JPH0423341A - プローバのアライメント装置及び方法 - Google Patents
プローバのアライメント装置及び方法Info
- Publication number
- JPH0423341A JPH0423341A JP2123396A JP12339690A JPH0423341A JP H0423341 A JPH0423341 A JP H0423341A JP 2123396 A JP2123396 A JP 2123396A JP 12339690 A JP12339690 A JP 12339690A JP H0423341 A JPH0423341 A JP H0423341A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- probe
- prober
- semiconductor wafer
- alignment
- needle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/2851—Testing of integrated circuits [IC]
- G01R31/2886—Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks
- G01R31/2887—Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks involving moving the probe head or the IC under test; docking stations
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、プローバのアライメント装置に関する。
[従来の技術]
従来から第7図に示すように半導体ウェハ1上にスクラ
イブライン2を介して多数形成されたICチップ3のそ
れぞれの電気特性を検査するプローバがある。プローバ
はプローブカードに植設された複数のプローブ針と、各
ICチップ3に形成された複数の電極とを接触させ、こ
の接触状態からプローブカーFに接続されたテスタの測
定によりICチップ3の良・不良を自動的に判別するも
のである。
イブライン2を介して多数形成されたICチップ3のそ
れぞれの電気特性を検査するプローバがある。プローバ
はプローブカードに植設された複数のプローブ針と、各
ICチップ3に形成された複数の電極とを接触させ、こ
の接触状態からプローブカーFに接続されたテスタの測
定によりICチップ3の良・不良を自動的に判別するも
のである。
ここでプローバによる検査を自動的に行うためには、ま
ずカセットに収納された半導体ウエノ1を搬送機構によ
り取り出し、アライメントステージで半導体ウェハの位
置合せを行い、位置合せ後ブロービングステージに搬送
し、半導体ウェハ上のICチップ3上に形成された1辺
60〜100μmの大きさの電極(パッド)とプローブ
針との接触を行わせ測定を行う。
ずカセットに収納された半導体ウエノ1を搬送機構によ
り取り出し、アライメントステージで半導体ウェハの位
置合せを行い、位置合せ後ブロービングステージに搬送
し、半導体ウェハ上のICチップ3上に形成された1辺
60〜100μmの大きさの電極(パッド)とプローブ
針との接触を行わせ測定を行う。
測定においてはプローバには予めICチップの電極配列
の位置が記憶されており、この情報によりプローブを行
う。アライメントステージで位置合せ(オリフラ合わせ
)が行われた半導体ウェハが搬送され、半導体ウェハを
載置したブロービングステージが上記記憶されたプロー
ブ針位置に移動してもプローブ針位置とICチップ電極
位置が僅かにずれる。このずれを修正してプローブ針と
電極を接触させるため、まずずれの測定を行う。
の位置が記憶されており、この情報によりプローブを行
う。アライメントステージで位置合せ(オリフラ合わせ
)が行われた半導体ウェハが搬送され、半導体ウェハを
載置したブロービングステージが上記記憶されたプロー
ブ針位置に移動してもプローブ針位置とICチップ電極
位置が僅かにずれる。このずれを修正してプローブ針と
電極を接触させるため、まずずれの測定を行う。
そしてこのずれ量をオペレータがマニュアルでプローブ
針と電極位置が正確に接触するよう微調整を行い、この
微調整された位置をプローバに記憶する。
針と電極位置が正確に接触するよう微調整を行い、この
微調整された位置をプローバに記憶する。
この操作はテーチングと呼ばれテーチングは半導体ウェ
ハの品種毎にプローブカードを交換する都度行われ、テ
ーチングの後、以下ICチップのピッチでブロービング
ステージを移動させ自動的に順次ICチップの測定を行
い1枚の半導体ウェハの測定が終了すると、次の半導体
ウェハを搬送して、順次測定を行うべき全半導体ウェハ
の測定を自動的に行いブロービングを終了するようにな
っている。
ハの品種毎にプローブカードを交換する都度行われ、テ
ーチングの後、以下ICチップのピッチでブロービング
ステージを移動させ自動的に順次ICチップの測定を行
い1枚の半導体ウェハの測定が終了すると、次の半導体
ウェハを搬送して、順次測定を行うべき全半導体ウェハ
の測定を自動的に行いブロービングを終了するようにな
っている。
ここでプローブ針と電極のずれの測定を行うに際しては
まずアルミ等が蒸着されたダミーウェハに複数のプロー
ブ針を接触させ、ダミーウェハにプローブ針跡を付して
基準のプローブ針の針跡から正規の位置にあるべき第2
、第3のプローブ針の位置とのずれからθ回転を測定し
