JPH04234858A - 新規な置換ベンゾイソオキサゾール誘導体、その製造法、それを除草剤として使用する方法及びそれを含有する除草剤組成物 - Google Patents
新規な置換ベンゾイソオキサゾール誘導体、その製造法、それを除草剤として使用する方法及びそれを含有する除草剤組成物Info
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- JPH04234858A JPH04234858A JP3106913A JP10691391A JPH04234858A JP H04234858 A JPH04234858 A JP H04234858A JP 3106913 A JP3106913 A JP 3106913A JP 10691391 A JP10691391 A JP 10691391A JP H04234858 A JPH04234858 A JP H04234858A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D413/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D413/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
- C07D413/10—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a carbon chain containing aromatic rings
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
- A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
- A01N43/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds
- A01N43/72—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having rings with nitrogen atoms and oxygen or sulfur atoms as ring hetero atoms
- A01N43/80—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having rings with nitrogen atoms and oxygen or sulfur atoms as ring hetero atoms five-membered rings with one nitrogen atom and either one oxygen atom or one sulfur atom in positions 1,2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D261/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規な置換ベンゾイソ
オキサゾール誘導体、その製造法、それを除草剤として
使用する方法、及びそれを含有する除草剤組成物に関す
る。
オキサゾール誘導体、その製造法、それを除草剤として
使用する方法、及びそれを含有する除草剤組成物に関す
る。
【0002】
【従来の技術】欧州特許第193700号、英国特許第
2157679号、英国特許第2192878号、英国
特許第2192879号及び米国特許第4571255
号各明細書には、除草活性を有するある種のベンゾイソ
オキサゾリルフェニルエーテル誘導体が記載されている
。
2157679号、英国特許第2192878号、英国
特許第2192879号及び米国特許第4571255
号各明細書には、除草活性を有するある種のベンゾイソ
オキサゾリルフェニルエーテル誘導体が記載されている
。
【0003】
【発明が解決しようとする課題、課題を解決するための
手段、作用】本発明の要旨によれば、次の式(I):〔
式中、Arは置換されていてもよいアリール環系又は置
換されていてもよい複素環系であり;R1及びR2はそ
れぞれ別個に、H原子、置換されていてもよいアルキル
基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されてい
てもよいアルキニル基、ハロゲン原子、及び基NRaR
bから選択されるか、あるいはR1及びR2は、これら
が結合している炭素原子と連合して置換されていてもよ
いアルケニル基又は置換されていてもよいシクロアルキ
ル基を形成し;R3は、基COOR4、CN、COR4
、CH2OR4、CH(OH)R4、CH(OR4)R
5、CH2OSO2R4、CH2OSO3R4、CH2
ONR6R7、CSNH2、COSR4、CSOR4、
CONHSO2R4、CONR6R7、CONHNR6
R7、 CONHN+R6R7R8Y−、COO−M
+又は COON=CR6R7であり;M+は農業上
許容されるカチオンであり;Y−は農業上許容されるア
ニオンであり;R4及びR5はそれぞれ別個に、H原子
、置換されていてもよいアルキル基、置換されていても
よいアリール基、置換されていてもよいアルケニル基及
び置換されていてもよいアルキニル基から選択され;R
6、R7、R8、R9、Ra及びRbはそれぞれ別個に
、H原子、置換されていてもよいアルキル基、置換され
ていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアリ
ール基及び置換されていてもよいアルキニル基から選択
されるか、あるいはR6、R7、R8、R9、Ra及び
Rbのうちの任意の2個は、それらが結合している原子
と連合してシクロアルキル基又は複素環を形成し;R6
及びR7は複素環であってもよく;WはO(酸素原子)
又は基NR10(但し、R10はH原子又は低級アルキ
ル基である)であり;且つXは、基(CH2)n 、
CH=CH、CH(ORc)CH2又はCOCH2(但
し、RcはH原子であるか、あるいは置換されていても
よいアルキル基、置換されていてもよいアリール基,置
換されていてもよいアルケニル基又は置換されていても
よいアルキニル基であり;且つnは0、1又は2である
)である〕で示される化合物が提供される。
手段、作用】本発明の要旨によれば、次の式(I):〔
式中、Arは置換されていてもよいアリール環系又は置
換されていてもよい複素環系であり;R1及びR2はそ
れぞれ別個に、H原子、置換されていてもよいアルキル
基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されてい
てもよいアルキニル基、ハロゲン原子、及び基NRaR
bから選択されるか、あるいはR1及びR2は、これら
が結合している炭素原子と連合して置換されていてもよ
いアルケニル基又は置換されていてもよいシクロアルキ
ル基を形成し;R3は、基COOR4、CN、COR4
、CH2OR4、CH(OH)R4、CH(OR4)R
5、CH2OSO2R4、CH2OSO3R4、CH2
ONR6R7、CSNH2、COSR4、CSOR4、
CONHSO2R4、CONR6R7、CONHNR6
R7、 CONHN+R6R7R8Y−、COO−M
+又は COON=CR6R7であり;M+は農業上
許容されるカチオンであり;Y−は農業上許容されるア
ニオンであり;R4及びR5はそれぞれ別個に、H原子
、置換されていてもよいアルキル基、置換されていても
よいアリール基、置換されていてもよいアルケニル基及
び置換されていてもよいアルキニル基から選択され;R
6、R7、R8、R9、Ra及びRbはそれぞれ別個に
、H原子、置換されていてもよいアルキル基、置換され
ていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアリ
ール基及び置換されていてもよいアルキニル基から選択
されるか、あるいはR6、R7、R8、R9、Ra及び
Rbのうちの任意の2個は、それらが結合している原子
と連合してシクロアルキル基又は複素環を形成し;R6
及びR7は複素環であってもよく;WはO(酸素原子)
又は基NR10(但し、R10はH原子又は低級アルキ
ル基である)であり;且つXは、基(CH2)n 、
CH=CH、CH(ORc)CH2又はCOCH2(但
し、RcはH原子であるか、あるいは置換されていても
よいアルキル基、置換されていてもよいアリール基,置
換されていてもよいアルケニル基又は置換されていても
よいアルキニル基であり;且つnは0、1又は2である
)である〕で示される化合物が提供される。
【0004】本明細書中で使用する“低級アルキル”と
いう用語は、最大で10個までの炭素原子、好ましくは
1〜6個の炭素原子を含有する直鎖又は分岐鎖を包含す
る。“低級アルケニル”及び“低級アルキニル”という
用語は、2〜10個好ましくは2〜6個の炭素原子を含
有する不飽和の直鎖又は分岐鎖をいう。“シクロアルキ
ル”というという用語は、3〜9個の炭素原子、好まし
くは3〜6個の炭素原子を含有する環を包含する。“ア
ルコキシ”という用語は、最大で10個までの炭素原子
、好ましくは1〜6個の炭素原子を含有する直鎖又は分
岐鎖を包含する。
いう用語は、最大で10個までの炭素原子、好ましくは
1〜6個の炭素原子を含有する直鎖又は分岐鎖を包含す
る。“低級アルケニル”及び“低級アルキニル”という
用語は、2〜10個好ましくは2〜6個の炭素原子を含
有する不飽和の直鎖又は分岐鎖をいう。“シクロアルキ
ル”というという用語は、3〜9個の炭素原子、好まし
くは3〜6個の炭素原子を含有する環を包含する。“ア
ルコキシ”という用語は、最大で10個までの炭素原子
、好ましくは1〜6個の炭素原子を含有する直鎖又は分
岐鎖を包含する。
【0005】アルキル基、アルケニル基又はアルキニル
基に関して使用する“低級”という用語は、最大で3個
までの炭素原子を含有する基を意味する。
基に関して使用する“低級”という用語は、最大で3個
までの炭素原子を含有する基を意味する。
【0006】“ハロアルキル”及び“ハロアルコキシ”
という用語は、それぞれ少なくとも1個のハロゲン原子
例えば弗素原子、塩素原子又は臭素原子で置換されたア
ルキル基及びアルコキシ基をいう。具体的なハロアルキ
ル基はトリフルオロメチル基である。“アリール”とい
う用語は、フェニル及びナフチルを包含する。“複素環
”という用語は、最大で10個までの原子、好ましくは
最大で6個までの原子から構成される環であって、その
うちの最大で3個までの原子が酸素原子、窒素原子又は
硫黄原子から選択される環を包含する。“ハロゲン原子
”という用語は、弗素原子、塩素原子、臭素原子及び沃
素原子を包含する。
という用語は、それぞれ少なくとも1個のハロゲン原子
例えば弗素原子、塩素原子又は臭素原子で置換されたア
ルキル基及びアルコキシ基をいう。具体的なハロアルキ
ル基はトリフルオロメチル基である。“アリール”とい
う用語は、フェニル及びナフチルを包含する。“複素環
”という用語は、最大で10個までの原子、好ましくは
最大で6個までの原子から構成される環であって、その
うちの最大で3個までの原子が酸素原子、窒素原子又は
硫黄原子から選択される環を包含する。“ハロゲン原子
”という用語は、弗素原子、塩素原子、臭素原子及び沃
素原子を包含する。
【0007】適当なアリール環系はフェニルである。置
換基R6、R7及びArとして適当な複素環系は、最大
で10個までの原子からなる環であって、そのうちの最
大で3個までの原子が酸素原子、窒素原子又は硫黄原子
から選択される環であり、好ましくは芳香環系例えばピ
リジン及びピラゾールである。
換基R6、R7及びArとして適当な複素環系は、最大
で10個までの原子からなる環であって、そのうちの最
大で3個までの原子が酸素原子、窒素原子又は硫黄原子
から選択される環であり、好ましくは芳香環系例えばピ
リジン及びピラゾールである。
【0008】前記のアリール環系又は複素環系Ar、並
びにアリール基である場合の置換基Ra、Rb、Rc、
R4、R5、R6、R7、R8及びR9に適当な任意の
置換基は、ハロゲン原子(例えば弗素原子、塩素原子、
臭素原子又は沃素原子)、低級アルキル基、ハロアルキ
ル基(例えばCF3基)、ハロアルコキシ基(例えばO
CF3基)、ニト口基、シアノ基、低級アルコキシ基(
例えばメトキシ基)又は基S(O)pRd(式中、pは
0、1又は2であり、Rdはアルキル基である)(例え
ばチオメチル基、スルフィニルメチル基及びスルホニル
メチル基)から選択される最大で5個好ましくは最大で
3個の置換基である。
びにアリール基である場合の置換基Ra、Rb、Rc、
R4、R5、R6、R7、R8及びR9に適当な任意の
置換基は、ハロゲン原子(例えば弗素原子、塩素原子、
臭素原子又は沃素原子)、低級アルキル基、ハロアルキ
ル基(例えばCF3基)、ハロアルコキシ基(例えばO
CF3基)、ニト口基、シアノ基、低級アルコキシ基(
例えばメトキシ基)又は基S(O)pRd(式中、pは
0、1又は2であり、Rdはアルキル基である)(例え
ばチオメチル基、スルフィニルメチル基及びスルホニル
メチル基)から選択される最大で5個好ましくは最大で
3個の置換基である。
【0009】前記のアリール環Arがフェニル環である
場合の好ましい置換位置は、2位、4位及び6位であり
、具体的には4位にトリフルオロメチル基を有する2,
4,6−トリ置換された環である。
場合の好ましい置換位置は、2位、4位及び6位であり
、具体的には4位にトリフルオロメチル基を有する2,
4,6−トリ置換された環である。
【0010】アルキル基、アルケニル基、アルキニル基
である場合のRa、Rb、Rc、R1、R2、 R3
、R4、R5、R6、R7、R8及びR9の任意の置換
基の例としては、ハロゲン原子例えば弗素原子、塩素原
子又は臭素原子;ニトロ基;ニトリル基;アリール基例
えばフェニル基;基COOR11、NHCOR11又は
NHCH2CO0R11〔式中、R11は水素原子、(
C1〜C6)アルキル基又は農業上許容されるカチオン
である〕;(C1〜C6)アルコキシ基;オキソ基;基
S(O)pRd(式中、Pは0、1又は2であり、Rd
はアルキル基である)(例えばチオメチル基、スルフィ
ニルメチル基及びスルホニルメチル基);アミノ基;モ
ノー又はジー(C1〜C6)アルキルアミノ基;C0N
R12R13〔式中、R12及びR13はそれぞれ別個
に水素原子、(C1〜C6)アルキル基、(C2〜C6
)アルケニル基又は(C2〜C6)アルキニル基から選
択されるか、あるいはR12及びR13は連合して、最
大で7個までの環構成原子を有しそのうちの3個が酸素
原子、窒素原子又は硫黄原子から選択されていてもよい
複素環を形成する〕から選択される基の1個又はそれ以
上があげられる。複素環式置換基の具体例はテトラヒド
ロフラニル基である。
である場合のRa、Rb、Rc、R1、R2、 R3
、R4、R5、R6、R7、R8及びR9の任意の置換
基の例としては、ハロゲン原子例えば弗素原子、塩素原
子又は臭素原子;ニトロ基;ニトリル基;アリール基例
えばフェニル基;基COOR11、NHCOR11又は
NHCH2CO0R11〔式中、R11は水素原子、(
C1〜C6)アルキル基又は農業上許容されるカチオン
である〕;(C1〜C6)アルコキシ基;オキソ基;基
S(O)pRd(式中、Pは0、1又は2であり、Rd
はアルキル基である)(例えばチオメチル基、スルフィ
ニルメチル基及びスルホニルメチル基);アミノ基;モ
ノー又はジー(C1〜C6)アルキルアミノ基;C0N
R12R13〔式中、R12及びR13はそれぞれ別個
に水素原子、(C1〜C6)アルキル基、(C2〜C6
)アルケニル基又は(C2〜C6)アルキニル基から選
択されるか、あるいはR12及びR13は連合して、最
大で7個までの環構成原子を有しそのうちの3個が酸素
原子、窒素原子又は硫黄原子から選択されていてもよい
複素環を形成する〕から選択される基の1個又はそれ以
上があげられる。複素環式置換基の具体例はテトラヒド
ロフラニル基である。
【0011】農業上許容されるカチオンM+及びR11
の具体例としては、ナトリウムイオン、カリウムイオン
又はカリウムイオン、スルホニウムイオン又はスルホキ
シニウム(sulphoxonium)イオン、あるい
は例えば式S+(O)qR6R7R8(式中、qは0又
は1であり、R6、R7及びR8は前記の意義を有する
)で示されるイオン、式N+R6R7R8R9(式中、
R6、R7、R8及びR9は前記の意義を有する)で示
されるアンモニウムイオン又は第四級アンモニウムイオ
ンが挙げられる。上記のカチオン類における前記のアル
キル基、アルケニル基、アルキニル基に適当な置換基は
ヒドロキシ基及びフェニル基である。上記のカチオン類
におけるR6、R7、R8及びR9のいすれかが置換さ
れていてもよいアルキル基である場合には、それらは1
〜4個の炭素原子を含有することが適当である。
の具体例としては、ナトリウムイオン、カリウムイオン
又はカリウムイオン、スルホニウムイオン又はスルホキ
シニウム(sulphoxonium)イオン、あるい
は例えば式S+(O)qR6R7R8(式中、qは0又
は1であり、R6、R7及びR8は前記の意義を有する
)で示されるイオン、式N+R6R7R8R9(式中、
R6、R7、R8及びR9は前記の意義を有する)で示
されるアンモニウムイオン又は第四級アンモニウムイオ
ンが挙げられる。上記のカチオン類における前記のアル
キル基、アルケニル基、アルキニル基に適当な置換基は
ヒドロキシ基及びフェニル基である。上記のカチオン類
におけるR6、R7、R8及びR9のいすれかが置換さ
れていてもよいアルキル基である場合には、それらは1
〜4個の炭素原子を含有することが適当である。
【0012】上記のカチオン類におけるR6、R7、R
8及びR9の具体例は、水素原子、エチル基、イソプロ
ピル基、ベンジル基及び2−ヒドロキシエチル基である
。
8及びR9の具体例は、水素原子、エチル基、イソプロ
ピル基、ベンジル基及び2−ヒドロキシエチル基である
。
【0013】Y−の場合の農業上許容されるアニオンの
具体例は、ハロゲン化物イオン、テトラフルオロ硼酸イ
オン、メシレートイオン及びトシレートイオンである。
具体例は、ハロゲン化物イオン、テトラフルオロ硼酸イ
オン、メシレートイオン及びトシレートイオンである。
【0014】適当なハロ基R1及びR2としては、弗素
原子、塩素原子及び臭素原子が挙げられる。Ra、Rb
、R6、R7、R8及びR9のうちの2個と、それらが
結合している原子とから形成される適当な複素環は、ピ
ロリジン環、ピペリジン環及びモルホリン環である。
原子、塩素原子及び臭素原子が挙げられる。Ra、Rb
、R6、R7、R8及びR9のうちの2個と、それらが
結合している原子とから形成される適当な複素環は、ピ
ロリジン環、ピペリジン環及びモルホリン環である。
【0015】R1はH原子であるのが好ましい。R2は
H原子であるか、あるいは(C1〜C3)アルキル基特
にメチル基又はエチル基であるのが好ましい。
H原子であるか、あるいは(C1〜C3)アルキル基特
にメチル基又はエチル基であるのが好ましい。
【0016】R3は基COOR4、CN、CH2OR4
、CSNH2、CONR6R7、CONHNR6R7、
CONHN+R6R7R8Y−、COON=CR6R7
又はCOO−M+であるのが適当である。R3は基CO
OR4、CN、CONR6R7又はCOON=CR6R
7であるのが好ましく、R3は基COOR4であるのが
最も好ましい。
、CSNH2、CONR6R7、CONHNR6R7、
CONHN+R6R7R8Y−、COON=CR6R7
又はCOO−M+であるのが適当である。R3は基CO
OR4、CN、CONR6R7又はCOON=CR6R
7であるのが好ましく、R3は基COOR4であるのが
最も好ましい。
【0017】R4はアルキル基又は置換アルキル基例え
ばアルコキシアルキル基又はオキソ置換されたアルキル
基であるのが好ましい。R4の好適な例は(C1〜C6
)アルキル基、特にメチル基である。
ばアルコキシアルキル基又はオキソ置換されたアルキル
基であるのが好ましい。R4の好適な例は(C1〜C6
)アルキル基、特にメチル基である。
【0018】前記のArは次の式:
(式中、R18はN原子、基CH又は基CR20であり
、且つR19及びR20はそれぞれ別個にハロゲン原子
例えば塩素原子又は弗素原子から選択される)で示され
る基であるのが好ましい。R18は基CR20であるの
が好ましく、R19及びR20のうちの一方が塩素原子
であり、他方が弗素原子であるのが最も好ましい。
、且つR19及びR20はそれぞれ別個にハロゲン原子
例えば塩素原子又は弗素原子から選択される)で示され
る基であるのが好ましい。R18は基CR20であるの
が好ましく、R19及びR20のうちの一方が塩素原子
であり、他方が弗素原子であるのが最も好ましい。
【0019】別のArは、置換されていてもよいピラゾ
リル基、例えばCl原子、CF3基及びCH3基で置換
されていてもよいピラゾリル基である。Wは酸素原子で
あるのが好ましい。Xは基(CH2)nであるのが好ま
しく、この場合式中のnは0又は1であり、特に0であ
る。
リル基、例えばCl原子、CF3基及びCH3基で置換
されていてもよいピラゾリル基である。Wは酸素原子で
あるのが好ましい。Xは基(CH2)nであるのが好ま
しく、この場合式中のnは0又は1であり、特に0であ
る。
【0020】前記の式(I)は、描かれる構造の互変異
性形、並びに例えば分子を結晶格子中に配列させる種々
の方法から、あるいは分子のある部分が他の部分に関し
て自由回転が出来ないことから、あるいは幾何異性から
、分子内又は分子間水素結合あるいはその他から生じ得
る化合物の物理的に区別し得る態様(modifica
tion)を包含することを意図する。
性形、並びに例えば分子を結晶格子中に配列させる種々
の方法から、あるいは分子のある部分が他の部分に関し
て自由回転が出来ないことから、あるいは幾何異性から
、分子内又は分子間水素結合あるいはその他から生じ得
る化合物の物理的に区別し得る態様(modifica
tion)を包含することを意図する。
【0021】本発明の化合物のうちの若干の化合物は、
鏡像異性体の型で存在できる。本発明は、それぞれ個々
の鏡像異性体と、あらゆる割合で混在する2つの鏡像異
性体の混合物とを包含する。
鏡像異性体の型で存在できる。本発明は、それぞれ個々
の鏡像異性体と、あらゆる割合で混在する2つの鏡像異
性体の混合物とを包含する。
【0022】本発明の化合物の具体例を第I表、第II
表及び第III表に列挙する。第I表、第II表及び第
III表の化合物の特性データは第IV表に示す。
表及び第III表に列挙する。第I表、第II表及び第
III表の化合物の特性データは第IV表に示す。
【0023】
【0024】
【0025】
【0026】
【0027】
【0028】
【0029】
【0030】
【0031】
【0032】
【0033】
【0034】
【0035】
【0036】
【0037】
【0038】
【0039】
【0040】
【0041】
【0042】
【0043】
【0044】
【0045】
【0046】
【0047】
【0048】
【0049】
【0050】
【0051】本発明の式(I)で示される化合物は、次
の式(II): 〔式中、W、X、R1、R2及びR3は式(I)に関し
て定義した意義を有する〕で示される化合物と、次の式
(III):Ar−Z (III)〔式中、Ar
は式(I)に関して定義した意義を有し、且つZは脱離
性基である〕で示される化合物とを、所望ならば塩基の
存在下で、反応させることによって製造し得る。
の式(II): 〔式中、W、X、R1、R2及びR3は式(I)に関し
て定義した意義を有する〕で示される化合物と、次の式
(III):Ar−Z (III)〔式中、Ar
は式(I)に関して定義した意義を有し、且つZは脱離
性基である〕で示される化合物とを、所望ならば塩基の
存在下で、反応させることによって製造し得る。
【0052】適当な脱離性基Zとしては、ハロゲン原子
例えば弗素原子、臭素原子及び塩素原子、並びにスルホ
ネート類例えばメタンスルホネート及びp−トルエンス
ルホネートが挙げられる。上記の反応に使用する適当な
塩基としては、塩基類例えば水素化ナトリウム、アルカ
リ金属炭酸塩及びアルカリ金属水酸化物が挙げられる。
例えば弗素原子、臭素原子及び塩素原子、並びにスルホ
ネート類例えばメタンスルホネート及びp−トルエンス
ルホネートが挙げられる。上記の反応に使用する適当な
塩基としては、塩基類例えば水素化ナトリウム、アルカ
リ金属炭酸塩及びアルカリ金属水酸化物が挙げられる。
【0053】上記の反応は、有機溶媒例えばジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、低級アルコール又
は低級ケトン中で実施するのが好ましい。適度の(mo
derate)温度、例えば10℃〜200℃を採用す
るのが適当である。この反応は50℃〜150℃で実施
するのが都合がよい。
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、低級アルコール又
は低級ケトン中で実施するのが好ましい。適度の(mo
derate)温度、例えば10℃〜200℃を採用す
るのが適当である。この反応は50℃〜150℃で実施
するのが都合がよい。
【0054】式(III)で示される化合物が、脱離性
基として作用できる2個以上の基で置換されたアリール
環系又は複素環系を含む場合には、反応生成物はレジオ
(regio)異性体の混合物からなっていてもよい。 レジオ異性体は分離し得ないものであり、混合物組成は
、適当な場合には1H NMR及び19F NMR
により分析される。
基として作用できる2個以上の基で置換されたアリール
環系又は複素環系を含む場合には、反応生成物はレジオ
(regio)異性体の混合物からなっていてもよい。 レジオ異性体は分離し得ないものであり、混合物組成は
、適当な場合には1H NMR及び19F NMR
により分析される。
【0055】式(II)で示される化合物は、ジヒドロ
キシクマリンから、例えば文献「Phytochemi
stry」,10.539−544(1971)に記載
の方法に従って製造できる。ジヒドロキシクマリンは既
知化合物であり、また式(III)で示される化合物は
既知化合物であり、これらは既知化合物から慣用の方法
により製造し得る。
キシクマリンから、例えば文献「Phytochemi
stry」,10.539−544(1971)に記載
