JPH04237113A - 放射線露光装置 - Google Patents
放射線露光装置Info
- Publication number
- JPH04237113A JPH04237113A JP3005753A JP575391A JPH04237113A JP H04237113 A JPH04237113 A JP H04237113A JP 3005753 A JP3005753 A JP 3005753A JP 575391 A JP575391 A JP 575391A JP H04237113 A JPH04237113 A JP H04237113A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slit plate
- rays
- opening
- sample chamber
- slit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置等の製造に用
いられる放射線露光装置に関し、特に光の取り出し部分
の構造に関する。近年、半導体装置の高集積化、高密度
化に伴い、リソグラフィ工程で扱うパターンがますます
微細化され、Ｘ線露光におけるパターン転写技術が注目
されている。
いられる放射線露光装置に関し、特に光の取り出し部分
の構造に関する。近年、半導体装置の高集積化、高密度
化に伴い、リソグラフィ工程で扱うパターンがますます
微細化され、Ｘ線露光におけるパターン転写技術が注目
されている。
【０００２】Ｘ線露光方法においてはシンクロトロン放
射光を利用した方法が研究されている。この方法は従来
のＸ線管を使用した方法に比べてＸ線強度が大きいため
スループットが改善されることや、平行性が高いことか
ら半影ぼけがなく、より微細なパターン転写ができるこ
と等から注目されている。
射光を利用した方法が研究されている。この方法は従来
のＸ線管を使用した方法に比べてＸ線強度が大きいため
スループットが改善されることや、平行性が高いことか
ら半影ぼけがなく、より微細なパターン転写ができるこ
と等から注目されている。
【０００３】
【従来の技術】図４はシンクロトロン放射光発生装置の
原理図である。同図において、１は入射器、２は、偏向
磁石３と高周波空胴４と真空ダクト５とよりなる荷電粒
子蓄積リング、６はシンクロトロン放射光７の取り出し
口である。そして入射器１から荷電粒子蓄積リング２に
入射された荷電粒子は偏向磁石３によって進行方向を曲
げられ荷電粒子蓄積リング２内を周回し、且つその荷電
粒子の周回に同期した高周波電圧が印加された高周波空
胴４を通過するたびにエネルギーが与えられ、遂にシン
クロトロン放射光が発生されるようになる。この放射光
は磁石による偏向を受けないため、偏向磁石部３にある
放射光取り出し口６から取り出される。この放射光７は
図５に示す放射線露光装置に取り込まれる。
原理図である。同図において、１は入射器、２は、偏向
磁石３と高周波空胴４と真空ダクト５とよりなる荷電粒
子蓄積リング、６はシンクロトロン放射光７の取り出し
口である。そして入射器１から荷電粒子蓄積リング２に
入射された荷電粒子は偏向磁石３によって進行方向を曲
げられ荷電粒子蓄積リング２内を周回し、且つその荷電
粒子の周回に同期した高周波電圧が印加された高周波空
胴４を通過するたびにエネルギーが与えられ、遂にシン
クロトロン放射光が発生されるようになる。この放射光
は磁石による偏向を受けないため、偏向磁石部３にある
放射光取り出し口６から取り出される。この放射光７は
図５に示す放射線露光装置に取り込まれる。
【０００４】図５に示す放射線露光装置は、スリットＳ
１，Ｓ２ 、ゲートバルブＧＶ１， ＧＶ２、ターボポ
ンプＴＰ１， ＴＰ２、イオンゲージＩＧ１， ＩＧ２
， ＩＧ３ 及びＸ線取り出し用のＢｅ 窓８が設けら
れた真空ダクト９と、該真空ダクト９に差動排気系１０
を介して接続された試料室１１とにより構成されている
。そして試料室１１はＸ線マスク１２とウェハ１３が収
容され、且つ該Ｘ線マスク１２が放射光を吸収して加熱
されるのを防ぐためＨｅ 等の不活性ガスで低真空、ま
たは大気圧程度に保たれている。またＢｅ 窓８はＸ線
を通し易い金属である。Ｂｅ を用い、光源側の真空ダ