、プローブカードを−θ回転させて補正する。その後ア
ライメントステージでオリフラ合せされた第1番目の測
定用の半導体ウェハをブロービングステージに載置させ
、(この時半導体ウェハとプローブ針のθ回転はすでに
補正されている)オペレータがマイクロスコープで観察
しながら、ICチップの基準電極と基準プローブ針とが
接触位置になるようブロービングステージをXSY方向
に移動させてこの位置をプローバに記憶させ、テーチン
グを終了する。以下このテーチング値に従って半導体ウ
ェハを搬送しプローバによる自動的ブロービングが行わ
れる。
まずアルミ等が蒸着されたダミーウェハに複数のプロー
ブ針を接触させ、ダミーウェハにプローブ針跡を付して
基準のプローブ針の針跡から正規の位置にあるべき第2
、第3のプローブ針の位置とのずれからθ回転を測定し
、プローブカードを−θ回転させて補正する。その後ア
ライメントステージでオリフラ合せされた第1番目の測
定用の半導体ウェハをブロービングステージに載置させ
、(この時半導体ウェハとプローブ針のθ回転はすでに
補正されている)オペレータがマイクロスコープで観察
しながら、ICチップの基準電極と基準プローブ針とが
接触位置になるようブロービングステージをXSY方向
に移動させてこの位置をプローバに記憶させ、テーチン
グを終了する。以下このテーチング値に従って半導体ウ
ェハを搬送しプローバによる自動的ブロービングが行わ
れる。
[発明が解決しようとする課題]
ところがオペレータがマイクロスコープでICチップの
電極を観察しながら基準プローブ針と基準電極の位置合
せを行う場合、1つのICチップには500個位の電極
が形成されておりこの多数の電極の中から基準電極を認
識し、基準プローブ針と接触させるのは非常に困難で、
時間も要し、さらには基準電極を誤認してしまうことも
しばしばあった。
電極を観察しながら基準プローブ針と基準電極の位置合
せを行う場合、1つのICチップには500個位の電極
が形成されておりこの多数の電極の中から基準電極を認
識し、基準プローブ針と接触させるのは非常に困難で、
時間も要し、さらには基準電極を誤認してしまうことも
しばしばあった。
本発明は上記の欠点を解消するためになされたものであ
って、基準電極とプローブ針のずれを測定するのに短時
間でしかも簡単に誤認が生じない正確な測定を行えるプ
ローバを提供することを目的とする。
って、基準電極とプローブ針のずれを測定するのに短時
間でしかも簡単に誤認が生じない正確な測定を行えるプ
ローバを提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段]
上記の目的を達成するため、本発明のプローバは、半導
体ウェハ上にスクライブラインを介して形成された複数
のICチップの電極と、触子とを接触させてプローブを
行うプローバのアライメント装置において、前記スクラ
イブラインの交点を認識する手段と、前記交点から予め
定められた位置にある前記ICチップの基準電極を認識
する手段と、前記電極と前記触子の位置合せ手段とを備
えたものである。
体ウェハ上にスクライブラインを介して形成された複数
のICチップの電極と、触子とを接触させてプローブを
行うプローバのアライメント装置において、前記スクラ
イブラインの交点を認識する手段と、前記交点から予め
定められた位置にある前記ICチップの基準電極を認識
する手段と、前記電極と前記触子の位置合せ手段とを備
えたものである。
[作用コ
半導体ウェハ上のICチップはスクライブラインを介し
て形成されている。ブロービングを行う前に、半導体ウ
ェハ(ICチップの電極)と触子であるプローブ針との
ずれを検出するアライメントの際にスクライブラインの
交点を認識し、プローバに予め入力しておいたスクライ
ブラインの交点とICチップ上の基準電極との距離の情
報からプローバは基準電極の位置を正確にキャッチする
。
て形成されている。ブロービングを行う前に、半導体ウ
ェハ(ICチップの電極)と触子であるプローブ針との
ずれを検出するアライメントの際にスクライブラインの
交点を認識し、プローバに予め入力しておいたスクライ
ブラインの交点とICチップ上の基準電極との距離の情
報からプローバは基準電極の位置を正確にキャッチする
。
そして基準電極の位置に基準のプローブ針を移動させて
正確に位置合せができる。そのため、オペレータによる
基準電極を誤認する事態か発生することなく、短時間で
アライメントを終了させることができる。
正確に位置合せができる。そのため、オペレータによる
基準電極を誤認する事態か発生することなく、短時間で
アライメントを終了させることができる。
[実施例]
本発明の一実施例であるプローバのアライメント装置を
図面を参照して説明する。
図面を参照して説明する。
第1図に示すプローバ4は、主として半導体ウェハ1(
第7図)を収納したキャリア5を載置する収納部6と、
ブロービングを行うブローバ部7と、ブローバ部7の上
方にプローブ針8(触子)を植設したプローブカード9
を備え、ICチップの電極列とプローブ針8列とを接触
させICチップの電気特性状態を検出するテスタ部10
とから成る。
第7図)を収納したキャリア5を載置する収納部6と、
ブロービングを行うブローバ部7と、ブローバ部7の上
方にプローブ針8(触子)を植設したプローブカード9
を備え、ICチップの電極列とプローブ針8列とを接触
させICチップの電気特性状態を検出するテスタ部10
とから成る。
収納部6は半導体ウェハが例えば25枚収納されている
ウェハキャリア5を載置する載置台11を備え、載置台
11はCPUに制御される上下駆動機構12に接続され
