JPH04227951A - 耐焔性をもつたドリツプを生じないポリアルキレンテレフタレート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】本発明は含燐酸のエステルおよびドリップ
防止剤、並びに随時主として芳香族の主鎖を有し高い耐
熱性（ヴァイカットＢ＞１８０℃）をもった熱可塑性プ
ラスチックス、補強材および他の添加剤を含んでいる耐
焔性をもちドリップを生じないポリアルキレンテレフタ
レート成形用配合物に関する。

【０００２】ドイツ特許公開明細書第２　　４５８　　
９６７号には、主鎖が臭素化された芳香族環である化合
物をベースにした結合単位をもつポリアルキレンテレフ
タレート、および高分子量の有機燐化合物を含んだ耐焔
性のポリエステル成形用配合物が記載されている。ドイ
ツ特許公開明細書第２　　４５８　　９６７号記載のポ
リエステル成形用配合物は常に有機的に結合した臭素を
一緒に縮合した形で含み、また一緒に縮合させなければ
ならないために製造がかなり難しいという欠点をもって
いる。

【０００３】ドイツ特許公開明細書第２　　２５３　　
２０７号には耐焔剤としてフォスフォン酸アリールを含
む耐焔性の熱可塑性ポリエステル樹脂組成物が記載され
ている。またドイツ特許公開明細書第２　　１１１　　
２０２号にはポリフォスフォン酸アリールを含む耐焔性
をもった熱可塑性ポリエステル成形用配合物が記載され
ている。 しかしこれら二つの特許に記載された耐焔性の熱可塑性
ポリエステル成形用配合物は、耐熱性を含む他の性質に
悪影響を及ぼす量を用いないと工業的用途に必要な高度
の耐焔性（ＵＬ９４試験分類Ｖ−Ｏ）を示さない。

【０００４】ドイツ特許公開明細書第２　　１３２　　
３５０号には、燐含有添加剤としてポリフォスフォン酸
アルキルおよびポリフォスフォン酸アリールの両方を含
む燐含有耐焔性ポリアルキレンテレフタレート成形用配
合物が記載されている、またドイツ特許公開明細書第２
　　１３２　　３５０号にはガラス繊維のような補強材
、およびポリフォスフォン酸アルキルまたはポリフォス
フォン酸アリールを含むポリプロピレンテレフタレート
またはポリブチレンテレフタレートから成るポリエステ
ル樹脂成形用配合物が記載されている。このような燐含
有添加剤を含んでいるにもかかわらず、この補強された
ポリアルキレンテレフタレート樹脂成形用配合物は火事
の際にドリップを生じる問題が解決されていないために
適切な耐焔性を示すとは言えない。またドイツ特許公開
明細書第２　　１３２　　３５０号記載の耐焔性をもっ
たポリエステル成形用配合物は、必要とされるＵＬ−９
４分類を達成するためには、耐熱性を劣化させるほど燐
の含量を比較的高くしなければならないという欠点をも
っている。

【０００５】米国特許第３，６９７，４５９号および同
第４，０１０，１４４号には、ヘキサメチレンジアミン
を添加した後に耐焔紙に対する含浸剤として燐酸で部分
的にエステル化したノヴォラックが記載されている。米
国特許第４，１０５，８２５号にはポリオレフィン、例
えばポリエチレン、ポリエチレンとの共重合体およびそ
れらの配合物に対する耐焔剤としてのノヴォラックおよ
びフェノールの混合燐酸エステルが記載されている。こ
れらの重合体は過酸化物で交叉結合されており、大量の
充填材を含んでいる。

【０００６】本発明ポリアルキレンテレフタレートの他
に、Ａ．式（Ｉ）

【０００７】

【化３】

【０００８】但し式中Ｒ１は水素、Ｃ１〜８アルキル、
好ましくはメチル、Ｃ７〜１２アラルキル、好ましくは
ベンジルおよび１−フェニルエチル、、および／または
随時Ｃ１〜４アルキルで置換されたフェニル、好ましく
はフェニルであり、Ｒ２は

【０００９】

【化４】

【００１０】であり、Ｒ３は随時Ｃ１〜４−アルキル−
、Ｃ６〜１０−アリール−またはＣ７〜１２−アラルキ
ル置換フェノキシ、好ましくはフェノキシ、および／ま
たはＣ１〜４−アルキル、好ましくはメチルおよびエチ
ル、および／またはＣ７〜１２アラルキル、好ましくは
ベンジルおよび１−フェニルエチル、および／または随
時Ｃ１〜４−アルキルで置換されたフェニル、好ましく
はフェニルであり、ｍは０または１〜１２、好ましくは
３〜８の整数、ｎは０または１〜５、好ましくは１〜３
の整数であるが、ｍが０の時は、ｎは少なくとも１、好
ましくは１から３であってＲ２は（ＩＩＩ）を表し、ｎ
が０の時は、ｍは少なくとも１、好ましくは２〜８であ
ってＲ２は（ＩＩ）を表し、また式（Ｉ）のノヴォラッ
クのフェニル核の数は１２より大きくはない、好ましく
は３〜８ものとする、に対応する含燐酸のエステル５〜
３０重量部、好ましくは１０〜２５重量部およびＢ．ド
リップ防止剤０．０１〜２．０重量部、好ましくは０．
２〜０．８重量部を含んでいることを特徴とする耐焔性
をもったドリップを生じないポリアルキレンテレフタレ
ート成形用配合物に関する。

【００１１】本発明においてポリアルキレンテレフタレ
ートは芳香族ジカルボン酸またはその反応性誘導体、例
えばジメチルエステルまたは無水物と、脂肪族、脂環式
または芳香脂肪族のジオールとの反応生成物、およびこ
れら反応生成物の混合物を意味する。

【００１２】好適なポリアルキレンテレフタレートはジ
カルボン酸成分に関して少なくとも８０重量％、好まし
くは少なくとも９０重量％のテレフタル酸単位と、ジオ
ール成分に関して少なくとも８０重量％、好ましくは少
なくとも９０重量％のエチレングリコールおよび／また
はブタン−１，４−ジオール単位とを含んでいる。

【００１３】テレフタル酸単位の他に、好適なポリアル
キレンテレフタレートは最高２０モル％、好ましくは最
高１０モル％の他の芳香族または脂環式Ｃ８〜１４ジカ
ルボン酸または脂肪族Ｃ４〜１２ジカルボン酸単位、例
えばフタル酸、イソフタル酸、ナフタレン−２，６−ジ
カルボン酸、４，４′−ジフェニルジカルボン酸、コハ
ク酸、アジピン酸、セバチン酸、アゼライン酸、シクロ
ヘキサンジ酢酸の単位を含んでいることができる。