の方法に従って製造できる。ジヒドロキシクマリンは既
知化合物であり、また式(III)で示される化合物は
既知化合物であり、これらは既知化合物から慣用の方法
により製造し得る。
【0056】式(I)においてnが0であり、R1及び
R2がH原子であり、且つR3が基COOHである式(
I)で示される化合物の別の製造法は、塩基の存在下に
おける次の式(IV): 〔式中、Ar及びWは式(I)に関して定義した意義を
有する〕で示される化合物と、ヒドロキシルアミン塩酸
塩との反応を伴う。
R2がH原子であり、且つR3が基COOHである式(
I)で示される化合物の別の製造法は、塩基の存在下に
おける次の式(IV): 〔式中、Ar及びWは式(I)に関して定義した意義を
有する〕で示される化合物と、ヒドロキシルアミン塩酸
塩との反応を伴う。
【0057】上記の反応に使用する適当な塩基としては
、塩基類例えばアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩及びア
ルコシドが挙げられる。上記の反応は、有機溶媒例えば
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド又は低級
アルコール中で実施するのが好ましい。適度の温度、例
えば10℃〜120℃を採用するのが適当である。この
反応は20℃〜110℃で実施するのが都合がよい。
、塩基類例えばアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩及びア
ルコシドが挙げられる。上記の反応は、有機溶媒例えば
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド又は低級
アルコール中で実施するのが好ましい。適度の温度、例
えば10℃〜120℃を採用するのが適当である。この
反応は20℃〜110℃で実施するのが都合がよい。
【0058】式(IV)で示される化合物は新規化合物
であり、それ自体本発明の別の要旨を構成する。式(I
V)で示される化合物は、次の式(V):(式中、Ar
及びWは前記の意義を有する)で示される化合物と、炭
酸の適当な誘導体例えばクロルギ酸エチル又は炭酸ジエ
チルとを、塩基の存在下で、反応させることによって製
造し得る。
であり、それ自体本発明の別の要旨を構成する。式(I
V)で示される化合物は、次の式(V):(式中、Ar
及びWは前記の意義を有する)で示される化合物と、炭
酸の適当な誘導体例えばクロルギ酸エチル又は炭酸ジエ
チルとを、塩基の存在下で、反応させることによって製
造し得る。
【0059】上記の反応に使用する適当な塩基としては
、塩基類例えばアルカリ金属、アルカリ金属水酸化物、
又はアルカリ金属アルコシドが挙げられる。上記の反応
は、溶媒の存在下又は不存在下のいすれでも実施し得る
。溶媒を使用する場合には、適当な溶媒は、例えばトル
エン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド又
はテトラヒドロフランである。適度の温度例えば50℃
〜150℃を採用するのが適当である。この反応は70
℃〜120℃で実施するのが都合がよい。
、塩基類例えばアルカリ金属、アルカリ金属水酸化物、
又はアルカリ金属アルコシドが挙げられる。上記の反応
は、溶媒の存在下又は不存在下のいすれでも実施し得る
。溶媒を使用する場合には、適当な溶媒は、例えばトル
エン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド又
はテトラヒドロフランである。適度の温度例えば50℃
〜150℃を採用するのが適当である。この反応は70
℃〜120℃で実施するのが都合がよい。
【0060】式(V)で示される化合物は新規化合物で
あり、それ自体本発明の別の要旨を構成する。式(V)
で示される化合物は、次の式(VI):(式中、Ar及
びWは前記の意義を有する)で示される化合物から、ル
イス酸触媒フリース転位反応によって製造し得る。適当
な触媒は三塩化アルミニウムである。上記の反応は、溶
媒の不存在下で実施し得る。より高い温度例えば100
℃〜200℃を採用するのが適当である。
あり、それ自体本発明の別の要旨を構成する。式(V)
で示される化合物は、次の式(VI):(式中、Ar及
びWは前記の意義を有する)で示される化合物から、ル
イス酸触媒フリース転位反応によって製造し得る。適当
な触媒は三塩化アルミニウムである。上記の反応は、溶
媒の不存在下で実施し得る。より高い温度例えば100
℃〜200℃を採用するのが適当である。
【0061】上記の式(VI)で示される化合物は、次
の式(VII): (式中、Ar及びWは前記の意義を有する)で示される
対応するフェノール類から文献記載の方法によって容易
に製造される。
の式(VII): (式中、Ar及びWは前記の意義を有する)で示される
対応するフェノール類から文献記載の方法によって容易
に製造される。
【0062】上記フェノール類(VII)は、次の式(
VIII): (式中、Ar及びWは前記の意義を有する)で示される
アセトフェノン類から、すなわちバイヤー・ビリガー(
Baeyer Villager)酸化によって、あ
るいは次の式(IX): (式中、Ar及びWは前記の意義を有する)で示される
ニトロ化合物から標準的な官能基内部転換(inter
conversion)を経由してかいずれかにより順
々に製造し得る。
VIII): (式中、Ar及びWは前記の意義を有する)で示される
アセトフェノン類から、すなわちバイヤー・ビリガー(
Baeyer Villager)酸化によって、あ
るいは次の式(IX): (式中、Ar及びWは前記の意義を有する)で示される
ニトロ化合物から標準的な官能基内部転換(inter
conversion)を経由してかいずれかにより順
々に製造し得る。
【0063】式(VIII)及び式(IX)で示される
化合物は、次の式(X):Ar−WH (X)〔
式中、Ar及びWは式(I)に関して定義した意義を有
する〕で示される化合物と、次の式(XI):〔式中、
UはCOCH3基又はNO2基であり、Zは式(III
)に関して定義した脱離性基である〕で示される化合物
とを、必要ならば塩基の存在下で、反応させることによ
って製造し得る。
化合物は、次の式(X):Ar−WH (X)〔
式中、Ar及びWは式(I)に関して定義した意義を有
する〕で示される化合物と、次の式(XI):〔式中、
UはCOCH3基又はNO2基であり、Zは式(III
)に関して定義した脱離性基である〕で示される化合物
とを、必要ならば塩基の存在下で、反応させることによ
って製造し得る。
【0064】上記の反応に使用する適当な塩基としては
、塩基類例えば水素化ナトリウム、アルカリ金属炭酸塩
及びアルカリ金属水酸化物、並びに有機含窒素塩基例え
ばトリエチルアミン、4−ジメチルアミノピリジン又は
4−ピロリジノピリジンが挙げられる。上記の反応は、
有機溶媒例えばジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、低級アルカノール、塩素化溶媒又は低級ケトン
中で実施するのが好ましい。適度の温度、例えば10℃
〜200℃を採用するのが適当である。この反応は50
℃〜180℃で実施するのが都合がよい。
、塩基類例えば水素化ナトリウム、アルカリ金属炭酸塩
及びアルカリ金属水酸化物、並びに有機含窒素塩基例え
ばトリエチルアミン、4−ジメチルアミノピリジン又は
4−ピロリジノピリジンが挙げられる。上記の反応は、
有機溶媒例えばジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、低級アルカノール、塩素化溶媒又は低級ケトン
中で実施するのが好ましい。適度の温度、例えば10℃
〜200℃を採用するのが適当である。この反応は50
℃〜180℃で実施するのが都合がよい。
【0065】別法として、上記の式(V)で示される化
合物は、次の式(XII); 〔式中、Ar及びWは式(I)に関して定義した意義を
有する〕で示されるアミン類から、これをジアゾ化し、
次いで得られたジアゾニウム塩を分解することによって
製造し得る。
合物は、次の式(XII); 〔式中、Ar及びWは式(I)に関して定義した意義を
有する〕で示されるアミン類から、これをジアゾ化し、
次いで得られたジアゾニウム塩を分解することによって
製造し得る。
【0066】ジアゾ化に適当な化学剤は、−10〜10
℃の温度で水性酸例えば塩酸に溶解したシアン化ナトリ
ウムである。ジアゾニウム化合物はテトラフルオロ硼酸
塩として沈殿させ得る。ジアゾニウム化合物のテトラフ
ルオロ硼酸塩は、酸性条件下で例えばストレート(ne
at)のTFAの存在下で、高められた温度例えば30
〜100℃で炭酸アルカリ例えば炭酸カリウムで分解し
、次いで水性後処理しえる。別法として、ジアゾニウム
化合物のテトラフルオロ硼酸塩は、水性条件下に高めら
れた温度例えば30〜100℃で、銅塩類例えば硝酸銅
と酸化第一銅との混合物で分解し得る。
℃の温度で水性酸例えば塩酸に溶解したシアン化ナトリ
ウムである。ジアゾニウム化合物はテトラフルオロ硼酸
塩として沈殿させ得る。ジアゾニウム化合物のテトラフ
ルオロ硼酸塩は、酸性条件下で例えばストレート(ne
at)のTFAの存在下で、高められた温度例えば30
〜100℃で炭酸アルカリ例えば炭酸カリウムで分解し
、次いで水性後処理しえる。別法として、ジアゾニウム
化合物のテトラフルオロ硼酸塩は、水性条件下に高めら
れた温度例えば30〜100℃で、銅塩類例えば硝酸銅
と酸化第一銅との混合物で分解し得る。
【0067】上記の式(XII)で示される化合物は、
上記の式(XIII); 〔式中、Ar及びWは式(I)に関して定義した意義を
有する〕で示されるニトロ化合物を還元することによっ
て製造し得る
上記の式(XIII); 〔式中、Ar及びWは式(I)に関して定義した意義を
有する〕で示されるニトロ化合物を還元することによっ
て製造し得る
【0068】典型的には上記のニトロ化合物は、有機溶
媒例えばエタノール中で触媒例えばラネーニッケルを用
いて適度な温度例えば20〜120℃で、水素又は水素
源例えばヒドラジンで還元し得る。別法として、上記ニ
トロ化合物の有機溶媒溶液例えばエタノール又はアセト
ン溶液を、三塩化チタンの水溶液で最初は低い温度で例
えば−25〜10℃で還元し得る。
媒例えばエタノール中で触媒例えばラネーニッケルを用
いて適度な温度例えば20〜120℃で、水素又は水素
源例えばヒドラジンで還元し得る。別法として、上記ニ
トロ化合物の有機溶媒溶液例えばエタノール又はアセト
ン溶液を、三塩化チタンの水溶液で最初は低い温度で例
えば−25〜10℃で還元し得る。
【0069】上記の式(XIII)で示される化合物は
、上記の式(X)で示される化合物と、次の式(XIV
); 〔式中、Zは式(III)に関して定義した脱離性基で
ある〕で示される化合物とを、必要ならば塩基の存在下
で、反応させることによって製造し得る。
、上記の式(X)で示される化合物と、次の式(XIV
); 〔式中、Zは式(III)に関して定義した脱離性基で
ある〕で示される化合物とを、必要ならば塩基の存在下
で、反応させることによって製造し得る。
【0070】上記の反応に使用する適当な塩基としては
、塩基類例えば水素化ナトリウム、アルカリ金属炭酸塩
及びアルカリ金属水酸化物、並びに有機含窒素塩基例え
ばトリエチルアミン、4−ジメチルアミノピリジン又は
4−ピロロピリジン(pyrrolopyridine
)が挙げられる。上記の反応は、有機溶媒例えばジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、低級アルカノ
ール、塩素化溶媒又は低級ケトン中で実施するのが好ま
しい。適度の温度、例えば10℃〜200℃を採用する
のが適当である。この反応は50℃〜70℃で実施する
のが都合がよい。
、塩基類例えば水素化ナトリウム、アルカリ金属炭酸塩
及びアルカリ金属水酸化物、並びに有機含窒素塩基例え
ばトリエチルアミン、4−ジメチルアミノピリジン又は
4−ピロロピリジン(pyrrolopyridine
)が挙げられる。上記の反応は、有機溶媒例えばジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、低級アルカノ
ール、塩素化溶媒又は低級ケトン中で実施するのが好ま
しい。適度の温度、例えば10℃〜200℃を採用する
のが適当である。この反応は50℃〜70℃で実施する
のが都合がよい。
【0071】前記の式(X)、式(XI)及び式(XI
V)で示される化合物は既知化合物であり、これらは既
知化合物から既知の方法によって製造し得る。
V)で示される化合物は既知化合物であり、これらは既
知化合物から既知の方法によって製造し得る。
【0072】式(I)で示される本発明の化合物の別の
製造法は、次の式(XV): 〔式中、Ar及びWは式(I)に関して定義した意義を
有し、Z′は脱離性基例えばハロゲン原子である〕で示
される化合物と、次の式(XVI): 〔式中、X、R1、R2及びR3は式(I)に関して定
義した意義を有する〕で示される化合物とを塩基の存在
下で反応させることによって行われる。
製造法は、次の式(XV): 〔式中、Ar及びWは式(I)に関して定義した意義を
有し、Z′は脱離性基例えばハロゲン原子である〕で示
される化合物と、次の式(XVI): 〔式中、X、R1、R2及びR3は式(I)に関して定
義した意義を有する〕で示される化合物とを塩基の存在
下で反応させることによって行われる。
【0073】上記の反応に使用する適当な塩基としては
、塩基類例えば水素化ナトリウム、アルカリ金属アルコ
キシド及びアルカリ金属ビストリメチルシリルアミドが
挙げられる。上記の反応は、有機溶媒例えばジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド又はテトラヒドロフ
ラン中で実施するのが好ましい。適度の温度、例えば−
78℃〜100℃を採用するのが適当である。
、塩基類例えば水素化ナトリウム、アルカリ金属アルコ
キシド及びアルカリ金属ビストリメチルシリルアミドが
挙げられる。上記の反応は、有機溶媒例えばジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド又はテトラヒドロフ
ラン中で実施するのが好ましい。適度の温度、例えば−
78℃〜100℃を採用するのが適当である。
【0074】式(XV)で示される化合物は新規化合物
であり、それ自体本発明の別の要旨を構成する。式(X
V)で示される化合物は、次の式(XVII):〔式中
、Ar及びWは式(I)に関して定義した意義を有する
〕で示される化合物から、例えば三臭化燐、塩化チオニ
ル、オキシ塩化燐又は五塩化燐を用いて10℃〜100
℃の温度で反応させることによって製造し得る。
であり、それ自体本発明の別の要旨を構成する。式(X
V)で示される化合物は、次の式(XVII):〔式中
、Ar及びWは式(I)に関して定義した意義を有する
〕で示される化合物から、例えば三臭化燐、塩化チオニ
ル、オキシ塩化燐又は五塩化燐を用いて10℃〜100
℃の温度で反応させることによって製造し得る。
【0075】前記の式(XVI)及び式(XVII)で
示される化合物は既知化合物であり、これらは既知化合
物から既知の方法によって製造できる。
示される化合物は既知化合物であり、これらは既知化合
物から既知の方法によって製造できる。
【0076】さらに必要に応じて下記の工程(i)〜(
vii)のうちの1又は2工程を実施し得る。すなわち
、 (i)R3がアルコキシカルボニル基である場合には、
対応する酸に加水分解する工程; (ii)R3が基COOHである場合には、エステル化
するか、あるいは塩、アミド、スホンアミド、ヒドラジ
ド又はヒドラジニウム誘導体を形成させる工程;(ii
i)R3がアルコールである場合には、対応する酸又は
アルデヒドに酸化する工程; (iv)R3がアルコキシカルボニル基である場合には
、アルコールに還元する工程; (v)R3がアミド基である場合には、対応するニトリ
ルにする脱水反応させる工程; (vi)R3がアルコキシカルボニル基でありnが0で
あり、且つR1又はR2、あるいはR1及びR2の両方
が、水素原子である場合には、対応する置換エステルに
、塩基を媒介としてアルキル化する工程;及び(vii
)R3がアミド基である場合には、対応するチオアミド
基に転換する工程;のうちの1又は2工程を実施し得る
。
vii)のうちの1又は2工程を実施し得る。すなわち
、 (i)R3がアルコキシカルボニル基である場合には、
対応する酸に加水分解する工程; (ii)R3が基COOHである場合には、エステル化
するか、あるいは塩、アミド、スホンアミド、ヒドラジ
ド又はヒドラジニウム誘導体を形成させる工程;(ii
i)R3がアルコールである場合には、対応する酸又は
アルデヒドに酸化する工程; (iv)R3がアルコキシカルボニル基である場合には
、アルコールに還元する工程; (v)R3がアミド基である場合には、対応するニトリ
ルにする脱水反応させる工程; (vi)R3がアルコキシカルボニル基でありnが0で
あり、且つR1又はR2、あるいはR1及びR2の両方
が、水素原子である場合には、対応する置換エステルに
、塩基を媒介としてアルキル化する工程;及び(vii
)R3がアミド基である場合には、対応するチオアミド
基に転換する工程;のうちの1又は2工程を実施し得る
。
【0077】本発明の式(I)で示される化合物は、除
草剤として活性である。従って、本発明の別の要旨によ
れば、望ましくない植物に酷い損傷(damage)を
与えるか又は該植物を撲滅する方法であって、該植物に
又は該植物の生育媒体に前記の式(I)で示される化合
物の有効量を施用することを特徴とする方法が提供され
る。
草剤として活性である。従って、本発明の別の要旨によ
れば、望ましくない植物に酷い損傷(damage)を
与えるか又は該植物を撲滅する方法であって、該植物に
又は該植物の生育媒体に前記の式(I)で示される化合
物の有効量を施用することを特徴とする方法が提供され
る。
【0078】本発明の式(I)で示される化合物は、単
子葉植物種及び双子葉植物種を含めて広範囲の雑草に対
して活性である。本発明の化合物は、ある種の植物に対
してある種の選択性を示す。本発明の化合物は、ワタ、
大豆、トウモロコシ、砂糖大根及び小麦作物において選
択性除草剤として使用し得る。
子葉植物種及び双子葉植物種を含めて広範囲の雑草に対
して活性である。本発明の化合物は、ある種の植物に対
してある種の選択性を示す。本発明の化合物は、ワタ、
大豆、トウモロコシ、砂糖大根及び小麦作物において選
択性除草剤として使用し得る。
【0079】本発明の前記の式(I)で示される化合物
は、望ましくない植物に直接に施用(出芽後処理)し得
、又は該植物の出芽前に土壌に直接には施用(出芽前処
理)し得る。該化合物は出芽後に施用した場合に特に有
用である。
は、望ましくない植物に直接に施用(出芽後処理)し得
、又は該植物の出芽前に土壌に直接には施用(出芽前処
理)し得る。該化合物は出芽後に施用した場合に特に有
用である。
【0080】前記の式(I)で示される化合物はそれ自
体で、植物の生長を抑制するために、該植物に酷い損傷
を与えるために、又は該植物を撲滅するために使用し得
えるが、式(I)で示される化合物を、固体又は液体希
釈剤からなる担体と組み合わせて含有してなる組成物の
形態で使用するのが好ましい。
体で、植物の生長を抑制するために、該植物に酷い損傷
を与えるために、又は該植物を撲滅するために使用し得
えるが、式(I)で示される化合物を、固体又は液体希
釈剤からなる担体と組み合わせて含有してなる組成物の
形態で使用するのが好ましい。
【0081】従って、本発明の別の要旨によれば、前記
に定義した式(I)で示される化合物と、不活性担体又
は希釈剤とを含有してなる植物の生長を抑制する組成物
、植物に損傷を与える組成物又は植物を撲滅する組成物
が提供される。
に定義した式(I)で示される化合物と、不活性担体又
は希釈剤とを含有してなる植物の生長を抑制する組成物
、植物に損傷を与える組成物又は植物を撲滅する組成物
が提供される。
【0082】式(I)で示される化合物化合物を含有す
る組成物としては、直ぐに使用できる希釈組成物、及び
使用する前に通常は水で希釈することが必要な濃厚組成
物の両方が挙げられる。前記組成物は有効成分を0.0
1〜90重量%含有するのが好ましい。直ぐに使用でき
る希釈組成物は、有効成分を0.01〜2重量%含有す
るのが好ましく、一方、濃厚組成物は、有効成分を20
〜90重量%含有し得えるが、通常は20〜70重量%
であるのが好ましい。
る組成物としては、直ぐに使用できる希釈組成物、及び
使用する前に通常は水で希釈することが必要な濃厚組成
物の両方が挙げられる。前記組成物は有効成分を0.0
1〜90重量%含有するのが好ましい。直ぐに使用でき
る希釈組成物は、有効成分を0.01〜2重量%含有す
るのが好ましく、一方、濃厚組成物は、有効成分を20
〜90重量%含有し得えるが、通常は20〜70重量%
であるのが好ましい。
【0083】本発明の固体組成物は、粒剤の形態であっ
てもよいし、あるいは微粉砕化した固体希釈剤、例えば
カオリン、ベントナイト、ケイソウ土、ドロマイト、炭
酸カルシウム、タルク、粉末マグネシア、フラー土及び
石膏と、有効成分とを混合した粉剤の形態であってもよ
い。本発明の固体組成物はまた、液体中への粉末又は顆
粒の分散を促進させるための湿潤剤を含有してなる分散
性粉末又は顆粒の形態であり得る。粉末の形態の固体組
成物は、茎葉処理用粉剤として施用し得える。
てもよいし、あるいは微粉砕化した固体希釈剤、例えば
カオリン、ベントナイト、ケイソウ土、ドロマイト、炭
酸カルシウム、タルク、粉末マグネシア、フラー土及び
石膏と、有効成分とを混合した粉剤の形態であってもよ
い。本発明の固体組成物はまた、液体中への粉末又は顆
粒の分散を促進させるための湿潤剤を含有してなる分散
性粉末又は顆粒の形態であり得る。粉末の形態の固体組
成物は、茎葉処理用粉剤として施用し得える。
【0084】液体組成物は、場合によっては界面活性剤
を含有する水に有効成分を溶解又は分散させた溶液又は
分散液からなっていてもよいし、あるいは該液体組成物
は、水不混和性の有機溶媒(これは水中に液体粒子とし
て分散する)に有効成分を溶解又は分散させた溶液又は
分散液からなっていてもよい。
を含有する水に有効成分を溶解又は分散させた溶液又は
分散液からなっていてもよいし、あるいは該液体組成物
は、水不混和性の有機溶媒(これは水中に液体粒子とし
て分散する)に有効成分を溶解又は分散させた溶液又は
分散液からなっていてもよい。
【0085】界面活性剤は、カチオン型、アニオン型、
又は非イオン型あるいはこれらの混合物であってもよい
。カチオン型界面活性剤は、例えば第四級アンモニウム
化合物(例えばセチルトリメチルアンモニウムブロミド
)である。適当なアニオン型界面活性剤は、石鹸;硫酸
の脂肪族モノエステルの塩、例えばラウリル硫酸ナトリ
ウム;スルホン化芳香族化合物の塩、例えばドデシルベ
ンゼンスルホン酸ナトリウム、リグノスルホン酸ナトリ
ウム、カルシウムもしくはアンモニウム、ブチルナフタ
レンスルホン酸塩、並びにジイソプロピルナフタレンス
ルホン酸ナトリウムとトリイソプロピルナフタレンスル
ホン酸ナトリウムとの混合物である。適当な非イオン型
界面活性剤は、エチレンオキシドと、脂肪族アルコール
類例えばオレイルアルコール及びセチルアルコールとの
縮合生成物、あるいはエチレンオキシドと、アルキルフ
ェノール類例えばオクチルフェノール又はノニルフェノ
ール(例えばAgral 90、商品名)又はオクチ
ルクレゾールとの縮合生成物である。他の非イオン型界
面活性剤は、長鎖脂肪酸と無水ヘキシトールとから誘導
された部分エステル、例えばソルビタンモノラウレート
;上記の部分エステルとエチレンオキシドとの縮合生成
物;並びにレシチン類;シリコーン界面活性剤〔シロキ
サン鎖からなる骨格を有する水溶性界面活性剤、例えば
SilwetL77(商品名)〕である。鉱油中の適当
な混合物はAtplus 411F(商品名)である
。
又は非イオン型あるいはこれらの混合物であってもよい
。カチオン型界面活性剤は、例えば第四級アンモニウム
化合物(例えばセチルトリメチルアンモニウムブロミド
)である。適当なアニオン型界面活性剤は、石鹸;硫酸
の脂肪族モノエステルの塩、例えばラウリル硫酸ナトリ
ウム;スルホン化芳香族化合物の塩、例えばドデシルベ
ンゼンスルホン酸ナトリウム、リグノスルホン酸ナトリ
ウム、カルシウムもしくはアンモニウム、ブチルナフタ
レンスルホン酸塩、並びにジイソプロピルナフタレンス
ルホン酸ナトリウムとトリイソプロピルナフタレンスル
ホン酸ナトリウムとの混合物である。適当な非イオン型
界面活性剤は、エチレンオキシドと、脂肪族アルコール
類例えばオレイルアルコール及びセチルアルコールとの
縮合生成物、あるいはエチレンオキシドと、アルキルフ
ェノール類例えばオクチルフェノール又はノニルフェノ
ール(例えばAgral 90、商品名)又はオクチ
ルクレゾールとの縮合生成物である。他の非イオン型界
面活性剤は、長鎖脂肪酸と無水ヘキシトールとから誘導
された部分エステル、例えばソルビタンモノラウレート
;上記の部分エステルとエチレンオキシドとの縮合生成
物;並びにレシチン類;シリコーン界面活性剤〔シロキ
サン鎖からなる骨格を有する水溶性界面活性剤、例えば
SilwetL77(商品名)〕である。鉱油中の適当
な混合物はAtplus 411F(商品名)である
。
【0086】前記の有効成分の水溶液又は分散液は、場
合によっては1種又はそれ以上の湿潤剤又は分散剤を含
有する水又は有機溶媒に有効成分を溶解し、次いで有機
溶媒を使用する場合には上記のようにして得られた混合
物を、場合によっては1種又はそれ以上の湿潤剤又は分
散剤を含有する水に添加することによって調製し得える
。適当な有機溶媒としては、例えばエチレンジクロリド
、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、ジ
アセトンアルコール、トルエン、ケロシン、メチルナフ
タレン、キシレン類及びトリクロロエチレンが挙げられ
る。
合によっては1種又はそれ以上の湿潤剤又は分散剤を含
有する水又は有機溶媒に有効成分を溶解し、次いで有機
溶媒を使用する場合には上記のようにして得られた混合
物を、場合によっては1種又はそれ以上の湿潤剤又は分
散剤を含有する水に添加することによって調製し得える
。適当な有機溶媒としては、例えばエチレンジクロリド