、図示しない搬送アームにより順次半導体ウェハ1が1
枚ずつ搬出されるよう上下方向に移動可能な構成となっ
ている。さらに収納部6には搬送アームにより搬出され
た半導体ウェハ1の粗アライメント(オリフラ合わせ)
を行うアライメントステージ13が設けられ、例えば投
受光センサ等で半導体ウェハlの外周を検知し、アライ
メントを行うアライメント機構(図示せず)を備えてい
る。
ウェハキャリア5を載置する載置台11を備え、載置台
11はCPUに制御される上下駆動機構12に接続され
、図示しない搬送アームにより順次半導体ウェハ1が1
枚ずつ搬出されるよう上下方向に移動可能な構成となっ
ている。さらに収納部6には搬送アームにより搬出され
た半導体ウェハ1の粗アライメント(オリフラ合わせ)
を行うアライメントステージ13が設けられ、例えば投
受光センサ等で半導体ウェハlの外周を検知し、アライ
メントを行うアライメント機構(図示せず)を備えてい
る。
ブローバ部7はアライメントされた半導体ウェハ1を搬
送する図示しない搬送系を備え、半導体ウェハを載置す
るブロービングステージ14がX1Y12方向及びZ軸
を中心としたθ回転される駆動機構に接続されて設けら
れる。ブロービングステージ4はアライメントされた半
導体ウェハ1の位置をずらさずに正確に搬送できるよう
吸着等の手段(真空装置)を備えている。ブロービング
ステージ4の移動距離はCPUにより完全に制御される
。またブロービングステージ14はオペレータが操作す
ることによりμm単位で移動制御可能なジョイステック
19に接続される。さらに第2図の正面図に示すように
プローバ部7にはブロービングステージ14上の半導体
ウェハ1の正確な位置決めのためのCCDカメラ15(
アライメント装置)及びハイドセンサ16が予め定めら
れた位置に設けられ、CCDカメラ15の撮像情報がス
クライブラインの交点を認識する手段、スクライブライ
ンの交点から定められた距離にあるICチップの基準電
極を認識する手段、基準電極と触子の位置合せ手段等の
アライメント手段を備えたCPUに入力されるようにな
っている。
送する図示しない搬送系を備え、半導体ウェハを載置す
るブロービングステージ14がX1Y12方向及びZ軸
を中心としたθ回転される駆動機構に接続されて設けら
れる。ブロービングステージ4はアライメントされた半
導体ウェハ1の位置をずらさずに正確に搬送できるよう
吸着等の手段(真空装置)を備えている。ブロービング
ステージ4の移動距離はCPUにより完全に制御される
。またブロービングステージ14はオペレータが操作す
ることによりμm単位で移動制御可能なジョイステック
19に接続される。さらに第2図の正面図に示すように
プローバ部7にはブロービングステージ14上の半導体
ウェハ1の正確な位置決めのためのCCDカメラ15(
アライメント装置)及びハイドセンサ16が予め定めら
れた位置に設けられ、CCDカメラ15の撮像情報がス
クライブラインの交点を認識する手段、スクライブライ
ンの交点から定められた距離にあるICチップの基準電
極を認識する手段、基準電極と触子の位置合せ手段等の
アライメント手段を備えたCPUに入力されるようにな
っている。
ブローバ部7の上方には、検査情報が入力されたCPU
からの出力によりアライメントや測定を行うテスタ部1
0が設けられ、第3図に示すようにICチップ3の電極
18に接触させるプローブ針8を植設したプローブカー
ド9がセットされる。
からの出力によりアライメントや測定を行うテスタ部1
0が設けられ、第3図に示すようにICチップ3の電極
18に接触させるプローブ針8を植設したプローブカー
ド9がセットされる。
プローブカード9は回転機構91に接続されたインサー
トリング(図示せず)により位置合せ時に所望の回転が
なされる。さらにテスタ部1oの上方にはマイクロスコ
ープ17がブロービングステージ14上の半導体ウェハ
1を観察できるように設けられる。
トリング(図示せず)により位置合せ時に所望の回転が
なされる。さらにテスタ部1oの上方にはマイクロスコ
ープ17がブロービングステージ14上の半導体ウェハ
1を観察できるように設けられる。
さらにプローバ4には図示しないプローブカード収納部
、この収納部から半導体ウェハの品種に対応する所望の
プローブカードを搬出し、インサートリングに位置合せ
してセットする搬送機構等を備えている。
、この収納部から半導体ウェハの品種に対応する所望の
プローブカードを搬出し、インサートリングに位置合せ
してセットする搬送機構等を備えている。
このような構成のプローバにおけるプローブ針8とIC
チップの電極18のアライメント方法について第3図の
フローチャートに従って説明する。
チップの電極18のアライメント方法について第3図の
フローチャートに従って説明する。
収納部6のアライメントステージ13でオリフラ合せが
行われたダミーウェハをブロービングステージ14上に
搬送する。ブロービングステージ14を上昇させ、例え
ば4本のプローブ針8とダミーウェハを接触させ針跡を
付す(A)。ダミーウェハを載置したブロービングステ
ージ14をCCDカメラ15の位置に移動して針跡を撮
像する。
行われたダミーウェハをブロービングステージ14上に
搬送する。ブロービングステージ14を上昇させ、例え
ば4本のプローブ針8とダミーウェハを接触させ針跡を
付す(A)。ダミーウェハを載置したブロービングステ
ージ14をCCDカメラ15の位置に移動して針跡を撮
像する。
第4図に示すように撮像された針跡8a、8b。
8c及び8dのうち基準プローブ針81(第3図)によ
る針跡を8aとすると、8aにCCDカメラ15のセン