【００１４】またエチレングリコールおよびブタン−１
，４−ジオール単位の他に、好適なポリアルキレンテレ
フタレートは最高２０モル％、好ましくは最高１０モル
％の他の脂肪族Ｃ３〜１２ジオールまたは脂環式Ｃ６〜
２１ジオール、例えばプロパン−１，３−ジオール、２
−エチルプロパン−１，３−ジオール、ネオペンチルグ
リコール、ペンタン−１，５−ジオール、ヘキサン−１
，６−ジオール、シクロヘキサン−１，４−ジメタノー
ル、３−エチルペンタン−２，４−ジオール、２−メチ
ルペンタン−２，４−ジオール、２，２，４−トリメチ
ルペンタン−１，３−ジオール、２−エチルヘキサン−
１，３−ジオール、２，２−ジエチルプロパン−１，３
−ジオール、ヘキサン−２，５−ジオール、１，４−ジ
オール−（β−ヒドロキシエトキシ）−ベンゼン、２，
２−ビス−（４−ヒドロキシシクロヘキシル）−プロパ
ン、２，４−ジヒドロキシ−１，１，３，３−テトラメ
チルシクロブタン、２，２−ビス−（４−β−ヒドロキ
シエトキシフェニル）−プロパン、および２，２−ビス
−（４−ヒドロキシプロポキシフェニル）−プロパン（
ドイツ特許公開明細書第２　　４０７　　６７４号、同
第２　　４０７　　７７６号、同第２　　７１５　　９
３２号）の単位を含むことができる。

【００１５】ポリアルキレンテレフタレートは比較的少
量のトリヒドロキシまたはテトラヒドロキシアルコール
、或いは三塩基性または四塩基性カルボン酸、例えばド
イツ特許公開明細書第１　　９００　　２７０号および
米国特許第３，６９２，７４４号記載のものを混入する
ことにより分岐させることができる。好適な分岐剤の例
はトリメシン酸、トリメリチン酸、トリメチロールエタ
ンおよびプロパン、並びにペエンタエリスリトールであ
る。

【００１６】テレフタル酸およびその反応性誘導体（例
えばジアルキルエステル）およびエチレングリコールお
よび／またはブタン−１，４−ジオールだけからつくら
れたポリアルキレンテレフタレート、並びにこれらのポ
リアルキレンテレフタレートの混合物が特に好適である
。

【００１７】好適な混合物は１〜５０重量％、好ましく
は１〜３０重量％のポリアルキレンテレフタレートと、
５０〜９９重量％、好ましくは７０〜９９重量％のポリ
ブチレンテレフタレートを含んでいる。

【００１８】好適に使用されるポリアルキレンテレフタ
レートは一般にウッベローデ（Ｕｂｂｅｌｏｈｄｅ）粘
度計を用い２５℃においてフェノール／ｏ−ジクロロベ
ンゼン（１：１重量部）中で測定された固有粘度が、０
．４〜１．５ｄｌ／ｇ、好ましくは０．５〜１．３ｄｌ
／ｇ、さらに好ましくは０．６〜１．２ｄｌ／ｇである
。

【００１９】ポリアルキレンテレフタレートは公知方法
で製造することができる［例えばドイツ、ミュンヘン（
Ｍｕｅｎｃｈｅｎ）のカルル・ハンサー出版社（Ｃａｒ
ｌＨａｎｓｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ）１９７３年発行、「ク
ンストシュトッフ・ハンドブッフ（Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆ
ｆ　　Ｈａｎｄｂｕｃｈ）８巻６９５頁以降参照］。 本発明に使用する燐化合物（成分Ａ）はビスフェノール
およびノヴォラック（ポリフェノール）のフォスフィン
酸、フォスフォン酸および燐酸エステルである。エステ
ルの混合物も使用可能である。本発明の燐の酸は直接本
発明のエステルに変えることはできないから、反応性誘
導体を使用しなければならない。これらの反応性誘導体
は酸塩化物およびフェニルエステル（酸塩化物から製造
）であり、これはポリフェノールと反応して一方では塩
化水素を離脱し、他方ではフェノールを離脱して（エス
テル交換）本発明のエステルを生じる。

【００２０】本発明に使用されるフォスフィン酸エステ
ルはビスフェノールおよびポリフェノール（ノヴォラッ
ク）のジアルキル、ジアリールおよびアルキルアリール
フォスフィン酸エステルである。フォスフィン酸の例と
してはジメチルフォスフィン酸、メチルエチルフォスフ
ィン酸、ジエチルフォスフィン酸、メチルフェニルフォ
スフィン酸、エチルフエニルフォスフィン酸、ジフェニ
ルフォスフィン酸、ジフェニル−ｐ−トリルフォスフィ
ン酸、フエニルナフチルフォスフィン酸、並びに１−ヒ
ドロキシ−１−オキソフォスフォリン、１−ヒドロキシ
−１−オキソ−３−メチルフォスフォリン、および１−
ヒドロキシ−１−オキソ−３，４−ジメチルフォスフォ
リンがある。

【００２１】フォスフィン酸およびその誘導体、例えば
塩化物およびフエニルエステルの製造法は公知であり、
文献に記載されているん［フーベン・ワイル（Ｈｏｕｂ
ｅｎ−Ｗｅｙｌ）編、メトーデン・デル・オルガニッシ
ェン・ヘミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ　　ｄｅｒ　　Ｏｒｇ
ａｎｉｓｃｈｅｎ　　Ｃｈｅｍｉｅ）ＸＩＩ／１巻２１
７〜２６６頁およびＥ２巻１２３〜２２１頁参照］。

【００２２】フォスフィン酸塩化物とビスフェノールお
よびポリフェノールとの反応は１８０〜２００℃におい
て非常にゆっくりと行われ、塩化水素が除去される。触
媒、例えば塩化マグネシウムが存在すると、反応は迅速
になり、また低温でも行われる。比較的低い温度では、
ノヴォラックのエステル化には粘度の関係で不活性な高
沸点溶媒を使用しなければならない。触媒としては塩化
マグネシウムまたは３級アミンが使用される。塩化マグ
ネシウムはやはり温度２００℃で行われる遥かに速いエ
ステル交換反応にも触媒として使用される。

【００２３】本発明に使用されるフォスフォン酸エステ
ルはビスフェノールおよびポリフェノール（ノヴォラッ
ク）のアリールおよびアルキルフォスフォン酸エステル
である。フォスフォン酸の例としてはメチルフォスフォ
ン酸、エチルフォスフォン酸、フェニルフォスフォン酸
、ｐ−トリルフォスフォン酸およびナフチルフォスフォ
ン酸がある。