、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、ジ
アセトンアルコール、トルエン、ケロシン、メチルナフ
タレン、キシレン類及びトリクロロエチレンが挙げられ
る。
【0087】水溶液又は分散液の形態で使用する本発明
の組成物は一般に、有効成分を高割合で含有する濃厚液
の形態で提供され、次いでこの濃厚液は使用する前に水
で希釈される。この濃厚液には通常、長期間の貯蔵にた
えることが要求され、またかかる貯蔵の後に水で希釈し
て慣用の噴霧装置で散布することができる均質性を十分
な時間保持している水性製剤を形成できることが要求さ
れる。濃厚液は、1種又はそれ以上の有効成分を20〜
90重量%好ましくは20〜70重量%含有するのが好
都合である。直ぐに使用できる希釈製剤は、使用する目
的に応じて1種又はそれ以上の有効成分を種々の量で含
有し得る。1種又はそれ以上の有効成分の重量で0.0
1%〜10.0%好ましくは0.01%〜2%の量が標
準的に使用される。
の組成物は一般に、有効成分を高割合で含有する濃厚液
の形態で提供され、次いでこの濃厚液は使用する前に水
で希釈される。この濃厚液には通常、長期間の貯蔵にた
えることが要求され、またかかる貯蔵の後に水で希釈し
て慣用の噴霧装置で散布することができる均質性を十分
な時間保持している水性製剤を形成できることが要求さ
れる。濃厚液は、1種又はそれ以上の有効成分を20〜
90重量%好ましくは20〜70重量%含有するのが好
都合である。直ぐに使用できる希釈製剤は、使用する目
的に応じて1種又はそれ以上の有効成分を種々の量で含
有し得る。1種又はそれ以上の有効成分の重量で0.0
1%〜10.0%好ましくは0.01%〜2%の量が標
準的に使用される。
【0088】有効成分を微粉砕し、且つ界面活性剤又は
沈殿防止剤の存在下に水に分散させた有効成分を含有し
てなる濃厚組成物の形態が好ましい。適当な沈殿防止剤
は、親水性コロイドであり、例えばポリビニルピロリド
ン及びカルボキシメチルセルロースナトリウム、並びに
植物ゴム例えばアラビアゴム及びトラガカントゴムが挙
げられる。好ましい沈殿防止剤は、チキソトロープ性を
も付与し、且つ濃厚液の粘度を上昇させるものである。 好ましい沈殿防止剤の具体例としては、水和コロイド鉱
物性シリケート類、例えばモンモリン石、バイデライト
、ノントロン石、ヘクトライト、サポー石及びソーコナ
イトが挙げられる。ベントナイトが特に好ましい。他の
沈殿防止剤としてはセルロース誘導体及びポリビニルア
ルコールが挙げられる。
沈殿防止剤の存在下に水に分散させた有効成分を含有し
てなる濃厚組成物の形態が好ましい。適当な沈殿防止剤
は、親水性コロイドであり、例えばポリビニルピロリド
ン及びカルボキシメチルセルロースナトリウム、並びに
植物ゴム例えばアラビアゴム及びトラガカントゴムが挙
げられる。好ましい沈殿防止剤は、チキソトロープ性を
も付与し、且つ濃厚液の粘度を上昇させるものである。 好ましい沈殿防止剤の具体例としては、水和コロイド鉱
物性シリケート類、例えばモンモリン石、バイデライト
、ノントロン石、ヘクトライト、サポー石及びソーコナ
イトが挙げられる。ベントナイトが特に好ましい。他の
沈殿防止剤としてはセルロース誘導体及びポリビニルア
ルコールが挙げられる。
【0089】本発明の化合物の施用量は、例えば使用す
るために選択される化合物、その生長を抑制すべき植物
の種類、使用するために選択される製剤、並びに化合物
を茎葉取り込み(uptake)又は根取り込みとして
施用すべきかどうかを含めて多くの因子に左右されるで
あろう。しかしながら、一般的な指針として、有効成分
全体の施用量は1ヘクタール当たり0.001〜20K
gが適当であるが、有効成分全体の施用量は1ヘクター
ル当たり0.005〜1Kgが好ましいものであり得る
。
るために選択される化合物、その生長を抑制すべき植物
の種類、使用するために選択される製剤、並びに化合物
を茎葉取り込み(uptake)又は根取り込みとして
施用すべきかどうかを含めて多くの因子に左右されるで
あろう。しかしながら、一般的な指針として、有効成分
全体の施用量は1ヘクタール当たり0.001〜20K
gが適当であるが、有効成分全体の施用量は1ヘクター
ル当たり0.005〜1Kgが好ましいものであり得る
。
【0090】本発明の組成物は、本発明の化合物の1種
又はそれ以上の他に、本発明以外のの化合物の化合物で
あって、生物学的活性を有する化合物例えば除草剤、殺
菌剤、殺虫剤(場合によっては殺虫剤協力剤と共に)又
は植物生長調節剤の1種又はそれ以上を含有していても
よい。従って、本発明のさらに別の態様によれば、前記
の式(I)で示される除草性化合物の少なくとも1種と
、他の除草剤の少なくとも1種との混合物を含有してな
る除草剤組成物が提供される。
又はそれ以上の他に、本発明以外のの化合物の化合物で
あって、生物学的活性を有する化合物例えば除草剤、殺
菌剤、殺虫剤(場合によっては殺虫剤協力剤と共に)又
は植物生長調節剤の1種又はそれ以上を含有していても
よい。従って、本発明のさらに別の態様によれば、前記
の式(I)で示される除草性化合物の少なくとも1種と
、他の除草剤の少なくとも1種との混合物を含有してな
る除草剤組成物が提供される。
【0091】上記の他の除草剤は、前記の式(I)を有
しない任意の除草剤であり得る。それは一般に特定の施
用において補足的作用を有する除草剤であり得る。
しない任意の除草剤であり得る。それは一般に特定の施
用において補足的作用を有する除草剤であり得る。
【0092】有用な補足的除草剤の具体例としては下記
の除草剤が挙げられる。 A・ベンゾ−2,1,3−チアジアジン−4−オン−2
,2−ジオキシド類、例えばベンタゾン;B.ホルモン
系除草剤、特にフェノキシアルカン酸類、例えばMCP
A、MCPA−チオエチル、ジクロルプロップ、2,4
,5−T、MCPB、2,4−D、2,4−DB、メコ
プロップ、トリクロピル、クロピラリド(Clopyr
alid)、及びこれらの誘導体(例えば塩、エステル
及びアミド); C,1,3−ジメチルピラゾール誘導体、例えばピラゾ
キシフェン、ピラゾレート及びベンゾフェナップ;D・
ジニトロフェノール類及びそれらの誘導体(例えば酢酸
エステル)、例えばジノテルブ、ジノセブ及びそのエス
テル、ジノセブ アセテート; E.ジニトロアニリン系除草剤、例えばジニトラミン、
トリフルラリン、エタルフルラリン、ペンジメタリン、
オリザリン; F.アリール尿素系除草剤、例えばジウロン、フルオメ
ツロン、メトキスロン、ネブロン、イソプロツロン、ク
ロロトルロン、クロロクスロン、リニュロン、モノリニ
ュロン、クロロブロムロン、ダイムロン、メタベンズチ
アズロン; G.フェニルカルバモイルオキシフェニルカルバメート
類、例えばフェンメディファム及びデスメディファム;
H.2−フェニルピリダジン−3−オン類、例えばクロ
リダゾン及びノルフルラゾン; I.ウラシル系除草剤、例えばレナシル、ブロマシル及
びターバシル; J.トリアジン系除草剤、例えばアトラジン、シマジン
、アジプロトリン、シアナジン、プロメトリン、ジメタ
メトリン、シメトリン及びテルブトリン;K.ホスホロ
チオエート系除草剤、例えばピペロホス、ベンスリド及
びプタミホス; L.チオールカルバメート系除草剤、例えばシクロエー
ト、ベルノレート、モリネート、チオベンカルブ、ブチ
レート*、EPTC*、トリアレート、ジアレート、エ
スプロカルブ、チオカルバジル、ピリデート及びジメピ
ペレート; M.1,2,4−トリアジン−5−オン系除草剤、例え
ばメタミトロン及びメトリブジン; N.安息香酸系除草剤、例えば2,3,6−TBA、ジ
カンバ及びクロラムベン; O.アニリド系除草剤、例えばプレチラクロール、ブタ
クロール、アラクロール、プロパクロール、プロパニル
、メタザクロール、メトラクロール、アセトクロール及
びジメタクロール; P.ジハロベンゾニトリル系除草剤、例えばジクロベニ
ル、ブロモキシニル及びイオキシニル;Q.ハロアルカ
ン酸系除草剤、例えばダラポン、TCA及びそれらの塩
; R.ジフェニルエーテル系除草剤、例えばラクトフエン
、フルオログリコフェン又はその塩もしくはエステル、
ニトロフェン、ビフェノックス、アシフルオルフェン並
びにその塩及びエステル、オキシフルオルフェン、ホメ
サフェン、クロルニトロフェン及びクロメトキシフェン
; S.フェノキシフェノキシプロピオネート系除草剤、例
えばジクロホップ及びそのエステル例えばメチルエステ
ル、フルアジホップ及びそのエステル、ハロキシホップ
及びそのエステル、キザロホップ及びそのエステル、並
びにフェノキサプロップ及びそのエステル例えばエチル
エステル; T.シクロヘキサンジオン系除草剤、例えばアロキシジ
ム及びその塩、セトキシジム、シクロキシジム、トラル
コキシジム並びにクレトジム; U.スルホニルウレア系除草剤、例えばクロルスルフロ
ン、スルホメツロン、メトスルフロン及びそのエステル
、ベンズスルフロン及びそのエステル例えばDPX−M
6313、クロリムロン及びそのエステル例えばエチル
エステル、ピリミスルフロン及びそのエステル例えばメ
チルエステル、2−[3−(4−メトキシ−6−メチル
−1,3,5−トリアジン−2−イル)−3−メチルウ
レイドスルホニル]安息香酸エステル例えばメチルエス
テル(DPX−LS300)、並びにピラゾスルフロン
; V.イミダゾリジノン系除草剤、例えばイマザキン、イ
マザメタベンズ、イマザピル及びそのイソプロピルアン
モニウム塩、イマゼタピル; W.アリールアニリド系除草剤、例えばフラムプロップ
及びそのエステル、ベンゾイルプロップ−エチル、ジフ
ルフェニカン; X.アミノ酸系除草剤、例えばグリホセート及びグルホ
シネート並びにそれらの塩及びエステル、スルホセート
、並びにビアラホス; Y.有機砒素系除草剤、例えばメタンアルソン酸ナトリ
ウム(MSMA); 、Z.除草性アミド誘導体、例えばナプロップアミド、
プロピザミド、カルベタミド、テブタム、ブロモブチド
、イソキサベン、ナプロアニリド及びナプタラム;
AA.その他の除草剤、例えばエトフメセート、シンメ
チリン、ジフェンゾコート及びその塩例えばメチルスル
ホネート塩、クロマゾン、オキサジアゾン、ブロモフェ
ノキシム、バルバン、トリジファン、フルオロクロリド
ン、キンクロラック、ジチオピル、並びにメフェナセッ
ト; BB.有用な接触型除草剤の具体例としては以下のもの
が挙げられる:ビピリジリウム系除草剤、例えば活性部
分がパラコートであるもの、及び活性部分がジコートで
あるもの。
の除草剤が挙げられる。 A・ベンゾ−2,1,3−チアジアジン−4−オン−2
,2−ジオキシド類、例えばベンタゾン;B.ホルモン
系除草剤、特にフェノキシアルカン酸類、例えばMCP
A、MCPA−チオエチル、ジクロルプロップ、2,4
,5−T、MCPB、2,4−D、2,4−DB、メコ
プロップ、トリクロピル、クロピラリド(Clopyr
alid)、及びこれらの誘導体(例えば塩、エステル
及びアミド); C,1,3−ジメチルピラゾール誘導体、例えばピラゾ
キシフェン、ピラゾレート及びベンゾフェナップ;D・
ジニトロフェノール類及びそれらの誘導体(例えば酢酸
エステル)、例えばジノテルブ、ジノセブ及びそのエス
テル、ジノセブ アセテート; E.ジニトロアニリン系除草剤、例えばジニトラミン、
トリフルラリン、エタルフルラリン、ペンジメタリン、
オリザリン; F.アリール尿素系除草剤、例えばジウロン、フルオメ
ツロン、メトキスロン、ネブロン、イソプロツロン、ク
ロロトルロン、クロロクスロン、リニュロン、モノリニ
ュロン、クロロブロムロン、ダイムロン、メタベンズチ
アズロン; G.フェニルカルバモイルオキシフェニルカルバメート
類、例えばフェンメディファム及びデスメディファム;
H.2−フェニルピリダジン−3−オン類、例えばクロ
リダゾン及びノルフルラゾン; I.ウラシル系除草剤、例えばレナシル、ブロマシル及
びターバシル; J.トリアジン系除草剤、例えばアトラジン、シマジン
、アジプロトリン、シアナジン、プロメトリン、ジメタ
メトリン、シメトリン及びテルブトリン;K.ホスホロ
チオエート系除草剤、例えばピペロホス、ベンスリド及
びプタミホス; L.チオールカルバメート系除草剤、例えばシクロエー
ト、ベルノレート、モリネート、チオベンカルブ、ブチ
レート*、EPTC*、トリアレート、ジアレート、エ
スプロカルブ、チオカルバジル、ピリデート及びジメピ
ペレート; M.1,2,4−トリアジン−5−オン系除草剤、例え
ばメタミトロン及びメトリブジン; N.安息香酸系除草剤、例えば2,3,6−TBA、ジ
カンバ及びクロラムベン; O.アニリド系除草剤、例えばプレチラクロール、ブタ
クロール、アラクロール、プロパクロール、プロパニル
、メタザクロール、メトラクロール、アセトクロール及
びジメタクロール; P.ジハロベンゾニトリル系除草剤、例えばジクロベニ
ル、ブロモキシニル及びイオキシニル;Q.ハロアルカ
ン酸系除草剤、例えばダラポン、TCA及びそれらの塩
; R.ジフェニルエーテル系除草剤、例えばラクトフエン
、フルオログリコフェン又はその塩もしくはエステル、
ニトロフェン、ビフェノックス、アシフルオルフェン並
びにその塩及びエステル、オキシフルオルフェン、ホメ
サフェン、クロルニトロフェン及びクロメトキシフェン
; S.フェノキシフェノキシプロピオネート系除草剤、例
えばジクロホップ及びそのエステル例えばメチルエステ
ル、フルアジホップ及びそのエステル、ハロキシホップ
及びそのエステル、キザロホップ及びそのエステル、並
びにフェノキサプロップ及びそのエステル例えばエチル
エステル; T.シクロヘキサンジオン系除草剤、例えばアロキシジ
ム及びその塩、セトキシジム、シクロキシジム、トラル
コキシジム並びにクレトジム; U.スルホニルウレア系除草剤、例えばクロルスルフロ
ン、スルホメツロン、メトスルフロン及びそのエステル
、ベンズスルフロン及びそのエステル例えばDPX−M
6313、クロリムロン及びそのエステル例えばエチル
エステル、ピリミスルフロン及びそのエステル例えばメ
チルエステル、2−[3−(4−メトキシ−6−メチル
−1,3,5−トリアジン−2−イル)−3−メチルウ
レイドスルホニル]安息香酸エステル例えばメチルエス
テル(DPX−LS300)、並びにピラゾスルフロン
; V.イミダゾリジノン系除草剤、例えばイマザキン、イ
マザメタベンズ、イマザピル及びそのイソプロピルアン
モニウム塩、イマゼタピル; W.アリールアニリド系除草剤、例えばフラムプロップ
及びそのエステル、ベンゾイルプロップ−エチル、ジフ
ルフェニカン; X.アミノ酸系除草剤、例えばグリホセート及びグルホ
シネート並びにそれらの塩及びエステル、スルホセート
、並びにビアラホス; Y.有機砒素系除草剤、例えばメタンアルソン酸ナトリ
ウム(MSMA); 、Z.除草性アミド誘導体、例えばナプロップアミド、
プロピザミド、カルベタミド、テブタム、ブロモブチド
、イソキサベン、ナプロアニリド及びナプタラム;
AA.その他の除草剤、例えばエトフメセート、シンメ
チリン、ジフェンゾコート及びその塩例えばメチルスル
ホネート塩、クロマゾン、オキサジアゾン、ブロモフェ
ノキシム、バルバン、トリジファン、フルオロクロリド
ン、キンクロラック、ジチオピル、並びにメフェナセッ
ト; BB.有用な接触型除草剤の具体例としては以下のもの
が挙げられる:ビピリジリウム系除草剤、例えば活性部
分がパラコートであるもの、及び活性部分がジコートで
あるもの。
【0093】*を付した前記の化合物は、解毒剤例えば
ジクロルミドと組み合わせて使用することが好ましい
ジクロルミドと組み合わせて使用することが好ましい
【
0094】
0094】
【実施例】以下の実施例により本発明を説明する。
実施例1
本実施例は第1表の化合物No.1の製造を例証する。
工程A
ヒドロキシルアミン塩酸塩(0.58g)と金属ナトリ
ウム(0.2g)とを含有する、無水エタノール(15
cm3)に4,6−ジヒドロキシクマリン(0.5g)
を懸濁させた懸濁液を、還流温度で9時間加熱した。こ
の時間の間に灰色の沈殿が生成した。反応混合物を室温
まで冷却した後に、減圧濃縮し、得られた残留物を炭酸
水素ナトリウム水溶液に溶解した。この水溶液をジエチ
ルエーテルで抽出した。エーテル抽出液を無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮して固体(0
.09g)すなわちNMR分析によれば2,5−ジヒド
ロキシアセトフェノンオキシムを得た。上記水溶液を濃
塩酸で酸性化し、次いでジエチルエーテルで抽出した。 エーテル抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し
、次いで減圧濃縮して、融点170℃(分解)の黄橙色
固体すなわち5−ヒドロキシ−1,2−ベンゾオキサゾ
ール−3−イル酢酸(0.29g、収率54%)を得た
。 δHNMR(CDCl3):3.95(s)2H−7.
00(d)1H;7.05(dd)1H;7.50(d
)1H;9.60(幅広s)1H;12.80(幅広s
)1H
ウム(0.2g)とを含有する、無水エタノール(15
cm3)に4,6−ジヒドロキシクマリン(0.5g)
を懸濁させた懸濁液を、還流温度で9時間加熱した。こ
の時間の間に灰色の沈殿が生成した。反応混合物を室温
まで冷却した後に、減圧濃縮し、得られた残留物を炭酸
水素ナトリウム水溶液に溶解した。この水溶液をジエチ
ルエーテルで抽出した。エーテル抽出液を無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮して固体(0
.09g)すなわちNMR分析によれば2,5−ジヒド
ロキシアセトフェノンオキシムを得た。上記水溶液を濃
塩酸で酸性化し、次いでジエチルエーテルで抽出した。 エーテル抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し
、次いで減圧濃縮して、融点170℃(分解)の黄橙色
固体すなわち5−ヒドロキシ−1,2−ベンゾオキサゾ
ール−3−イル酢酸(0.29g、収率54%)を得た
。 δHNMR(CDCl3):3.95(s)2H−7.
00(d)1H;7.05(dd)1H;7.50(d
)1H;9.60(幅広s)1H;12.80(幅広s
)1H
【0095】工程B
DMSO(20cm3)に5−ヒドロキシ−1,2−ベ
ンゾオキサゾール−3−イル酢酸(0.5g)を溶解し
た溶液に、炭酸カリウム(0.39g)と3−クロロ−
α,α,α,4,5−ペンタフルオロトルエン(0.6
2g)とを加えた。この反応混合物を還流温度で1夜加
熱し、氷と水との混合物に注加し、ジエチルエーテルで
洗浄し、酸性化し次いでジエチルエーテルで抽出した。 エーテル抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し
、次いで減圧濃縮して赤色固体(0.65g)を得た。 この固体を塩化メチレン−ヘキサン(混合比50:50
)混合溶媒から再結晶して標記の化合物No.1(0.
16g、収率17%)を得た。融点127〜128℃。
ンゾオキサゾール−3−イル酢酸(0.5g)を溶解し
た溶液に、炭酸カリウム(0.39g)と3−クロロ−
α,α,α,4,5−ペンタフルオロトルエン(0.6
2g)とを加えた。この反応混合物を還流温度で1夜加
熱し、氷と水との混合物に注加し、ジエチルエーテルで
洗浄し、酸性化し次いでジエチルエーテルで抽出した。 エーテル抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し
、次いで減圧濃縮して赤色固体(0.65g)を得た。 この固体を塩化メチレン−ヘキサン(混合比50:50
)混合溶媒から再結晶して標記の化合物No.1(0.
16g、収率17%)を得た。融点127〜128℃。
【0096】実施例2
本実施例は第1表の化合物No.2の製造を説明する。
工程A
濃硫酸(2cm3)を含有するメタノール(30cm3
)に、実施例1の工程Aに記載のようにして製造した5
−ヒドロキシ−1,2−ベンゾオキサゾール−3−イル
酢酸(0.5g)を溶解した。この反応混合物を還流温
度で5.5時間加熱し、室温で1夜放置し、還流温度で
6.25時間加熱し、室温に放置し、還流温度で7.7
5時間加熱し、最後に室温で1夜放置した。この溶液を
氷/水中に注加し、ジエチルエーテルで抽出した。エー
テル抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次
いで減圧濃縮した。得られた残留物(0.46g)を分
取用薄層クロマトグラフィー(シリカ/クロロホルム−
アセトン、9:1)でさらに精製して白色固体の5−ヒ
ドロキシ−1,2−ベンゾオキサゾール−3−イル酢酸
メチル(0.3g、収率56%)を得た。 δHNMR(CDCl3):3.6(S)3H;4.1
(s)2H;6.95(d)1H;7.05(dd)1
H;7.5(d)1H;9.6(s)1H
)に、実施例1の工程Aに記載のようにして製造した5
−ヒドロキシ−1,2−ベンゾオキサゾール−3−イル
酢酸(0.5g)を溶解した。この反応混合物を還流温
度で5.5時間加熱し、室温で1夜放置し、還流温度で
6.25時間加熱し、室温に放置し、還流温度で7.7
5時間加熱し、最後に室温で1夜放置した。この溶液を
氷/水中に注加し、ジエチルエーテルで抽出した。エー
テル抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次
いで減圧濃縮した。得られた残留物(0.46g)を分
取用薄層クロマトグラフィー(シリカ/クロロホルム−
アセトン、9:1)でさらに精製して白色固体の5−ヒ
ドロキシ−1,2−ベンゾオキサゾール−3−イル酢酸
メチル(0.3g、収率56%)を得た。 δHNMR(CDCl3):3.6(S)3H;4.1
(s)2H;6.95(d)1H;7.05(dd)1
H;7.5(d)1H;9.6(s)1H
【0097】
工程B 工程Aに記載のようにして製造した5−ヒドロキシ−1
,2−ベンゾオキサゾール−3−イル酢酸メチル(5.
47g)をDMSO(50cm3)に溶解した。 この溶液に、炭酸カリウム(7.29g)と6−クロロ
−α,α,α,4,5−ペンタフルオロトルエン(7.
04g)とを加えた。この反応混合物を100℃で1.
25時間加熱し、放置して冷却し、次いで水に注加した
。この水性混合物をジエチルエーテルで抽出した。エー
テル抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次
いで減圧濃縮して粗生成物すなわち橙−黒色油状物(1
1.48g)を得た。この粗生成物をカラムクロマトグ
ラフィー(シリカ/ヘキサン−ジェチルエーテル、7:
3)でさらに精製して粘稠油状物として化合物No.2
(6.55g、収率62%)を得た。
工程B 工程Aに記載のようにして製造した5−ヒドロキシ−1
,2−ベンゾオキサゾール−3−イル酢酸メチル(5.
47g)をDMSO(50cm3)に溶解した。 この溶液に、炭酸カリウム(7.29g)と6−クロロ
−α,α,α,4,5−ペンタフルオロトルエン(7.
04g)とを加えた。この反応混合物を100℃で1.
25時間加熱し、放置して冷却し、次いで水に注加した
。この水性混合物をジエチルエーテルで抽出した。エー
テル抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次
いで減圧濃縮して粗生成物すなわち橙−黒色油状物(1
1.48g)を得た。この粗生成物をカラムクロマトグ
ラフィー(シリカ/ヘキサン−ジェチルエーテル、7:
3)でさらに精製して粘稠油状物として化合物No.2
(6.55g、収率62%)を得た。
【0098】実施例3
本実施例は第1表の化合物No.1の製造を説明する。
実施例2で製造した化合物No.2(0.7g)をTH
F(15cm3)に溶解した。水酸化カリウム(0.1
g)と水(5cm3)とを加えた。この反応混合物を還
流温度で6時間加熱し、室温で1夜放置した。この溶液
を水に注加し、ジエチルエーテルで抽出した。エーテル
抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
、濾過し、次いで減圧濃縮して橙色固体(0.22g)
を得た。これはNMR分析によれば出発原料であった。 上記水溶液を濃塩酸で酸性化し、次いでジエチルエーテ
ルで抽出した。エーテル抽出液を食塩水で洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮して
白色固体として化合物No.1(0.49g、収率73
%)を得た。
F(15cm3)に溶解した。水酸化カリウム(0.1
g)と水(5cm3)とを加えた。この反応混合物を還
流温度で6時間加熱し、室温で1夜放置した。この溶液
を水に注加し、ジエチルエーテルで抽出した。エーテル
抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
、濾過し、次いで減圧濃縮して橙色固体(0.22g)
を得た。これはNMR分析によれば出発原料であった。 上記水溶液を濃塩酸で酸性化し、次いでジエチルエーテ
ルで抽出した。エーテル抽出液を食塩水で洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮して
白色固体として化合物No.1(0.49g、収率73
%)を得た。
【0099】実施例4
本実施例は第I表の化合物No.3の製造を例証する。
実施例2で製造した化合物No.2(0.5g)を、T
HF(10cm3)に溶解し、この溶液を攪拌しながら
−15℃に冷却した。トルエンに溶解したリチウム
ビス(トリメチルシリル)アミドの1.0M溶液(1.
42cm3)を滴下し、溶液をさらに1時間攪拌した。 (この間に反応混合物は一25℃まで冷却された。)沃
化メチル(0.5cm3)を加え、反応混合物を1夜放
置し室温まで昇温させた。反応混合物を水に注加し、水
層をジエチルエーテルで抽出した。エーテル抽出液を食
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、
次いで減圧濃縮した。得られた残留物(0.3g)を分
取用薄層クロマトグラフィー(シリカ/ヘキサン−ジエ
チルエーテル、7:3)で精製して、黄色固体として化
合物No.3(0.08g、収率14%)を得た。
HF(10cm3)に溶解し、この溶液を攪拌しながら
−15℃に冷却した。トルエンに溶解したリチウム
ビス(トリメチルシリル)アミドの1.0M溶液(1.