サを示すクロスを合致させるようオペレータがジョイス
テックを操作してブロービングステージ14を移動させ
る。そしてこの位置8a(Xa、Ya)をcpuに記憶
させる(B) 。そしてこの位置8a (XaSYa)
を基準として予めプローバに人力されている移動量、第
2のプローブ針跡8b (XbSYb)の予想位置8b
’(Xb’、yb”)にクロスが移動する(C)。この
時Xb=xb′、Yb=Yb゛であればプローブカード
のθ回転のずれがOであり、補正は不必要であるが、x
b≠xb’ 、yb≠Yb’ であればずれが生じてい
る(D)。そしてオペレータがジョイステックを操作し
て実際の針跡に8b(Xb。
る針跡を8aとすると、8aにCCDカメラ15のセン
サを示すクロスを合致させるようオペレータがジョイス
テックを操作してブロービングステージ14を移動させ
る。そしてこの位置8a(Xa、Ya)をcpuに記憶
させる(B) 。そしてこの位置8a (XaSYa)
を基準として予めプローバに人力されている移動量、第
2のプローブ針跡8b (XbSYb)の予想位置8b
’(Xb’、yb”)にクロスが移動する(C)。この
時Xb=xb′、Yb=Yb゛であればプローブカード
のθ回転のずれがOであり、補正は不必要であるが、x
b≠xb’ 、yb≠Yb’ であればずれが生じてい
る(D)。そしてオペレータがジョイステックを操作し
て実際の針跡に8b(Xb。
yb)にクロスを合せ、この位置をCPUに記憶させる
(E)。そしてθ、を演算する。そして第3のプローブ
針跡8c (Xc、Yc)と予想位置8c’(Xc’、
Yc’)及び第4のプローブ針跡8d (Xd、Yd)
と予想位置8d’(Xd’、Yd’)から同様の操作に
よりθC1θdを求める。
(E)。そしてθ、を演算する。そして第3のプローブ
針跡8c (Xc、Yc)と予想位置8c’(Xc’、
Yc’)及び第4のプローブ針跡8d (Xd、Yd)
と予想位置8d’(Xd’、Yd’)から同様の操作に
よりθC1θdを求める。
そしてθb1θC1θdの平均値を求め(F)、プロー
ブカードは求められた平均値θ。から回転機構91によ
り一θ回転され回転量が補正される(G)。ここで4本
の針跡についてずれを測定したが最小2本でも回転のず
れは測定できる。
ブカードは求められた平均値θ。から回転機構91によ
り一θ回転され回転量が補正される(G)。ここで4本
の針跡についてずれを測定したが最小2本でも回転のず
れは測定できる。
次にダミーウェハをアンロードしてアライメントステー
ジ13でオリフラ合せされた被測定体の半導体ウェハ1
をブロービングステージ14上に載置してCCDカメラ
15で撮像し、スクライブライン2を検出する(H)。
ジ13でオリフラ合せされた被測定体の半導体ウェハ1
をブロービングステージ14上に載置してCCDカメラ
15で撮像し、スクライブライン2を検出する(H)。
第6図に示すようにスクライブライン2のライン方向の
異なる2点Sx1、SX2でそれぞれスクライブライン
2の幅の中点5X10% 5X2oにオペレータがジョ
イステックを操作してクロスを一致させ、それぞれの位
置を記憶させる。5XIQ%5X20からCPUはスク
ライブライン2の中心線98を求める(I)。
異なる2点Sx1、SX2でそれぞれスクライブライン
2の幅の中点5X10% 5X2oにオペレータがジョ
イステックを操作してクロスを一致させ、それぞれの位
置を記憶させる。5XIQ%5X20からCPUはスク
ライブライン2の中心線98を求める(I)。
次にスクライブライン2に直交するスクライブライン2
1を検出し、同様にスクライブライン21方向の異なる
2点SY、、S Y 2でスクライブライン21の幅の
中点SY1゜、5Y2oにオペレータがジョイスティッ
クを操作してクロスを一致させ、それぞれの位置を記憶
させる。S Y 、。、5Y20からCPUはスクライ
ブライン21の中心線9.を求める(K) 。そして9
8と9.の交点C(XOlyo)を演算して記憶する(
L)。この交点から予め記憶しておいた基準電極18a
に自動的に基準プローブ針81が接触するようにブロー
ビングステージ14が移動する(M)。ここで基準プロ
ーブ′針と基準電極が位置合せされ、既に回転方向は補
正されているため基準プローブ針以外の第2、第3・・
・・のプローブ針と基準電極以外の電極とはほとんど一
致されているが、オペレータがマイクロスコープ17で
観察して一致を確認する。
1を検出し、同様にスクライブライン21方向の異なる
2点SY、、S Y 2でスクライブライン21の幅の
中点SY1゜、5Y2oにオペレータがジョイスティッ
クを操作してクロスを一致させ、それぞれの位置を記憶
させる。S Y 、。、5Y20からCPUはスクライ
ブライン21の中心線9.を求める(K) 。そして9
8と9.の交点C(XOlyo)を演算して記憶する(
L)。この交点から予め記憶しておいた基準電極18a
に自動的に基準プローブ針81が接触するようにブロー
ビングステージ14が移動する(M)。ここで基準プロ
ーブ′針と基準電極が位置合せされ、既に回転方向は補
正されているため基準プローブ針以外の第2、第3・・
・・のプローブ針と基準電極以外の電極とはほとんど一
致されているが、オペレータがマイクロスコープ17で
観察して一致を確認する。
この時、ずれがあればオペレータはジョイステックを移
動させ微調整を行う。微調整が行われればスクライブラ
インの中心線9゜、9.の交点Cの記憶した(xoSy
o)座標を補正し、この補正値を記憶する(N)。この
補正値が記憶され、アライメント(テーチング)が終了
する(0)。ブローバに記憶されたこの補正値に従い、