【００２４】フォスフォン酸およびその誘導体、例えば
塩化物およびフエニルエステルの製造法は公知であり、
文献に記載されている［ウルマン（Ｕｌｌｍａｎｎ）の
エンチクロペディー・デル・テクニッシェン・ヘミー（
Ｅｎｚｙｃｌｏｐａｅｄｉｅｄｅｒ　　Ｔｅｃｈｎｉｓ
ｃｈｅｎ　　Ｃｈｅｍｉｅ）第４版、１８巻、３８５〜
３８８頁（１９７９年）、およびフーベン・ワイル編、
メトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミーＸＩＩ／
１巻４２３〜５３５頁参照］。

【００２５】本発明に使用される燐酸エステルはビスフ
ェノールまたはノヴォラックの燐酸エステルである。こ
れらは一般に公知方法により製造される［米国特許第４
，１０５，８２５号、ウルマンのエンチクロペディー・
デル・テクニッシェン・ヘミー、第４版、１８巻、３８
９〜３９１頁（１９７９年）、およびフーベン・ワイル
編、メトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー、１
２／１巻２９９〜３７４頁参照］。

【００２６】適当なノヴォラックはフォルムアルデヒド
と一般式（ＩＶ）

【００２７】

【化５】

【００２８】に対応するフェノールとの縮合生成物であ
る。ここでＲ２およびＲ６は水素原子であり、Ｒ３、Ｒ
４およびＲ５は水素原子、Ｃ１〜８アルキルおよび／ま
たはアリール基であるか、或いはＲ２およびＲ４が水素
原子であり、Ｒ３、Ｒ５およびＲ６は上記意味を有する
ものであることができる。芳香族の基自身はＣ１〜８の
アルキル基で置換されていることができる。

【００２９】フェノールの特徴的な例としてはフェノー
ル、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール
、２，５−ジメチル−、３，５−ジメチル−、２，３，
５−トリメチル−、３，４，５−トリメチル−、ｏ−イ
ソプロピル−、ｐ−イソプロピル−、ｍ−イソプロピル
−、ｐ−ｔ−ブチル−、ｐ−ｎ−オクチルフェノール、
並びにベンジル−、１−フェニルエチル−およびフェニ
ルフェノールがあるが、これだけに限定されるものでは
ない。

【００３０】フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾ
ール、ｐ−クレゾール、ｐ−ｔ−ブチルフェノールが好
適に使用される。

【００３１】これらのフェノールの混合物も使用できる
。

【００３２】従って好適なノヴォラックはフェノール／
フォルムアルデヒド・ノヴォラック、ｏ−クレゾール／
フォルムアルデヒド・ノヴォラック、ｍ−クレゾール／
フォルムアルデヒド・ノヴォラック、ｐ−クレゾール／
フォルムアルデヒド・ノヴォラック、ｔ−ブチルフェノ
ール／フォルムアルデヒド・ノヴォラック、およびｐ−
オクチルフェノール／フォルムアルデヒド・ノヴォラッ
クであるが、本発明に使用されるノヴォラックは決して
これだけではない。

【００３３】ｐ−クレゾール／フォルムアルデヒド・ノ
ヴォラックが特に好適である。このノヴォラックの製造
法は公知である［ウルマンのエンチクロペディー・デル
・テクニッシェン・ヘミー、第４版、１８巻、２４５〜
２５７頁（１９７９年）、およびフーベン・ワイル編、
メトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー、ＸＩＶ
／２巻１９３〜２９２頁参照］。

【００３４】フォスフォン酸および燐酸のエステルをつ
くるためには、いわゆるエステル交換反応によりノヴォ
ラックをフォスフォン酸のジアリールエステルまたは燐
酸のトリアリールエステルと反応させるか、或いはいわ
ゆる酸塩化物法によりノヴォラックとフェノールとの混
合物をフォスフォン酸塩化物または燐酸オキシ塩化物と
反応させる。エステル交換法においてはメチルまたはフ
ェニル燐酸ジフェニルエステルまたは燐酸トリフェニル
を使用することが好ましい。両方法においてアリールお
よびアラルキルフェノール、例えば４−フェニルフェノ
ール、ベンジルフェノール、１−フェニルエチルフェノ
ール、１−メチル−１−フェニルエチルフェノールおよ
び２，４−ジ−（１−フェニルエチル）−フェノールを
他のまたは別のフェノールとして用いることができる。

【００３５】ノヴォラックのフォスフォン酸および燐酸
エステルの著しい特徴は、フォスフォン酸、燐酸および
ノヴォラックの多官能性から見て、両方の分子の原子価
の一つかまたは二つかのいずれが反応するかに従って、
開鎖構造および環式構造の両方が生じ得ることである。 通常反応原料の多官能性に起因する交叉結合反応は起こ
らない。

【００３６】本発明の目的に適した式（Ｉ）の燐化合物
は例えば１モルの燐酸トリフェニルまたは燐酸三塩化物
と１〜２当量のノヴォラックとの反応生成物である。当
量比が１〜２のノヴォラックも使用できる。燐酸の第３
の原子価は上記説明のようにフェノールまたは置換フェ
ノールに結合している。

【００３７】成分（Ｂ）としてはテトラフルオロエチレ
ン重合体、コロイド状酸化珪素および／またはシリコー
ンを用いることができる。これらの化合物はドリップ防
止剤として作用する。

【００３８】成分（Ｂ）としてフッ素含量が６５〜７６
重量％、好ましくは７０〜７６重量％のテトラフルオロ
エチレン重合体を使用することが好ましい。　例として
は特にポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエ
チレン／ヘキサフルオロプロピレン共重合体、テトラフ
ルオロエチレン／ジフルオロエチレン共重合体、または
少量のフッ素を含まない共重合可能なエチレン型不飽和
単量体を含むテトラフルオロエチレンがある。これらの
重合体は公知である。これらの重合体は微細に分割され
た形、通常は粉末の形で用いられる。これらの重合体は
例えば遊離基を生じる触媒、例えばナトリウム、カリウ
ムまたはアンモニウムのパーオキシジ硫酸塩を存在させ
、圧力７〜７１ｋｇ／ｃｍ２、温度０〜２００℃、好ま
しくは２０〜１００℃において水性媒質中でテトラフル
オロエチレンを重合させることにより製造することがで
きる（さらに詳細は米国特許第２，３９３，９６７号参
照）。

【００３９】本発明の目的に適したポリテトラフルオロ
エチレンは重量平均分子量Ｍｗが１０５〜１０６である
ことが好ましい。テトラフルオロエチレン重合体は焼結
しない形で使用することが好ましい。熱可塑性物質、好
ましくは主として芳香族の主鎖を有し高い耐熱性（ヴァ
イカットＢ＞１８０℃）をもったものを本発明の耐焔性
をもったポリアルキレンテレフタレート成形用配合物の
他の成分として用いることができる。このような熱可塑
性物質の例としてはポリスルフォン、ポリエーテルスル
フォン、ポリケトン、ポリエーテルケトン、ポリフェニ
レンオキシド、およびポリアリーレンスルフィドがある
。 これらの熱可塑性物質は勿論個別的にまたは互いに混合
物として用いることができる。特定の混合比は予備実験
によって容易に決定することができ、本発明の成形用配
合物の使用目的に依存している。これらの熱可塑性物質
は文献に知られており、公知方法によって製造すること
ができる。