42cm3)を滴下し、溶液をさらに1時間攪拌した。 (この間に反応混合物は一25℃まで冷却された。)沃
化メチル(0.5cm3)を加え、反応混合物を1夜放
置し室温まで昇温させた。反応混合物を水に注加し、水
層をジエチルエーテルで抽出した。エーテル抽出液を食
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、
次いで減圧濃縮した。得られた残留物(0.3g)を分
取用薄層クロマトグラフィー(シリカ/ヘキサン−ジエ
チルエーテル、7:3)で精製して、黄色固体として化
合物No.3(0.08g、収率14%)を得た。
【0100】実施例5
本実施例は第I表の化合物No.4の製造を説明する。
実施例2に記載のようにして製造した化合物No.2(
0.4g)を、酢酸(10cm3)と塩化メチレン(1
0cm3)の混合物に溶解した溶液に、少容量の塩化メ
チレンに溶解した臭素(0.14g)を加えた。次いで
この混合物を還流温度で1.75時間加熱した。この混
合物を室温まで冷却した後に、水に注加し、ジエチルエ
ーテルで抽出した。エーテル抽出液を炭酸水素ナトリウ
ム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過
し、次いで減圧濃縮した。得られた残留物(0.44g
)を分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ/ヘキサン
−ジエチルエーテル、70:10)でさらに精製して白
色固体として化合物No.4(0.2g、収率42%)
を得た。
0.4g)を、酢酸(10cm3)と塩化メチレン(1
0cm3)の混合物に溶解した溶液に、少容量の塩化メ
チレンに溶解した臭素(0.14g)を加えた。次いで
この混合物を還流温度で1.75時間加熱した。この混
合物を室温まで冷却した後に、水に注加し、ジエチルエ
ーテルで抽出した。エーテル抽出液を炭酸水素ナトリウ
ム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過
し、次いで減圧濃縮した。得られた残留物(0.44g
)を分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ/ヘキサン
−ジエチルエーテル、70:10)でさらに精製して白
色固体として化合物No.4(0.2g、収率42%)
を得た。
【0101】実施例6
本実施例は第I表の化合物No.5の製造を説明する。
実施例2に記載のようにして製造した化合物No.2(
0.5g)を無水THF(10cm3)に溶解した溶液
を−15℃に冷却した。トルエンに溶解したカリウム
ビス(トリメチルシリル)アミドの0.5M溶液(2
.72cm3)を加え、この溶液を−15℃で1.5時
間攪拌した。この間に溶液の色は橙色に変化した。 この攪拌溶液に、無水テトラヒドロフラン(3.5cm
3)に沃化メチル(0.1g)を溶解した溶液を滴下し
た。滴下完了後、溶液を室温まで昇温させ、水に注加し
、次いでジエチルエーテルで抽出した。エーテル抽出溶
液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾
過し、次いで減圧濃縮し油状物(0.5g)を得た。 得られた油状物を分取用薄層クロマトグラフィー(シリ
カ/ヘキサン−ジエチルエーテル、7:3)で精製して
、黄色油状物として化合物No.5(0.33g、収率
64%)を得た。化合物No.6及びNo.90を適当
な反応剤を用いて同様の方法で製造した。
0.5g)を無水THF(10cm3)に溶解した溶液
を−15℃に冷却した。トルエンに溶解したカリウム
ビス(トリメチルシリル)アミドの0.5M溶液(2
.72cm3)を加え、この溶液を−15℃で1.5時
間攪拌した。この間に溶液の色は橙色に変化した。 この攪拌溶液に、無水テトラヒドロフラン(3.5cm
3)に沃化メチル(0.1g)を溶解した溶液を滴下し
た。滴下完了後、溶液を室温まで昇温させ、水に注加し
、次いでジエチルエーテルで抽出した。エーテル抽出溶
液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾
過し、次いで減圧濃縮し油状物(0.5g)を得た。 得られた油状物を分取用薄層クロマトグラフィー(シリ
カ/ヘキサン−ジエチルエーテル、7:3)で精製して
、黄色油状物として化合物No.5(0.33g、収率
64%)を得た。化合物No.6及びNo.90を適当
な反応剤を用いて同様の方法で製造した。
【0102】実施例7
本実施例は第I表の化合物No.7の製造を例証する。
に実施例2に記載のようにして製造した化合物No.2
(0.52g)をエタノール(30cm3)に溶解した
溶液に、濃硫酸(2cm3)を加えた。この溶液を還流
温度で2時間加熱し、次いで室温まで冷却した後に、水
に注加した。得られた水性混合物をジエチルエーテルで
抽出した。エーテル抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次い
で減圧濃縮した。得られた残留物(0.49g)を分取
用薄層クロマトグラフィー(シリカ/ヘキサン−ジエチ
ルエーテル、7:3)で精製して、融点59〜60℃の
淡黄色固体として化合物No.7(0.41g、収率7
6%)を得た。適当な反応剤を用いて同様の方法で化合
物No.10、No.11及びNo.95を製造した。
(0.52g)をエタノール(30cm3)に溶解した
溶液に、濃硫酸(2cm3)を加えた。この溶液を還流
温度で2時間加熱し、次いで室温まで冷却した後に、水
に注加した。得られた水性混合物をジエチルエーテルで
抽出した。エーテル抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次い
で減圧濃縮した。得られた残留物(0.49g)を分取
用薄層クロマトグラフィー(シリカ/ヘキサン−ジエチ
ルエーテル、7:3)で精製して、融点59〜60℃の
淡黄色固体として化合物No.7(0.41g、収率7
6%)を得た。適当な反応剤を用いて同様の方法で化合
物No.10、No.11及びNo.95を製造した。
【0103】実施例8
本実施例は第I表の化合物No.8の製造を例証する。
実施例7に記載のようにして製造した化合物No,7(
0.53g)を無水THF(10cm3)に溶解した溶
液に、トルエンに溶解したカリウム ビス(トリメチ
ルシリル)アミドの0.5M溶液(2.8cm3)を−
15℃で加えた。この溶液の色は橙色に変化し、これを
−15℃で1.5時間攪拌した。沃化メチル(0.16
g)を無水THF(3.5cm3)に溶解した溶液を滴
下した後に、反応混合物を1夜にわたって室温まで昇温
させ、水に注加した。得られた水性混合物をジエチルエ
ーテルで抽出した。エーテル抽出溶液を食塩水で洗浄し
、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃
縮した。得られた残留物(0.57g)を、分取用薄層
クロマトグラフィー(シリカ/ヘキサン−ジエチルエー
テル、7:3)でさらに精製して、黄色油状物として化
合物No.8(0.36g、収率66%)を得た。適当
な反応剤を用いて同様の方法で化合物No.9、No.
15及びNo.16を製造した。
0.53g)を無水THF(10cm3)に溶解した溶
液に、トルエンに溶解したカリウム ビス(トリメチ
ルシリル)アミドの0.5M溶液(2.8cm3)を−
15℃で加えた。この溶液の色は橙色に変化し、これを
−15℃で1.5時間攪拌した。沃化メチル(0.16
g)を無水THF(3.5cm3)に溶解した溶液を滴
下した後に、反応混合物を1夜にわたって室温まで昇温
させ、水に注加した。得られた水性混合物をジエチルエ
ーテルで抽出した。エーテル抽出溶液を食塩水で洗浄し
、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃
縮した。得られた残留物(0.57g)を、分取用薄層
クロマトグラフィー(シリカ/ヘキサン−ジエチルエー
テル、7:3)でさらに精製して、黄色油状物として化
合物No.8(0.36g、収率66%)を得た。適当
な反応剤を用いて同様の方法で化合物No.9、No.
15及びNo.16を製造した。
【0104】実施例9
本実施例は第I表の化合物No.12の製造を例証する
。無水ジクロロメタン(10cm3)に化合物1(実施
例1に記載のようにして製造したもの)(0.45g)
を溶解した溶液を、氷浴で冷却し、これに触媒量のジメ
チルアミノピリジンとジシクロヘキシルカルボジイミド
(0.26g)とを加えた。プロパルギルアルコール(
0.07g)を加え、氷浴を取り除き、反応混合物を攪
拌し次いで室温まで昇温させた。3時間後に、沈殿物を
ハイフロー(hiflow)を通して濾過することによ
り除去し、ジクロロメタンで洗浄した。得られた洗浄液
と濾液とを一緒にし減圧濃縮した。得られた残留物(0
.60g)を分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ/
ヘキサン−ジエチルエーテル、7:3)で精製して、融
点66〜67℃の極淡黄色固体として化合物No.12
(0.22g、収率44%)を得た。
。無水ジクロロメタン(10cm3)に化合物1(実施
例1に記載のようにして製造したもの)(0.45g)
を溶解した溶液を、氷浴で冷却し、これに触媒量のジメ
チルアミノピリジンとジシクロヘキシルカルボジイミド
(0.26g)とを加えた。プロパルギルアルコール(
0.07g)を加え、氷浴を取り除き、反応混合物を攪
拌し次いで室温まで昇温させた。3時間後に、沈殿物を
ハイフロー(hiflow)を通して濾過することによ
り除去し、ジクロロメタンで洗浄した。得られた洗浄液
と濾液とを一緒にし減圧濃縮した。得られた残留物(0
.60g)を分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ/
ヘキサン−ジエチルエーテル、7:3)で精製して、融
点66〜67℃の極淡黄色固体として化合物No.12
(0.22g、収率44%)を得た。
【0105】実施例10
本実施例は第I表の化合物No.13の製造を例証する
。実施例1に記載のようにして製造した化合物No.1
(0.89g)と触媒量のDMAPとn−ブタノール(
0.19g)とを無水ジクロロメタン(10cm3)に
溶解し、この溶液を氷/塩浴で冷却した。DCC(0.
5g)を加え、次いで氷浴を取り除いた。反応混合物を
攪拌し次いで室温まで昇温させた。3時間後に、沈殿物
をハイフローを通して濾過することにより除去し、ジク
ロロメタンで洗浄した。得られた洗浄液と濾液とを一緒
にし減圧濃縮した。得られた物質(1.06g)を分取
用薄層クロマトグラフィー(シリカ/ヘキサン−ジエチ
ルエーテル、7:3)で精製して、融点50〜51℃の
ほとんど白色の固体として化合物No.13(0.71
g、収率70%)を得た。適当な反応剤と出発原料とを
用いて同様の方法で化合物No.17、No.18,N
o.40、No.41 No.92及びNo.98を
製造した。
。実施例1に記載のようにして製造した化合物No.1
(0.89g)と触媒量のDMAPとn−ブタノール(
0.19g)とを無水ジクロロメタン(10cm3)に
溶解し、この溶液を氷/塩浴で冷却した。DCC(0.
5g)を加え、次いで氷浴を取り除いた。反応混合物を
攪拌し次いで室温まで昇温させた。3時間後に、沈殿物
をハイフローを通して濾過することにより除去し、ジク
ロロメタンで洗浄した。得られた洗浄液と濾液とを一緒
にし減圧濃縮した。得られた物質(1.06g)を分取
用薄層クロマトグラフィー(シリカ/ヘキサン−ジエチ
ルエーテル、7:3)で精製して、融点50〜51℃の
ほとんど白色の固体として化合物No.13(0.71
g、収率70%)を得た。適当な反応剤と出発原料とを
用いて同様の方法で化合物No.17、No.18,N
o.40、No.41 No.92及びNo.98を
製造した。
【0106】実施例110
本実施例は第I表の化合物No.14の製造を例証する
。実施例6で製造した第I表の化合物No.5(1.3
5g)をTHF(7cm3)に溶解した。次いで水(5
cm3)と水酸化カリウム(0.2g)とを加えた。こ
の混合物を還流温度で3.5時間加熱した。混合物を室
温まで冷却した後に、氷上に注加した。得られた水溶液
をジエチルエーテルで洗浄し、濃塩酸で酸性化し次いで
ジエチルエーテルで抽出した。エーテル抽出液を食塩水
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次い
で減圧濃縮して、融点133〜135℃の白色固体とし
て化合物No14(1.07g、収率83%)を得た。
。実施例6で製造した第I表の化合物No.5(1.3
5g)をTHF(7cm3)に溶解した。次いで水(5
cm3)と水酸化カリウム(0.2g)とを加えた。こ
の混合物を還流温度で3.5時間加熱した。混合物を室
温まで冷却した後に、氷上に注加した。得られた水溶液
をジエチルエーテルで洗浄し、濃塩酸で酸性化し次いで
ジエチルエーテルで抽出した。エーテル抽出液を食塩水
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次い
で減圧濃縮して、融点133〜135℃の白色固体とし
て化合物No14(1.07g、収率83%)を得た。
【0107】実施例12
本実施例は第I表の化合物No.19の製造を例証する
。実施例2の工程Aで製造した5−ヒドロキシ−1,2
−ベンゾオキサゾール−3−イル酢酸メチル(1.06
g)をDMF(10cm3)に溶解した溶液に、60%
油中分散物としての水素化ナトリウム(0.23g)と
α,α,α,3,4,5−ヘキサフルオロトルエンとを
加えた。この混合物を室温で23時間攪拌し、次いで水
に注加した。得られた水溶液をジエチルエーテルで抽出
した。エーテル抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮した。得られ
た物質(0.9g)を分取用薄層クロマトグラフィー(
シリカ/ヘキサン−エーテル、7:3)で精製して、化
合物No.19(84%)と異性体(10%)と化合物
No.2(6%)(化合物No.2は上記ヘキサフルオ
ロトルエン中に不純物として存在する)との混合物から
なる淡黄色油状物(0.36g、収率18%)として化
合物No.19を得た。上記混合物の各化合物はtlc
またはglcいずれでも分離できず19F NMRで
定量した。
。実施例2の工程Aで製造した5−ヒドロキシ−1,2
−ベンゾオキサゾール−3−イル酢酸メチル(1.06
g)をDMF(10cm3)に溶解した溶液に、60%
油中分散物としての水素化ナトリウム(0.23g)と
α,α,α,3,4,5−ヘキサフルオロトルエンとを
加えた。この混合物を室温で23時間攪拌し、次いで水
に注加した。得られた水溶液をジエチルエーテルで抽出
した。エーテル抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮した。得られ
た物質(0.9g)を分取用薄層クロマトグラフィー(
シリカ/ヘキサン−エーテル、7:3)で精製して、化
合物No.19(84%)と異性体(10%)と化合物
No.2(6%)(化合物No.2は上記ヘキサフルオ
ロトルエン中に不純物として存在する)との混合物から
なる淡黄色油状物(0.36g、収率18%)として化
合物No.19を得た。上記混合物の各化合物はtlc
またはglcいずれでも分離できず19F NMRで
定量した。
【0108】実施例13
本実施例は第I表の化合物No.20の製造を例証する
。実施例12に記載のようにして製造した化合物No.
19(3.41g)をTHF(10cm3)に溶解した
。次いで水(5cm3)と水酸化カリウム(0.54g
)とを加えた。この反応混合物を還流温度で3.5時間
加熱した。得られた混合物を冷却した後に、水に注加し
、ジエチルエーテルで洗浄し、濃塩酸で酸性化し次いで
ジエチルエーテルで抽出した。エーテル抽出液を食塩水
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次い
で減圧濃縮して、融点120〜121℃の白色固体とし
て化合物No.20を、化合物No.20のレジオ異性
体(12%)と化合物No.1(4%)とを有する混合
物(融点120〜121℃の白色固体)(2.97g、
88%)の主成分として得た。混合物の各成分は19F
NMRで定量した。
。実施例12に記載のようにして製造した化合物No.
19(3.41g)をTHF(10cm3)に溶解した
。次いで水(5cm3)と水酸化カリウム(0.54g
)とを加えた。この反応混合物を還流温度で3.5時間
加熱した。得られた混合物を冷却した後に、水に注加し
、ジエチルエーテルで洗浄し、濃塩酸で酸性化し次いで
ジエチルエーテルで抽出した。エーテル抽出液を食塩水
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次い
で減圧濃縮して、融点120〜121℃の白色固体とし
て化合物No.20を、化合物No.20のレジオ異性
体(12%)と化合物No.1(4%)とを有する混合
物(融点120〜121℃の白色固体)(2.97g、
88%)の主成分として得た。混合物の各成分は19F
NMRで定量した。
【0109】実施例14
本実施例は第I表の化合物No.21の製造を例証する
。実施例13に記載のようにして製造した化合物No.
20(0.52g)と触媒量のDMAPとエタノール(
0.07g)とを、無水ジクロロメタンに溶解し、この
溶液を氷/塩浴で冷却した。DCC(0.33g)を加
え、氷浴を取り除き次いで混合物を室温まで昇温させた
。混合物を室温で2.5時間攪拌した後に、ハイフロー
を通して濾過し、得られた残留物をジクロロメタンで洗
浄した。得られた洗浄液と濾液とを一緒にして減圧濃縮
した。得られた物質(0.62g)を分取用薄層クロマ
トグラフィー(シリカ/ヘキサン−ジエチルエーテル、
7:3)で精製し、化合物No.21を単黄色油状物で
ある混合物(0.44g、79%)の主成分(85%)
として得た。この混合物は、化合物No.21(85%
)と化合物No.21のレジオ異性体(12%)と第I
表の化合物No.7(3%)とからなっていた。混合物
の各成分は19F NMRで定量した。適当な反応剤
と出発原料とを用いて同様の方法で同様の混合物として
化合物No.22、No.23、No.24及びNo.
25を製造した。
。実施例13に記載のようにして製造した化合物No.
20(0.52g)と触媒量のDMAPとエタノール(
0.07g)とを、無水ジクロロメタンに溶解し、この
溶液を氷/塩浴で冷却した。DCC(0.33g)を加
え、氷浴を取り除き次いで混合物を室温まで昇温させた
。混合物を室温で2.5時間攪拌した後に、ハイフロー
を通して濾過し、得られた残留物をジクロロメタンで洗
浄した。得られた洗浄液と濾液とを一緒にして減圧濃縮
した。得られた物質(0.62g)を分取用薄層クロマ
トグラフィー(シリカ/ヘキサン−ジエチルエーテル、
7:3)で精製し、化合物No.21を単黄色油状物で
ある混合物(0.44g、79%)の主成分(85%)
として得た。この混合物は、化合物No.21(85%
)と化合物No.21のレジオ異性体(12%)と第I
表の化合物No.7(3%)とからなっていた。混合物
の各成分は19F NMRで定量した。適当な反応剤
と出発原料とを用いて同様の方法で同様の混合物として
化合物No.22、No.23、No.24及びNo.
25を製造した。
【0110】実施例15
本実施例は第I表の化合物No.26の製造を説明する
。実施例12に記載のようにして製造した化合物No.
19(4.87g)を無水THF(7cm3)に溶解し
た溶液をドライアイス/エタンジオール浴で冷却しこれ
に、トルエンにカリウム ビス(トリメチルシリル)
アミドを溶解した0.5M溶液(28cm3)を加えた
。混合物を冷却し、2.5時間攪拌した。無水THF(
40cm3)に沃化メチル(10cm3)溶解した沃化
メチル溶液(4.36cm3)を加え、反応混合物を1
夜にわたって室温まで昇温させた。反応混合物を水に注
加し、ジエチルエーテルで抽出し、食塩水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮し
た。得られた物質(6.28g)を、カラムクロマトグ
ラフィー(シリカ4×35cm/ヘキサン−ジエチルエ
ーテル、7:3)で精製して、化合物No.26を淡黄
色油状物である混合物(3.49g、67%)の主成分
として得た。この混合物は、化合物No.26(79%
)と化合物No.26のレジオ異性体(18%)と化合
物No.8(3%)とからなっていた。混合物の各成分
は19F NMRで定量した。
。実施例12に記載のようにして製造した化合物No.
19(4.87g)を無水THF(7cm3)に溶解し
た溶液をドライアイス/エタンジオール浴で冷却しこれ
に、トルエンにカリウム ビス(トリメチルシリル)
アミドを溶解した0.5M溶液(28cm3)を加えた
。混合物を冷却し、2.5時間攪拌した。無水THF(
40cm3)に沃化メチル(10cm3)溶解した沃化
メチル溶液(4.36cm3)を加え、反応混合物を1
夜にわたって室温まで昇温させた。反応混合物を水に注
加し、ジエチルエーテルで抽出し、食塩水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮し
た。得られた物質(6.28g)を、カラムクロマトグ
ラフィー(シリカ4×35cm/ヘキサン−ジエチルエ
ーテル、7:3)で精製して、化合物No.26を淡黄
色油状物である混合物(3.49g、67%)の主成分
として得た。この混合物は、化合物No.26(79%
)と化合物No.26のレジオ異性体(18%)と化合
物No.8(3%)とからなっていた。混合物の各成分
は19F NMRで定量した。
【0111】実施例16
本実施例は第I表の化合物No.27の製造を説明する
。実施例15に記載のようにして製造した化合物No.
26(2.93g)をTHF(10cm3)に溶解した
。次いで水(5cm3)と水酸化カリウム(0.45g
)とを加え、混合物を還流温度で23時間加熱した。得
られた反応混合物を冷却した後に、水に注加した。得ら
れた水溶液をジエチルエーテルで洗浄し、濃塩酸で酸性
化し次いでジエチルエーテルで抽出した。エーテル抽出
液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾
過し、次いで減圧濃縮して、化合物No.27を融点1
05〜106℃の白色固体(2.22g、収率78%)
である混合物主成分として得た。この混合物は、19F
NMRによれば化合物No.27(82%)と化合
物No.27のレジオ異性体(15%)と化合物No.
14(3%)とからなっていた。
。実施例15に記載のようにして製造した化合物No.
26(2.93g)をTHF(10cm3)に溶解した
。次いで水(5cm3)と水酸化カリウム(0.45g
)とを加え、混合物を還流温度で23時間加熱した。得
られた反応混合物を冷却した後に、水に注加した。得ら
れた水溶液をジエチルエーテルで洗浄し、濃塩酸で酸性
化し次いでジエチルエーテルで抽出した。エーテル抽出
液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾
過し、次いで減圧濃縮して、化合物No.27を融点1
05〜106℃の白色固体(2.22g、収率78%)
である混合物主成分として得た。この混合物は、19F
NMRによれば化合物No.27(82%)と化合
物No.27のレジオ異性体(15%)と化合物No.
14(3%)とからなっていた。
【0112】実施例17
本実施例は第I表の化合物No.28の製造を例証する
。実施例16に記載のようにして製造した化合物No.
27(0.45g)とエタノール(0.06g)と触媒
量のDMAPとを、無水ジクロロメタン(10cm3)
に溶解し、この溶液を氷/塩浴で冷却した。DCC(0
.26g)を加え、氷浴を取り除いた。反応混合物を室
温まで昇温させ、室温で1.75時間攪拌した。沈殿物
をハイフローを通して濾過し、ジクロロメタンで洗浄し
た。得られた洗浄液と濾液とを一緒にし減圧濃縮し油状
物を得た。得られた油状物を分取用薄層クロマトグラフ
ィー(シリカ/ヘキサン−ジエチルエーテル、7:3)
で精製し、化合物No.28を淡黄色油状物(0.31
g、収率64%)である混合物の主成分として得た。こ
の混合物は、19F NMRによれば化合物No.2
8(82%)と化合物No,28のレジオ異性体(15
%)と化合物No.8(3%)とからなっていた。適当
な反応剤と出発原料とを用いて同様の方法で同様の混合
物の成分として第I表の化合物No.29、No.30
、No.31及びNo.32を製造した。
。実施例16に記載のようにして製造した化合物No.
27(0.45g)とエタノール(0.06g)と触媒
量のDMAPとを、無水ジクロロメタン(10cm3)
に溶解し、この溶液を氷/塩浴で冷却した。DCC(0
.26g)を加え、氷浴を取り除いた。反応混合物を室
温まで昇温させ、室温で1.75時間攪拌した。沈殿物
をハイフローを通して濾過し、ジクロロメタンで洗浄し
た。得られた洗浄液と濾液とを一緒にし減圧濃縮し油状
物を得た。得られた油状物を分取用薄層クロマトグラフ
ィー(シリカ/ヘキサン−ジエチルエーテル、7:3)
で精製し、化合物No.28を淡黄色油状物(0.31
g、収率64%)である混合物の主成分として得た。こ
の混合物は、19F NMRによれば化合物No.2
8(82%)と化合物No,28のレジオ異性体(15
%)と化合物No.8(3%)とからなっていた。適当
な反応剤と出発原料とを用いて同様の方法で同様の混合
物の成分として第I表の化合物No.29、No.30
、No.31及びNo.32を製造した。
【0113】実施例18
本実施例は第I表の化合物No.33の製造を説明する
。実施例2の工程Aに記載のようにして製造した5−ヒ
ドロキシ−1,2−ベンゾオキサゾール−3−イル酢酸
メチル(3g)を無水DMSO(15cm3)に溶解し
た溶液に、2−フルオロ−5−トリフルオロメチルベン
ゾニトリル(3.21g)と炭酸カリウム(3.86g
)とを加えた。反応混合物を100℃で3.5時間加熱
した。反応混合物を冷却した後に、水に注加し、ジエチ
ルエーテルで抽出した。エーテル抽出液を食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧
濃縮した。得られた物質(4.73g)をカラムクロマ
トグラフィー(シリカ3×30cm/ヘキサン−ジエチ
ルエーテル、1:1)で精製して融点127〜129℃
の橙色/黄色の固体として化合物No.33(2.61
g、収率50%)を得た適当な反応剤と出発原料とを用
いて、同様の方法で化合物No.42、No.54、N
o.60、No.71及びNo.77を製造した。
。実施例2の工程Aに記載のようにして製造した5−ヒ
ドロキシ−1,2−ベンゾオキサゾール−3−イル酢酸
メチル(3g)を無水DMSO(15cm3)に溶解し
た溶液に、2−フルオロ−5−トリフルオロメチルベン
ゾニトリル(3.21g)と炭酸カリウム(3.86g
)とを加えた。反応混合物を100℃で3.5時間加熱
した。反応混合物を冷却した後に、水に注加し、ジエチ
ルエーテルで抽出した。エーテル抽出液を食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧
濃縮した。得られた物質(4.73g)をカラムクロマ
トグラフィー(シリカ3×30cm/ヘキサン−ジエチ
ルエーテル、1:1)で精製して融点127〜129℃
の橙色/黄色の固体として化合物No.33(2.61
g、収率50%)を得た適当な反応剤と出発原料とを用
いて、同様の方法で化合物No.42、No.54、N
o.60、No.71及びNo.77を製造した。
【0114】実施例19
本実施例は第I表の化合物No.34とNo.35の製
造を説明する。実施例18に記載のようにして製造した
化合物No.33(1.35g)を無水THF(5cm
3)に溶解した溶液をドライアイス/エタンジオール浴
で冷却しこれに、トルエンにカリウム ビス(トリメ
チルシリル)アミドを溶解した0.5M溶液(7.8c
m3)を加えた。混合物を攪拌し、1時間冷却した後に
、沃化メチル(THF4cm3に0.55gを溶解した
溶液)を加え、反応混合物を1夜にわたって室温まで昇
温させた。反応混合物を水に注加し、ジエチルエーテル
で抽出した。エーテル抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮して半
固体残留物を得た。この残留物(0.65g)を分取用
薄層クロマトグラフィー(シリカ/ヘキサン−ジエチル
エーテル、1:1)で精製して2つの化合物を得た。先
に溶出した物質は融点121〜124℃の白色固体の化
合物No.35(0.21g、収率8%)であった。適
当な反応剤を用いて同様の方法で化合物No.45を製
造した。後に溶出した物質は柔軟性固体の化合物No.
34(0.71g、収率51%)であった。適当な反応
剤と出発原料とを用いて、同様の方法で化合物No.4
4、No.56、No.62及びNo.78を製造した
。
造を説明する。実施例18に記載のようにして製造した
化合物No.33(1.35g)を無水THF(5cm
3)に溶解した溶液をドライアイス/エタンジオール浴
で冷却しこれに、トルエンにカリウム ビス(トリメ
チルシリル)アミドを溶解した0.5M溶液(7.8c
m3)を加えた。混合物を攪拌し、1時間冷却した後に
、沃化メチル(THF4cm3に0.55gを溶解した
溶液)を加え、反応混合物を1夜にわたって室温まで昇
温させた。反応混合物を水に注加し、ジエチルエーテル
で抽出した。エーテル抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮して半
固体残留物を得た。この残留物(0.65g)を分取用
薄層クロマトグラフィー(シリカ/ヘキサン−ジエチル
エーテル、1:1)で精製して2つの化合物を得た。先
に溶出した物質は融点121〜124℃の白色固体の化
合物No.35(0.21g、収率8%)であった。適
当な反応剤を用いて同様の方法で化合物No.45を製
造した。後に溶出した物質は柔軟性固体の化合物No.
34(0.71g、収率51%)であった。適当な反応
剤と出発原料とを用いて、同様の方法で化合物No.4
4、No.56、No.62及びNo.78を製造した
。
【0115】実施例20
本実施例は第I表の化合物No,36の製造を説明する
。実施例18に記載のようにして製造した化合物No.
33(10g)をTHF(10cm3)に溶解した溶液
に、水(5cm3)と水酸化カリウム(0.16g)と
を加えた。この反応混合物を還流温度で4.5時間加熱
し、次いで室温で週末(weekend)にわたって放
置した。得られた混合物を水に注加し、ジエチルエーテ
ルで洗浄し、濃塩酸で酸性化し次いでジエチルエーテル
で抽出した。エーテル抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮して、
融点67〜70℃の淡黄色固体として化合物No.36
(0.79g、収率81%)を得た。適当な反応剤と出
発原料とを用いて、同様の方法で化合物No.38、N
o.43、No.47、No.55、No.58及びN
o.61を製造した。
。実施例18に記載のようにして製造した化合物No.