各半導体ウェハ毎にブロービングステージの移動がなさ
れ、半導体ウェハの正確なブロービングが行われる。
動させ微調整を行う。微調整が行われればスクライブラ
インの中心線9゜、9.の交点Cの記憶した(xoSy
o)座標を補正し、この補正値を記憶する(N)。この
補正値が記憶され、アライメント(テーチング)が終了
する(0)。ブローバに記憶されたこの補正値に従い、
各半導体ウェハ毎にブロービングステージの移動がなさ
れ、半導体ウェハの正確なブロービングが行われる。
以上の説明は、本発明によるブローバのアライメント装
置の一実施例であって、この実施例ではオペレータがダ
ミーウェハに付した実際の針跡にCCDカメラのクロス
を合わせることにより予想される針跡とのずれをCPU
に記憶させたがCCDカメラで撮像した画像と予め記憶
させた画像とを比較する画像認識からずれの測定を行い
、プローブカードの回転を測定し、回転機構91により
回転の補正を行うようにしてもよい。また、スクライブ
ラインの中心線もオペレータが中点をCCDカメラのク
ロスを一致させ、この点から記憶させるようにしたが、
同様に画像認識手段により予め記憶させた画像との一致
、不一致から演算により求めるようにして、オペレータ
の操作を省き、完全に自動化を行うようにしてもよい。
置の一実施例であって、この実施例ではオペレータがダ
ミーウェハに付した実際の針跡にCCDカメラのクロス
を合わせることにより予想される針跡とのずれをCPU
に記憶させたがCCDカメラで撮像した画像と予め記憶
させた画像とを比較する画像認識からずれの測定を行い
、プローブカードの回転を測定し、回転機構91により
回転の補正を行うようにしてもよい。また、スクライブ
ラインの中心線もオペレータが中点をCCDカメラのク
ロスを一致させ、この点から記憶させるようにしたが、
同様に画像認識手段により予め記憶させた画像との一致
、不一致から演算により求めるようにして、オペレータ
の操作を省き、完全に自動化を行うようにしてもよい。
以上の説明はスクライブラインの交点を求め、予め入力
されていた交点から基準電極までの距離で基準電極の位
置を求めたが、スクライブラインからICチップの角の
位置を認識して、そこから基準電極の位置がわかるよう
にしてもよい。
されていた交点から基準電極までの距離で基準電極の位
置を求めたが、スクライブラインからICチップの角の
位置を認識して、そこから基準電極の位置がわかるよう
にしてもよい。
尚、検査が行われている半導体ウェハとは異なる品種を
検査する場合でも、自動的にプローブカードの収納部か
ら異なるプローブカードを取り出し、プローブカードの
交換を行い、その後もダミーウェハを搬送してプローブ
針を接触させ針跡を付し、針跡からプローブカードの回
転を測定し、自動的にプローブカードをマイナス回転さ
せθ回転方向の補正を行ない、その後スクライブライン
を検出し画像認識からスクライブラインの交点を求める
ことにより、予め入力されているスクライブライン交点
と基準電極位置から自動的にアライメントを行なうこと
ができる。従って他品種の検査も全自動で実施すること
ができる。
検査する場合でも、自動的にプローブカードの収納部か
ら異なるプローブカードを取り出し、プローブカードの
交換を行い、その後もダミーウェハを搬送してプローブ
針を接触させ針跡を付し、針跡からプローブカードの回
転を測定し、自動的にプローブカードをマイナス回転さ
せθ回転方向の補正を行ない、その後スクライブライン
を検出し画像認識からスクライブラインの交点を求める
ことにより、予め入力されているスクライブライン交点
と基準電極位置から自動的にアライメントを行なうこと
ができる。従って他品種の検査も全自動で実施すること
ができる。
また、本発明は半導体ウェハのプローバに限定されるも
のでなく、液晶基板やプリント基板等にも適用できる。
のでなく、液晶基板やプリント基板等にも適用できる。
[発明の効果]
以上の説明からも明らかなように、本発明のプローバの
アライメント装置によれば、スクライブラインを認識す
る手段を設け、スクライブラインから基準電極の位置を
目動的にわかるようにしたため、オペレータが多数ある
電極のうちから基準電極の選択を誤ることなく確実に、
簡単に、しかも短時間にアライメントを行うことができ
る。
アライメント装置によれば、スクライブラインを認識す
る手段を設け、スクライブラインから基準電極の位置を
目動的にわかるようにしたため、オペレータが多数ある
電極のうちから基準電極の選択を誤ることなく確実に、
簡単に、しかも短時間にアライメントを行うことができ
る。
第1図は本発明プローバのアライメント装置に係わる一
実施例の構成図、第2図及び第3図は第1図に示す−・
実施例の要部を示す図、第4図は第1図に示す装置で行
なわれるアライメント方法を示すフローチャート、第5
図、第6図は第4図に示すアライメントの方法を説明す
る図、第7図は従来例及び本発明の半導体ウェハを示す
図である。 1・・・・・・半導体ウェハ 2・・・・・・スクライブライン 3・・・・・・ICチップ 4・・・・・・プローバ 8・・・・・・プローブ針(触子) 15・・・・・・・CCDカメラ(アライメント装置)
18・・・・・・・電極 18a・・・・・基準電極 C・・・・・・・・・交点
実施例の構成図、第2図及び第3図は第1図に示す−・
実施例の要部を示す図、第4図は第1図に示す装置で行
なわれるアライメント方法を示すフローチャート、第5
図、第6図は第4図に示すアライメントの方法を説明す
る図、第7図は従来例及び本発明の半導体ウェハを示す