【００４０】上記熱可塑性物質は最高３０重量％の量で
使用することができるが、好ましくは１〜２８重量％、
さらに好ましくは３〜２５重量％の量で使用される。

【００４１】さらに任意の公知の補強材料および重合体
の添加剤または助剤を本発明の成形用配合物に加えるこ
とができる。これらの添加剤の使用量は重合体成形用配
合物の使用目的に依存する。最も有利な量は予備試験に
より容易に決定することができる。適当な添加剤は無機
性の充填剤、補強材料、顔料および／または結晶化助剤
、他の耐焔剤、例えば窒素、ハロゲンおよび／または他
の燐の化合物、加工助剤、例えば型抜き剤、安定剤、流
動助剤、紫外線、光および熱に対する安定剤、公知の高
衝撃変成剤、および／または相容性促進剤である。

【００４２】無機性の充填剤、補強材料および／または
顔料は通常約３〜４０重量部、好ましくは５〜３０重量
部の量で使用される。上記の他の耐焔剤および公知の高
衝撃変成剤、および／または相容性促進剤は１〜２０重
量部、好ましくは３〜１５重量部の量で使用される。結
晶化助剤、紫外線、光および熱に対する安定剤、型抜き
剤、流動助剤および着色剤は０．１〜５重量部、好まし
くは０．５〜３重量部の量で添加される。これらのすべ
ての量は成形用化合物１００重量部に関する値である。

【００４３】随時使用される補強材料にはポリアルキレ
ンテレフタレートを補強するのに用いられる公知材料、
例えばガラス繊維、ガラスのビーズおよび／または鉱物
性の充填材が含まれ、例えばドイツ、ノストランド出版
社（Ｎｏｓｔｒａｎｄ−Ｖｅｒｌａｇ）１９７８年発行
、カッツ（Ｋａｔｚ）およびミレウスキー（Ｍｉｌｅｗ
ｓｋｉ）著「ハンドボック・オヴ・フィラーズ・アンド
・レインフォースメンツ・フォー・プラスティックス（
Ｈａｎｄｂｏｏｋ　　ｏｆ　　Ｆｉｌｌｅｒｓ　　ａｎ
ｄ　　Ｒｅｉｎｆｏｒｃｅｍｅｎｔｓ　　ｆｏｒ　　Ｐ
ｌａｓｔｉｃｓ）」には記載されている。ガラス繊維は
無機補強材料として好適に使用される。使用されるガラ
ス繊維は一般に直径が約６〜１５μｍ、好ましくは８〜
１３μｍであり、長さ対厚さの比は４５より大きく、好
ましくは５０〜２００である。

【００４４】他の適当な充填剤、補強材料および顔料は
微小ガラス・ビーズ、炭素繊維、白亜、他のアルカリ土
類金属の炭酸塩、アルカリ土類金属の酸化物、石英、例
えばノヴァクライト、珪酸塩、例えばアスベスト、長石
、雲母、タルク、珪灰石および焼成したおよびしない形
のカオリン、二酸化チタンおよび／または硫化亜鉛であ
る。使用される鉱物性の充填剤は平均粒径が２０μｍよ
り小さいもの、好ましくは１０μｍより小さいもの、さ
らに好ましくは２〜８μｍのものであり、例えばシラン
で適当に表面を処理されていることができる。

【００４５】適当な結晶化助剤は例えば無機結晶性の高
融点化合物で造核剤として作用するもの、例えば微小タ
ルク、ＷＯ　　８５／０３７１７号、ヨーロッパ特許第
０　　０２９　　２８５号、同第０　　０３７　　６６
６号、同第０　　０３４　　７７３号、同第０　　１１
２　　１６７号、同第０　　０２１　　６４８号、同第
０　　１０２７６８号記載の脂肪族および／または芳香
族の低分子量または高分子量カルボン酸の金属塩、およ
び脂肪族および／または芳香族スルフォン酸の金属塩（
ヨーロッパ特許第１７８　　８０７号）である。

【００４６】適当な他の耐焔剤は臭素を含む化合物、例
えばヘキサブロモベンゼン、ペンタブロモトルエン、オ
クタ−およびデカブロモジフェニル、ヘキサブロモ−ビ
ス−フェノキシエタン、エチレン−ビス−テトラブロモ
フタルイミドおよびこれらの混合物、並びに臭素化され
たポリスチレン［米国、フェロ社（Ｆｅｒｒｏ　　Ｃｏ
ｒｐ．）製パイロ・チェック（Ｐｙｒｏ−Ｃｈｅｃｋ）
型］、臭素化されたポリフェニレンオキシド［米国、グ
レイト・レイクス・ケミストリー社（ＧｒｅａｔＬａｋ
ｅｓ　　Ｃｈｅｍ．　　Ｃｏｒｐ．）製ＰＯ−６４　　
Ｐ］である。

【００４７】有機燐化合物、例えば燐酸塩およびフォス
フォン酸塩は組み合わせて使用される耐焔剤として特に
適している。芳香族の燐酸エステル、例えば燐酸トリフ
ェニルおよび燐酸ジクレジルフェニル、およびフォスフ
ォン酸エステル、例えばフォスフォン酸ジフェニルメチ
ル、フォスフォン酸ジクレジルが好適である。

【００４８】さらに耐焔剤として金属酸化物、例えば酸
化アンチモン（ＩＩＩ）、酸化鉛（ＩＶ）、酸化セリウ
ム（ＩＶ）、酸化銅（ＩＩ）、酸化モリブデン（ＶＩ）
、酸化錫（ＩＶ）および酸化ジルコニウム（ＩＶ）、並
びに硼酸亜鉛（水和物）、およびこれらの混合物を加え
ることができる。

【００４９】本発明の成形用配合物に加工助剤として公
知の型抜き剤、安定剤、流動助剤を加えることができる
。適当な型抜き剤はエステル・ワックス、例えばモンタ
ン・ワックス、アミド・ワックス、例えばレナックス（
Ｒｈｅｎａｘ）（Ｒ）、および／またはオリゴエチレン
である。適当な可塑剤は例えば脂肪族ポリエステルのオ
リゴマーである（ヨーロッパ特許第２９　　９３１号お
よびドイツ特許第２　　７０６　　１２８号参照）。

【００５０】適当な高衝撃変成剤は特にゴム、例えばブ
タジエン／アクリロニトリル共重合体、ブタジエン／ス
チレン共重合体、ブタジエン／イソプレンおよびブタジ
エン／スチレン・ブロック共重合体、アルキルアクリレ
ート・ゴム、ＥＰおよびＥＰＤＭゴム系、並びにシリコ
ーン・ゴムである。ビニル均質重合体または共重合体が
上記のゴム系にグラフト重合したグラフト重合体でガラ
ス転移温度が−１０℃より低いものがゴム成分として好
適に使用される。

【００５１】熱可塑性ポリアルキレンテレフタレート、
燐化合物、ドリップ防止剤および随時加えられる主とし
て芳香族の主鎖をもち高い耐熱性（ヴァイカットＢ＞１
８０℃）を有する熱可塑性物質、補強材料および加工助
剤から成る配合物は、典型的な混合装置、例えば混合ロ
ール、捏和機、単一スクリューおよび多スクリュー押出
し機の中でつくることができる。加工助剤は濃縮物とし
て粒剤または粉末配合物の形で成分の配合操作中に加え
ることができる。

【００５２】製造は不連続的または連続的に、主として
酸素を排除した条件下において、即ち不活性ガス雰囲気
中で行われる。適当な不活性ガスは例えば窒素、二酸化
炭素および／またはアルゴンである。

【００５３】本発明の熱可塑性成形用配合物はポリエス
テルの融点より最高４０℃高い熔融物温度（２５０〜２
９０℃）において、滞在時間を最高９分（１らら９分）
として加工して成型品にすることができる。好適な加工
条件は熔融物の温度が２７０℃より高くなく、熔融物の
滞在時間が９分より長くない条件である。特に好適な加
工条件においては、熔融物の温度は２６０℃より高くな
く、滞在時間は６分より長くはない。

【００５４】重合体配合物は随時温度１００〜２００℃
、好ましくは１８０〜２１０℃において固相で熱的な後
処理を行うことができる。

【００５５】耐焔処理を受けた本発明のポリアルキレン
テレフタレート成形用配合物はすべての種類の成形品、
繊維またはフィルムの製造に使用することができる。

【００５６】高度の耐熱性をもった熱可塑性物質を加え
、これを燐含有酸のエステルと組み合わせることにより
、配合物の燐含量をかなり減少させることができる。 このことは、上述の型の高度の耐熱性をもった熱可塑性
物質をポリアルキレンテレフタレートに加えるだけでは
必要な耐焔性（例えばＵＬ−９４分類に適合する）が得
られないことからすれば、正に驚くべきことである。高
度の耐熱性をもった熱可塑性物質を上記の燐化合物と組
み合わせても、燐化合物の耐焔性の効果以上の効果は得
られないであろうと思われる。しかし燐含量が減少した
にも拘らず、このような組み合わせにより高度の耐焔性
（ＵＬ−９４　　Ｖ−Ｏ）に関し相乗効果が得られるこ
とは極めて驚くべきことである（実施例参照）。

【００５７】Ａ．使用成分Ｉ．ウッベローデ粘度計を使
用しフェノールとｏ−ジクロロベンゼンとの混合物（重
量比１：１）中で温度２５℃で測定された固有粘度が１
．２０ｄｌ／ｇのポリエチレンテレフタレート（粒状物
）。

【００５８】ＩＩ．上記Ｉ記載の方法で決定された固有
粘度が１．２０ｄｌ／ｇのポリブチレンテレフタレート
（粒状物）。

【００５９】ＩＩＩ．１−クロロ−１−オキソ−３−メ
チルフォスフォリンおよび４，４′−ジヒドロキシフェ
ニルメタン（モル比１：２）から得られるフォスフィン
酸エステル。

【００６０】ＩＶ．メチルエチルフォスフィン酸塩化物
およびｐ−クレゾールとフォルムアルデヒドとのノヴォ
ラックから得られるフォスフィン酸エステル。

【００６１】Ｖ．１−クロロ−１−オキソ−３−メチル
フォスフォリンおよびＩＶと同じノヴォラックから得ら
れるフォスフィン酸エステル。

【００６２】ＶＩ．１モルのメチルフォスフォン酸ジフ
ェニルエステルと１当量のＩＶと同じノヴォラックから
得られるフォスフォン酸エステル。

【００６３】ＶＩＩ．１モルのメチルフォスフォン酸ジ
フェニルエステルと１．５当量のＩＶと同じノヴォラッ
クから得られるフォスフォン酸エステル。

【００６４】ＶＩＩＩ．１モルのメチルフォスフォン酸
ジフェニルエステルと２当量のＩＶと同じノヴォラック
から得られるフォスフォン酸エステル。

【００６５】ＩＸ．１モルの燐酸トリフェニルと１当量
のＩＶと同じノヴォラックから得られる燐酸エステル。

【００６６】Ｘ．１モルの燐酸トリフェニルと１．５当
量のＩＶと同じノヴォラックから得られる燐酸エステル
。

【００６７】ＸＩ．１モルの燐酸トリフェニルと２当量
のＩＶと同じノヴォラックから得られる燐酸エステル。

【００６８】ＸＩＩ．ポリフェニレンスルフィド、コン
ディショニングしない材料、添加剤なし、熔融流動：４
，０００〜６，０００ｇ／１０分（熔融流動係数ＭＦＩ
は５ｋｇの荷重をかけて３１６℃においてＡＳＴＭ　　
Ｄ　　１２３８により決定）。

【００６９】ＸＩＩＩ．４，４′−ジヒドロキシジフェ
ニルスルフォンおよび４，４′−ジクロロジフェニルス
ルフォンのポリエーテルスルフォンで、ウッペローデ粘
度計により２５℃においてジメチルフォルムアミド中で
測定した固有粘度が０．３８ｄｌ／ｇのもの。

【００７０】ＸＩＶ．ポリテトラフルオロエチレン粉末
、ホスタフロン（Ｈｏｓｔａｆｌｏｎ）ＴＦ２０２７［
ヘキスト社（Ｈｏｅｃｈｓｔ　　ＡＧ）製］。

【００７１】ＸＶ．切断ストランド［イタリー、オーエ
ンス・コーニング（Ｏｗｅｎｓ　　Ｃｏｒｎｉｎｇ）社
製ＯＣＦ　　４２９　　ＹＺ型］。

【００７２】ＸＶＩ．Ｅワックス（粉末の形）。

【００７３】ＸＶＩＩ．硫酸バリウム、ブランク・フィ
ックス・マイクロ（Ｂｌａｎｃ　　ｆｉｘ　　ｍｉｃｒ
ｏ）、ザハトレーベン社（Ｓａｃｈｔｌｅｂｅｎ　　Ａ
Ｇ）。

【００７４】ＸＶＩＩＩ．テトラブロモビスフェノール
Ａのカーボネート・オリゴマー、グレイト・レイクスＢ
Ｃ−５２−ＨＰ、米国グレイト・レイクス・ケミストリ
ー社製。

【００７５】ＸＩＸ．臭素含有重合体、Ｆ−２４００［
イスラエル、マハテシム社（Ｍａｋｈｔｅｓｈｉｍ　　
Ｌｔｄ．）の製品］。

【００７６】Ｂ．使用する燐添加剤の製造１．　　１−
クロロ−１−オキソ−３−メチルフォスフォリンとビス
フェノールＦ（４，４′−ジヒドロキシジフェニルメタ
ン）とから得られるフォスフィン酸エステル。

【００７７】２００．２ｇ（１モル）のビスフェノール
Ｆを加熱浴、撹拌機、窒素ガス入り口管、滴下濾斗およ
び還流冷却器を備えた１リットルのフラスコ中で、窒素
下において１７０〜１８０℃に加熱する。次いで３０１
．１ｇ（２モル）の１−クロロ−１−オキソ−３−メチ
ルフォスフォリンを２時間に亙って滴下する。１８時間
後塩化水素の発生が停止する。

【００７８】冷却後尚温かいうちにエステルを１リット
ルの塩化メチレン中に採り、塩化物がなくなるまで水洗
する。塩化メチレン溶液を乾燥した後、硫酸ナトリウム
を濾過し、この溶液を濃縮する。収率は３９７．１ｇで
理論値の８８．５％であった。生成物は樹脂状であり、
燐含量は１３．８％（理論値は１４．５％）、ＯＨ価は
＜１０であった。

【００７９】２．　　メチルエチルフォスフィン酸塩化
物およびｐ−クレゾールから得られるフォスフィン酸エ
ステル。

【００８０】２３９．７ｇ（２ｇ当量）のｐ−クレゾー
ルおよびフォルムアルデヒドのノヴォラック（ＯＨ価４
６８、約５個のフェニル核）および５．７ｇ（０．０６
モル）の塩化マグネシウムを加熱浴、撹拌機、窒素ガス
入り口管、滴下濾斗および還流冷却器を備えた２リット
ルのフラスコ中で、窒素下において１９０〜２００℃に
加熱する。次いで２５３．１ｇ（２モル）のメチルエチ
ルフォスフィン酸塩化物を１時間に亙って滴下する。７
２時間後塩化水素の発生が停止する。

【００８１】冷却後尚温かいうちにエステルを２リット
ルの塩化メチレン中に採り、塩化物がなくなるまで水洗
する。塩化メチレン溶液を乾燥した後、硫酸ナトリウム
を濾過し、この溶液を濃縮する。収率は４０２．４ｇで
理論値の９５．８％であった。９８℃で軟化が起こる［
コフラー（Ｋｏｆｌｅｒ）の加熱ベンチ］。生成物は燐
含量が１３．４％（理論値は１４．７％）、ＯＨ価は０
であった。

【００８２】３．　　１−クロロ−１−オキソ−３−メ
チルフォスフォリンおよびｐ−クレゾールのノヴォラッ
クから得られるフォスフィン酸エステル。

【００８３】上記２と同様にして、２４０．３ｇ（２ｇ
当量）のｐ−クレゾールおよびフォルムアルデヒドのノ
ヴォラック（ＯＨ価４６８、約５個のフェニル核）およ
び３０１．１ｇ（２モル）の１−クロロ−１−オキソ−
３−メチルフォスフォリンを反応させる。反応混合物を
２と同様にして回収する。

【００８４】収率は４３７．１ｇで理論値の９３．３％
であった。１３６℃で軟化が起こる。生成物は燐含量が
１２．６％（理論値は１３．２％）であり、ＯＨ価は０
であった。

【００８５】４．　　１モルのメチルフォスフォン酸ジ
フェニルエステルと１当量のノヴォラック（ｐ−クレゾ
ールから得たもの、約５個のフェニル核を有する）から
得られるフォスフォン酸エステル。

【００８６】熔融させた後、１，２４１．１ｇ（５モル
）のメチルフォスフォン酸ジフェニルエステル、６１５
．２ｇ（５ｇ当量）のｐ−クレゾールとフォルムアルデ
ヒドとのノヴォラック（ＯＨ価４５６、約５個の核を有
する）および２．５ｍｌのチタンテトラブチレートの１
％クロロベンゼン溶液を、制御可能な加熱フード、毛細
管、および下降還流冷却器を付けた短いヴィグロー蒸溜
塔を備えた４リットルのフラスコ中において、３００ミ
リバールの減圧下において２００℃に０．５時間加熱す
る。毛細管から窒素流を流し込み十分な撹拌を行う。 次に蒸溜塔および還流冷却器を通じて温度１９０〜２１
０℃で３００〜３ミリバールの減圧下において３時間に
亙り５０４．４ｇの生成物（ＯＨ価５４１）を蒸溜する
（５モルのフェノール：４７０．６ｇ）。次いでこの反
応生成物を３ミリバールの減圧下において２１０℃で１
時間加熱する。

【００８７】冷却後反応生成物を４リットルの塩化メチ
レン中に採り、塩化物がなくなるまで水洗する。硫酸ナ
トリウムで乾燥した後、塩化メチレン溶液をを濾過し濃
縮する。収率は１，３２７．４ｇで理論値の９５．８％
であった。生成物は樹脂状であり、燐含量は１０．７％
（理論値は１１．２％）、ＯＨ価は０であった。

【００８８】５．　　１モルのメチルフォスフォン酸ジ
フェニルエステルと１．５当量のノヴォラック（ｐ−ク
レゾールから得たもの、約５個のフェニル核を有する）
から得られるフォスフォン酸エステル。

【００８９】熔融させた後、９９２．９ｇ（４モル）の
メチルフォスフォン酸ジフェニルエステル、７３８．２
ｇ（６ｇ当量）のｐ−クレゾールとフォルムアルデヒド
とのノヴォラック（ＯＨ価４５６、約５個のフェニル核
を有する）および２．０ｍｌのチタンテトラブチレート
の１％クロロベンゼン溶液を、制御可能な加熱フード、
毛細管、および下降還流冷却器を付けた短いヴィグロー
蒸溜塔を備えた４リットルのフラスコ中において、３０
０ミリバールの減圧下において２００℃に０．５時間加
熱する。毛細管から窒素流を流し込み十分な撹拌を行う
。次に蒸溜塔および還流冷却器を通じて温度１９０〜２
１０℃で３００〜３ミリバールの減圧下において３．５
時間に亙り５７３．２ｇの生成物（ＯＨ価５８６）を蒸
溜する（６モルのフェノール：５６４．６ｇ）。次いで
この反応生成物を３ミリバールの減圧下において２２０
℃で１時間加熱する。