33(10g)をTHF(10cm3)に溶解した溶液
に、水(5cm3)と水酸化カリウム(0.16g)と
を加えた。この反応混合物を還流温度で4.5時間加熱
し、次いで室温で週末(weekend)にわたって放
置した。得られた混合物を水に注加し、ジエチルエーテ
ルで洗浄し、濃塩酸で酸性化し次いでジエチルエーテル
で抽出した。エーテル抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮して、
融点67〜70℃の淡黄色固体として化合物No.36
(0.79g、収率81%)を得た。適当な反応剤と出
発原料とを用いて、同様の方法で化合物No.38、N
o.43、No.47、No.55、No.58及びN
o.61を製造した。
【0116】実施例21
本実施例は第I表の化合物No.37の製造を説明する
。実施例20に記載のようにして製造した化合物No.
36(0.58g)とエタノール(0.08g)と触媒
量のDMAPとを、無水ジクロロメタン(5cm3)に
溶解し、この溶液を氷/塩浴で冷却した。DCC(0.
36g)を加え、氷/塩浴を取り除いた。得られた混合
物を室温で1夜攪拌した後に、ハイフローを通して濾過
し、残留物をジクロロメタンで洗浄した。得られた洗浄
液と濾液とを一緒にし減圧濃縮した。得られた物質(0
.64g)を分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ/
ヘキサン−ジエチルエーテル、1:1)で精製して、融
点91〜92℃の灰白色固体として化合物No.37(
0.35g、収率56%)を得た。適当な反応剤と出発
原料とを用いて同様の方法で化合物No.39、No.
46、No.57及びNo.59を製造した。
。実施例20に記載のようにして製造した化合物No.
36(0.58g)とエタノール(0.08g)と触媒
量のDMAPとを、無水ジクロロメタン(5cm3)に
溶解し、この溶液を氷/塩浴で冷却した。DCC(0.
36g)を加え、氷/塩浴を取り除いた。得られた混合
物を室温で1夜攪拌した後に、ハイフローを通して濾過
し、残留物をジクロロメタンで洗浄した。得られた洗浄
液と濾液とを一緒にし減圧濃縮した。得られた物質(0
.64g)を分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ/
ヘキサン−ジエチルエーテル、1:1)で精製して、融
点91〜92℃の灰白色固体として化合物No.37(
0.35g、収率56%)を得た。適当な反応剤と出発
原料とを用いて同様の方法で化合物No.39、No.
46、No.57及びNo.59を製造した。
【0117】実施例22
本実施例は第I表の化合物No.48の製造を説明する
。クロロペンタフルオロベンゼン(3g)と、炭酸カリ
ウム(3.86g)と、実施例2の工程Aに記載のよう
にして製造した5−ヒドロキシ−1,2−ベンゾオキサ
ゾール−3−イル酢酸メチル(3g)とを無水DMF(
15cm3)に溶解した混合物を100℃で3時間加熱
した。この混合物を冷却した後に、水に注加し、ジエチ
ルエーテルで抽出した。エーテル抽出液を食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧
濃縮した。得られた物質(5.43g)をカラムクロマ
トグラフィー(シリカ3×30cm/ヘキサン−ジエチ
ルエーテル、7:3)で精製して、化合物No.48を
融点72〜74℃の淡黄色固体(3.53g、収率65
%)である混合物の主成分として得た。 この混合物
は、19F NMRによれば化合物No.48(77
%)と2つの異性体とからなっていた。
。クロロペンタフルオロベンゼン(3g)と、炭酸カリ
ウム(3.86g)と、実施例2の工程Aに記載のよう
にして製造した5−ヒドロキシ−1,2−ベンゾオキサ
ゾール−3−イル酢酸メチル(3g)とを無水DMF(
15cm3)に溶解した混合物を100℃で3時間加熱
した。この混合物を冷却した後に、水に注加し、ジエチ
ルエーテルで抽出した。エーテル抽出液を食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧
濃縮した。得られた物質(5.43g)をカラムクロマ
トグラフィー(シリカ3×30cm/ヘキサン−ジエチ
ルエーテル、7:3)で精製して、化合物No.48を
融点72〜74℃の淡黄色固体(3.53g、収率65
%)である混合物の主成分として得た。 この混合物
は、19F NMRによれば化合物No.48(77
%)と2つの異性体とからなっていた。
【0118】実施例23
本実施例は第I表の化合物No.49の製造を説明する
。実施例22に記載のようにして製造した化合物No.
48(1.72g)を無水THF(10cm3)に溶解
した溶液をドライアイス/エタンジオール浴で冷却しこ
れに、トルエンにカリウム ビス(トリメチルシリル
)アミドを溶解した0.5M溶液(9.7cm3)を加
えた。混合物を冷却し1.75時間攪拌し、沃化メチル
0.69gを無水THF3.78cm3に溶解した溶液
を加え、次いで反応混合物を1夜にわたって室温まで昇
温させた。得られた混合物を水に注加し、ジエチルエー
テルで抽出した。エーテル抽出液を食塩水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮し
た。得られた濃縮物(1.94g)を分取用薄層クロマ
トグラフィー(シリカ/ヘキサン−ジエチルエーテル、
1:1)で精製して、19F NMRによれば化合物
No.49(81%)と、化合物No.49の2つの別
の異性体(15%と4%)とを含有する淡黄色油状物で
ある混合物(0.98g、収率55%)の主成分として
化合物No.49gを得た。
。実施例22に記載のようにして製造した化合物No.
48(1.72g)を無水THF(10cm3)に溶解
した溶液をドライアイス/エタンジオール浴で冷却しこ
れに、トルエンにカリウム ビス(トリメチルシリル
)アミドを溶解した0.5M溶液(9.7cm3)を加
えた。混合物を冷却し1.75時間攪拌し、沃化メチル
0.69gを無水THF3.78cm3に溶解した溶液
を加え、次いで反応混合物を1夜にわたって室温まで昇
温させた。得られた混合物を水に注加し、ジエチルエー
テルで抽出した。エーテル抽出液を食塩水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮し
た。得られた濃縮物(1.94g)を分取用薄層クロマ
トグラフィー(シリカ/ヘキサン−ジエチルエーテル、
1:1)で精製して、19F NMRによれば化合物
No.49(81%)と、化合物No.49の2つの別
の異性体(15%と4%)とを含有する淡黄色油状物で
ある混合物(0.98g、収率55%)の主成分として
化合物No.49gを得た。
【0119】実施例24
本実施例は第I表の化合物No.50の製造を説明する
。実施例22に記載のようにして製造した化合物No.
48(1.51g)をTHF(10cm3)に溶解した
溶液に、水(5cm3)と水酸化カリウム(0.24g
)とを加え、この混合物を還流温度で0.75時間加熱
した。得られた混合物を冷却した後に、水に注加し、ジ
エチルエーテルで洗浄し、濃塩酸で酸性化し次いでジエ
チルエーテルで抽出した。エーテル抽出液を食塩水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し次いで減圧
濃縮して、融点138〜140℃の緑色固体(1.56
g、収率100%)の異性体混合物の主成分(19F
NMRによれば75%)として化合物No.50を得
た。適当な反応剤と出発原料とを用いて、同様の方法で
化合物No.52を製造した
。実施例22に記載のようにして製造した化合物No.
48(1.51g)をTHF(10cm3)に溶解した
溶液に、水(5cm3)と水酸化カリウム(0.24g
)とを加え、この混合物を還流温度で0.75時間加熱
した。得られた混合物を冷却した後に、水に注加し、ジ
エチルエーテルで洗浄し、濃塩酸で酸性化し次いでジエ
チルエーテルで抽出した。エーテル抽出液を食塩水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し次いで減圧
濃縮して、融点138〜140℃の緑色固体(1.56
g、収率100%)の異性体混合物の主成分(19F
NMRによれば75%)として化合物No.50を得
た。適当な反応剤と出発原料とを用いて、同様の方法で
化合物No.52を製造した
【0120】実施例25
本実施例は第I表の化合物No.51の製造を説明する
。実施例24に記載のようにして製造した化合物No.
50(0.4g)とエタノール(0.05g)と触媒量
のDMAPとを、無水ジクロロメタン(10cm3)に
溶解し、この溶液を氷/塩浴で冷却した。DCC(0.
24g)を%加え、氷/塩浴を取り除いた。混合物を室
温で1夜攪拌した後に、ハイフローを通して濾過し、残
留物をジクロロメタンで洗浄した。得られた洗浄液と濾
液とを一緒にし減圧濃縮した。得られた物質を分取用薄
層クロマトグラフィー(シリカ/ヘキサン−ジエチルエ
ーテル、7:3)で精製して、融点52〜53℃の白色
固体(0.26g、収率60%)の異性体混合物の主成
分(19F NMRによれば79%)として化合物N
o.51を得た。適当な反応剤と出発原料とから同様の
方法で化合物No.53を製造した。
。実施例24に記載のようにして製造した化合物No.
50(0.4g)とエタノール(0.05g)と触媒量
のDMAPとを、無水ジクロロメタン(10cm3)に
溶解し、この溶液を氷/塩浴で冷却した。DCC(0.
24g)を%加え、氷/塩浴を取り除いた。混合物を室
温で1夜攪拌した後に、ハイフローを通して濾過し、残
留物をジクロロメタンで洗浄した。得られた洗浄液と濾
液とを一緒にし減圧濃縮した。得られた物質を分取用薄
層クロマトグラフィー(シリカ/ヘキサン−ジエチルエ
ーテル、7:3)で精製して、融点52〜53℃の白色
固体(0.26g、収率60%)の異性体混合物の主成
分(19F NMRによれば79%)として化合物N
o.51を得た。適当な反応剤と出発原料とから同様の
方法で化合物No.53を製造した。
【0121】実施例26
本実施例は第I表の化合物No.63の製造を説明する
。実施例3に記載のようにして製造した化合物No.1
(0.3g)とメチルアミン塩酸塩(0.08g)と触
媒量のDMAPとトリエチルアミン(0.12g)とを
、無水ジクロロメタンに溶解し、この溶液を氷/塩浴で
冷却した。DCC(0.17g)を加え、氷/塩浴を取
り除いた。混合物を室温で1夜攪拌した後に、反応混合
物をハイフローを通して濾過し、残留物をジクロロメタ
ンで洗浄した。得られた洗浄液と濾液とを一緒にし減圧
濃縮した。得られた物質(0.51g)を分取用薄層ク
ロマトグラフィー(シリカ/ジエチルエーテル)で精製
して、融点194〜195℃の白色固体として化合物N
o.63(0.12g、収率39%)を得た。適当な反
応剤と出発原料とを用いて同様の方法で化合物No.6
4及びNo.66を製造した。
。実施例3に記載のようにして製造した化合物No.1
(0.3g)とメチルアミン塩酸塩(0.08g)と触
媒量のDMAPとトリエチルアミン(0.12g)とを
、無水ジクロロメタンに溶解し、この溶液を氷/塩浴で
冷却した。DCC(0.17g)を加え、氷/塩浴を取
り除いた。混合物を室温で1夜攪拌した後に、反応混合
物をハイフローを通して濾過し、残留物をジクロロメタ
ンで洗浄した。得られた洗浄液と濾液とを一緒にし減圧
濃縮した。得られた物質(0.51g)を分取用薄層ク
ロマトグラフィー(シリカ/ジエチルエーテル)で精製
して、融点194〜195℃の白色固体として化合物N
o.63(0.12g、収率39%)を得た。適当な反
応剤と出発原料とを用いて同様の方法で化合物No.6
4及びNo.66を製造した。
【0122】実施例27
本実施例は第I表の化合物No.65の製造を説明する
。 工程A 実施例6に記載のようにして製造した化合物No.5(
0.55g)をメタノール(15cm3)に溶解した溶
液に、水酸化カリウム(4ペッレト)を加え、この混合
物を還流温度で1時間加熱した。得られた混合物を冷却
した後に、水に注加し、ジエチルエーテルで洗浄し、濃
塩酸で酸性化し次いでジエチルエーテルで抽出した。 エーテル抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、濾過し次いで減圧濃縮した。得られた白色固
体(0.40g)を精製せずに工程Bで使用した。 工程B 工程Aで得た白色固体(0.38g)をメタノール(2
5ml)に溶解した。次いで濃硫酸(2cm3)を加え
た後に、この混合物を還流温度で6時間加熱した。得ら
れた混合物を冷却した後に、水に注加し、次いでジエチ
ルエーテルで抽出した。エーテル抽出液を食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧
濃縮した。得られた物質(0.28g)を分取用薄層ク
ロマトグラフィー(シリカ/ヘキサン−ジエチルエーテ
ル、7:3)で精製して、融点85〜86℃の白色固体
として化合物No.65(0.07g、収率17%)を
得た。
。 工程A 実施例6に記載のようにして製造した化合物No.5(
0.55g)をメタノール(15cm3)に溶解した溶
液に、水酸化カリウム(4ペッレト)を加え、この混合
物を還流温度で1時間加熱した。得られた混合物を冷却
した後に、水に注加し、ジエチルエーテルで洗浄し、濃
塩酸で酸性化し次いでジエチルエーテルで抽出した。 エーテル抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、濾過し次いで減圧濃縮した。得られた白色固
体(0.40g)を精製せずに工程Bで使用した。 工程B 工程Aで得た白色固体(0.38g)をメタノール(2
5ml)に溶解した。次いで濃硫酸(2cm3)を加え
た後に、この混合物を還流温度で6時間加熱した。得ら
れた混合物を冷却した後に、水に注加し、次いでジエチ
ルエーテルで抽出した。エーテル抽出液を食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧
濃縮した。得られた物質(0.28g)を分取用薄層ク
ロマトグラフィー(シリカ/ヘキサン−ジエチルエーテ
ル、7:3)で精製して、融点85〜86℃の白色固体
として化合物No.65(0.07g、収率17%)を
得た。
【0123】実施例28
本実施例は第I表の化合物No.67の製造を説明する
。 工程A 前記の酸、すなわち実施例11に記載のようにして製造
した化合物No.14(0.31g)を塩化チオニル(
5cm3)に懸濁させた。この懸濁液を熱風で加熱して
溶液を形成させ、これを室温で1時間放置しておいた。 減圧下に45℃で30分間、塩化チオニルを除去して黄
色油状物すなわち粗製酸塩化物を得た。 工程B 工程Aで得た油状物を無水ジクロロメタン(10cm3
)に溶解し、この溶液を氷/塩浴で冷却した。過剰量の
ジメチルアミンをピペットで加えて、氷/塩浴を取り除
き、次いで反応混合物を室温まで昇温させた。この反応
混合物を室温で1.5時間攪拌した後に、水に注加し、
次いでジクロロメタンで抽出した。ジクロロメタン抽出
液を希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減
圧濃縮した。得られた物質(0.3g)を分取用薄層ク
ロマトグラフィー(シリカ/エーテル)で精製して、最
初には無色油状物として化合物No.67(0.15g
、収率45%)を得た。これは放置しておくと徐々に固
化して柔軟性固体にになった。
。 工程A 前記の酸、すなわち実施例11に記載のようにして製造
した化合物No.14(0.31g)を塩化チオニル(
5cm3)に懸濁させた。この懸濁液を熱風で加熱して
溶液を形成させ、これを室温で1時間放置しておいた。 減圧下に45℃で30分間、塩化チオニルを除去して黄
色油状物すなわち粗製酸塩化物を得た。 工程B 工程Aで得た油状物を無水ジクロロメタン(10cm3
)に溶解し、この溶液を氷/塩浴で冷却した。過剰量の
ジメチルアミンをピペットで加えて、氷/塩浴を取り除
き、次いで反応混合物を室温まで昇温させた。この反応
混合物を室温で1.5時間攪拌した後に、水に注加し、
次いでジクロロメタンで抽出した。ジクロロメタン抽出
液を希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減
圧濃縮した。得られた物質(0.3g)を分取用薄層ク
ロマトグラフィー(シリカ/エーテル)で精製して、最
初には無色油状物として化合物No.67(0.15g
、収率45%)を得た。これは放置しておくと徐々に固
化して柔軟性固体にになった。
【0124】実施例29
本実施例は第I表の化合物No.68の製造を説明する
。実施例2に記載のようにして製造した化合物No.2
(0.3g)をメタノール(5cm3)に溶解した。 水酸化アンモニウム水溶液(約2cm3)を加え、沈殿
を生成させた。この混合物を室温で1.5時間攪拌した
。さらに、水酸化アンモニウム水溶液(約4cm3)を
加えた後に、十分な量のメタノールを加えて沈殿を溶解
し、次いで反応混合物を還流温度で3.25時間加熱し
た。この混合物を室温で1夜放置した後に、水に注加し
、ジエチルエーテルで抽出した。エーテル抽出液を希塩
酸及び食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
濾過し次いで減圧濃縮した。希塩酸洗浄液を塩基性にし
ジエチルエーテルで抽出した。この第2のエーテル抽出
液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾
過し次いで減圧濃縮した。上記2つのエーテル抽出液か
ら得られた物質(それぞれ0.17gと0.04g)を
一緒にし分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ/酢酸
を数滴加えたエーテル)で精製して、融点181〜18
2℃の白色固体として化合物No.68(0.08g、
収率28%)を得た。
。実施例2に記載のようにして製造した化合物No.2
(0.3g)をメタノール(5cm3)に溶解した。 水酸化アンモニウム水溶液(約2cm3)を加え、沈殿
を生成させた。この混合物を室温で1.5時間攪拌した
。さらに、水酸化アンモニウム水溶液(約4cm3)を
加えた後に、十分な量のメタノールを加えて沈殿を溶解
し、次いで反応混合物を還流温度で3.25時間加熱し
た。この混合物を室温で1夜放置した後に、水に注加し
、ジエチルエーテルで抽出した。エーテル抽出液を希塩
酸及び食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
濾過し次いで減圧濃縮した。希塩酸洗浄液を塩基性にし
ジエチルエーテルで抽出した。この第2のエーテル抽出
液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾
過し次いで減圧濃縮した。上記2つのエーテル抽出液か
ら得られた物質(それぞれ0.17gと0.04g)を
一緒にし分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ/酢酸
を数滴加えたエーテル)で精製して、融点181〜18
2℃の白色固体として化合物No.68(0.08g、
収率28%)を得た。
【0125】実施例30
本実施例は第I表の化合物No.69の製造を説明する
。実施例28の工程Aに記載のようにして、化合物No
.14から製造した粗製酸塩化物(0.3g)を無水ジ
クロロメタン(10cm3)に溶解し、この溶液を氷/
塩浴で冷却した。1,1−ジメチルヒドラジン(0.0
5g)とトリエチルアミン(0.08g)とを加え、氷
/塩浴を取り除き、次いで反応混合物を室温まで昇温さ
せた。この混合物を室温で1時間攪拌した後に、約10
0cm3のジクロロメタンで希釈し、得られた溶液を水
、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮した
。得られた物質(0.33g)を分取用薄層クロマトグ
ラフィー(シリカ/ジエチルエーテル)で精製して、混
合物(0.12g)の主成分として化合物No.69を
得た。これをさらに分取用薄層クロマトグラフィー(シ
リカ/酢酸で酸性化したジエチルエーテル)で精製して
、融点172〜173℃の白色固体として化合物No.
69(0.10g、収率30%)を得た。適当な反応剤
と出発原料とを用いて化合物No.1から同様の方法で
化合物No.70を製造した。
。実施例28の工程Aに記載のようにして、化合物No
.14から製造した粗製酸塩化物(0.3g)を無水ジ
クロロメタン(10cm3)に溶解し、この溶液を氷/
塩浴で冷却した。1,1−ジメチルヒドラジン(0.0
5g)とトリエチルアミン(0.08g)とを加え、氷
/塩浴を取り除き、次いで反応混合物を室温まで昇温さ
せた。この混合物を室温で1時間攪拌した後に、約10
0cm3のジクロロメタンで希釈し、得られた溶液を水
、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮した
。得られた物質(0.33g)を分取用薄層クロマトグ
ラフィー(シリカ/ジエチルエーテル)で精製して、混
合物(0.12g)の主成分として化合物No.69を
得た。これをさらに分取用薄層クロマトグラフィー(シ
リカ/酢酸で酸性化したジエチルエーテル)で精製して
、融点172〜173℃の白色固体として化合物No.
69(0.10g、収率30%)を得た。適当な反応剤
と出発原料とを用いて化合物No.1から同様の方法で
化合物No.70を製造した。
【0126】実施例31
本実施例は第I表の化合物No.72の製造を説明する
。実施例2の工程Aに記載のようにして製造した5−ヒ
ドロキシ−1,2−ベンゾオキサゾール−3−イル酢酸
メチル(2.5g)を無水DMSo(15cm3)に溶
解した溶液に、1,2,3−トリクロロ−5−トリフル
オロメチルベンゼン(3.29g)と炭酸カリウム(3
.3g)とを加えた。この反応混合物を100℃で3.
75時間加熱した。得られた反応混合物を冷却した後に
、水に注加し、ジエチルエーテルで抽出した。エーテル
抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
、濾過し、次いで減圧濃縮した。得られた物質(3.7
8g)を分取用薄層クロマトグラフィーで精製して、融
点99〜100℃の白色固体である異性体混合物(1.
43g、収率28%)の主成分(92%)として化合物
No.72を得た。
。実施例2の工程Aに記載のようにして製造した5−ヒ
ドロキシ−1,2−ベンゾオキサゾール−3−イル酢酸
メチル(2.5g)を無水DMSo(15cm3)に溶
解した溶液に、1,2,3−トリクロロ−5−トリフル
オロメチルベンゼン(3.29g)と炭酸カリウム(3
.3g)とを加えた。この反応混合物を100℃で3.
75時間加熱した。得られた反応混合物を冷却した後に
、水に注加し、ジエチルエーテルで抽出した。エーテル
抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
、濾過し、次いで減圧濃縮した。得られた物質(3.7
8g)を分取用薄層クロマトグラフィーで精製して、融
点99〜100℃の白色固体である異性体混合物(1.
43g、収率28%)の主成分(92%)として化合物
No.72を得た。
【0127】実施例32
本実施例は第I表の化合物No.73の製造を説明する
。実施例31で製造した化合物No.72(0.5g)
をTHF(10cm3)に溶解した溶液に、水(5cm
3)と水酸化カリウム(0.07g)とを加えた。 この反応混合物を還流温度で2時間加熱した。得られた
反応混合物を冷却した後に、水に注加し、ジエチルエー
テルで洗浄し、濃塩酸で酸性し、次いでジエチルエーテ
ルで抽出した。エーテル抽出液を食塩水で洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮して
、融点175〜1760℃の白色固体として化合物No
.73(0.27g、収率56%)を得た。適当な反応
剤と出発原料とを用いて同様の方法で化合物No.75
を製造した。
。実施例31で製造した化合物No.72(0.5g)
をTHF(10cm3)に溶解した溶液に、水(5cm
3)と水酸化カリウム(0.07g)とを加えた。 この反応混合物を還流温度で2時間加熱した。得られた
反応混合物を冷却した後に、水に注加し、ジエチルエー
テルで洗浄し、濃塩酸で酸性し、次いでジエチルエーテ
ルで抽出した。エーテル抽出液を食塩水で洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮して
、融点175〜1760℃の白色固体として化合物No
.73(0.27g、収率56%)を得た。適当な反応
剤と出発原料とを用いて同様の方法で化合物No.75
を製造した。
【0128】実施例33
本実施例は第I表の化合物No.74の製造を例証する
。実施例31で製造した化合物No.72(0.68g
)を無水THF(10cm3)に溶解した溶液をドライ
アイス/エタンジオール浴で冷却しこれに、トルエンに
カリウム ビス(トリメチルシリル)アミドを溶解し
た0.5M溶液(3.58cm3)を加えた。混合物を
1時問冷却し、攪拌した後に、無水THF(2.74m
3)に沃化メチル(0.25g)を溶解した溶液を加え
、反応混合物を7時間にわたって室温まで昇温させた。 得られた反応混合物を水に注加し、ジエチルエーテルで
抽出した。エーテル抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮した。得
られた物質(0.78g)を、分取用薄層クロマトグラ
フィーで精製して、融点67〜68℃の白色固体の異性
体混合物(0.45g、収率64%)の主成分(92%
)として化合物No.74を得た。
。実施例31で製造した化合物No.72(0.68g
)を無水THF(10cm3)に溶解した溶液をドライ
アイス/エタンジオール浴で冷却しこれに、トルエンに
カリウム ビス(トリメチルシリル)アミドを溶解し
た0.5M溶液(3.58cm3)を加えた。混合物を
1時問冷却し、攪拌した後に、無水THF(2.74m
3)に沃化メチル(0.25g)を溶解した溶液を加え
、反応混合物を7時間にわたって室温まで昇温させた。 得られた反応混合物を水に注加し、ジエチルエーテルで
抽出した。エーテル抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮した。得
られた物質(0.78g)を、分取用薄層クロマトグラ
フィーで精製して、融点67〜68℃の白色固体の異性
体混合物(0.45g、収率64%)の主成分(92%
)として化合物No.74を得た。
【0129】実施例34
本実施例は第I表の化合物No.76の製造を説明する
。実施例2に記載のようにして製造した化合物No.2
(0.29g)を、塩素(0.06g)を含有する酢酸
(5.7cm3)に溶解した。次いでこの反応混合物を
室温で1夜攪拌した。tlc分析によれば、未反応の化
合物No.2が残っていることが示された。この反応混
合物を還流温度で1時間加熱し、次いでさらに酢酸(3
cm3)に溶解した塩素(0.04g)を加え、この混
合物を還流温度でさらに1.75時間加熱した。さらに
、酢酸(2cm3)に溶解した塩素(0.02g)を加
え、混合物を還流温度でさらに1.5時間加熱した。得
られた混合物を室温まで冷却した後に、ジクロロメタン
で希釈し、水、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで
減圧濃縮した。得られた物質(0.28g)を分取用薄
層クロマトグラフィー(シリカ/ヘキサン−ジエチルエ
ーテル、7:3、2回溶出)で精製して無色油状物とし
て化合物No.76(0.16g、収率51%)を得た
。
。実施例2に記載のようにして製造した化合物No.2
(0.29g)を、塩素(0.06g)を含有する酢酸
(5.7cm3)に溶解した。次いでこの反応混合物を
室温で1夜攪拌した。tlc分析によれば、未反応の化
合物No.2が残っていることが示された。この反応混
合物を還流温度で1時間加熱し、次いでさらに酢酸(3
cm3)に溶解した塩素(0.04g)を加え、この混
合物を還流温度でさらに1.75時間加熱した。さらに
、酢酸(2cm3)に溶解した塩素(0.02g)を加
え、混合物を還流温度でさらに1.5時間加熱した。得
られた混合物を室温まで冷却した後に、ジクロロメタン
で希釈し、水、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで
減圧濃縮した。得られた物質(0.28g)を分取用薄
層クロマトグラフィー(シリカ/ヘキサン−ジエチルエ
ーテル、7:3、2回溶出)で精製して無色油状物とし
て化合物No.76(0.16g、収率51%)を得た
。
【0130】実施例35
本実施例は第I表の化合物No.79の製造を説明する
。酢酸(5cm3)に臭素(0.27g)を溶解した溶
液に、実施例2に記載のようにして製造した化合物No
.2(0.4g)を溶解した。この反応混合物を還流温
度で5.75時間加熱した。得られた混合物を冷却した
後に、水に注加し、次いでジクロロメタンで抽出した。 抽出溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、減圧濃縮し
た。得られた物質(0.42g)を分取用薄層クロマト
グラフィー(シリカ/ヘキサン−ジエチルエーテル、9
:1)で精製して、化合物No.4(17%)との混合
物の主成分(83%)として化合物No.79を得た。
。酢酸(5cm3)に臭素(0.27g)を溶解した溶
液に、実施例2に記載のようにして製造した化合物No
.2(0.4g)を溶解した。この反応混合物を還流温
度で5.75時間加熱した。得られた混合物を冷却した
後に、水に注加し、次いでジクロロメタンで抽出した。 抽出溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、減圧濃縮し
た。得られた物質(0.42g)を分取用薄層クロマト
グラフィー(シリカ/ヘキサン−ジエチルエーテル、9
:1)で精製して、化合物No.4(17%)との混合
物の主成分(83%)として化合物No.79を得た。
【0131】実施例36
本実施例は第I表の化合物No.80の製造を説明する
。 工程A 実施例2に記載のようにして製造した化合物No.2(
0.5g)と、水酸化カリウム(0.38g)とをメタ
ノール(15cm3)に溶解し、この溶液を還流温度で
3.75時間加熱した。次いで得られた溶液を冷却した
後に、水に注加し、ジエチルエーテルで洗浄し、濃塩酸
で酸性化し次いでジエチルエーテルで抽出した。エーテ
ル抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、濾過し、次いで減圧濃縮して白色固体(0.45g
)を得た。 工程B 工程Aに記載のようにして製造した白色固体(0.45
g)をメタノール(10cm3)に溶解し、濃硫酸(1
cm3)を加えた。この溶液を還流温度で4時間加熱し
た。次いで得られた溶液を冷却した後に、水に注加し、
ジエチルエーテルで抽出した。エーテル抽出液を炭酸水
素ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、濾過し、減圧濃縮した。得られた物質
(0.58g)を分取用薄層クロマトグラフィー(シリ
カ/ヘキサン−ジエチルエーテル、7:3)で精製して
、融点128〜130℃の白色固体として化合物No.