図である。 1・・・・・・半導体ウェハ 2・・・・・・スクライブライン 3・・・・・・ICチップ 4・・・・・・プローバ 8・・・・・・プローブ針(触子) 15・・・・・・・CCDカメラ(アライメント装置)
18・・・・・・・電極 18a・・・・・基準電極 C・・・・・・・・・交点
Claims (1)
- 半導体ウェハ上にスクライブラインを介して形成され
た複数のICチップの電極と、触子とを接触させてプロ
ーブを行うプローバのアライメント装置において、前記
スクライブラインの交点を認識する手段と、前記交点か
ら予め定められた位置にある前記ICチップの基準電極
を認識する手段と、前記電極と前記触子の位置合せ手段
とを備えたことを特徴とするプローバのアライメント装
置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2123396A JP2928331B2 (ja) | 1990-05-14 | 1990-05-14 | プローバのアライメント装置及び方法 |
| US07/693,536 US5274575A (en) | 1990-05-14 | 1991-04-30 | Method of probing test |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2123396A JP2928331B2 (ja) | 1990-05-14 | 1990-05-14 | プローバのアライメント装置及び方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0423341A true JPH0423341A (ja) | 1992-01-27 |
| JP2928331B2 JP2928331B2 (ja) | 1999-08-03 |
Family
ID=14859529
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2123396A Expired - Lifetime JP2928331B2 (ja) | 1990-05-14 | 1990-05-14 | プローバのアライメント装置及び方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5274575A (ja) |
| JP (1) | JP2928331B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6321094B1 (en) | 1997-01-31 | 2001-11-20 | Nec Corporation | Access method through radio mobile communication system |
| JP2006339196A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | プローバの移動量演算校正方法、移動量演算校正処理プログラム及びプローバ |
| JP2013055233A (ja) * | 2011-09-05 | 2013-03-21 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | プローバにおけるウエハ上のチップ配列検出方法 |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5416592A (en) * | 1992-03-23 | 1995-05-16 | Tokyo Electron Kabushiki Kaisha | Probe apparatus for measuring electrical characteristics of objects |
| US5327625A (en) * | 1992-08-13 | 1994-07-12 | Massachusetts Institute Of Technology | Apparatus for forming nanometric features on surfaces |
| JP2833402B2 (ja) * | 1993-03-02 | 1998-12-09 | ジェイエスアール株式会社 | 被検査電極板の検査方法 |
| US5539676A (en) * | 1993-04-15 | 1996-07-23 | Tokyo Electron Limited | Method of identifying probe position and probing method in prober |
| US5867590A (en) * | 1995-01-11 | 1999-02-02 | Nova Measuring Instruments, Ltd. | Method and apparatus for determining a location on a surface of an object |
| US5901273A (en) * | 1995-10-17 | 1999-05-04 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Two-dimensional position/orientation measuring mark, two-dimensional position/orientation measuring method and apparatus, control apparatus for image recording apparatus, and control apparatus for manipulator |