【００９０】冷却後反応生成物を４リットルの塩化メチ
レン中に採り、塩化物がなくなるまで水洗する。硫酸ナ
トリウムで乾燥した後、塩化メチレン溶液をを濾過し濃
縮する。収率は１，１００．０ｇで理論値の９４．３％
であった。生成物は１０６℃で軟化を起し始め（コフラ
ーの加熱ベンチ）、燐含量は１０．１％（理論値は１０
．６％）、ＯＨ価は０であった。

【００９１】６．　　１モルのメチルフォスフォン酸ジ
フェニルエステルと２当量のノヴォラック（ｐ−クレゾ
ールから得たもの、約５個のフェニル核を有する）から
得られるフォスフォン酸エステル。

【００９２】熔融させた後、８６８．８ｇ（３．５モル
）のメチルフォスフォン酸ジフェニルエステル、８６１
．２ｇ（７ｇ当量）のｐ−クレゾールとフォルムアルデ
ヒドとのノヴォラック（ＯＨ価４５６、約５個のフェニ
ル核を有する）および２ｍｌのチタンテトラブチレート
の０．５％クロロベンゼン溶液を、制御可能な加熱フー
ド、毛細管、および下降還流冷却器を付けた短いヴィグ
ロー蒸溜塔を備えた４リットルのフラスコ中において、
３００ミリバールの減圧下において２００℃に０．５時
間加熱する。毛細管から窒素流を流し込み十分な撹拌を
行う。次に蒸溜塔および還流冷却器を通じて温度１９０
〜２１０℃で３００〜３ミリバールの減圧下において４
時間に亙り６４９．９ｇの生成物（ＯＨ価５８６）を蒸
溜する（７モルのフェノール：６５８．７ｇ）。次いで
この反応生成物を３ミリバールの減圧下において２２０
℃で１時間加熱する。

【００９３】冷却後反応生成物を４リットルの塩化メチ
レン中に採り、塩化物がなくなるまで水洗する。硫酸ナ
トリウムで乾燥した後、塩化メチレン溶液をを濾過し濃
縮する。収率は１，０３２．７ｇで理論値の９６．４％
であった。生成物は１６６℃で軟化を起し始め（コフラ
ーの加熱ベンチ）、燐含量は１０．１％（理論値は１０
．０％）、ＯＨ価は４であった。

【００９４】７．　　１モルの燐酸トリフェニルと１当
量のノヴォラック（ｐ−クレゾールから得たもの、約５
個のフェニル核を有する）から得られる燐酸エステル。

【００９５】熔融させた後、１，６３１．５ｇ（５モル
）の燐酸トリフェニル、５９９．５ｇ（５ｇ当量）のｐ
−クレゾールとフォルムアルデヒドとのノヴォラック（
ＯＨ価４６８、約５個のフェニル核を有する）および１
４．３ｇの塩化マグネシウム（０．１５モル）を、制御
可能な加熱フード、毛細管、および下降還流冷却器を付
けた短いヴィグロー蒸溜塔を備えた４リットルのフラス
コ中において、３００ミリバールの減圧下において２０
０℃に０．５時間加熱する。毛細管から窒素流を流し込
み十分な撹拌を行う。次に蒸溜塔および還流冷却器を通
じて温度２００〜２１０℃で３００〜３ミリバールの減
圧下において３時間に亙り４８２．５ｇの生成物（ＯＨ
価５８３）を蒸溜する（５モルのフェノール：４７０．
６ｇ）。次いでこの反応生成物を３ミリバールの減圧下
において２１０℃で１時間加熱する。

【００９６】冷却後反応生成物を４リットルの塩化メチ
レン中に採り、塩化物がなくなるまで水洗する。硫酸ナ
トリウムで乾燥した後、塩化メチレン溶液をを濾過し濃
縮する。収率は１，６９３．７ｇで理論値の９６．２％
であった。生成物は樹脂状であり、燐含量は８．９％（
理論値は８．８％）、ＯＨ価は４であった。

【００９７】８．　　１モルの燐酸トリフェニルと１．
５当量のノヴォラック（ｐ−クレゾールから得たもの、
約５個のフェニル核を有する）から得られる燐酸エステ
ル。

【００９８】熔融させた後、１，３０５．２ｇ（４モル
）の燐酸トリフェニル、７１９．４ｇ（６ｇ当量）のｐ
−クレゾールとフォルムアルデヒドとのノヴォラック（
ＯＨ価４６８、約５個のフェニル核を有する）および１
１．４ｇの塩化マグネシウム（０．１２モル）を、制御
可能な加熱フード、毛細管、および下降還流冷却器を付
けた短いヴィグロー蒸溜塔を備えた４リットルのフラス
コ中において、３００ミリバールの減圧下において２０
０℃に０．５時間加熱する。毛細管から窒素流を流し込
み十分な撹拌を行う。次に蒸溜塔および還流冷却器を通
じて温度２００〜２１０℃で３００〜３ミリバールの減
圧下において３．５時間に亙り５８０．４ｇの生成物（
ＯＨ価５７８）を蒸溜する（６モルのフェノール：５６
４．６ｇ）。次いでこの反応生成物を３ミリバールの減
圧下において２１０℃で１時間加熱する。冷却後反応生
成物を４リットルの塩化メチレン中に採り、塩化物がな
くなるまで水洗する。硫酸ナトリウムで乾燥した後、塩
化メチレン溶液をを濾過し濃縮する。収率は１，３７８
．６ｇで理論値の９４．３％であった。生成物は７２℃
で軟化し始め（コフラーの加熱ベンチ）、燐含量は９．
０％（理論値は８．５％）、ＯＨ価は０であった。

【００９９】９．　　１モルの燐酸トリフェニルと２当
量のノヴォラック（ｐ−クレゾールから得たもの、約５
個のフェニル核を有する）から得られる燐酸エステル。

【０１００】熔融させた後、１，１４２．０ｇ（３．５
モル）の燐酸トリフェニル、８３９．３ｇ（７ｇ当量）
のｐ−クレゾールとフォルムアルデヒドとのノヴォラッ
ク（ＯＨ価４６８、約５個のフェニル核を有する）およ
び１０．０ｇの塩化マグネシウム（０．０９モル）を、
制御可能な加熱フード、毛細管、および下降還流冷却器
を付けた短いヴィグロー蒸溜塔を備えた４リットルのフ
ラスコ中において、３００ミリバールの減圧下において
２００℃に０．５時間加熱する。毛細管から窒素流を流
し込み十分な撹拌を行う。次に蒸溜塔および還流冷却器
を通じて温度２００〜２１０℃で３００〜３ミリバール
の減圧下において４時間に亙り６８１．７ｇの生成物（
ＯＨ価５５０）を蒸溜する（７モルのフェノール：６５
８．７ｇ）。次いでこの反応生成物を３ミリバールの減
圧下において２１０℃で１時間加熱する。冷却後反応生
成物を４リットルの塩化メチレン中に採り、塩化物がな
くなるまで水洗する。硫酸ナトリウムで乾燥した後、塩
化メチレン溶液をを濾過し濃縮する。収率は１，３０４
．７ｇで理論値の９８．６％であった。生成物は１４１
℃で軟化し始め（コフラーの加熱ベンチ）、燐含量は８
．２％（理論値は８．２％）、ＯＨ価は０であった。