80(0.19g、収率37%)を得た。
。 工程A 実施例2に記載のようにして製造した化合物No.2(
0.5g)と、水酸化カリウム(0.38g)とをメタ
ノール(15cm3)に溶解し、この溶液を還流温度で
3.75時間加熱した。次いで得られた溶液を冷却した
後に、水に注加し、ジエチルエーテルで洗浄し、濃塩酸
で酸性化し次いでジエチルエーテルで抽出した。エーテ
ル抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、濾過し、次いで減圧濃縮して白色固体(0.45g
)を得た。 工程B 工程Aに記載のようにして製造した白色固体(0.45
g)をメタノール(10cm3)に溶解し、濃硫酸(1
cm3)を加えた。この溶液を還流温度で4時間加熱し
た。次いで得られた溶液を冷却した後に、水に注加し、
ジエチルエーテルで抽出した。エーテル抽出液を炭酸水
素ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、濾過し、減圧濃縮した。得られた物質
(0.58g)を分取用薄層クロマトグラフィー(シリ
カ/ヘキサン−ジエチルエーテル、7:3)で精製して
、融点128〜130℃の白色固体として化合物No.
80(0.19g、収率37%)を得た。
【0132】実施例37
本実施例は第I表の化合物No.81の製造を説明する
。 実施例30に記載のようにして製造した化合物No.7
0(0.29g)をメタノール(15cm3)に溶解し
,次いで沃化メチル(1cm3)加えた。反応フラスコ
を錫箔で覆い、室温で3日間放置した後に、得られた反
応混合物を減圧濃縮して黄色油状物を得た。これをジエ
チルエーテルと共に磨砕(trituration)し
半固体を得、これをエーテルで3回洗浄し、クロロホル
ムに溶解し次いでエーテルで再沈殿させた。。得られた
残留物を減圧乾燥して融点87〜9o℃の白色固体とし
て化合物No.81(0.2g収率67%)を得た。
。 実施例30に記載のようにして製造した化合物No.7
0(0.29g)をメタノール(15cm3)に溶解し
,次いで沃化メチル(1cm3)加えた。反応フラスコ
を錫箔で覆い、室温で3日間放置した後に、得られた反
応混合物を減圧濃縮して黄色油状物を得た。これをジエ
チルエーテルと共に磨砕(trituration)し
半固体を得、これをエーテルで3回洗浄し、クロロホル
ムに溶解し次いでエーテルで再沈殿させた。。得られた
残留物を減圧乾燥して融点87〜9o℃の白色固体とし
て化合物No.81(0.2g収率67%)を得た。
【0133】実施例38
本実施例は第I表の化合物No.82の製造を説明する
。実施例29に記載のようにして製造した化合物No.
68(0.239g)とトリエチルアミン(0.13g
)とを、無水ジクロロメタン(15cm3)に溶解し、
この溶液を氷/塩浴で冷却した。トリクロロアセチルク
ロリド(0.12g)を滴下し、次いで氷浴を取り除い
た。反応混合物を室温で1.5時間攪拌した後に、減圧
濃縮した。得られた残留物をジエチルエーテルに溶解し
、水洗し次いで食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮した。得られた物質(
0.20g)を分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ
/ヘキサン−ジエチルエーテル、7:3)で精製して、
融点90〜92℃の白色固体として化合物No.82(
0.08g、収率37%)を得た。適当な反応剤と出発
原料とを用いて化合物No.86から同様の方法でNo
.87を製造した。
。実施例29に記載のようにして製造した化合物No.
68(0.239g)とトリエチルアミン(0.13g
)とを、無水ジクロロメタン(15cm3)に溶解し、
この溶液を氷/塩浴で冷却した。トリクロロアセチルク
ロリド(0.12g)を滴下し、次いで氷浴を取り除い
た。反応混合物を室温で1.5時間攪拌した後に、減圧
濃縮した。得られた残留物をジエチルエーテルに溶解し
、水洗し次いで食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮した。得られた物質(
0.20g)を分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ
/ヘキサン−ジエチルエーテル、7:3)で精製して、
融点90〜92℃の白色固体として化合物No.82(
0.08g、収率37%)を得た。適当な反応剤と出発
原料とを用いて化合物No.86から同様の方法でNo
.87を製造した。
【0134】実施例39
本実施例は第I表の化合物No.83の製造を説明する
。窒素雰囲気下で無水ジエチルエーテル(15ml)に
水素化リチウムアルミニウム(0.12g)を懸濁させ
、氷浴を用いて冷却した。実施例2に記載のようにして
製造した化合物No.2(0.6g)を、無水ジエチル
エーテル(5ml)に溶解した溶液をゆっくり加えた。 氷浴を取り除き、得られた溶液を1夜にわたって室温ま
で昇温させた。得られた懸濁液に、水(5cm3)とジ
オキサン(5cm3)との混合物を発泡を生じさせなが
ら加えた。得られた混合物をさらにジエチルエーテルで
希釈し、水洗し次いで食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮した。得られた
物質(0.52g)を分取用薄層クロマトグラフィー(
シリカ/ヘキサン−ジエチルエーテル、1:1)で精製
し融点87〜89℃の白色固体として化合物No.83
(0.15g、収率27%)を得た。
。窒素雰囲気下で無水ジエチルエーテル(15ml)に
水素化リチウムアルミニウム(0.12g)を懸濁させ
、氷浴を用いて冷却した。実施例2に記載のようにして
製造した化合物No.2(0.6g)を、無水ジエチル
エーテル(5ml)に溶解した溶液をゆっくり加えた。 氷浴を取り除き、得られた溶液を1夜にわたって室温ま
で昇温させた。得られた懸濁液に、水(5cm3)とジ
オキサン(5cm3)との混合物を発泡を生じさせなが
ら加えた。得られた混合物をさらにジエチルエーテルで
希釈し、水洗し次いで食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮した。得られた
物質(0.52g)を分取用薄層クロマトグラフィー(
シリカ/ヘキサン−ジエチルエーテル、1:1)で精製
し融点87〜89℃の白色固体として化合物No.83
(0.15g、収率27%)を得た。
【0135】実施例40
本実施例は第I表の化合物No.84の製造を説明する
。 工程A 実施例3に記載のようにして製造した化合物No.1(
0.3g)を、塩化チオニル(10cm3)に、熱風で
穏やかに加熱することによって溶解した。得られた溶液
を0.75時間室温で放置しておき、次いで30分間減
圧濃縮してゴム状物すなわち粗製酸塩化物を得た。 工程B 実施例40の工程Aで得たゴム状物を無水ジクロロメタ
ン(10cm3)に溶解し、得られた溶液を氷浴を用い
て冷却した。ベンジルアルコール(0.09g)を加え
、次いでトリエチルアミン(0.08g)を白煙(wh
itefumes)を生じさせながら加え、氷浴を取り
除き、次いで得られた溶液を1夜にわたって室温まで昇
温させた。得られた反応混合物をジクロロメタンで希釈
し、水、希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次い
で減圧濃縮した。得られた物質(0.38g)を分取用
薄層クロマトグラフィー(シリカ/ヘキサン−ジエチル
エーテル、9:1)で精製して、融点82〜83℃の白
色固体として化合物No.84(0.19g、収率54
%)を得た。適当な反応剤を用いて化合物No.1から
同様の方法でNo.85を製造した。
。 工程A 実施例3に記載のようにして製造した化合物No.1(
0.3g)を、塩化チオニル(10cm3)に、熱風で
穏やかに加熱することによって溶解した。得られた溶液
を0.75時間室温で放置しておき、次いで30分間減
圧濃縮してゴム状物すなわち粗製酸塩化物を得た。 工程B 実施例40の工程Aで得たゴム状物を無水ジクロロメタ
ン(10cm3)に溶解し、得られた溶液を氷浴を用い
て冷却した。ベンジルアルコール(0.09g)を加え
、次いでトリエチルアミン(0.08g)を白煙(wh
itefumes)を生じさせながら加え、氷浴を取り
除き、次いで得られた溶液を1夜にわたって室温まで昇
温させた。得られた反応混合物をジクロロメタンで希釈
し、水、希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次い
で減圧濃縮した。得られた物質(0.38g)を分取用
薄層クロマトグラフィー(シリカ/ヘキサン−ジエチル
エーテル、9:1)で精製して、融点82〜83℃の白
色固体として化合物No.84(0.19g、収率54
%)を得た。適当な反応剤を用いて化合物No.1から
同様の方法でNo.85を製造した。
【0136】実施例41
本実施例は第I表の化合物No.86の製造を例証する
。実施例6に記載のようにして製造した化合物No.5
(0.41g)をメタノール(20cm3)に溶解した
。水酸化アンモニウム水溶液(約4cm3)を白色の沈
殿が生成し始めるまで加えた。この混合物を室温で2日
間攪拌した。この間に白色固体が溶液から沈殿した。 得られた混合物に水を加え、白色固体を濾過し、真空デ
シケーターで乾燥して、融点163〜164℃の白色固
体として化合物No.86(0.22g、収率56%)
を得た。
。実施例6に記載のようにして製造した化合物No.5
(0.41g)をメタノール(20cm3)に溶解した
。水酸化アンモニウム水溶液(約4cm3)を白色の沈
殿が生成し始めるまで加えた。この混合物を室温で2日
間攪拌した。この間に白色固体が溶液から沈殿した。 得られた混合物に水を加え、白色固体を濾過し、真空デ
シケーターで乾燥して、融点163〜164℃の白色固
体として化合物No.86(0.22g、収率56%)
を得た。
【0137】実施例42
本実施例は第I表の化合物No.88の製造を説明する
。実施例3に記載のようにして製造した化合物No.1
から、実施例40の工程Aに記載のようにして製造した
粗製酸塩化物(0.3g)を無水ジクロロメタン(10
cm3)に溶解し、この溶液を氷/塩浴を用いて冷却し
た。2−メトキシエチルアミン(0.06g)とトリエ
チルアミン(0.09g)とを加え、氷/塩浴を取り除
き、次いで反応混合物を室温まで昇温させた。この混合
物を室温で2時間放置した後に、ジクロロメタンで希釈
し、水及び食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、濾過し、次いで減圧濃縮した。得られた物質(0.
31g)を分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ/ジ
エチルエーテル)で精製して、融点165〜166℃の
白色固体として化合物No.88(0.15g、収率4
4%)を得た。
。実施例3に記載のようにして製造した化合物No.1
から、実施例40の工程Aに記載のようにして製造した
粗製酸塩化物(0.3g)を無水ジクロロメタン(10
cm3)に溶解し、この溶液を氷/塩浴を用いて冷却し
た。2−メトキシエチルアミン(0.06g)とトリエ
チルアミン(0.09g)とを加え、氷/塩浴を取り除
き、次いで反応混合物を室温まで昇温させた。この混合
物を室温で2時間放置した後に、ジクロロメタンで希釈
し、水及び食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、濾過し、次いで減圧濃縮した。得られた物質(0.
31g)を分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ/ジ
エチルエーテル)で精製して、融点165〜166℃の
白色固体として化合物No.88(0.15g、収率4
4%)を得た。
【0138】実施例43
本実施例は第I表の化合物No.89の製造を説明する
。 工程A 2,4−ジクロロフェノール(8.15g)を含有する
DMSO溶液(100cm3)に、炭酸カリウム(13
.82g)を懸濁させ、次いで約100℃まで加温して
灰色溶液を得た。18−クラウン−6(0.13g)と
4−フルオロアセトフェノン(6.04cm3)とを加
えた。得られた混合物を150℃に加熱し、1夜攪拌し
た。得られた混合物を冷却した後に、水で希釈し、食塩
水を用いて乳化を破壊しながらジエチルエーテルで(4
回)抽出した。エーテル抽出液を一緒にし2M水酸化ナ
トリウム水溶液及び水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、濾過した。得られた暗色溶液を活性炭を用いて
2回脱色し、ハイフローを通して濾過し、減圧濃縮して
黄褐色固体として4−(2,4−ジクロロフェノキシ)
アセトフェノン(10.8g、収率78%)を得た。 δH NMR(CDCl3):2,55(s)3H;
6.9(d)2H;7.05(d)1H;7.25(d
d)1H;7.5(d)1H;7.95(dt)2H
。 工程A 2,4−ジクロロフェノール(8.15g)を含有する
DMSO溶液(100cm3)に、炭酸カリウム(13
.82g)を懸濁させ、次いで約100℃まで加温して
灰色溶液を得た。18−クラウン−6(0.13g)と
4−フルオロアセトフェノン(6.04cm3)とを加
えた。得られた混合物を150℃に加熱し、1夜攪拌し
た。得られた混合物を冷却した後に、水で希釈し、食塩
水を用いて乳化を破壊しながらジエチルエーテルで(4
回)抽出した。エーテル抽出液を一緒にし2M水酸化ナ
トリウム水溶液及び水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、濾過した。得られた暗色溶液を活性炭を用いて
2回脱色し、ハイフローを通して濾過し、減圧濃縮して
黄褐色固体として4−(2,4−ジクロロフェノキシ)
アセトフェノン(10.8g、収率78%)を得た。 δH NMR(CDCl3):2,55(s)3H;
6.9(d)2H;7.05(d)1H;7.25(d
d)1H;7.5(d)1H;7.95(dt)2H
【
0139】工程 実施例43工程Aに記載のようにして製造した4−(2
,4−ジクロロフェノキシ)セトフェノン(0.5g)
を無水クロロホルムに溶解した。この溶液にm−クロロ
過安息香酸(0.77g)を加え、得られた混合物を錫
箔で密封したフラスコを用いて2日間攪拌した。この間
に白色固体が溶液から沈殿した。得られた沈殿を濾過し
少量の冷クロロホルムで手短に洗浄した。濾液と洗液と
を一緒にし亜硫酸水素ナトリウム水溶液と共に激しく攪
拌し、分液し、次いでクロロホルム抽出液を炭酸カリウ
ム水溶液で洗浄し(2回)、水洗し(2回)、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮して黄色
油状物(0.62g)を得た。得られた油状物(0.3
2g)を分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ/ヘキ
サン−ジエチルエーテル、10:1で精製し、淡黄色油
状物として4−(2,4−ジクロロフェノキシ)フェニ
ルアセテート(0.21g、収率79%)を得た。 δH NMR(CDCl3):δ 2.3(s)3
H;6.95(m)3H;7.05(d)2H;7.2
0(dd)1H;7.45(d)1H
0139】工程 実施例43工程Aに記載のようにして製造した4−(2
,4−ジクロロフェノキシ)セトフェノン(0.5g)
を無水クロロホルムに溶解した。この溶液にm−クロロ
過安息香酸(0.77g)を加え、得られた混合物を錫
箔で密封したフラスコを用いて2日間攪拌した。この間
に白色固体が溶液から沈殿した。得られた沈殿を濾過し
少量の冷クロロホルムで手短に洗浄した。濾液と洗液と
を一緒にし亜硫酸水素ナトリウム水溶液と共に激しく攪
拌し、分液し、次いでクロロホルム抽出液を炭酸カリウ
ム水溶液で洗浄し(2回)、水洗し(2回)、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮して黄色
油状物(0.62g)を得た。得られた油状物(0.3
2g)を分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ/ヘキ
サン−ジエチルエーテル、10:1で精製し、淡黄色油
状物として4−(2,4−ジクロロフェノキシ)フェニ
ルアセテート(0.21g、収率79%)を得た。 δH NMR(CDCl3):δ 2.3(s)3
H;6.95(m)3H;7.05(d)2H;7.2
0(dd)1H;7.45(d)1H
【0140】工程C
工程B記載のようにして製造した4−(2,4−ジクロ
ロフェノキシ)フェニルアセテート(4.1g)に、微
粉砕塩化アルミニウム(2.95g)を穏やかに攪拌し
ながら加えた。この反応フラスコを90℃の油浴中にい
れた。上記2つの固体は褐色油状物を形成した。これを
、温度を140℃まで上昇させ、30分間保持しながら
攪拌した。油状物が粘稠になり、攪拌が困難になった時
に、加熱を止め、次いで混合物を放置したまま室温まで
冷却してやめ褐色の固体塊を得た。得られ固体塊に氷、
濃塩酸を加え且つ激しく攪拌することによって固体塊を
破砕した。得られた混合物を室温で週末にわたって放置
した後に、溶液中に緑色を帯びた白色沈殿が生成した。 得られた混合物をジエチルエーテルで抽出し、水洗し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、減圧濃縮して粘
着性褐色固体を得た。得られた粘着性褐色固体をイソプ
ロパノールから再結晶して融点128.5〜131℃の
黄褐色固体として2−アセチル−4−(2,4−ジクロ
ロフェノキシ)フェノール(2.99g、収率73%)
を得た。 δH NMR(CDCl3):δ 2.6(s)3
H;6.8(d)1H;700(d)1H;7.14(
dd)2H 7.4(d)1H;7.5(d)1H;12.1(s)
1H
ロフェノキシ)フェニルアセテート(4.1g)に、微
粉砕塩化アルミニウム(2.95g)を穏やかに攪拌し
ながら加えた。この反応フラスコを90℃の油浴中にい
れた。上記2つの固体は褐色油状物を形成した。これを
、温度を140℃まで上昇させ、30分間保持しながら
攪拌した。油状物が粘稠になり、攪拌が困難になった時
に、加熱を止め、次いで混合物を放置したまま室温まで
冷却してやめ褐色の固体塊を得た。得られ固体塊に氷、
濃塩酸を加え且つ激しく攪拌することによって固体塊を
破砕した。得られた混合物を室温で週末にわたって放置
した後に、溶液中に緑色を帯びた白色沈殿が生成した。 得られた混合物をジエチルエーテルで抽出し、水洗し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、減圧濃縮して粘
着性褐色固体を得た。得られた粘着性褐色固体をイソプ
ロパノールから再結晶して融点128.5〜131℃の
黄褐色固体として2−アセチル−4−(2,4−ジクロ
ロフェノキシ)フェノール(2.99g、収率73%)
を得た。 δH NMR(CDCl3):δ 2.6(s)3
H;6.8(d)1H;700(d)1H;7.14(
dd)2H 7.4(d)1H;7.5(d)1H;12.1(s)
1H
【0141】工程D
無水トルエン(33cm3)に水素化ナトリウム(60
%油中分散物)(1.53g)を懸濁させた懸濁液を加
熱して還流させこれに、工程Cに記載のようにして製造
した2−アセチル−4−(2,4−ジクロロフェノキシ
)フェノール(4.6g)を無水トルエン(33cm3
)に溶解した溶液を、20分間にわたって徐々に加えた
。15分後に、無水トルエン(33cm3)に炭酸ジエ
チル(4g)を溶解した溶液を20分間にわたって滴下
した。次いで、混合物を1夜還流させ、次いで室温まで
冷却させ、その後に攪拌しながら水(20cm3)を注
意深く加えた2つの層を得た。橙色のトルエン層を分液
した。得られた水性抽出液を希塩酸で酸性化し、次いで
生成したクリーム色沈殿を濾過し、水洗し、風乾して、
融点213〜221℃のクリーム色固体として6−(2
,4−ジクロロフェノキシ)−4−ヒドロキシクマリン
(4.44g、収率89%)を得た。δH NMR(
DMSO):5.0(s)1H;7.05(d)1H;
7.2(m)1H 7.35(dd)3H;7.7(d)1H
%油中分散物)(1.53g)を懸濁させた懸濁液を加
熱して還流させこれに、工程Cに記載のようにして製造
した2−アセチル−4−(2,4−ジクロロフェノキシ
)フェノール(4.6g)を無水トルエン(33cm3
)に溶解した溶液を、20分間にわたって徐々に加えた
。15分後に、無水トルエン(33cm3)に炭酸ジエ
チル(4g)を溶解した溶液を20分間にわたって滴下
した。次いで、混合物を1夜還流させ、次いで室温まで
冷却させ、その後に攪拌しながら水(20cm3)を注
意深く加えた2つの層を得た。橙色のトルエン層を分液
した。得られた水性抽出液を希塩酸で酸性化し、次いで
生成したクリーム色沈殿を濾過し、水洗し、風乾して、
融点213〜221℃のクリーム色固体として6−(2
,4−ジクロロフェノキシ)−4−ヒドロキシクマリン
(4.44g、収率89%)を得た。δH NMR(
DMSO):5.0(s)1H;7.05(d)1H;
7.2(m)1H 7.35(dd)3H;7.7(d)1H
【0142】
工程E 金属ナトリウム(0.11g)をヘキサンで洗浄し、エ
タノール(33cm3)に窒素雰囲気下で加えた。ナト
リウムが全部反応した時に、ヒドロキシルアミン塩酸塩
(0.32g)を加えて黄色溶液を得て、次いで工程D
に記載のようにして製造した6−(2,4−ジクロロフ
ェノキシ)−4−ヒドロキシクマリン(0.5g)を加
えた。混合物を5時間還流し、次いで放置したまま冷却
し、室温で1夜放置した。還流をさらに2時間継続し、
次いで得られた溶液を1夜にわたって放置したまま室温
まで冷却した。得られた混合物を減圧濃縮してベージュ
色固体を得、これを炭酸水素ナトリウム水溶液に溶解し
た。この水溶液をジエチルエーテルで抽出し(2回)、
濃塩酸で注意深く酸性化して乳白色沈殿を得た。得られ
た混合物をジエチルエーテルで抽出し(4回)、水洗し
、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃
縮して融点130〜136℃のクリームベージュ色固体
として化合物No.89(0.40g、収率76%)を
得た。適当な反応剤と出発原料とを用いて同様の方法で
化合物No.96を収率37%で製造した。反応混合物
は化合物No.89について記載の時間に代えて17時
間で得た。
工程E 金属ナトリウム(0.11g)をヘキサンで洗浄し、エ
タノール(33cm3)に窒素雰囲気下で加えた。ナト
リウムが全部反応した時に、ヒドロキシルアミン塩酸塩
(0.32g)を加えて黄色溶液を得て、次いで工程D
に記載のようにして製造した6−(2,4−ジクロロフ
ェノキシ)−4−ヒドロキシクマリン(0.5g)を加
えた。混合物を5時間還流し、次いで放置したまま冷却
し、室温で1夜放置した。還流をさらに2時間継続し、
次いで得られた溶液を1夜にわたって放置したまま室温
まで冷却した。得られた混合物を減圧濃縮してベージュ
色固体を得、これを炭酸水素ナトリウム水溶液に溶解し
た。この水溶液をジエチルエーテルで抽出し(2回)、
濃塩酸で注意深く酸性化して乳白色沈殿を得た。得られ
た混合物をジエチルエーテルで抽出し(4回)、水洗し
、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃
縮して融点130〜136℃のクリームベージュ色固体
として化合物No.89(0.40g、収率76%)を
得た。適当な反応剤と出発原料とを用いて同様の方法で
化合物No.96を収率37%で製造した。反応混合物
は化合物No.89について記載の時間に代えて17時
間で得た。
【0143】実施例44
本実施例は第I表の化合物No.91の製造を例証する
。実施例3に記載のようにして製造した化合物No.1
から、実施例40の工程Aに記載のようにして製造した
粗製酸塩化物(0.29g)を無水ジクロロメタンに溶
解し、氷浴で冷却した。アセトンオキシム(0.06g
)とトリエチルアミン(0.08g)とを加え、氷浴を
取り除いた。次いで反応混合物を1夜にわたって室温ま
で昇温させ、ジクロロメタンで希釈し、水、希塩酸、希
水酸化ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮した。 得られた物質(0.26g)を分取用薄層クロマトグラ
フィー(シリカ/ヘキサン−ジエチルエーテル,1:1
)で精製して、融点127℃の白色固体として化合物N
o.91(0.17g、収率51%)を得た。
。実施例3に記載のようにして製造した化合物No.1
から、実施例40の工程Aに記載のようにして製造した
粗製酸塩化物(0.29g)を無水ジクロロメタンに溶
解し、氷浴で冷却した。アセトンオキシム(0.06g
)とトリエチルアミン(0.08g)とを加え、氷浴を
取り除いた。次いで反応混合物を1夜にわたって室温ま
で昇温させ、ジクロロメタンで希釈し、水、希塩酸、希
水酸化ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮した。 得られた物質(0.26g)を分取用薄層クロマトグラ
フィー(シリカ/ヘキサン−ジエチルエーテル,1:1
)で精製して、融点127℃の白色固体として化合物N
o.91(0.17g、収率51%)を得た。
【0144】実施例45
本実施例は第I表の化合物No.93の製造を例証する
。実施例3に記載のようにして製造した化合物No.1
(0.5g)を、氷酢酸(3cm3)を含有する無水ジ
クロロメタン(7cm3)に溶解した。臭素(0.19
g)を加え、得られた混合物を室温で30分間攪拌し、
次いで還流温度で3時間加熱した。得られた反応混合物
を室温まで冷却した後に、ジクロロメタンで希釈し、水
洗し、食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
濾過し、次いで減圧濃縮した。得られた物質(0.48
g)を分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ/ヘキサ
ン−ジエチルエーテル、1:1、酢酸を数滴加えたもの
)で精製した。薄層クロマトグラフィー板から取得した
物質(0.24g)は酢酸を混在した目的生成物であっ
た。得られた粗生成物をジエチルエーテルに溶解し、得
られた溶液を水洗し、食塩水で洗浄し、次いで無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。乾燥した溶液を減圧濃縮して,
融点174〜175℃の白色固体として化合物No.9
3(0.22g、収率36%)を得た。
。実施例3に記載のようにして製造した化合物No.1
(0.5g)を、氷酢酸(3cm3)を含有する無水ジ
クロロメタン(7cm3)に溶解した。臭素(0.19
g)を加え、得られた混合物を室温で30分間攪拌し、
次いで還流温度で3時間加熱した。得られた反応混合物
を室温まで冷却した後に、ジクロロメタンで希釈し、水
洗し、食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
濾過し、次いで減圧濃縮した。得られた物質(0.48
g)を分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ/ヘキサ
ン−ジエチルエーテル、1:1、酢酸を数滴加えたもの
)で精製した。薄層クロマトグラフィー板から取得した
物質(0.24g)は酢酸を混在した目的生成物であっ
た。得られた粗生成物をジエチルエーテルに溶解し、得
られた溶液を水洗し、食塩水で洗浄し、次いで無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。乾燥した溶液を減圧濃縮して,
融点174〜175℃の白色固体として化合物No.9
3(0.22g、収率36%)を得た。
【0145】実施例46
本実施例は第I表の化合物No.94の製造を例証する
。実施例5に記載のようにして製造した化合物No.4
(0.3g)を、無水トルエンに溶解した。ジハイドロ
ゲントリフルオリド(dihydrogentrifl
uoride)を担持したAmberlystポリマー
(弗化水素7ミリモル/樹脂1g)(2g)を加え、混
合物を還流温度で4.75時間加熱した。混合物を冷却
した後に、樹脂をハイフローを通して濾過することによ
り除去し、ジエチルエーテルで洗浄した。得られた洗浄
液と濾液とを一緒にし減圧濃縮した。得られた残留物油
状物(0.21g)を分取用薄層クロマトグラフィー(
シリカ/ヘキサン−ジエチルエーテル、7:3、4回溶
出)で精製して、目的生成物すなわち、淡黄色油状物と
して、化合物No.76との混合物(95:5)の主成
分として化合物No.94(0.04g、収率13%)
を得た。
。実施例5に記載のようにして製造した化合物No.4
(0.3g)を、無水トルエンに溶解した。ジハイドロ
ゲントリフルオリド(dihydrogentrifl
uoride)を担持したAmberlystポリマー
(弗化水素7ミリモル/樹脂1g)(2g)を加え、混
合物を還流温度で4.75時間加熱した。混合物を冷却
した後に、樹脂をハイフローを通して濾過することによ
り除去し、ジエチルエーテルで洗浄した。得られた洗浄
液と濾液とを一緒にし減圧濃縮した。得られた残留物油
状物(0.21g)を分取用薄層クロマトグラフィー(
シリカ/ヘキサン−ジエチルエーテル、7:3、4回溶
出)で精製して、目的生成物すなわち、淡黄色油状物と
して、化合物No.76との混合物(95:5)の主成
分として化合物No.94(0.04g、収率13%)
を得た。
【0146】実施例47
本実施例は第I表の化合物No.97の製造を例証する
。実施例10に記載のようにして製造した化合物No.