| BR9610882A (pt) * | 1996-01-16 | 1999-07-13 | He Holding Inc Dba Hughes Elec | Sistema de filtro endereçável por satélite de segurança para recpção somente de rede superficial local |
| FR2770029B1 (fr) | 1997-10-22 | 2000-01-07 | Sgs Thomson Microelectronics | Plage de test a positionnement automatique de microsonde et procede de realisation d'une telle plage de test |
| KR19990053079A (ko) * | 1997-12-23 | 1999-07-15 | 윤종용 | 인식 마크가 형성된 반도체 웨이퍼 및 그 인식 마크를 이용한 웨이퍼 절삭 방법 |
| IL123575A (en) * | 1998-03-05 | 2001-08-26 | Nova Measuring Instr Ltd | Method and apparatus for alignment of a wafer |
| JP4722244B2 (ja) * | 1998-07-14 | 2011-07-13 | ノバ・メジャリング・インストルメンツ・リミテッド | 所定のフォトリソグラフィ工程に従って基板を加工する装置 |
| IL125337A0 (en) * | 1998-07-14 | 1999-03-12 | Nova Measuring Instr Ltd | Method and apparatus for lithography monitoring and process control |
| US6608920B1 (en) * | 1998-10-29 | 2003-08-19 | Applied Materials, Inc. | Target acquisition technique for CD measurement machine |
| US6212961B1 (en) | 1999-02-11 | 2001-04-10 | Nova Measuring Instruments Ltd. | Buffer system for a wafer handling system |
| JP2002184948A (ja) * | 2000-12-12 | 2002-06-28 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置の製造方法 |
| JP2002313857A (ja) * | 2001-04-12 | 2002-10-25 | Ando Electric Co Ltd | 距離変化出力装置及び方法 |
| US6876215B1 (en) * | 2003-02-27 | 2005-04-05 | Credence Systems Corporation | Apparatus for testing semiconductor integrated circuit devices in wafer form |
| JP7632973B2 (ja) * | 2021-05-31 | 2025-02-19 | 東京エレクトロン株式会社 | アライメント方法及び検査装置 |
| KR102721980B1 (ko) | 2022-02-24 | 2024-10-25 | 삼성전자주식회사 | 기판 정렬 장치 및 이를 이용한 기판 정렬 방법 |
| CN114864750A (zh) * | 2022-05-17 | 2022-08-05 | 通威太阳能(合肥)有限公司 | 电池片切片方法、电池片切片系统、存储介质及计算机 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4845373A (en) * | 1984-02-22 | 1989-07-04 | Kla Instruments Corporation | Automatic alignment apparatus having low and high resolution optics for coarse and fine adjusting |
| US4780617A (en) * | 1984-08-09 | 1988-10-25 | Nippon Kogaku K.K. | Method for successive alignment of chip patterns on a substrate |
| US4937618A (en) * | 1984-10-18 | 1990-06-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Alignment and exposure apparatus and method for manufacture of integrated circuits |
| US4856904A (en) * | 1985-01-21 | 1989-08-15 | Nikon Corporation | Wafer inspecting apparatus |
| US5093797A (en) * | 1987-01-13 | 1992-03-03 | Omron Tateisi Electronics Co. | Apparatus for inspecting packaged electronic device |