クト９と試料室１１間を真空遮断し、かつ光源から試料
室１１へＸ線を通過させるようになっている。
１，Ｓ２ 、ゲートバルブＧＶ１， ＧＶ２、ターボポ
ンプＴＰ１， ＴＰ２、イオンゲージＩＧ１， ＩＧ２
， ＩＧ３ 及びＸ線取り出し用のＢｅ 窓８が設けら
れた真空ダクト９と、該真空ダクト９に差動排気系１０
を介して接続された試料室１１とにより構成されている
。そして試料室１１はＸ線マスク１２とウェハ１３が収
容され、且つ該Ｘ線マスク１２が放射光を吸収して加熱
されるのを防ぐためＨｅ 等の不活性ガスで低真空、ま
たは大気圧程度に保たれている。またＢｅ 窓８はＸ線
を通し易い金属である。Ｂｅ を用い、光源側の真空ダ
クト９と試料室１１間を真空遮断し、かつ光源から試料
室１１へＸ線を通過させるようになっている。
【０００５】また差動排気系１０は複数のスリット板１
４と複数の排気ポンプ１５とで構成され、次のような理
由で設けられている。即ち、Ｂｅ 窓８は、その厚さを
厚くすると強度は大となるが、光源から放射されるＸ線
のうち、物質に吸収されやすい（透過力の弱い）長波長
成分が吸収され、Ｘ線マスク１２のコントラスト（Ｘ線
を遮蔽したい部分と透過させたい部分での透過Ｘ線の強
度差）がとりにくくなる。このため試料室１１からＢｅ
窓８にいたる部分を、Ｂｅ 窓側が低圧力になるよう
に差動排気してＢｅ 窓８に加わる力を弱め、薄いＢｅ
窓を使用できるようにしている。
４と複数の排気ポンプ１５とで構成され、次のような理
由で設けられている。即ち、Ｂｅ 窓８は、その厚さを
厚くすると強度は大となるが、光源から放射されるＸ線
のうち、物質に吸収されやすい（透過力の弱い）長波長
成分が吸収され、Ｘ線マスク１２のコントラスト（Ｘ線
を遮蔽したい部分と透過させたい部分での透過Ｘ線の強
度差）がとりにくくなる。このため試料室１１からＢｅ
窓８にいたる部分を、Ｂｅ 窓側が低圧力になるよう
に差動排気してＢｅ 窓８に加わる力を弱め、薄いＢｅ
窓を使用できるようにしている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の放射線露光
装置においては、各スリット板１４はＸ線の光軸１６に
対して垂直に取付けられている。このため、スリット板
１４の高圧側から低圧側へ噴出する気体の流れはスリッ
ト板１４に対してほぼ垂直となるため、この気体の流れ
は次のスリット板を通過しやすく、圧力差がとりにくく
なる。このため必要な圧力差を得るためには多数のスリ
ット板が必要になる。その結果、光源から試料室１１ま
での距離が長くなり、装置が大型になる。しかもＸ線が
広がるため試料面上で単位面積当りのＸ線強度が弱くな
る等の問題がある。
装置においては、各スリット板１４はＸ線の光軸１６に
対して垂直に取付けられている。このため、スリット板
１４の高圧側から低圧側へ噴出する気体の流れはスリッ
ト板１４に対してほぼ垂直となるため、この気体の流れ
は次のスリット板を通過しやすく、圧力差がとりにくく
なる。このため必要な圧力差を得るためには多数のスリ
ット板が必要になる。その結果、光源から試料室１１ま
での距離が長くなり、装置が大型になる。しかもＸ線が
広がるため試料面上で単位面積当りのＸ線強度が弱くな
る等の問題がある。
【０００７】本発明は、差動排気系のスリット板の数を
減少し、小型化及びＸ線強度の低下防止を可能とした放
射線露光装置を実現しようとする。
減少し、小型化及びＸ線強度の低下防止を可能とした放
射線露光装置を実現しようとする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の放射線露光装置
においては、放射線を導入する真空ダクトと、該真空ダ
クトに設けられたＢｅ 窓と、該真空ダクトに複数のス
リット板と複数の排気ポンプとよりなる差動排気系を介
して接続された試料室とよりなる放射線露光装置におい
て、上記スリット板の開口部のみをＸ線の光軸に対して
垂直とし、開口部以外の部分をＸ線の光軸に対する垂直
面から傾けたことを特徴とする。
においては、放射線を導入する真空ダクトと、該真空ダ
クトに設けられたＢｅ 窓と、該真空ダクトに複数のス
リット板と複数の排気ポンプとよりなる差動排気系を介
して接続された試料室とよりなる放射線露光装置におい