92(0.37g)を、窒素雰囲気下に無水THF(6
cm3)に溶解し,この溶液をエタンジオール/CO2
浴で−40℃に冷却した。反応混合物に温度を−25℃
以下に保持しながら、トルエンにカリウム ビス(ト
リメチルシリル)アミドを溶解した0.5M溶液(2.
7cm3 )を滴下した。−40℃で1時間攪拌した
後に、沃化メチル(0.42g)を加え、得られた混合
物を室温まで昇温させた。反応混合物を水に注加し、ジ
エチルエーテルで抽出した(5回)。エーテル抽出液を
水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで
減圧下で蒸発させ乾固した。得られた物質(0.37g
)を分取用薄層クロマトクラフィー(シリカ/ヘキサン
−ジエチルエーテル、7:3)で精製して透明油状物と
して化合物No.97(0.24g、収率59%)で得
た。適当な反応剤を用いて、同様の方法で化合物No.
2から化合物No.100を製造した。
。実施例10に記載のようにして製造した化合物No.
92(0.37g)を、窒素雰囲気下に無水THF(6
cm3)に溶解し,この溶液をエタンジオール/CO2
浴で−40℃に冷却した。反応混合物に温度を−25℃
以下に保持しながら、トルエンにカリウム ビス(ト
リメチルシリル)アミドを溶解した0.5M溶液(2.
7cm3 )を滴下した。−40℃で1時間攪拌した
後に、沃化メチル(0.42g)を加え、得られた混合
物を室温まで昇温させた。反応混合物を水に注加し、ジ
エチルエーテルで抽出した(5回)。エーテル抽出液を
水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次いで
減圧下で蒸発させ乾固した。得られた物質(0.37g
)を分取用薄層クロマトクラフィー(シリカ/ヘキサン
−ジエチルエーテル、7:3)で精製して透明油状物と
して化合物No.97(0.24g、収率59%)で得
た。適当な反応剤を用いて、同様の方法で化合物No.
2から化合物No.100を製造した。
【0147】実施例48
本実施例は第I表の化合物No.99の製造を例証する
。実施例3に記載のようにして製造した化合物No.1
(0.3g)をジクロロメタン(10cm3)に溶解し
た。この混合物を氷浴で冷却し、ジメチルアミノピリジ
ン(触媒量)とアニリン(0.08g)とジシクロヘキ
シルカルボジイミド(0.17g)とを加えた。沈殿が
生成した。室温で1夜放置した後に、得られた反応混合
物をハイフローを通して濾過し、残留物をジクロロメタ
ンで洗浄した。得られた洗浄液と濾液とを一緒にし減圧
濃縮した、次いで酢酸エチルに再溶解した。この溶液を
2M水酸化ナトリウム水溶液、希塩酸、炭酸水素ナトリ
ウム水溶液及び食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮した。得られた物質(
0.37g)を分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ
/ヘキサン−ジエチルエーテル,7:3)で精製して、
融点186〜187℃の白色固体として化合物No.9
9(0,06g、収率17%)を得た。
。実施例3に記載のようにして製造した化合物No.1
(0.3g)をジクロロメタン(10cm3)に溶解し
た。この混合物を氷浴で冷却し、ジメチルアミノピリジ
ン(触媒量)とアニリン(0.08g)とジシクロヘキ
シルカルボジイミド(0.17g)とを加えた。沈殿が
生成した。室温で1夜放置した後に、得られた反応混合
物をハイフローを通して濾過し、残留物をジクロロメタ
ンで洗浄した。得られた洗浄液と濾液とを一緒にし減圧
濃縮した、次いで酢酸エチルに再溶解した。この溶液を
2M水酸化ナトリウム水溶液、希塩酸、炭酸水素ナトリ
ウム水溶液及び食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮した。得られた物質(
0.37g)を分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ
/ヘキサン−ジエチルエーテル,7:3)で精製して、
融点186〜187℃の白色固体として化合物No.9
9(0,06g、収率17%)を得た。
【0148】実施例49
本実施例は第I表の化合物No.101の製造を説明す
る。 工程A 実施例11に記載のようにして製造した化合物No.1
4(0.3g)を、塩化チオニル(10cm3)に若干
加熱しながら溶解した。反応混合物室温0.75時間放
置しておき、次いで減圧濃縮して粗製酸塩化物を得、こ
れを直接に使用した。 工程B 工程Aで得た粗製酸塩化物を無水ジクロロメタン(10
cm3)に溶解し、得られた混合物を氷浴を用いて冷却
した。この冷却溶液に、アセトンオキシム(0.06g
)とトリエチルアミン(0.08g)とを加え、次いで
室温で1夜放置した。得られた反応混合物をジクロロメ
タンで希釈し、希水酸化ナトリウム水溶液、希塩酸及び
食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し
、次いで減圧濃縮した。得られた残留物(0.27g)
を分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ/ヘキサン−
エーテル、1:1)で精製し融点74〜76℃の灰白色
固体として化合物No,101(0.21g、収率62
%)を得た。
る。 工程A 実施例11に記載のようにして製造した化合物No.1
4(0.3g)を、塩化チオニル(10cm3)に若干
加熱しながら溶解した。反応混合物室温0.75時間放
置しておき、次いで減圧濃縮して粗製酸塩化物を得、こ
れを直接に使用した。 工程B 工程Aで得た粗製酸塩化物を無水ジクロロメタン(10
cm3)に溶解し、得られた混合物を氷浴を用いて冷却
した。この冷却溶液に、アセトンオキシム(0.06g
)とトリエチルアミン(0.08g)とを加え、次いで
室温で1夜放置した。得られた反応混合物をジクロロメ
タンで希釈し、希水酸化ナトリウム水溶液、希塩酸及び
食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し
、次いで減圧濃縮した。得られた残留物(0.27g)
を分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ/ヘキサン−
エーテル、1:1)で精製し融点74〜76℃の灰白色
固体として化合物No,101(0.21g、収率62
%)を得た。
【0149】実施例50
本実施例は第I表の化合物No.102の製造を説明す
る。実施例3に記載のようにして製造し化合物No.1
(0.15g)をエタノール(5cm3)に溶解した溶
液に1.038M水酸化ナトリウム水溶液(0.36m
l)を加えた。この反応混合物を室温で2時間攪拌し、
次いで減圧濃縮した。得られた残留物ジエチルエーテル
で洗浄し、次いで減圧濃縮して、融点239〜241℃
の化合物No.102(0.15g、収率100%)を
得た。適当な反応剤を用いて、同様の方法で化合物No
.103、No.104、No.105、No.106
及びNo.107を製造した。
る。実施例3に記載のようにして製造し化合物No.1
(0.15g)をエタノール(5cm3)に溶解した溶
液に1.038M水酸化ナトリウム水溶液(0.36m
l)を加えた。この反応混合物を室温で2時間攪拌し、
次いで減圧濃縮した。得られた残留物ジエチルエーテル
で洗浄し、次いで減圧濃縮して、融点239〜241℃
の化合物No.102(0.15g、収率100%)を
得た。適当な反応剤を用いて、同様の方法で化合物No
.103、No.104、No.105、No.106
及びNo.107を製造した。
【0150】実施例51
本実施例は第II表の化合物No.108の製造を説明
する。実施例21に記載のようにして製造した化合物N
o.57(0.24g)を無水THF(10cm3)に
溶解した溶液をエタンジオール/ドライアイス浴で冷却
しこれに、トルエンにカリウム ビス(トリメチルシ
リル)アミドを溶解した0.5M溶液(5.28cm3
)をゆっくり加えた。冷却しながら1時間攪拌した後に
、無水THF(2.7cm3)に沃化メチル(0.37
g)を溶解した溶液を加え、得られた混合物を1夜にわ
たって室温まで昇温させた。反応混合物を水に注加し、
ジエチルエーテルで抽出した。エーテル抽出液を食塩水
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次い
で減圧濃縮した。得られた残留物(0.33g)を分取
用薄層クロマトグラフィー(シリカ/ヘキサン−エーテ
ル、7:3)及び(シリカ/ヘキサン−エーテル、9:
1、3回溶出)で精製した。最後のクロマトグラフィー
から2つの物質を、無色油状物としての化合物No.1
00(0.03g、収率11.7%)と、無色油状物と
しての化合物No.59(0.04g、収率16.1%
)としての化合物No.59とを得た。両方の化合物の
試料は別の化合物を約5%含有する混合物であった。
する。実施例21に記載のようにして製造した化合物N
o.57(0.24g)を無水THF(10cm3)に
溶解した溶液をエタンジオール/ドライアイス浴で冷却
しこれに、トルエンにカリウム ビス(トリメチルシ
リル)アミドを溶解した0.5M溶液(5.28cm3
)をゆっくり加えた。冷却しながら1時間攪拌した後に
、無水THF(2.7cm3)に沃化メチル(0.37
g)を溶解した溶液を加え、得られた混合物を1夜にわ
たって室温まで昇温させた。反応混合物を水に注加し、
ジエチルエーテルで抽出した。エーテル抽出液を食塩水
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次い
で減圧濃縮した。得られた残留物(0.33g)を分取
用薄層クロマトグラフィー(シリカ/ヘキサン−エーテ
ル、7:3)及び(シリカ/ヘキサン−エーテル、9:
1、3回溶出)で精製した。最後のクロマトグラフィー
から2つの物質を、無色油状物としての化合物No.1
00(0.03g、収率11.7%)と、無色油状物と
しての化合物No.59(0.04g、収率16.1%
)としての化合物No.59とを得た。両方の化合物の
試料は別の化合物を約5%含有する混合物であった。
【0151】実施例52
本実施例は第I表の化合物No.109の製造を例証す
る。実施例3に記載のようにして製造した化合物No.
1(0.3g)を無水アセトニトリル(10cm3)に
溶解し、この溶液を氷浴で冷却した。この冷却溶液に、
触媒量の4−ジメチルアミノピリジンとジシクロヘキシ
ルカルボジイミド(0.17g)とを加えた。黄色沈殿
が認められた。2−アミノピリジン(0.08g)を加
えた後に、氷浴を取り除き、混合物を室温で2時間攪拌
した。得られた混合物をハイフローを通して濾過し、残
留物をアセトニトリルで洗浄した。得られた洗浄液と濾
液とを一緒にして減圧濃縮した。得られた残留物(0.
44g)を分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ/ヘ
キサン−エーテル,3:7)で精製して、融点144〜
146℃の白色固体として化合物No.109(0.3
5g、収率98%)を得た。
る。実施例3に記載のようにして製造した化合物No.
1(0.3g)を無水アセトニトリル(10cm3)に
溶解し、この溶液を氷浴で冷却した。この冷却溶液に、
触媒量の4−ジメチルアミノピリジンとジシクロヘキシ
ルカルボジイミド(0.17g)とを加えた。黄色沈殿
が認められた。2−アミノピリジン(0.08g)を加
えた後に、氷浴を取り除き、混合物を室温で2時間攪拌
した。得られた混合物をハイフローを通して濾過し、残
留物をアセトニトリルで洗浄した。得られた洗浄液と濾
液とを一緒にして減圧濃縮した。得られた残留物(0.
44g)を分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ/ヘ
キサン−エーテル,3:7)で精製して、融点144〜
146℃の白色固体として化合物No.109(0.3
5g、収率98%)を得た。
【0152】実施例53
本実施例は第I表の化合物No.110の製造を説明す
る。実施例3に記載のようにして製造した化合物No.
1(0.3g)を無水アセトニトリル(10cm3)に
溶解し、この溶液を氷浴で冷却した。この冷却溶液に、
触媒量の4−ジメチルアミノピリジンとジシクロヘキシ
ルカルボジイミド(0.17g)とを加えた。沈殿が認
められた。この冷却溶液に3−アミノピリジン(0.0
8g)を加えた後に、緻密な沈殿が認められ、氷浴を取
り除いた。混合物を室温で0.75時間攪拌した後には
、反応が認められなかったので、この混合物を還流温度
で1.75時間加熱した。冷却した後に、得られた反応
混合物に、ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)
(0.17g)と3−アミノピリジン(0.08g)と
の追加量を加え、次いで室温で1夜放置した。得られた
混合物を濾過し、残留物をアセトニトリルで洗浄した。 得られた洗浄液と濾液とを一緒にして減圧濃縮した。得
られた濃縮物(0.46g)を分取用薄層クロマトグラ
フィー(シリカ/ジエチルエーテル)で精製して融点2
01〜203℃の白色固体として化合物No.110(
0.06g、収率17%)を得た。
る。実施例3に記載のようにして製造した化合物No.
1(0.3g)を無水アセトニトリル(10cm3)に
溶解し、この溶液を氷浴で冷却した。この冷却溶液に、
触媒量の4−ジメチルアミノピリジンとジシクロヘキシ
ルカルボジイミド(0.17g)とを加えた。沈殿が認
められた。この冷却溶液に3−アミノピリジン(0.0
8g)を加えた後に、緻密な沈殿が認められ、氷浴を取
り除いた。混合物を室温で0.75時間攪拌した後には
、反応が認められなかったので、この混合物を還流温度
で1.75時間加熱した。冷却した後に、得られた反応
混合物に、ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)
(0.17g)と3−アミノピリジン(0.08g)と
の追加量を加え、次いで室温で1夜放置した。得られた
混合物を濾過し、残留物をアセトニトリルで洗浄した。 得られた洗浄液と濾液とを一緒にして減圧濃縮した。得
られた濃縮物(0.46g)を分取用薄層クロマトグラ
フィー(シリカ/ジエチルエーテル)で精製して融点2
01〜203℃の白色固体として化合物No.110(
0.06g、収率17%)を得た。
【0153】実施例54
本実施例は第I表の化合物No.111の製造を説明す
る。実施例3に記載のようにして製造した化合物No.
1(0.3g)を無水アセトニトリル(10cm3)に
溶解し、この溶液を氷浴で冷却した。触媒量の4−ジメ
チルアミノピリジン(DMAP)とジシクロヘキシルカ
ルボジイミド(DCC)(0.17g)とを加えた。黄
色沈殿が認められた。この冷却溶液に4−アミノピリジ
ン(0.08g)を加えた後に、さらに沈殿が生成した
。反応混合物を室温で1夜放置した。トリエチルアミン
(0.1g)加え、再び反応混合物を室温で1夜放置し
た。得られた混合物を濾過し、残留物をアセトニトリル
で洗浄した。得られた洗浄液と濾液とを一緒にして減圧
濃縮して濁った黄色の固体(0.24g)を得た。この
固体をさらに分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ/
ジエチルエーテル)で精製して融点239℃(分解)の
白色固体として化合物No.111(0.05g、収率
11%)を得た。
る。実施例3に記載のようにして製造した化合物No.
1(0.3g)を無水アセトニトリル(10cm3)に
溶解し、この溶液を氷浴で冷却した。触媒量の4−ジメ
チルアミノピリジン(DMAP)とジシクロヘキシルカ
ルボジイミド(DCC)(0.17g)とを加えた。黄
色沈殿が認められた。この冷却溶液に4−アミノピリジ
ン(0.08g)を加えた後に、さらに沈殿が生成した
。反応混合物を室温で1夜放置した。トリエチルアミン
(0.1g)加え、再び反応混合物を室温で1夜放置し
た。得られた混合物を濾過し、残留物をアセトニトリル
で洗浄した。得られた洗浄液と濾液とを一緒にして減圧
濃縮して濁った黄色の固体(0.24g)を得た。この
固体をさらに分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ/
ジエチルエーテル)で精製して融点239℃(分解)の
白色固体として化合物No.111(0.05g、収率
11%)を得た。
【0154】実施例55
本実施例は第I表の化合物No.112とNo.113
の製造を例証する。実施例2に記載のようにして製造し
た化合物No.2(0.8g)を無水THF(20cm
3)に溶解した溶液に、トルエンにカリウム ビス(
トリメチルシリル)アミドを溶解した0.5M溶液(4
.36cm3)を滴下し、ドライアイス/エタンジオー
ル/イソプロパノール浴で冷却した。混合物を冷却し、
約−40℃で1時間攪拌した。沃化アリル(0.19c
m3)を無水THF(2cm3)に溶解した溶液を加え
、混合物を−40℃で1時間攪拌し、その後に室温まで
昇温させた。温度が上昇するにつれて溶液から黄色固体
が沈殿した。得られた混合物を水で希釈し、ジエチルエ
ーテルで抽出し(4回)、水洗し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮して褐色油状物(1
.0g)を得た。この油状物を分取用薄層クロマトグラ
フィー(シリカ/ヘキサン−酢酸エチル、2:1、4:
1及び7:1)で3回精製して、油状物として化合物N
o.112(0.53g、収率60%)と、油状物とし
て化合物No.113(0.04g、収率4%)とを得
た。適当な出発原料と反応剤とを用いて、同様の方法で
化合物No.114とNo.115とを製造した。
の製造を例証する。実施例2に記載のようにして製造し
た化合物No.2(0.8g)を無水THF(20cm
3)に溶解した溶液に、トルエンにカリウム ビス(
トリメチルシリル)アミドを溶解した0.5M溶液(4
.36cm3)を滴下し、ドライアイス/エタンジオー
ル/イソプロパノール浴で冷却した。混合物を冷却し、
約−40℃で1時間攪拌した。沃化アリル(0.19c
m3)を無水THF(2cm3)に溶解した溶液を加え
、混合物を−40℃で1時間攪拌し、その後に室温まで
昇温させた。温度が上昇するにつれて溶液から黄色固体
が沈殿した。得られた混合物を水で希釈し、ジエチルエ
ーテルで抽出し(4回)、水洗し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮して褐色油状物(1
.0g)を得た。この油状物を分取用薄層クロマトグラ
フィー(シリカ/ヘキサン−酢酸エチル、2:1、4:
1及び7:1)で3回精製して、油状物として化合物N
o.112(0.53g、収率60%)と、油状物とし
て化合物No.113(0.04g、収率4%)とを得
た。適当な出発原料と反応剤とを用いて、同様の方法で
化合物No.114とNo.115とを製造した。
【0155】実施例56
本実施例は第III表の化合物No.116の製造を例
証する。 工程A m−フルオロアセトフェノン(20.0g、0.14モ
ル)を−5℃以下に冷却し、反応混合物の温度が−5℃
を決して越えないような速度で発煙硝酸(100cm3
)を加えた。発煙硝酸の添加が完了した後に、得られた
混合物を氷/水中に注加した。沈殿した黄色固体を濾過
し、水洗し、次いで乾燥して5−フルオロ−2−ニトロ
アセトフエノン(21.4g)を得た。
証する。 工程A m−フルオロアセトフェノン(20.0g、0.14モ
ル)を−5℃以下に冷却し、反応混合物の温度が−5℃
を決して越えないような速度で発煙硝酸(100cm3
)を加えた。発煙硝酸の添加が完了した後に、得られた
混合物を氷/水中に注加した。沈殿した黄色固体を濾過
し、水洗し、次いで乾燥して5−フルオロ−2−ニトロ
アセトフエノン(21.4g)を得た。
【0156】工程B
5−フルオロ−2−ニトロアセトフェノン(9.15g
、50ミリモル)と4−クロロ−3−ヒドロキシ−1−
メチル−5−トリフルオロメチルピラゾール(10.0
3g、50ミリモル)とを一緒に90℃で3時間加熱し
、次いでジメチルスルホキシド(60cm3)で希釈し
次いで炭酸カリウム(5.30g、50ミリモル)を加
えた。反応混合物を100℃で90分間攪拌し、次いで
室温まで冷却し、氷/水中に注加した。得られた混合物
を酢酸エチルで抽出し、有機抽出液を一緒にして硫酸マ
グネシウムで乾燥し、次いで真空中で蒸発させた。得ら
れた残留物を60〜80石油エーテルで磨砕して融点9
2〜94℃の5−(4−クロロ−1−メチル−5−トリ
フルオロメチル−1H−ピラゾール−3−イルオキシ)
−2−ニトロアセトフェノン(13.54g)を得た。
、50ミリモル)と4−クロロ−3−ヒドロキシ−1−
メチル−5−トリフルオロメチルピラゾール(10.0
3g、50ミリモル)とを一緒に90℃で3時間加熱し
、次いでジメチルスルホキシド(60cm3)で希釈し
次いで炭酸カリウム(5.30g、50ミリモル)を加
えた。反応混合物を100℃で90分間攪拌し、次いで
室温まで冷却し、氷/水中に注加した。得られた混合物
を酢酸エチルで抽出し、有機抽出液を一緒にして硫酸マ
グネシウムで乾燥し、次いで真空中で蒸発させた。得ら
れた残留物を60〜80石油エーテルで磨砕して融点9
2〜94℃の5−(4−クロロ−1−メチル−5−トリ
フルオロメチル−1H−ピラゾール−3−イルオキシ)
−2−ニトロアセトフェノン(13.54g)を得た。
【0157】工程C
工程Bで製造したニトロアセトフェノン(11.0g、
30.5ミリモル)をアセトン(180cm3)に溶解
し、10℃に冷却した。三塩化チタン(30%水溶液,
130cm3)を30分間にわたって滴下し、滴下が完
了した後に反応混合物を室温まで昇温させた。得られた
混合物を水に注加し、酢酸エチルで抽出し。得られた有
機抽出液を一緒にして食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、濾過し次いで溶媒を減圧除去して褐色固体
を得た。これを60〜80石油エーテルで磨砕して融点
90〜92℃の2−アミノ−5−(4−クロロ−1−メ
チル−5−トリフルオロメチル−1H−ピラゾール−3
−イルオキシ)アセトフェノン(10.0g)を得た。
30.5ミリモル)をアセトン(180cm3)に溶解
し、10℃に冷却した。三塩化チタン(30%水溶液,
130cm3)を30分間にわたって滴下し、滴下が完
了した後に反応混合物を室温まで昇温させた。得られた
混合物を水に注加し、酢酸エチルで抽出し。得られた有
機抽出液を一緒にして食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、濾過し次いで溶媒を減圧除去して褐色固体
を得た。これを60〜80石油エーテルで磨砕して融点
90〜92℃の2−アミノ−5−(4−クロロ−1−メ
チル−5−トリフルオロメチル−1H−ピラゾール−3
−イルオキシ)アセトフェノン(10.0g)を得た。
【0158】工程D
工程Cで製造したアミン(10.0g、30.3ミリモ
ル)を水(120cm3)に溶解し、濃塩酸で酸性化し
た。この混合物を氷塩浴中で冷却し、硝酸ナトリウム(
2.3g,30.3ミリモル)を水(25cm3)に溶
解した溶液を滴下し、滴下が完了した後に得られた混合
物を0℃で20分間攪拌した。次いで、激しく攪拌しな
がらフルオロホウ酸(20cm3)を加えた。滴下が完
了したときに、反応混合物を放置したまま室温まで昇温
させた。沈殿を採取し、乾燥した。上記で製造した固体
を、硝酸第2銅・3水和物(167.9g、695ミリ
モル)を水(350ml)に加え次いで酸化第1銅(4
.29g、29.2ミリモル)を加えた。得られた混合
物を室温で15分間攪拌し、次いで45℃で6時間攪拌
した。得られた混合を室温まで冷却し、ジクロロメタン
で抽出した。得られた有機抽出液を一緒にして、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、濾過し次いで溶媒を減圧で蒸発さ
せた。得られた残留物をフラッシュカラムクロマトグラ
フィーによりシリカゲル上を酢酸エチル/ヘキサン(混
合比1:3)で溶出して、融点80〜82℃の淡黄色固
体として5−(4−クロロ−1−メチル−5−トリフル
オロメチル−1H−ピラゾール−3−イルオキシ)−2
−ヒドロキシアセトフェノン(4.4g)を得た。
ル)を水(120cm3)に溶解し、濃塩酸で酸性化し
た。この混合物を氷塩浴中で冷却し、硝酸ナトリウム(
2.3g,30.3ミリモル)を水(25cm3)に溶
解した溶液を滴下し、滴下が完了した後に得られた混合
物を0℃で20分間攪拌した。次いで、激しく攪拌しな
がらフルオロホウ酸(20cm3)を加えた。滴下が完
了したときに、反応混合物を放置したまま室温まで昇温
させた。沈殿を採取し、乾燥した。上記で製造した固体
を、硝酸第2銅・3水和物(167.9g、695ミリ
モル)を水(350ml)に加え次いで酸化第1銅(4
.29g、29.2ミリモル)を加えた。得られた混合
物を室温で15分間攪拌し、次いで45℃で6時間攪拌
した。得られた混合を室温まで冷却し、ジクロロメタン
で抽出した。得られた有機抽出液を一緒にして、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、濾過し次いで溶媒を減圧で蒸発さ
せた。得られた残留物をフラッシュカラムクロマトグラ
フィーによりシリカゲル上を酢酸エチル/ヘキサン(混
合比1:3)で溶出して、融点80〜82℃の淡黄色固
体として5−(4−クロロ−1−メチル−5−トリフル
オロメチル−1H−ピラゾール−3−イルオキシ)−2
−ヒドロキシアセトフェノン(4.4g)を得た。
【0159】工程E
トルエン(5cm3)と1,2−ジメトキシエタン(1
0cm3)との混合物に、水素化ナトリウム(0.65
g、27.0ミリモル)を懸濁させた。上記で製造した
ヒドロキシアセトフェノン(3.0g、9.0ミリモル
)を滴下し、滴下が完了したときに、混合物を60℃に
加熱した。1時間後に、炭酸ジエチル(3.25cm3
、27.0ミリモル)を加え、次いで得られた混合物を
還流下でさらに2時間攪拌した。得られた混合物を室温
間で冷却し、次いで氷/水に注加した。得られた水層を
酢酸エチルで抽出し、次いで希塩酸水溶液で酸性化し、
再度酢酸エチルで抽出した。有機抽出液を硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、次いで溶媒を減圧で除去してワックス状
物として6−(4−クロロ−1−メチル−5−トリフル
オロメチル−1H−ピラゾール−3−イルオキシ)−4
−ヒドロキシクマリン(1.95g)を得た。
0cm3)との混合物に、水素化ナトリウム(0.65
g、27.0ミリモル)を懸濁させた。上記で製造した
ヒドロキシアセトフェノン(3.0g、9.0ミリモル
)を滴下し、滴下が完了したときに、混合物を60℃に
加熱した。1時間後に、炭酸ジエチル(3.25cm3
、27.0ミリモル)を加え、次いで得られた混合物を
還流下でさらに2時間攪拌した。得られた混合物を室温
間で冷却し、次いで氷/水に注加した。得られた水層を
酢酸エチルで抽出し、次いで希塩酸水溶液で酸性化し、
再度酢酸エチルで抽出した。有機抽出液を硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、次いで溶媒を減圧で除去してワックス状
物として6−(4−クロロ−1−メチル−5−トリフル
オロメチル−1H−ピラゾール−3−イルオキシ)−4
−ヒドロキシクマリン(1.95g)を得た。
【0160】工程F
金属ナトリウム(0.36g、15.6ミリモル)をエ
タノール(10cm3)に溶解し、ヒドロキシルアミン
塩酸塩(1.07g、15.4ミリモル)を加えた。混
合物を5分間攪拌し、次いで工程Eで製造したクマリン
(1.87g、5.2ミリモル)を加え、混合物を還流
下で17時間加熱した。追加量のヒドロキシルアミン塩
酸塩(1.07g、15.4ミリモル)を加え、混合物
を還流下でさらに3時間加熱した。得られた混合物を室
温まで冷却し、次いで溶媒を得られた溶液を減圧で除去
した。得られた残留物を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液
に溶解した。得られた混合物をジエチルエーテルで洗浄
し、濃塩酸で酸性化して、次いで酢酸エチルで抽出した
。酢酸エチル抽出液を一緒にし、硫酸マグネシウムで乾
燥し、次いで溶媒を減圧で除去した。60〜80石油エ
ーテルと共に磨砕し明褐色固体を得た。これを再結晶(
酢酸エチル/ヘキサンン)して融点137〜138℃の
化合物No.116(1.27g)を得た。
タノール(10cm3)に溶解し、ヒドロキシルアミン
塩酸塩(1.07g、15.4ミリモル)を加えた。混
合物を5分間攪拌し、次いで工程Eで製造したクマリン
(1.87g、5.2ミリモル)を加え、混合物を還流
下で17時間加熱した。追加量のヒドロキシルアミン塩
酸塩(1.07g、15.4ミリモル)を加え、混合物
を還流下でさらに3時間加熱した。得られた混合物を室
温まで冷却し、次いで溶媒を得られた溶液を減圧で除去
した。得られた残留物を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液
に溶解した。得られた混合物をジエチルエーテルで洗浄
し、濃塩酸で酸性化して、次いで酢酸エチルで抽出した
。酢酸エチル抽出液を一緒にし、硫酸マグネシウムで乾
燥し、次いで溶媒を減圧で除去した。60〜80石油エ
ーテルと共に磨砕し明褐色固体を得た。これを再結晶(
酢酸エチル/ヘキサンン)して融点137〜138℃の
化合物No.116(1.27g)を得た。
【0161】実施例57
本実施例は第III表の化合物No.117の製造を例
証する。実施例56に記載のようにして製造した化合物
No.116(0.35g、0.93ミリモル)をメタ
ノールに溶解し、濃硫酸を2滴加え、次いで混合物を還
流下で16時間加熱した。得られた混合物を室温まで冷
却し、溶媒を減圧で除去した。得られた残留物を酢酸エ
チルに溶解し、水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥し、次
いで溶媒を減圧で除去した。得られた残留物をフラッシ
ュカラムクロマトグラフィーによりシリカゲル上を酢酸
エチル/ヘキサン(混合比1:2)で溶出して、融点8
2〜84℃の無職固体として化合物No.117(0.
21g)を得た。適当な反応剤を用いて、同様の方法で
化合物No.118を製造した。
証する。実施例56に記載のようにして製造した化合物
No.116(0.35g、0.93ミリモル)をメタ
ノールに溶解し、濃硫酸を2滴加え、次いで混合物を還
流下で16時間加熱した。得られた混合物を室温まで冷
却し、溶媒を減圧で除去した。得られた残留物を酢酸エ
チルに溶解し、水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥し、次
いで溶媒を減圧で除去した。得られた残留物をフラッシ
ュカラムクロマトグラフィーによりシリカゲル上を酢酸
エチル/ヘキサン(混合比1:2)で溶出して、融点8
2〜84℃の無職固体として化合物No.117(0.
21g)を得た。適当な反応剤を用いて、同様の方法で
化合物No.118を製造した。
【0162】実施例58
本実施例は第III表の化合物No.121の製造を例
証する。実施例57に記載のようにして製造した化合物
No.117(1.0g、2.6ミリモル)をテトラヒ
ドロフラン(10cm3)に溶解し、この溶液を氷/塩
浴中で冷却した。カリウム・t−ブトキシド(0.35
g、3.2ミリモル)を加え、混合物を30分間攪拌し
た。沃化メチル(0.2cm3、3.2ミリモル)を加
え、混合物を2時間攪拌し、次いで室温まで加温した。 得られた反応混合物を氷/水中に注加し、酢酸エチルで
抽出した。得られた有機抽出液を一緒にして、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、次いで溶媒を減圧で蒸発させ、次い
で得られた残留物をフラッシュカラムクロマトグラフィ
ーによりシリカゲル上を酢酸エチル/ヘキサン(混合比
1:3)で溶出して、淡黄色ゴム状物として化合物No
.121(0.57g)を得た。
証する。実施例57に記載のようにして製造した化合物
No.117(1.0g、2.6ミリモル)をテトラヒ
ドロフラン(10cm3)に溶解し、この溶液を氷/塩
浴中で冷却した。カリウム・t−ブトキシド(0.35
g、3.2ミリモル)を加え、混合物を30分間攪拌し
た。沃化メチル(0.2cm3、3.2ミリモル)を加
え、混合物を2時間攪拌し、次いで室温まで加温した。 得られた反応混合物を氷/水中に注加し、酢酸エチルで
抽出した。得られた有機抽出液を一緒にして、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、次いで溶媒を減圧で蒸発させ、次い
で得られた残留物をフラッシュカラムクロマトグラフィ
ーによりシリカゲル上を酢酸エチル/ヘキサン(混合比
1:3)で溶出して、淡黄色ゴム状物として化合物No
.121(0.57g)を得た。
【0163】実施例59
本実施例は第III表の化合物No.120の製造を例
証する。実施例58に記載のようにして製造した化合物
No.121(0.25g、0.62ミリモル)を、テ
トラヒドロフラン(6cm3)と水(3cm3)との混
合物に溶解し、水酸化カリウム(0.04g、0.68
ミリモル)を加えた。混合物を還流下で3時間攪拌し、
次いで冷却し、水に注加した。得られた混合物をジエチ
ルエーテルで抽出し、水層を希塩酸水溶液で酸性化し、
ジエチルエーテルで抽出した。エーテル抽出液を一緒に
して乾燥し、次いで溶媒を減圧で蒸発させた。得られた
残留物をヘキサンと共に磨砕して融点101〜103℃
の固体として化合物No.120(0.16g)を得た
。
証する。実施例58に記載のようにして製造した化合物
No.121(0.25g、0.62ミリモル)を、テ
トラヒドロフラン(6cm3)と水(3cm3)との混
合物に溶解し、水酸化カリウム(0.04g、0.68
ミリモル)を加えた。混合物を還流下で3時間攪拌し、
次いで冷却し、水に注加した。得られた混合物をジエチ
ルエーテルで抽出し、水層を希塩酸水溶液で酸性化し、
ジエチルエーテルで抽出した。エーテル抽出液を一緒に
して乾燥し、次いで溶媒を減圧で蒸発させた。得られた
残留物をヘキサンと共に磨砕して融点101〜103℃
の固体として化合物No.120(0.16g)を得た
。
【0164】実施例60
本実施例は第III表の化合物No.122の製造を例
証する。実施例59に記載のようにして製造した化合物
No.120(0.40g、1.2ミリモル)と、4−
ジメチルアミノピリジン(0.19g、1.5ミリモル
)と、エタノール(2cm3)とを1,2−ジクロロエ
タン(5cm3)中で一緒に攪拌し、この混合物を氷浴
中で冷却した。ジシクロヘキシルカルボジイミド(0.
32g、1.5ミリモル)を加え、混合物を17時間し
、次いで室温まで加温した。得られたセライトを通して
濾過し、溶媒を蒸発させ、次いで得られた残留物をフラ
ッシュカラムクロマトグラフィーによりシリカゲル上を
酢酸エチル/ヘキサン(混合比1:2)で溶出して、淡
黄色ゴム状物して化合物No.122(0.19g)を
得た。
証する。実施例59に記載のようにして製造した化合物
No.120(0.40g、1.2ミリモル)と、4−
ジメチルアミノピリジン(0.19g、1.5ミリモル
)と、エタノール(2cm3)とを1,2−ジクロロエ
タン(5cm3)中で一緒に攪拌し、この混合物を氷浴
中で冷却した。ジシクロヘキシルカルボジイミド(0.
32g、1.5ミリモル)を加え、混合物を17時間し
、次いで室温まで加温した。得られたセライトを通して
濾過し、溶媒を蒸発させ、次いで得られた残留物をフラ
ッシュカラムクロマトグラフィーによりシリカゲル上を
酢酸エチル/ヘキサン(混合比1:2)で溶出して、淡
黄色ゴム状物して化合物No.122(0.19g)を
得た。
【0165】実施例61
本実施例は第III表の化合物No.119の製造を例
証する。実施例56に記載のようにして製造した化合物
No.116(0.50g、1.3ミリモル)をジクロ
ロメタン(1.5cm3)に懸濁させ、塩化オキサリル
(0.4cm3)とN,N−ジメチルホルムアミド(1
滴)とを加えた。混合物を17時間攪拌し、次いで溶媒
を蒸発させ、アンモニア水溶液(比重0.88)を加え
た。この混合物を数分間攪拌し、次いで酢酸エチルで抽
出した。得られた有機抽出液を一緒にして、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、次いで溶媒を減圧で除去した。次いで
得られた残留物をフラッシュカラムクロマトグラフィー
によりシリカゲル上を酢酸エチルで溶出して精製し、融
点147〜149℃のベージュ色固体として化合物No
.119(0.10g)を得た。
証する。実施例56に記載のようにして製造した化合物
No.116(0.50g、1.3ミリモル)をジクロ
ロメタン(1.5cm3)に懸濁させ、塩化オキサリル
(0.4cm3)とN,N−ジメチルホルムアミド(1
滴)とを加えた。混合物を17時間攪拌し、次いで溶媒
を蒸発させ、アンモニア水溶液(比重0.88)を加え
た。この混合物を数分間攪拌し、次いで酢酸エチルで抽
出した。得られた有機抽出液を一緒にして、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、次いで溶媒を減圧で除去した。次いで
得られた残留物をフラッシュカラムクロマトグラフィー
によりシリカゲル上を酢酸エチルで溶出して精製し、融
点147〜149℃のベージュ色固体として化合物No
.119(0.10g)を得た。
【0166】本実施例は第I表の化合物No.123の
製造を説明する。実施例29に記載のようにして製造し
た化合物No.68の懸濁物(0.35g)を、トルエ
ン(10cm3)にLawesson試薬(0.2g)
を用いて懸濁させ、この混合物を還流温度で1.75時
間加熱した。加熱する間に懸濁物が溶解し、溶液を得た
。室温まで冷却すると固体が生成し、次いで反応混合物
を水に注加し、ジエチルエーテルで抽出した。エーテル
抽出液を水洗し、食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮した。得られた残留
物を分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ/クロロホ
ルム)で精製して融点170〜172℃の黄色固体とし
て化合物No.123(0.05g、収率14%)を得
た。
製造を説明する。実施例29に記載のようにして製造し
た化合物No.68の懸濁物(0.35g)を、トルエ
ン(10cm3)にLawesson試薬(0.2g)
を用いて懸濁させ、この混合物を還流温度で1.75時
間加熱した。加熱する間に懸濁物が溶解し、溶液を得た
。室温まで冷却すると固体が生成し、次いで反応混合物
を水に注加し、ジエチルエーテルで抽出した。エーテル
抽出液を水洗し、食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、濾過し、次いで減圧濃縮した。得られた残留
物を分取用薄層クロマトグラフィー(シリカ/クロロホ
ルム)で精製して融点170〜172℃の黄色固体とし
て化合物No.123(0.05g、収率14%)を得
た。
【0167】生物学的データ
本発明の化合物の除草活性を以下のようにして試験した
。メチルシクロヘキサノンを用いて1リットルに調整し
たTween20が78.2g/lとSpan80が2
1.8g/lとを含有してなる溶剤/界面活性剤配合物
の適当量(最終噴霧容量に応じて)に各化合物を溶解す
ることにより各化合物を製剤化した。Tween20は
、20モル量のエチレンオキシドとソルビタンラウレー
トとの縮合物からる界面活性剤の商標である。Span
80は、ソルビタンモノラウレートからなる界面活性剤
の商標である。化合物が溶解しない場合には、液の全容
量を水で最大で5cm3にし、ガラスビーズを加え、次
いでこの混合物振盪して化合物を溶解又は懸濁し、その
後にビーズを除いた。全ての場合において、得られた混
合物を次いで水で所定の噴霧容量に希釈した。それぞれ
別個に噴霧する場合には、出芽前試験及び出芽後試験そ
れぞれには、25cm3の容量及び30cm3の容量が
必要とされる。一緒に噴霧する場合には、45cm3の
容量が必要とされる。噴霧される水性乳濁液は前記の最
初の溶剤/界面活性剤配合物を4%と、適当な濃度の供
試化合物とを含有する。
。メチルシクロヘキサノンを用いて1リットルに調整し
たTween20が78.2g/lとSpan80が2
1.8g/lとを含有してなる溶剤/界面活性剤配合物
の適当量(最終噴霧容量に応じて)に各化合物を溶解す
ることにより各化合物を製剤化した。Tween20は
、20モル量のエチレンオキシドとソルビタンラウレー
トとの縮合物からる界面活性剤の商標である。Span
80は、ソルビタンモノラウレートからなる界面活性剤
の商標である。化合物が溶解しない場合には、液の全容
量を水で最大で5cm3にし、ガラスビーズを加え、次
いでこの混合物振盪して化合物を溶解又は懸濁し、その
後にビーズを除いた。全ての場合において、得られた混
合物を次いで水で所定の噴霧容量に希釈した。それぞれ
別個に噴霧する場合には、出芽前試験及び出芽後試験そ
れぞれには、25cm3の容量及び30cm3の容量が
必要とされる。一緒に噴霧する場合には、45cm3の
容量が必要とされる。噴霧される水性乳濁液は前記の最
初の溶剤/界面活性剤配合物を4%と、適当な濃度の供
試化合物とを含有する。
【0168】上記のようにして調製した噴霧用組成物を
、1ヘクタール当たり1000リットルに相当する施用
量で若い鉢植え植物に噴霧した(出芽後試験)。薬剤噴
霧後、13日目に植物に対する被害率(殺草率)を、薬
剤未処理植物と比較することにより、0〜9の等級尺度
で評価した。この尺度の0は0%の被害率(殺草率)、
1は1〜5%の被害率(殺草率)、2は6〜15%の被
害率(殺草率)、3は16〜25%の被害率(殺草率)
、4は26〜35%の被害率(殺草率)、5は36〜5
9%の被害率(殺草率)、6は60〜69%の被害率(
殺草率)、7は70〜79%の被害率(殺草率)、8は
80〜89%の被害率(殺草率)、及び9は90〜10
0%の被害率(殺草率)を示す。
、1ヘクタール当たり1000リットルに相当する施用
量で若い鉢植え植物に噴霧した(出芽後試験)。薬剤噴
霧後、13日目に植物に対する被害率(殺草率)を、薬
剤未処理植物と比較することにより、0〜9の等級尺度
で評価した。この尺度の0は0%の被害率(殺草率)、
1は1〜5%の被害率(殺草率)、2は6〜15%の被
害率(殺草率)、3は16〜25%の被害率(殺草率)
、4は26〜35%の被害率(殺草率)、5は36〜5
9%の被害率(殺草率)、6は60〜69%の被害率(
殺草率)、7は70〜79%の被害率(殺草率)、8は
80〜89%の被害率(殺草率)、及び9は90〜10
0%の被害率(殺草率)を示す。
【0169】出芽前除草活性を調べるために行った試験
においては、作物(例えばSb、Ct、Rp、Ww、M
z、Rc、Sc)の種子を堆肥の下2cmの深さに植え
、雑草の種子を堆肥の下1cmの深さに植え、噴霧用組
成物を1ヘクタール当たり1000リットルの施用量で
噴霧した。薬剤噴霧後、20日目に噴霧したプラスチッ
クトレイ中の幼苗を薬剤未処理のプラスチックトレイ中
の幼苗と比較し、その被害率(殺草率)を上記と同じ等
級尺度で評価した。得られた結果を以下の第V表に示し
た。
においては、作物(例えばSb、Ct、Rp、Ww、M
z、Rc、Sc)の種子を堆肥の下2cmの深さに植え
、雑草の種子を堆肥の下1cmの深さに植え、噴霧用組
成物を1ヘクタール当たり1000リットルの施用量で
噴霧した。薬剤噴霧後、20日目に噴霧したプラスチッ
クトレイ中の幼苗を薬剤未処理のプラスチックトレイ中
の幼苗と比較し、その被害率(殺草率)を上記と同じ等
級尺度で評価した。得られた結果を以下の第V表に示し
た。
【0170】
【0171】
【0172】
【0173】
【0174】
【0175】
【0176】
【0177】
【0178】
【0179】
【0180】
【0181】
【0182】
【0183】
【0184】
【0185】
【0186】
【0187】
【0188】
【0189】
【0190】
Claims (12)
- 【請求項1】 次の式(I): 〔式中、Arは置換されていてもよいアリール環系又は
置換されていてもよい複素環系であり;R1及びR2は
それぞれ別個に、H原子、置換されていてもよいアルキ
ル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されて
いてもよいアルキニル基、ハロゲン原子、及び基NRR
bから選択されるか、あるいはR1及びR2は、これら
が結合している炭素原子と連合して置換されていてもよ
いアルケニル基又は置換されていてもよいシクロアルキ
ル基を形成し;R3は、基COOR4、CN、COR4
、CHOR4、CH(OH)R4、CH(OR4)R5
、CH OSO R4、CH OSO R4、
CH ONRR7、CSNH2、COSR4、CSO
R4、CONHSO R4、CONRR7、CONH
NR R7、CONHN R RR Y−、C
OO M+又はCOON=CR R7であり;M+
は農業上許容されるカチオンであり;Y−は農業上許容
されるアニオンであり;R4及びR5はそれぞれ別個に
、H原子、置換されていてもよいアルキル基、置換され
ていてもよいアリール基、置換されていてもよいアルケ
ニル基及び置換されていてもよいアルキニル基から選択
され;R6、R7、R8、R9、Ra及びRbはそれぞ
れ別個に、H原子、置換されていてもよいアルキル基、
置換されていてもよいアルケニル基、置換されていても
よいアリール基及び置換されていてもよいアルキニル基
から選択されるか、あるいはR6、R7、R8、R9、
Ra及びRbのうちの任意の2個は、それらが結合して
いる原子と連合してシクロアルキル基又は複素環を形成
し;R6及びR7は複素環であってもよく;WはO(酸
素原子)又は基NR10(但し、R10はH原子又は低
級アルキル基である)であり;且つXは、基(CH2)
n、CH=CH、CH(ORc)CH2又はCOCH2
(但し、RcはH原子であるか、あるいは置換されてい
てもよいアルキル基、置換されていてもよいアリール基
,置換されていてもよいアルケニル基又は置換されてい
てもよいアルキニル基であり;且つnは0、1又は2で
ある)である〕で示される化合物。 - 【請求項2】 前記のArが置換されていてもよいフ
ェニル基、置換されていてもよいピリジル基又は置換さ
れていてもよいピラゾリル基である請求項1記載の化合
物。 - 【請求項3】 前記のWがO(酸素原子)である請求
項1又は請求項2記載の化合物。 - 【請求項4】 前記のR3が基COOR4、CN、C
H2OR4、CSNH2、CONR6R7、CONHN
R6R7、CONHN+R6R7R8Y−、COON=
CR6R7又はCOO−M+である前記請求項1〜3の
いずれかに記載の化合物。 - 【請求項5】 前記のArが次の式:(式中、R18
はN原子、基CH又は基CR20であり、且つR19及
びR20はそれぞれ別個にハロゲン原子から選択される
)で示される基である前記請求項1〜4のいずれかに記
載の化合物。 - 【請求項6】 前記のR3が基COOR4、CN、C
ONR6R7又はCOON=CR6R7である前記請求
項1〜5のいずれかに記載の化合物。 - 【請求項7】 前記のR3が基COOR4である前記
請求項1〜6のいずれかに記載の化合物。 - 【請求項8】 次の式(ID): (式中、R18及びR20は請求項5に記載の意義を有
し、且つR2及びR3は請求項1に記載の意義を有する
)で示される化合物。 - 【請求項9】 請求項1記載の式(I)で示される化
合物を、担体又は希釈剤と所望ならば式(I)で示され
ない別の除草剤とを組み合わせて含有してなる除草剤組
成物。 - 【請求項10】 望ましくない植物を撲滅するか又は
該植物の生長を抑制する方法であって、該植物に又はそ
の生育している場所に請求項1記載の式(I)で示され
る化合物の有効量を施用することを特徴とする、望まし
くない植物を撲滅するか又は該植物の生長を抑制する方
法。 - 【請求項11】 請求項1記載の式(I)で示される
化合物の製造法であって、(a)次の式(II):(式
中、W、X、R1、R2及びR3は請求項1に記載の意
義を有する)で示される化合物と、次の式(III):
Ar−Z (III)〔式中、Arは式(I)に
関して定義した意義を有し、且つZは脱離性基である〕
とを、所望ならば塩基の存在下に反応させるか;又は(
b)式(I)においてnが0であり、R1及びR2がH
原子であり、且つR3が基COOHである式(I)で示
される化合物の場合には、次の式(IV):(式中、A
r及びWは請求項1に記載の意義を有する)で示される
化合物とヒドロキシルアミン塩酸塩とを塩基の存在下で
反応させるか;又は(c)次の式(XV):〔式中、A
r及びWは式(I)に関して定義した意義を有し且つZ
′は脱離性基である〕で示される化合物と、次の式(X
VI): 〔式中、X、R1、R2及びR3は式(I)に関して定
義した意義を有する〕で示される化合物とを塩基の存在
下で反応させ、その後に、必要に応じて下記の工程(i
)〜(Vii):すなわち (i)R3がアルコキシカルボニル基である場合には、
対応する酸に加水分解する工程; (ii)R3が基COOHである場合には、エステル化
するか、あるいは塩、アミド、スホンアミド、ヒドラジ
ド又はヒドラジニウム誘導体を形成させる工程;(ii
i)R3がアルコールである場合には、対応する酸又は
アルデヒドに酸化する工程; (iv)R3がアルコキシカルボニル基である場合には
、アルコールに還元する工程; (v)R3がアミド基である場合には、対応するニトリ
ルにする脱水反応させる工程; (vi)R3がアルコキシカルボニル基でありnが0で
あり、且つR1又はR2、あるいはR1及びR2の両方
が、水素原子である場合には、対応する置換エステルに
、塩基を媒介としてアルキル化する工程;及び(vii
)R3がアミド基である場合には、対応するチオアミド
基に転換する工程; のうちの1又は2工程を実施し得ることからなる、請求
項1記載の式(I)で示される化合物の製造法。 - 【請求項12】 次の式(IV): (式中、Ar及びWは請求項1に記載の意義を有する)
で示される化合物;又は次の式(V):(式中、Ar及
びWは請求項1に記載の意義を有する)で示される化合
物;又は次の式(XV):〔式中、Ar及びWは請求項
1記載の意義を有し、且つZ′は脱離性基である〕で示
される化合物。
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