【０１０１】Ｃ．成形用配合物の製造、加工および試験
表１に示した量の使用成分を計量し、二重スクリュー押
出し機中で混合して押し出してストランドにした後、粒
状化する。成形用配合物は例えばウェルナー・アンド・
プフライデラー（Ｗｅｒｎｅｒ　　＆　　Ｐｆｌｅｉｄ
ｅｒｅｒ）ＺＳＫ３２二重スクリュー押出し機中におい
て、熔融物温度２７０〜２８０℃、スクリュー速度１３
０ｒｐｍ、通過量８ｋｇ／時間で製造することができる
。

【０１０２】成形用配合物について適切な乾燥（例えば
１２０℃３じゃら４時間）を行った後、標準的な射出成
形機において、熔融物温度を２５０〜２７０℃、成形型
温度を８０〜１３０℃、また熔融物の滞在時間を９分よ
り短くして射出成形を行って試験片（標準の試験棒）を
つくり、これについて下記の試験を行った。

【０１０３】―　　燐含量の決定（元素分析、％Ｐ）―
　　ドリップ特性の評価 ―　　アンダーライターズ・ラボラトリー（Ｕｎｄｅｒ
ｗｒｉｔｅｒｓ′　Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ）の火災試験
ＵＬ−９４ 試験結果を下記表２に示す。

【０１０４】

【表１】

【０１０５】

【表２】

【０１０６】

【表３】

【０１０７】

【表４】

【０１０８】

【表５】

【０１０９】表１および２の実施例１〜３８から判るよ
うに、ビスフェノールおよびノヴォラックのフォスフィ
ン酸、フォスフォン酸および燐酸エステル、ドリップ防
止剤および随時主として芳香族の主鎖を有し高い耐熱性
（バイカットＢ＞１８０℃）をもった熱可塑性物質を含
む本発明の混合物は、１．６ｍｍの厚さの試験片に対し
ＵＬ−９４分類Ｖ−Ｏをもつ熱可塑性ポリエステルを与
える。

【０１１０】主として芳香族の主鎖を有し高い耐熱性（
バイカットＢ＞１８０℃）をもった熱可塑性物質を使用
すると、ＵＬ−９４分類Ｖ−Ｏ（１．６ｍｍ）を達成す
るために必要な本発明の燐含有化合物の量をその量に比
例した量以下に減少させることができる。

【０１１１】またハロゲン化合物を使用すると、ＵＬ−
９４分類Ｖ−Ｏ（１．６ｍｍ）を達成するために必要な
本発明の燐含有化合物の量をさらに減少させることがで
きる。

【０１１２】本発明の主な特徴及び態様は次の通りであ
る。１．ポリアルキレンテレフタレートの他に、Ａ．式
（Ｉ）

【０１１３】

【化６】

【０１１４】但し式中Ｒ１は水素、Ｃ１〜８アルキル、
Ｃ７〜１２アラルキルおよび／または随時Ｃ１〜４アル
キルで置換されたフェニルであり、Ｒ２は

【０１１５】

【化７】

【０１１６】であり、Ｒ３は随時Ｃ１〜４−アルキル−
、Ｃ６〜１０−アリール−またはＣ７〜１２−アラルキ
ル置換フェノキシ、Ｃ１〜４−アルキル、Ｃ７〜１２ア
ラルキルおよび／または随時Ｃ１〜４−アルキルで置換
されたフェニルであり、ｍは０または１〜１２の整数、
ｎは０または１〜５の整数であるが、ｍが０の時は、ｎ
は少なくとも１であってＲ２は（ＩＩＩ）を表し、ｎが
０の時は、ｍは少なくとも１であってＲ２は（ＩＩ）を
表し、また式（Ｉ）のノヴォラックのフェニル核の数は
１２より大きくはないものとする、に対応する含燐酸の
エステル５〜３０重量部、およびＢ．ドリップ防止剤０
．０１〜２．０重量部を含んでいることを特徴とする耐
焔性をもったドリップを生じないポリアルキレンテレフ
タレート成形用配合物。

【０１１７】２．ドリップ防止剤としてテトラフルオロ
エチレン重合体を使用する上記第１項記載の耐焔性をも
ったドリップを生じないポリアルキレンテレフタレート
成形用配合物。

【０１１８】３．該成形用配合物はポリスルフォン、ポ
リエーテルスルフォン、ポリケトン、ポリエーテルケト
ン、ポリフェニレンオキシドおよび／またはポリアリー
レンスルフィドを含んでいる上記第１項記載の耐焔性を
もったドリップを生じないポリアルキレンテレフタレー
ト成形用配合物。

【０１１９】４．耐焔性をもったポリアルキレンテレフ
タレート成形用配合物を成形品の製造に使用する方法。

【０１２０】

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　ポリアルキレンテレフタレートの他に
   、Ａ．式（Ｉ） 【化１】 但し式中Ｒ１は水素、Ｃ１〜８アルキル、Ｃ７〜１２ア
   ラルキルおよび／または随時Ｃ１〜４アルキルで置換さ
   れたフェニルであり、Ｒ２は 【化２】 であり、Ｒ３は随時Ｃ１〜４−アルキル−、Ｃ６〜１０
   −アリール−またはＣ７〜１２−アラルキル置換フェノ
   キシ、Ｃ１〜４−アルキル、Ｃ７〜１２アラルキルおよ
   び／または随時Ｃ１〜４−アルキルで置換されたフェニ
   ルであり、ｍは０または１〜１２の整数、ｎは０または
   １〜５の整数であるが、ｍが０の時は、ｎは少なくとも
   １であってＲ２は（ＩＩＩ）を表し、ｎが０の時は、ｍ
   は少なくとも１であってＲ２は（ＩＩ）を表し、また式
   （Ｉ）のノヴォラックのフェニル核の数は１２より大き
   くはないものとする、に対応する含燐酸のエステル５〜
   ３０重量部、およびＢ．ドリップ防止剤０．０１〜２．
   ０重量部を含んでいることを特徴とする耐焔性をもった
   ドリップを生じないポリアルキレンテレフタレート成形
   用配合物。