て、上記スリット板の開口部のみをＸ線の光軸に対して
垂直とし、開口部以外の部分をＸ線の光軸に対する垂直
面から傾けたことを特徴とする。
【０００９】
【作用】スリット板１４の開口部１４ａを通る気体の流
れは、スリット板１４に対してほぼ垂直方向に流れる。 この気体の流れの方向はスリット板１４が傾斜している
ため、Ｘ線の光軸１６に対して平行ではなく、斜めとな
る。このため次のスリット板１４の開口部１４ａとはず
れるため気体の流れは乱流を生じて流れにくくなる。従
ってスリット板１４の前後における差圧が大きくなり、
スリット板１４の枚数を減少させることができる。
れは、スリット板１４に対してほぼ垂直方向に流れる。 この気体の流れの方向はスリット板１４が傾斜している
ため、Ｘ線の光軸１６に対して平行ではなく、斜めとな
る。このため次のスリット板１４の開口部１４ａとはず
れるため気体の流れは乱流を生じて流れにくくなる。従
ってスリット板１４の前後における差圧が大きくなり、
スリット板１４の枚数を減少させることができる。
【００１０】
【実施例】第１図は本発明の第１の実施例を示す図であ
る。本実施例は、スリットＳ１，Ｓ２ 、ゲートバルブ
ＧＶ１， ＧＶ２、ターボポンプＴＰ１， ＴＰ２、イ
オンゲージ ＩＧ１〜ＩＧ３ 及びＢｅ 窓８が設けら
れた真空ダクト９と、差動排気系１０と、該差動排気系
１０を介して真空ダクト９に接続された試料室１１とを
具備していることは図５で説明した従来例と同様であり
、本実施例の要点は、差動排気系のスリット板１４にあ
る。
る。本実施例は、スリットＳ１，Ｓ２ 、ゲートバルブ
ＧＶ１， ＧＶ２、ターボポンプＴＰ１， ＴＰ２、イ
オンゲージ ＩＧ１〜ＩＧ３ 及びＢｅ 窓８が設けら
れた真空ダクト９と、差動排気系１０と、該差動排気系
１０を介して真空ダクト９に接続された試料室１１とを
具備していることは図５で説明した従来例と同様であり
、本実施例の要点は、差動排気系のスリット板１４にあ
る。
【００１１】本実施例におけるスリット板１４は、図１
及び図２に示すようにスリット開口部１４ａはＸ線の光
軸１６に対して垂直であるが、開口部１４ａ以外の部分
をＸ線の光軸１６に対する垂直面に対して傾けたことで
ある。このように構成された本実施例において、スリッ
ト板１４の開口部１４ａを通る気体は、図２（ｂ）に示
すように気体の流れは矢印のようにスリット板１４にほ
ぼ垂直であり、Ｘ線の光軸１６と平行ではない。このた
めこの気体の流れは次のスリット板１４の開口部１４ａ
とはずれるため乱流を生じ流れにくくなり、スリット板
１４の前後における圧力差は大きくなる。このため差動
排気系全体の圧力差を従来と同様とすれば、スリット板
１４の枚数を減らすことができる。
及び図２に示すようにスリット開口部１４ａはＸ線の光
軸１６に対して垂直であるが、開口部１４ａ以外の部分
をＸ線の光軸１６に対する垂直面に対して傾けたことで
ある。このように構成された本実施例において、スリッ
ト板１４の開口部１４ａを通る気体は、図２（ｂ）に示
すように気体の流れは矢印のようにスリット板１４にほ
ぼ垂直であり、Ｘ線の光軸１６と平行ではない。このた
めこの気体の流れは次のスリット板１４の開口部１４ａ
とはずれるため乱流を生じ流れにくくなり、スリット板
１４の前後における圧力差は大きくなる。このため差動
排気系全体の圧力差を従来と同様とすれば、スリット板
１４の枚数を減らすことができる。
【００１２】実際例として、各スリット板１４は厚さ１
ｍｍのステンレススチール板を用い、開口部の大きさは
２ｍｍ×２０ｍｍとし、スリット板のＸ線の光軸に対す
る垂直面とのなす角度を１５度、枚数を３０枚とし、
５００ｌ／ｍｉｎ の排気速度を持つロータリーポンプ
を２台使用し、試料室の圧力を １００Ｔｏｒｒとした
とき、Ｂｅ 窓の試料室側の圧力を１０Ｔｏｒｒまで下
げることができた。従来例ではＢｅ窓の試料室側の圧力
を１０Ｔｏｒｒにするには １００枚のスリットと４台
のロータリーポンプが必要であった。
ｍｍのステンレススチール板を用い、開口部の大きさは
２ｍｍ×２０ｍｍとし、スリット板のＸ線の光軸に対す
る垂直面とのなす角度を１５度、枚数を３０枚とし、
５００ｌ／ｍｉｎ の排気速度を持つロータリーポンプ
を２台使用し、試料室の圧力を １００Ｔｏｒｒとした
とき、Ｂｅ 窓の試料室側の圧力を１０Ｔｏｒｒまで下
げることができた。従来例ではＢｅ窓の試料室側の圧力
を１０Ｔｏｒｒにするには １００枚のスリットと４台
のロータリーポンプが必要であった。
【００１３】図３は本発明の他の実施例の要部を示す図
である。本実施例は基本的には図１で説明した第１の実
施例と同様であり、異なるところは、スリット板１４の
開口部１４ａの位置を上下方向 （スリット開口部の長
手方向に対し直角方向）に順次ずらし、且つスリット板
を支持する筒１７をＸ線の光軸１６に対して傾斜させた
ことである。
である。本実施例は基本的には図１で説明した第１の実
施例と同様であり、異なるところは、スリット板１４の
開口部１４ａの位置を上下方向 （スリット開口部の長
手方向に対し直角方向）に順次ずらし、且つスリット板
を支持する筒１７をＸ線の光軸１６に対して傾斜させた
ことである。
【００１４】このように構成された本実施例の作用効果
は前実施例と同様である。
は前実施例と同様である。
【００１５】
【発明の効果】本発明に依れば、差動排気系のスリット
板を傾け、気体の流れに乱流を起こさせることにより、
必要な差圧をとるためのスリット板の数及び排気ポンプ
の数を従来に比して減小させることができる。またスリ
ット板の枚数が少なくてすむため、光源から試料までの
距離を短かくすることができ、装置が小型になり、Ｘ線
の広がりも抑えられる。
板を傾け、気体の流れに乱流を起こさせることにより、
必要な差圧をとるためのスリット板の数及び排気ポンプ
の数を従来に比して減小させることができる。またスリ
ット板の枚数が少なくてすむため、光源から試料までの
距離を短かくすることができ、装置が小型になり、Ｘ線
の広がりも抑えられる。
【図１】本発明の第１の実施例を示す図である。
【図２】本発明の第１の実施例におけるスリット板を示
す図である。
す図である。
【図３】本発明の第２の実施例の要部を示す図である。
【図４】従来のシンクロトロン放射光発生装置を示す図
である。
である。
【図５】従来の放射線露光装置を示す図である。
７…放射線
８…Ｂｅ 窓
９…真空ダクト
１０…差動排気系
１１…試料室
１２…マスク
１３…ウェハ
１４…スリット板
１５…排気ポンプ
１６…Ｘ線の光軸
Claims (1)
- 【請求項１】 放射線を導入する真空ダクト（９）と
、該真空ダクト（９）に設けられたＢｅ 窓（８）と、
該真空ダクト（９）に複数のスリット板（１４）と複数
の排気ポンプ（１５）とよりなる差動排気系（１０）を
介して接続された試料室（１１）とより成る放射線露光
装置において、上記スリット板（１４）の開口部（１４
ａ）のみをＸ線の光軸（１６） に対して垂直とし、開
口部 （１４ａ）以外の部分をＸ線の光軸（１６）に対
する垂直面から傾けたことを特徴とする放射線露光装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3005753A JPH04237113A (ja) | 1991-01-22 | 1991-01-22 | 放射線露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3005753A JPH04237113A (ja) | 1991-01-22 | 1991-01-22 | 放射線露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04237113A true JPH04237113A (ja) | 1992-08-25 |
Family
ID=11619883
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3005753A Withdrawn JPH04237113A (ja) | 1991-01-22 | 1991-01-22 | 放射線露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04237113A (ja) |
-
1991
- 1991-01-22 JP JP3005753A patent/JPH04237113A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980514 |