基などが挙げら
れる。
原子、アルキル硫酸エステルの陰イオン基などが挙げら
れる。
【００２０】本発明の反応の具体例を示せば、例えば次
の通りである。
の通りである。
【００２１】
【化９】
【００２２】（式中、Ｒ１， Ｒ２， Ｒ３は前記
の意味を示す。）本発明の製造方法を実施するには、一
般式（ＩＩ）で示されるリン酸エステルのリン酸基に対
して ０．１〜１０倍モルの、好ましくは１〜５倍モル
の一般式（ＩＩＩ）で示されるエポキシ化合物を反応さ
せる。反応は不活性溶媒の存在下において、３０〜１２
０ ℃、好ましくは４０〜９０℃の温度で行われる。
の意味を示す。）本発明の製造方法を実施するには、一
般式（ＩＩ）で示されるリン酸エステルのリン酸基に対
して ０．１〜１０倍モルの、好ましくは１〜５倍モル
の一般式（ＩＩＩ）で示されるエポキシ化合物を反応さ
せる。反応は不活性溶媒の存在下において、３０〜１２
０ ℃、好ましくは４０〜９０℃の温度で行われる。
【００２３】不活性溶媒としては、例えば、水、メタノ
ール、エタノール、イソプロパノール、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒もしくはこ
れらから選ばれる二種以上の混合溶媒が使用されるが、
その中で水もしくは水と低級アルコールの混合溶媒が特
に好ましい。
ール、エタノール、イソプロパノール、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒もしくはこ
れらから選ばれる二種以上の混合溶媒が使用されるが、
その中で水もしくは水と低級アルコールの混合溶媒が特
に好ましい。
【００２４】反応生成物には、本発明の目的たる一般式
（Ｉ）で示されるホスホベタインの他、副生物としての
無機塩、未反応のリン酸エステルや一般式（ＩＩＩ）で
示されるエポキシ化合物あるいはそのエポキシ開環物が
含まれている。この反応物中の各成分の割合は、使用す
る原料の種類、それらの反応モル比、使用する溶剤の種
類および量、反応温度等の条件に依存する。従って、使
用目的によっては反応生成物をそのまま用いることも可
能であるが、さらに高純度品が必要とされる場合には、
例えば溶媒分別法、イオン交換クロマトグラフィー法や
電気透析法等の公知の精製法により精製することができ
る。
（Ｉ）で示されるホスホベタインの他、副生物としての
無機塩、未反応のリン酸エステルや一般式（ＩＩＩ）で
示されるエポキシ化合物あるいはそのエポキシ開環物が
含まれている。この反応物中の各成分の割合は、使用す
る原料の種類、それらの反応モル比、使用する溶剤の種
類および量、反応温度等の条件に依存する。従って、使
用目的によっては反応生成物をそのまま用いることも可
能であるが、さらに高純度品が必要とされる場合には、
例えば溶媒分別法、イオン交換クロマトグラフィー法や
電気透析法等の公知の精製法により精製することができ
る。
【００２５】
【発明の効果】以上の如くして得られる本発明の新規ホ
スホベタイン（Ｉ）は優れた保湿性を有しており、シャ
ンプー、リンス、化粧品等に使用することができる。
スホベタイン（Ｉ）は優れた保湿性を有しており、シャ
ンプー、リンス、化粧品等に使用することができる。
【００２６】
【実施例】以下に実施例を挙げ、本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
【００２７】実施例１
反応器にα−Ｄ −グルコース−１ −ホスフェートモ
ノナトリウム塩１０５ｇ（０．３モル）と水５００ｇを
入れ、６０℃に昇温した。次に反応系を６０℃に保ちな
がら、グリシジル−２−ヒドロキシエチルジメチルアン
モニウムクロライド１６４ｇ（０．９モル）を１５０ｇ
の水に溶解させた溶液を徐々に滴下した後、６０℃で１
５時間反応させた。反応終了後、減圧下で反応溶媒を除
去した後、残査を１０倍量のエタノールで洗浄し、未反
応のグリシジル−２−ヒドロキシエチルジメチルアンモ
ニウムクロライドとこれのエポキシ開環物を除いた。得
られた粗生成物を水３００ｇに溶解し、イオン交換クロ
マトグラフィー（イオン交換樹脂：ＢＩＯ ＲＡＤ 社
製ＡＧ５０１−Ｘ８） により精製し、α−Ｄ −グル
コピラノース−１−〔２−ヒドロキシ−３−｛ Ｎ−（
２−ヒドロキシエチル） −Ｎ，Ｎ −ジメチルアンモ
ニオ｝プロピル〕ホスフェート８２ｇ を得た（単離収
率６８％）。
ノナトリウム塩１０５ｇ（０．３モル）と水５００ｇを
入れ、６０℃に昇温した。次に反応系を６０℃に保ちな
がら、グリシジル−２−ヒドロキシエチルジメチルアン
モニウムクロライド１６４ｇ（０．９モル）を１５０ｇ
の水に溶解させた溶液を徐々に滴下した後、６０℃で１
５時間反応させた。反応終了後、減圧下で反応溶媒を除
去した後、残査を１０倍量のエタノールで洗浄し、未反
応のグリシジル−２−ヒドロキシエチルジメチルアンモ
ニウムクロライドとこれのエポキシ開環物を除いた。得
られた粗生成物を水３００ｇに溶解し、イオン交換クロ
マトグラフィー（イオン交換樹脂：ＢＩＯ ＲＡＤ 社
製ＡＧ５０１−Ｘ８） により精製し、α−Ｄ −グル
コピラノース−１−〔２−ヒドロキシ−３−｛ Ｎ−（
２−ヒドロキシエチル） −Ｎ，Ｎ −ジメチルアンモ
ニオ｝プロピル〕ホスフェート８２ｇ を得た（単離収
率６８％）。
【００２８】このものは吸湿性のグリース状無色固体で
あり、ＨＰＬＣ（カラム：東ソー社製ＴＳＫ−ＧＥＬ
Ｇ２５００ＰＷ，溶離液：水）純度９９％であった。
あり、ＨＰＬＣ（カラム：東ソー社製ＴＳＫ−ＧＥＬ
Ｇ２５００ＰＷ，溶離液：水）純度９９％であった。
【００２９】１Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ）；δ（ｐｐｍ）３
．２０（ｓ，６Ｈ，ａ）， ３．３９〜３．９４（ｂｒ
ｏａｄ ｍ，１２Ｈ，ｂ）， ４．０５（ｔ，２Ｈ，ｃ
），４．４０（ｂｒｏａｄ，１Ｈ，ｄ）， ５．４５（
ｍ，１Ｈ，ｅ）
．２０（ｓ，６Ｈ，ａ）， ３．３９〜３．９４（ｂｒ
ｏａｄ ｍ，１２Ｈ，ｂ）， ４．０５（ｔ，２Ｈ，ｃ
），４．４０（ｂｒｏａｄ，１Ｈ，ｄ）， ５．４５（
ｍ，１Ｈ，ｅ）
【００３０】
【化１０】
【００３１】ＩＲ（液膜）；図１に示す。
【００３２】質量分析（ＦＡＢ イオン化法）；Ｍ／Ｚ
４０６（Ｍ＋Ｈ）＋ （Ｍ ＝Ｃ１３Ｈ２８Ｏ１１ＮＰ）実施例２ 反応器にα−Ｄ −グルコース−１−ホスフェートモノ
ナトリウム塩１０５ｇ（０．３モル）と水５００ｇを入
れ、６０℃に昇温した。次に反応系を６０℃に保ちなが
ら、グリシジルジ（２−ヒドロキシエチル）メチルアン
モニウムクロライド１９１ｇ（０．９モル）を２００ｇ
の水に溶解させた溶液を徐々に滴下した後、６０℃で１
５時間反応させた。反応終了後、減圧下で反応溶媒を除
去した後、残査を１０倍量のエタノールで洗浄し、未反
応のグリシジルジ（２−ヒドロキシエチル）メチルアン
モニウムクロライドとこれのエポキシ開環物を除いた。 得られた粗生成物を水２００ｇに溶解し、イオン交換ク
ロマトグラフィー（イオン交換樹脂：ＢＩＯ ＲＡＤ社
製ＡＧ５０１−Ｘ８） により精製して、α−Ｄ −グ
ルコピラノース−１−〔３−｛Ｎ，Ｎ −ジ（２−ヒド
ロキシエチル） −Ｎ −メチルアンモニオ｝−２−ヒ
ドロキシプロピル〕ホスフェート５９ｇを得た（単離収
率４５％）。
４０６（Ｍ＋Ｈ）＋ （Ｍ ＝Ｃ１３Ｈ２８Ｏ１１ＮＰ）実施例２ 反応器にα−Ｄ −グルコース−１−ホスフェートモノ
ナトリウム塩１０５ｇ（０．３モル）と水５００ｇを入
れ、６０℃に昇温した。次に反応系を６０℃に保ちなが
ら、グリシジルジ（２−ヒドロキシエチル）メチルアン
モニウムクロライド１９１ｇ（０．９モル）を２００ｇ
の水に溶解させた溶液を徐々に滴下した後、６０℃で１
５時間反応させた。反応終了後、減圧下で反応溶媒を除
去した後、残査を１０倍量のエタノールで洗浄し、未反
応のグリシジルジ（２−ヒドロキシエチル）メチルアン
モニウムクロライドとこれのエポキシ開環物を除いた。 得られた粗生成物を水２００ｇに溶解し、イオン交換ク
ロマトグラフィー（イオン交換樹脂：ＢＩＯ ＲＡＤ社
製ＡＧ５０１−Ｘ８） により精製して、α−Ｄ −グ
ルコピラノース−１−〔３−｛Ｎ，Ｎ −ジ（２−ヒド
ロキシエチル） −Ｎ −メチルアンモニオ｝−２−ヒ
ドロキシプロピル〕ホスフェート５９ｇを得た（単離収
率４５％）。
【００３３】このものは吸湿性のグリース状無色固体で
あり、ＨＰＬＣ（カラム：東ソー社製ＴＳＫ−ＧＥＬ
Ｇ２５００ＰＷ，溶離液：水）純度９９％であった。
あり、ＨＰＬＣ（カラム：東ソー社製ＴＳＫ−ＧＥＬ
Ｇ２５００ＰＷ，溶離液：水）純度９９％であった。
【００３４】１Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ）；δ（ｐｐｍ）３
．２１（ｓ，３Ｈ，ａ）， ３．３８〜３．９７（ｂｒ
ｏａｄ ｍ，１４Ｈ，ｂ）， ４．０４（ｔ，４Ｈ，ｃ
），４．４１（ｂｒｏａｄ，１Ｈ，ｄ）， ５．４５（
ｍ，１Ｈ， ｅ）
．２１（ｓ，３Ｈ，ａ）， ３．３８〜３．９７（ｂｒ
ｏａｄ ｍ，１４Ｈ，ｂ）， ４．０４（ｔ，４Ｈ，ｃ
），４．４１（ｂｒｏａｄ，１Ｈ，ｄ）， ５．４５（
ｍ，１Ｈ， ｅ）
【００３５】
【化１１】
【００３６】質量分析（ＦＡＢ イオン化法）；Ｍ／Ｚ
４３６（Ｍ＋Ｈ）＋ （Ｍ ＝Ｃ１４Ｈ３０Ｏ１２ＮＰ）実施例３ 反応器にフルクトース−１，６ −ジリン酸三ナトリウ
ム塩６水和物４５ｇ（０．０９モル）と水 ２００ｇを
入れ撹拌溶解後６０℃に昇温した。これにグリシジル−
２−ヒドロキシエチルジメチルアンモニウムクロライド
７３ｇ（０．４ モル）を ２００ｇの水に溶解させた
溶液を徐々に滴下し、滴下後６０℃で２０時間反応させ
た。反応終了後、減圧下で反応溶媒を除去し、得られた
残渣を１０倍量のエタノールで３回洗浄して、未反応の
グリシジル−２−ヒドロキシエチルジメチルアンモニウ
ムクロライドとこれのエポキシ開環物を除いた。得られ
た粗生成物を水 ３００ｇに溶解し、イオン交換クロマ
トグラフィー（イオン交換樹脂；ＢＩＯ ＲＡＤ 社製
ＡＧ ５０１−Ｘ８）により精製し、フルクトース
−１，６ −ジ〔２−ヒドロキシ−３−｛Ｎ，Ｎ −ジ
メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アンモニオ｝プ
ロピル〕ホスフェート１８．３ｇを得た（単離収率３２
％）。
４３６（Ｍ＋Ｈ）＋ （Ｍ ＝Ｃ１４Ｈ３０Ｏ１２ＮＰ）実施例３ 反応器にフルクトース−１，６ −ジリン酸三ナトリウ
ム塩６水和物４５ｇ（０．０９モル）と水 ２００ｇを
入れ撹拌溶解後６０℃に昇温した。これにグリシジル−
２−ヒドロキシエチルジメチルアンモニウムクロライド
７３ｇ（０．４ モル）を ２００ｇの水に溶解させた
溶液を徐々に滴下し、滴下後６０℃で２０時間反応させ
た。反応終了後、減圧下で反応溶媒を除去し、得られた
残渣を１０倍量のエタノールで３回洗浄して、未反応の
グリシジル−２−ヒドロキシエチルジメチルアンモニウ
ムクロライドとこれのエポキシ開環物を除いた。得られ
た粗生成物を水 ３００ｇに溶解し、イオン交換クロマ
トグラフィー（イオン交換樹脂；ＢＩＯ ＲＡＤ 社製
ＡＧ ５０１−Ｘ８）により精製し、フルクトース
−１，６ −ジ〔２−ヒドロキシ−３−｛Ｎ，Ｎ −ジ
メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アンモニオ｝プ
ロピル〕ホスフェート１８．３ｇを得た（単離収率３２
％）。
【００３７】１Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ）；δ（ｐｐｍ）３
．１３（ｓ，１２Ｈ，ａ）， ３．３１〜３．９４（ｂ
ｒｏａｄ ｍ，１９Ｈ，ｂ）， ４．０４（ｔ，４Ｈ，
ｃ），４．３５（ｂｒｏａｄ ｍ，２Ｈ，ｄ）
．１３（ｓ，１２Ｈ，ａ）， ３．３１〜３．９４（ｂ
ｒｏａｄ ｍ，１９Ｈ，ｂ）， ４．０４（ｔ，４Ｈ，
ｃ），４．３５（ｂｒｏａｄ ｍ，２Ｈ，ｄ）
【００３８】
【化１２】
【００３９】質量分析（ＦＡＢ イオン化法）；Ｍ／Ｚ
６３１（Ｍ＋Ｈ）＋ （Ｍ ＝Ｃ２０Ｈ４４Ｏ１６Ｎ２Ｐ２）実施例
４ 反応器にα−グリセロリン酸二ナトリウム塩６５ｇ（０
．３ モル）と水 ２５０ｇ及び１Ｎ塩酸３００ ｇを
入れ、撹拌溶解後、６０℃に昇温した。これにグリシジ
ル−２−ヒドロキシエチルジメチルアンモニウムクロラ
イド １０９ｇ（０．６ モル）を １００ｇの水に溶
解させた溶液を徐々に滴下し、滴下後６０℃で１０時間
反応させた。反応終了後、減圧下で反応溶媒を除去し、
得られた残渣を５倍量のエタノールで３回洗浄して未反
応のグリシジル−２−ヒドロキシエチルジメチルアンモ
ニウムクロライドとこれのエポキシ開環物を除いた。得
られた粗生成物を水 ２００ｇに溶解し、イオン交換ク
ロマトグラフィー（イオン交換樹脂；ＢＩＯ ＲＡＤ社
製 ＡＧ ５０１−Ｘ８）により精製し、２，３ −
ジヒドロキシプロピル〔２−ヒドロキシ−３−｛Ｎ，Ｎ
−ジメチル−Ｎ −（２−ヒドロキシエチル）アンモ
ニオ｝プロピル〕ホスフェート４２ｇを得た（単離収率
４４％）。
６３１（Ｍ＋Ｈ）＋ （Ｍ ＝Ｃ２０Ｈ４４Ｏ１６Ｎ２Ｐ２）実施例
４ 反応器にα−グリセロリン酸二ナトリウム塩６５ｇ（０
．３ モル）と水 ２５０ｇ及び１Ｎ塩酸３００ ｇを
入れ、撹拌溶解後、６０℃に昇温した。これにグリシジ
ル−２−ヒドロキシエチルジメチルアンモニウムクロラ
イド １０９ｇ（０．６ モル）を １００ｇの水に溶
解させた溶液を徐々に滴下し、滴下後６０℃で１０時間
反応させた。反応終了後、減圧下で反応溶媒を除去し、
得られた残渣を５倍量のエタノールで３回洗浄して未反
応のグリシジル−２−ヒドロキシエチルジメチルアンモ
ニウムクロライドとこれのエポキシ開環物を除いた。得
られた粗生成物を水 ２００ｇに溶解し、イオン交換ク
ロマトグラフィー（イオン交換樹脂；ＢＩＯ ＲＡＤ社
製 ＡＧ ５０１−Ｘ８）により精製し、２，３ −
ジヒドロキシプロピル〔２−ヒドロキシ−３−｛Ｎ，Ｎ
−ジメチル−Ｎ −（２−ヒドロキシエチル）アンモ
ニオ｝プロピル〕ホスフェート４２ｇを得た（単離収率
４４％）。
【００４０】１Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ）；δ（ｐｐｍ）３
．１７（ｓ，６Ｈ，ａ）， ３．４０〜３．９４（ｂｒ
ｏａｄ ｍ，１１Ｈ，ｂ）， ４．０３（ｔ，２Ｈ，ｃ
），４．３９（ｂｒｏａｄ，１Ｈ，ｄ）
．１７（ｓ，６Ｈ，ａ）， ３．４０〜３．９４（ｂｒ
ｏａｄ ｍ，１１Ｈ，ｂ）， ４．０３（ｔ，２Ｈ，ｃ
），４．３９（ｂｒｏａｄ，１Ｈ，ｄ）
【００４１】
【化１３】
【００４２】質量分析（ＦＡＢ イオン化法）；Ｍ／Ｚ
３１８（Ｍ＋Ｈ）＋ （Ｍ ＝Ｃ１０Ｈ２４Ｏ８ＮＰ）実施例５ 反応器に下記合成例１に従い合成したソルビトールリン
酸二ナトリウム塩９７ｇ（０．３ モル）と水 ２５０
ｇ及び１Ｎ塩酸３００ ｇを入れ、撹拌溶解後６０℃に
昇温した。これにグリシジル−２−ヒドロキシエチルジ
メチルアンモニウムクロライド １６４ｇ（０．９ モ
ル）を １５０ｇの水に溶解させた溶液を徐々に滴下し
、滴下後６０℃で２０時間反応させた。反応終了後、減
圧下で反応溶媒を除去し、得られた残渣を１０倍量のエ
タノールで３回洗浄して未反応のグリシジル−２−ヒド
ロキシエチルジメチルアンモニウムクロライドとこれの
エポキシ開環物を除いた。得られた粗生成物を水 ３０
０ｇに溶解し、イオン交換クロマトグラフィー（イオン
交換樹脂；ＢＩＯＲＡＤ 社製 ＡＧ ５０１−Ｘ８
）により精製し、ペンタヒドロキシヘキシル〔２−ヒド
ロキシ−３−｛Ｎ，Ｎ −ジメチル−Ｎ −（２−ヒド
ロキシエチル）アンモニオ｝プロピル〕ホスフェート４
７ｇを得た（単離収率３８％）。
３１８（Ｍ＋Ｈ）＋ （Ｍ ＝Ｃ１０Ｈ２４Ｏ８ＮＰ）実施例５ 反応器に下記合成例１に従い合成したソルビトールリン
酸二ナトリウム塩９７ｇ（０．３ モル）と水 ２５０
ｇ及び１Ｎ塩酸３００ ｇを入れ、撹拌溶解後６０℃に
昇温した。これにグリシジル−２−ヒドロキシエチルジ
メチルアンモニウムクロライド １６４ｇ（０．９ モ
ル）を １５０ｇの水に溶解させた溶液を徐々に滴下し
、滴下後６０℃で２０時間反応させた。反応終了後、減
圧下で反応溶媒を除去し、得られた残渣を１０倍量のエ
タノールで３回洗浄して未反応のグリシジル−２−ヒド
ロキシエチルジメチルアンモニウムクロライドとこれの
エポキシ開環物を除いた。得られた粗生成物を水 ３０
０ｇに溶解し、イオン交換クロマトグラフィー（イオン
交換樹脂；ＢＩＯＲＡＤ 社製 ＡＧ ５０１−Ｘ８
）により精製し、ペンタヒドロキシヘキシル〔２−ヒド
ロキシ−３−｛Ｎ，Ｎ −ジメチル−Ｎ −（２−ヒド
ロキシエチル）アンモニオ｝プロピル〕ホスフェート４
７ｇを得た（単離収率３８％）。
【００４３】１Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ）；δ（ｐｐｍ）
【
００４４】
００４４】
【化１４】
【００４５】質量分析（ＦＡＢ イオン化法）；Ｍ／Ｚ
４０８（Ｍ＋Ｈ）＋ （Ｍ ＝Ｃ１３Ｈ３０Ｏ１１ＮＰ）実施例６ 反応器に下記合成例２に従い合成したマルトースリン酸
二ナトリウム塩９３ｇ（０．２ モル）と水 ４００ｇ
及び１Ｎ塩酸２００ ｇを入れ、撹拌溶解後、６０℃に
昇温した。これにグリシジル−２−ヒドロキシエチルジ
メチルアンモニウムクロライド １０９ｇ（０．６ モ
ル）を １００ｇの水に溶解させた溶液を徐々に滴下し
、滴下後６０℃で２０時間反応させた。反応終了後、減
圧下で反応溶媒を除去し、得られた残渣を１０倍量のエ
タノールで３回洗浄して、未反応のグリシジル−２−ヒ
ドロキシエチルジメチルアンモニウムクロライドとこれ
のエポキシ開環物を除いた。得られた粗生成物を水 ３
００ｇに溶解し、イオン交換クロマトグラフィー（イオ
ン交換樹脂；ＢＩＯ ＲＡＤ 社製 ＡＧ ５０１−
Ｘ８）により精製し、マルトース〔２−ヒドロキシ−３
−｛Ｎ，Ｎ −ジメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル
）アンモニオ｝プロピル〕ホスフェート４９ｇを得た（
単離収率４３％）。
４０８（Ｍ＋Ｈ）＋ （Ｍ ＝Ｃ１３Ｈ３０Ｏ１１ＮＰ）実施例６ 反応器に下記合成例２に従い合成したマルトースリン酸
二ナトリウム塩９３ｇ（０．２ モル）と水 ４００ｇ
及び１Ｎ塩酸２００ ｇを入れ、撹拌溶解後、６０℃に
昇温した。これにグリシジル−２−ヒドロキシエチルジ
メチルアンモニウムクロライド １０９ｇ（０．６ モ
ル）を １００ｇの水に溶解させた溶液を徐々に滴下し
、滴下後６０℃で２０時間反応させた。反応終了後、減
圧下で反応溶媒を除去し、得られた残渣を１０倍量のエ
タノールで３回洗浄して、未反応のグリシジル−２−ヒ
ドロキシエチルジメチルアンモニウムクロライドとこれ
のエポキシ開環物を除いた。得られた粗生成物を水 ３
００ｇに溶解し、イオン交換クロマトグラフィー（イオ
ン交換樹脂；ＢＩＯ ＲＡＤ 社製 ＡＧ ５０１−
Ｘ８）により精製し、マルトース〔２−ヒドロキシ−３
−｛Ｎ，Ｎ −ジメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル
）アンモニオ｝プロピル〕ホスフェート４９ｇを得た（
単離収率４３％）。
【００４６】１Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ）；δ（ｐｐｍ）
【
００４７】
００４７】
【化１５】
【００４８】質量分析（ＦＡＢ イオン化法）；Ｍ／
Ｚ ５６８（Ｍ＋Ｈ）＋ （Ｍ ＝Ｃ１９Ｈ３８Ｏ１６ＮＰ）合成例１ ソルビトールリン酸二ナトリウム塩は公知の方法（特公
昭５０−８０５２号公報）に基づいて合成を行った。
Ｚ ５６８（Ｍ＋Ｈ）＋ （Ｍ ＝Ｃ１９Ｈ３８Ｏ１６ＮＰ）合成例１ ソルビトールリン酸二ナトリウム塩は公知の方法（特公
昭５０−８０５２号公報）に基づいて合成を行った。
【００４９】即ち、ソルビトール４５．５ｇを水 １２
５ｍｌに溶解し、この中へオキシ塩化リン３８．４ｇを
０〜５℃においてかきまぜながら約２時間で滴下した。 この際１０Ｎ −カセイソーダ水溶液を添加して、反応
液のｐＨを常に１３．５に維持し、オキシ塩化リン添加
終了後もｐＨの変化が認められなくなるまでアルカリを
滴下した。反応混合物をカチオン交換樹脂（ダウエック
ス５０×４Ｈ＋ 型）を用いて中和し、減圧下濃縮し、
カセイソーダ水溶液を加えてｐＨを１０に調整した。次
にエタノール １２０ｍｌを加えて冷却し、析出した無
機塩を濾去したのち、２層に分離した濾液の下層を分取
した。これに水を加えて ２５０ｍｌとし、さらにメタ
ノール１リットルを加え、析出したソルビトールリン酸
二ナトリウム塩を濾別し、乾燥した。
５ｍｌに溶解し、この中へオキシ塩化リン３８．４ｇを
０〜５℃においてかきまぜながら約２時間で滴下した。 この際１０Ｎ −カセイソーダ水溶液を添加して、反応
液のｐＨを常に１３．５に維持し、オキシ塩化リン添加
終了後もｐＨの変化が認められなくなるまでアルカリを
滴下した。反応混合物をカチオン交換樹脂（ダウエック
ス５０×４Ｈ＋ 型）を用いて中和し、減圧下濃縮し、
カセイソーダ水溶液を加えてｐＨを１０に調整した。次
にエタノール １２０ｍｌを加えて冷却し、析出した無
機塩を濾去したのち、２層に分離した濾液の下層を分取
した。これに水を加えて ２５０ｍｌとし、さらにメタ
ノール１リットルを加え、析出したソルビトールリン酸
二ナトリウム塩を濾別し、乾燥した。
【００５０】この粗製物を再度水 １００ｍｌに溶かし
、エタノールを加えて再沈させる事により、精製ソルビ
トールリン酸二ナトリウム塩４５ｇを得た。
、エタノールを加えて再沈させる事により、精製ソルビ
トールリン酸二ナトリウム塩４５ｇを得た。
【００５１】合成例２
マルトースリン酸二ナトリウム塩は公知の方法（特公昭
５０−８０５２号公報）に基づいて合成を行った。
５０−８０５２号公報）に基づいて合成を行った。
【００５２】即ち、マルトース８５．４ｇを水 ２５０
ｍｌに溶解した以外は合成例１と同様に反応を行い、精
製マルトースリン酸二ナトリウム塩６０ｇを得た。
ｍｌに溶解した以外は合成例１と同様に反応を行い、精
製マルトースリン酸二ナトリウム塩６０ｇを得た。
【図１】実施例１で得られたα−Ｄ −グルコピラノー
ス−１−〔２−ヒドロキシ−３−｛Ｎ −（２−ヒドロ
キシエチル）−Ｎ，Ｎ −ジメチルアンモニオ｝プロピ
ル〕ホスフェートのＩＲスペクトル図である。
ス−１−〔２−ヒドロキシ−３−｛Ｎ −（２−ヒドロ
キシエチル）−Ｎ，Ｎ −ジメチルアンモニオ｝プロピ
ル〕ホスフェートのＩＲスペクトル図である。
Claims (6)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ）で示されるホスホベタイ
ン。 【化１】 ここで、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３は同一又は異なって水素原子
、炭素数１〜４のアルキル基もしくはアルケニル基、又
は炭素数１〜４のヒドロキシアルキル基もしくはヒドロ
キシアルケニル基を示し、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３のうち少な
くとも一つは炭素数１〜４のヒドロキシアルキル基もし
くはヒドロキシアルケニル基である。Ｍ は、同一又は
異なって水素原子又は陽イオンを示す。ｍ は０以上の
数を示し、ｎ は１以上の数を示す。但し、 ｍ＋ｎ
は単糖、オリゴ糖、糖アルコール又はグリセリンがそれ
ぞれ有する水酸基の数を超えない数を示す。〕 - 【請求項２】 前記一般式（Ｉ）において、ｍ が０
である請求項１記載のホスホベタイン。 - 【請求項３】 前記一般式（Ｉ）において、ｍ が０
であり、Ｚ がグルコース又はフルクトースよりｎ 個
（ｎ は前記の意味を示す）の水酸基を除いたあとに残
る残基である請求項２記載のホスホベタイン。 - 【請求項４】 前記一般式（Ｉ）において、ｍ が０
であり、Ｚ がソルビトールよりｎ 個（ｎ は前記の
意味を示す）の水酸基を除いたあとに残る残基である請
求項２記載のホスホベタイン。 - 【請求項５】 前記一般式（Ｉ）において、ｍ が０
であり、Ｚ が縮合度１０未満のマルトオリゴ糖、ショ
糖又は乳糖よりｎ 個（ｎ は前記の意味を示す）の水
酸基を除いたあとに残る残基である請求項２記載のホス
ホベタイン。 - 【請求項６】 一般式（ＩＩ） 【化２】 で表されるリン酸エステルに、一般式（ＩＩＩ）【化３
】 で表されるエポキシ化合物を反応させることを特徴とす
る、一般式（Ｉ） 【化４】 〔式中、Ｚ， Ｒ１， Ｒ２， Ｒ３， Ｍ， ｍ，
ｎは前記と同じ意味を示す。〕で表されるホスホベタイ
ンの製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3114686A JPH04226996A (ja) | 1990-05-25 | 1991-05-20 | 新規ホスホベタイン及びその製造方法 |
| DE69126522T DE69126522T2 (de) | 1991-05-20 | 1991-11-22 | Neue Phosphobetain und die enthaltende Detergenz und Cosmetica |
| EP91119954A EP0514588B1 (en) | 1991-05-20 | 1991-11-22 | Novel phosphobetaine and detergent and cosmetic containing the same |
| US07/796,337 US5409705A (en) | 1991-05-20 | 1991-11-22 | Phosphobetaine and detergent and cosmetic containing the same |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13687490 | 1990-05-25 | ||
| JP2-136874 | 1990-05-25 | ||
| JP3114686A JPH04226996A (ja) | 1990-05-25 | 1991-05-20 | 新規ホスホベタイン及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04226996A true JPH04226996A (ja) | 1992-08-17 |
Family
ID=26453385
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3114686A Pending JPH04226996A (ja) | 1990-05-25 | 1991-05-20 | 新規ホスホベタイン及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04226996A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0514588A3 (en) * | 1991-05-20 | 1993-12-22 | Kao Corp | Novel phosphobetaine and detergent and cosmetic containing the same |
-
1991
- 1991-05-20 JP JP3114686A patent/JPH04226996A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0514588A3 (en) * | 1991-05-20 | 1993-12-22 | Kao Corp | Novel phosphobetaine and detergent and cosmetic containing the same |
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