| US5124931A (en) * | 1988-10-14 | 1992-06-23 | Tokyo Electron Limited | Method of inspecting electric characteristics of wafers and apparatus therefor |
| US5097406A (en) * | 1989-10-03 | 1992-03-17 | Texas Instruments Incorporated | Lead frame lead located for wire bonder |
-
1990
- 1990-05-14 JP JP2123396A patent/JP2928331B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-04-30 US US07/693,536 patent/US5274575A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6321094B1 (en) | 1997-01-31 | 2001-11-20 | Nec Corporation | Access method through radio mobile communication system |
| JP2006339196A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | プローバの移動量演算校正方法、移動量演算校正処理プログラム及びプローバ |
| JP2013055233A (ja) * | 2011-09-05 | 2013-03-21 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | プローバにおけるウエハ上のチップ配列検出方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2928331B2 (ja) | 1999-08-03 |
| US5274575A (en) | 1993-12-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0423341A (ja) | プローバのアライメント装置及び方法 | |
| US4786867A (en) | Wafer prober | |
| US11468590B2 (en) | Wireless substrate-like teaching sensor for semiconductor processing | |
| US4677474A (en) | Wafer prober | |
| KR100248569B1 (ko) | 프로우브장치 | |
| CA2259659C (en) | Automatic semiconductor wafer sorter/prober with extended optical inspection | |
| JP2963603B2 (ja) | プローブ装置のアライメント方法 | |
| US4943767A (en) | Automatic wafer position aligning method for wafer prober | |
| CN113740571A (zh) | 能够实现单个探针块自动精密控制的阵列测试装置 | |
| US4966520A (en) | Method of positioning objects to be measured | |
| US5113132A (en) | Probing method | |
| JP2004063877A (ja) | ウェハの位置決め修正方法 | |
| US7977957B2 (en) | Method and apparatus for electrical testing of a unit under test, as well as a method for production of a contact-making apparatus which is used for testing | |
| JP2002057197A (ja) | プローブ方法及びプローブ装置 | |
| JP2005150224A (ja) | プローブ情報を用いた半導体検査装置及び検査方法 | |
| JPH08327658A (ja) | 基板検査装置 | |
| JP3202577B2 (ja) | プローブ方法 | |
| JPS62262438A (ja) | ウエハ処理装置 | |
| JPH0669053B2 (ja) | プロービングマシン | |
| JPS6216018B2 (ja) | ||
| JPH0837211A (ja) | 半導体装置の検査装置 | |
| JP2694462B2 (ja) | 半導体ウェーハチップの位置合わせ方法 | |
| JPS6184029A (ja) | 半導体検査装置 | |
| JPH01162177A (ja) | プロービング方法 | |
| JP2939665B2 (ja) | 半導体ウエハの測定方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100514 Year of fee payment: 11 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |