JPH04239526A - 放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物 - Google Patents
放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物Info
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- JPH04239526A JPH04239526A JP4142491A JP4142491A JPH04239526A JP H04239526 A JPH04239526 A JP H04239526A JP 4142491 A JP4142491 A JP 4142491A JP 4142491 A JP4142491 A JP 4142491A JP H04239526 A JPH04239526 A JP H04239526A
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- organopolysiloxane
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- formula
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/20—Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
- C09D183/06—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、放射線硬化性オルガノ
ポリシロキサン組成物、特には放射線照射で容易に硬化
し、この硬化皮膜が剥離性を示すことから粘着テ−プの
背面処理剤、粘着ラベル用剥離紙のコ−テイング剤とし
て有用とされる放射線硬化性オルガノポリシロキサン組
成物に関するものである。
ポリシロキサン組成物、特には放射線照射で容易に硬化
し、この硬化皮膜が剥離性を示すことから粘着テ−プの
背面処理剤、粘着ラベル用剥離紙のコ−テイング剤とし
て有用とされる放射線硬化性オルガノポリシロキサン組
成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】放射線硬化性オルガノポリシロキサン組
成物については分子中に（メタ）アクリロキシ基を含有
するオルガノポリシロキサンからなるものが公知とされ
ており、この製造方法としてはエポキシ基の開環付加反
応を利用してシロキサンに（メタ）アクリロキシ基を導
入する方法（特開昭６３−１３５４２６号、特開平２−
４５５３３ 号公報参照）、ハイドロシリレ−シヨン反
応を利用してシロキサンに（メタ）アクリロキシ基を導
入する方法（特開昭４８−４８０００号、特開平２−１
６３１６６号公報参照）が提案されている。
成物については分子中に（メタ）アクリロキシ基を含有
するオルガノポリシロキサンからなるものが公知とされ
ており、この製造方法としてはエポキシ基の開環付加反
応を利用してシロキサンに（メタ）アクリロキシ基を導
入する方法（特開昭６３−１３５４２６号、特開平２−
４５５３３ 号公報参照）、ハイドロシリレ−シヨン反
応を利用してシロキサンに（メタ）アクリロキシ基を導
入する方法（特開昭４８−４８０００号、特開平２−１
６３１６６号公報参照）が提案されている。
【０００３】しかして、この種のオルガノポリシロキサ
ン組成物は表面処理用コ−テイング剤として使用されて
いるが、このものは特にその硬化皮膜が粘着物質を容易
に剥離する性質をもっていることから、粘着テ−プの背
面処理剤や粘着ラベル用処理紙のコ−テイング剤として
利用されている。
ン組成物は表面処理用コ−テイング剤として使用されて
いるが、このものは特にその硬化皮膜が粘着物質を容易
に剥離する性質をもっていることから、粘着テ−プの背
面処理剤や粘着ラベル用処理紙のコ−テイング剤として
利用されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この放射線硬
化性（メタ）アクリロキシ基含有オルガノポリシロキサ
ンを剥離紙用コ−テイング剤として使用しようとすると
、このものはオルガノポリシロキサン中における（メタ
）アクリロキシ基の含有量の多いほど放射線硬化性は向
上するけれども、（メタ）アクリロキシ基が極性の強い
ものであるためにこの増加に伴なってコ−テイング剤の
界面張力および剥離力が大きくなり、したがって粘着物
質に対する剥離特性が低下するという問題があり、これ
にはまた剥離力が初期で小さくても経時的に大きくなる
という欠点もある。
化性（メタ）アクリロキシ基含有オルガノポリシロキサ
ンを剥離紙用コ−テイング剤として使用しようとすると
、このものはオルガノポリシロキサン中における（メタ
）アクリロキシ基の含有量の多いほど放射線硬化性は向
上するけれども、（メタ）アクリロキシ基が極性の強い
ものであるためにこの増加に伴なってコ−テイング剤の
界面張力および剥離力が大きくなり、したがって粘着物
質に対する剥離特性が低下するという問題があり、これ
にはまた剥離力が初期で小さくても経時的に大きくなる
という欠点もある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような不利
を解決した放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物
に関するもので、これは下記化４［ここにＲ１は水素原
子または炭素数１〜４の低級アルキル基あるいはフェニ
ル基、Ｒ２はＲ１と同じ基または下記化５（Ｒ３は水素
原子またはメチル基、ｎ は１〜３）で示される基でそ
の３〜３０モル％は下記化６であるもの、ａ、 ｂ、
ｄ は ２００未満の数ｃは１〜３］で示されるオルガ
ノポリシロキサンを主成分としてなることを特徴とする
ものである。
を解決した放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物
に関するもので、これは下記化４［ここにＲ１は水素原
子または炭素数１〜４の低級アルキル基あるいはフェニ
ル基、Ｒ２はＲ１と同じ基または下記化５（Ｒ３は水素
原子またはメチル基、ｎ は１〜３）で示される基でそ
の３〜３０モル％は下記化６であるもの、ａ、 ｂ、
ｄ は ２００未満の数ｃは１〜３］で示されるオルガ
ノポリシロキサンを主成分としてなることを特徴とする
ものである。
【０００６】
【化４】
【０００７】
【化５】
【０００８】
【化６】
【０００９】すなわち、本発明者らは放射線照射で容易
に硬化し、粘着物質に対し容易に剥離可能であるオルガ
ノポリシロキサン組成物を開発すべく種々検討した結果
、従来公知の（メタ）アクリロキシ基含有オルガノポリ
シロキサンに３官能性のシロキサン単位を導入すると重
合度、アクリロキシ基含有率が同一である鎖状のオルガ
ノポリシロキサンと比べて硬化性を低下させることなく
、軽剥離化、低粘度化が行え、さらには経時でも剥離力
の安定した硬化皮膜の得られることを見出し、ここに添
加する３官能性のシロキサン単位の種類、量などについ
ての研究を進めて本発明を完成させた。以下にこれをさ
らに詳述する。
に硬化し、粘着物質に対し容易に剥離可能であるオルガ
ノポリシロキサン組成物を開発すべく種々検討した結果
、従来公知の（メタ）アクリロキシ基含有オルガノポリ
シロキサンに３官能性のシロキサン単位を導入すると重
合度、アクリロキシ基含有率が同一である鎖状のオルガ
ノポリシロキサンと比べて硬化性を低下させることなく
、軽剥離化、低粘度化が行え、さらには経時でも剥離力
の安定した硬化皮膜の得られることを見出し、ここに添
加する３官能性のシロキサン単位の種類、量などについ
ての研究を進めて本発明を完成させた。以下にこれをさ
らに詳述する。
【００１０】
【作用】本発明はその硬化皮膜が粘着物質と容易に剥離
する性質をもつ放射線硬化性のオルガノポリシロキサン
組成物に関するものである。本発明のオルガノポリシロ
キサン組成物は下記化７で示され、Ｒ１が水素原子また
はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの炭
素数１〜４のアルキル基もしくはフェニル基、Ｒ２がこ
のＲ１と同じ基または下記化８で示されるもの、Ｒ３が
水素原子またはメチル基、ｎ が１〜３である基で、ａ
、 ｂ、 ｄ が ２００未満の数、ｃ が１〜３の数
であるオルガノポリシロキサン主成分であるものとされ
るが、このＲ２基としての下記化９で示される基が３モ
ル％未満であると放射線による硬化性が著しく低下し、
３０モル％より多くなると放射線による硬化性は向上す
るものの硬化皮膜の粘着物質に対する剥離特性が著しく
低下するので、この下記化１０で示される基の含有量は
３〜３０モル％の範囲とする必要があり、この範囲内で
その含有量を変化させれば硬化皮膜の粘着物質に対する
剥離力を任意に変化させることができるという有利性が
与えられるし、このｃ 値についてはこれが０であると
この発明の効果が得られなくなり、４以上とすると増粘
し、合成が困難となるので、これは１〜３の数とするこ
とが必要とされる。
する性質をもつ放射線硬化性のオルガノポリシロキサン
組成物に関するものである。本発明のオルガノポリシロ
キサン組成物は下記化７で示され、Ｒ１が水素原子また
はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの炭
素数１〜４のアルキル基もしくはフェニル基、Ｒ２がこ
のＲ１と同じ基または下記化８で示されるもの、Ｒ３が
水素原子またはメチル基、ｎ が１〜３である基で、ａ
、 ｂ、 ｄ が ２００未満の数、ｃ が１〜３の数
であるオルガノポリシロキサン主成分であるものとされ
るが、このＲ２基としての下記化９で示される基が３モ
ル％未満であると放射線による硬化性が著しく低下し、
３０モル％より多くなると放射線による硬化性は向上す
るものの硬化皮膜の粘着物質に対する剥離特性が著しく
低下するので、この下記化１０で示される基の含有量は
３〜３０モル％の範囲とする必要があり、この範囲内で
その含有量を変化させれば硬化皮膜の粘着物質に対する
剥離力を任意に変化させることができるという有利性が
与えられるし、このｃ 値についてはこれが０であると
この発明の効果が得られなくなり、４以上とすると増粘
し、合成が困難となるので、これは１〜３の数とするこ
とが必要とされる。
【００１１】
【化７】
【００１２】
【化８】
【００１３】
【化９】
【００１４】
【化１０】
【００１５】この上記した化７で示されるオルガノポリ
シロキサンはＡ）下記化１１（ここにＲ４はＲ１と同じ
基、Ｒ５はＲ１または式下記化１２で示される基、ｎ
は１〜３）Ｂ）下記化１３（ｌ＝３〜５）、Ｃ）下記化
１４（Ｒ６は下記化１５で示される基、ｍ＝３〜５）で
示されるＡ）、Ｂ）、Ｃ）を使用し、Ａ）、Ｂ）、Ｃ）
の全重量部に対して０．１〜０．５ 重量部のＣＦ３Ｓ
Ｏ３Ｈ を触媒として添加し、空気気流下に反応温度８
０〜９０℃で４〜８時間酸平衡化反応させれば得ること
ができる。
シロキサンはＡ）下記化１１（ここにＲ４はＲ１と同じ
基、Ｒ５はＲ１または式下記化１２で示される基、ｎ
は１〜３）Ｂ）下記化１３（ｌ＝３〜５）、Ｃ）下記化
１４（Ｒ６は下記化１５で示される基、ｍ＝３〜５）で
示されるＡ）、Ｂ）、Ｃ）を使用し、Ａ）、Ｂ）、Ｃ）
の全重量部に対して０．１〜０．５ 重量部のＣＦ３Ｓ
Ｏ３Ｈ を触媒として添加し、空気気流下に反応温度８
０〜９０℃で４〜８時間酸平衡化反応させれば得ること
ができる。
【００１６】
【化１１】
【００１７】
【化１２】
【００１８】
【化１３】
【００１９】
【化１４】
【００２０】
【化１５】
【００２１】なお、この酸平衡化反応によるオルガノポ
リシロキサンの合成は古くから知られている最も一般的
なものであるが、これは触媒として酸を使用するもので
あるため、反応性に富んだ官能基をもつオルガノポリシ
ロキサンの合成にはほとんど利用されておらず、したが
って特に（メタ）アクリロキシ基をもつオルガノポリシ
ロキサンの合成は付加反応や脱塩酸反応を用いてオルガ
ノポリシロキサンに（メタ）アクリロキシ基を導入する
ことが行なわれているのであるが、これには多段階の工
程が必要であった。しかし、本発明の（メタ）アクリロ
キシ基含有オルガノポリシロキサンは上記した特定の条
件下での酸平衡化反応を行なうことにより、これを合成
することができ、これによれば所望の重合度、所望の（
メタ）アクリロキシ基含有率のオルガノポリシロキサン
を容易に得ることができる。
リシロキサンの合成は古くから知られている最も一般的
なものであるが、これは触媒として酸を使用するもので
あるため、反応性に富んだ官能基をもつオルガノポリシ
ロキサンの合成にはほとんど利用されておらず、したが
って特に（メタ）アクリロキシ基をもつオルガノポリシ
ロキサンの合成は付加反応や脱塩酸反応を用いてオルガ
ノポリシロキサンに（メタ）アクリロキシ基を導入する
ことが行なわれているのであるが、これには多段階の工
程が必要であった。しかし、本発明の（メタ）アクリロ
キシ基含有オルガノポリシロキサンは上記した特定の条
件下での酸平衡化反応を行なうことにより、これを合成
することができ、これによれば所望の重合度、所望の（
メタ）アクリロキシ基含有率のオルガノポリシロキサン
を容易に得ることができる。
【００２２】このようにして得られた（メタ）アクリロ
キシ基含有オルガノポリシロキサンはその単独またこれ
とは重合度または（メタ）アクリロキシ基含有率の異な
る同種のオルガノポリシロキサンと混合して本発明の放
射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物とされるので
あるが、これにはその特徴を損なわない範囲で種々の添
加剤を添加してもよく、これにはアセトフェノン、ベン
ゾフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４−ジメ
トキシベンゾフェノン、４−メチルアセトフェノン、ベ
ンゾインメチルエ−テル、ベンゾイントリアルキルシリ
ルエ−テルなどの光反応開始剤や、ジエチルアミン、２
−ジエチルアミンエタノ−ル、ピペリジンのような酸素
硬化阻害抑制剤、ヘキサジオ−ルアクリレ−ト、トリメ
チロ−ルプロパントリアクリレ−トのような反応性希釈
剤、有機溶剤、レベリング剤、充填剤、帯電防止剤、消
泡剤、顔料、オルガノポリシロキサンなどが例示される
。
キシ基含有オルガノポリシロキサンはその単独またこれ
とは重合度または（メタ）アクリロキシ基含有率の異な
る同種のオルガノポリシロキサンと混合して本発明の放
射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物とされるので
あるが、これにはその特徴を損なわない範囲で種々の添
加剤を添加してもよく、これにはアセトフェノン、ベン
ゾフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４−ジメ
トキシベンゾフェノン、４−メチルアセトフェノン、ベ
ンゾインメチルエ−テル、ベンゾイントリアルキルシリ
ルエ−テルなどの光反応開始剤や、ジエチルアミン、２
−ジエチルアミンエタノ−ル、ピペリジンのような酸素
硬化阻害抑制剤、ヘキサジオ−ルアクリレ−ト、トリメ
チロ−ルプロパントリアクリレ−トのような反応性希釈
剤、有機溶剤、レベリング剤、充填剤、帯電防止剤、消
泡剤、顔料、オルガノポリシロキサンなどが例示される
。
【００２３】このようにして得られた本発明の放射線硬
化性オルガノポリシロキサン組成物は粘着剤の背面処理
剤や金属、プラスチックの保護コ−テイング剤、塗料用
ベ−スとして使用できるが、この使用に当ってはこれを
紙、各種プラスチックフイルム、アルミニウムなどの金
属箔にバ−コ−タ−、グラビヤコ−タ−、リバ−スコ−
タ−などを用いて、またはスプレ−することによって０
．１ 〜 ２００μｍ 程度の膜厚となるように塗布し
たのち、これに放射線を照射して硬化させればよい。こ
の放射線としては電子線、α線、β線、γ線または水銀
ア−ク、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプから発生する
紫外線などが例示されるが、上記した塗膜を硬化させる
ための線量は電子線であれば２〜５Ｍｒａｄ程度でよく
、紫外線のときには例えば２ｋｗの高圧水銀灯（８０Ｗ
／ｃｍ）を使用したときに８ｃｍの距離から ０．１〜
１０秒照射すればよい。
化性オルガノポリシロキサン組成物は粘着剤の背面処理
剤や金属、プラスチックの保護コ−テイング剤、塗料用
ベ−スとして使用できるが、この使用に当ってはこれを
紙、各種プラスチックフイルム、アルミニウムなどの金
属箔にバ−コ−タ−、グラビヤコ−タ−、リバ−スコ−
タ−などを用いて、またはスプレ−することによって０
．１ 〜 ２００μｍ 程度の膜厚となるように塗布し
たのち、これに放射線を照射して硬化させればよい。こ
の放射線としては電子線、α線、β線、γ線または水銀
ア−ク、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプから発生する
紫外線などが例示されるが、上記した塗膜を硬化させる
ための線量は電子線であれば２〜５Ｍｒａｄ程度でよく
、紫外線のときには例えば２ｋｗの高圧水銀灯（８０Ｗ
／ｃｍ）を使用したときに８ｃｍの距離から ０．１〜
１０秒照射すればよい。
【００２４】［実施例］つぎに本発明の放射線硬化性オ
ルガノポリシロキサン組成物の主成分とされるオルガノ
ポリシロキサンの合成例および実施例、比較例をあげる
が、例中の部は重量部を示したものであり、粘度、屈折
率は２５℃での測定値を示したもの、また例中における
物性値は下記の試験法による測定値を示したものである
。
ルガノポリシロキサン組成物の主成分とされるオルガノ
ポリシロキサンの合成例および実施例、比較例をあげる
が、例中の部は重量部を示したものであり、粘度、屈折
率は２５℃での測定値を示したもの、また例中における
物性値は下記の試験法による測定値を示したものである
。
【００２５】［硬化性］オルガノポリシロキサン組成物
をポリエチレンラミネ−ト紙に塗布したのち、電子線を
照射して硬化させたときには完全に硬化した皮膜が形成
されるのに要した電子線照射量（Ｍｒａｄ）、 紫外線
射量によるときには２ｋｗの高圧水銀灯（８０Ｗ／ｃｍ
）を２本使用して８ｃｍの距離から紫外線を照射して完
全に硬化した皮膜が形成されるのに要した照射時間（秒
）で示した。ただし、この硬化の判定は塗工面を指でこ
すっても塗工面が脱落せず、かつ曇らない時点とした。
をポリエチレンラミネ−ト紙に塗布したのち、電子線を
照射して硬化させたときには完全に硬化した皮膜が形成
されるのに要した電子線照射量（Ｍｒａｄ）、 紫外線
射量によるときには２ｋｗの高圧水銀灯（８０Ｗ／ｃｍ
）を２本使用して８ｃｍの距離から紫外線を照射して完
全に硬化した皮膜が形成されるのに要した照射時間（秒
）で示した。ただし、この硬化の判定は塗工面を指でこ
すっても塗工面が脱落せず、かつ曇らない時点とした。
【００２６】［剥離性］オルガノポリシロキサンをポリ
エチレンラミネ−ト紙上に塗布し、放射線を照射して硬
化させたのち、その硬化皮膜面にアクリル樹脂溶剤型粘
着剤・オリバインＢＰＳ−８１７０［ 東洋インキ（株
） 製商品名］を塗布し １００℃で３分間加熱処理し
たのち、この処理面に坪量６４ｇ／ｍ２の貼り合わせ紙
を貼り合わせ、２５℃で２０時間エイジングさせ、エイ
ジング後の試料を５ｃｍ幅に切断し、引張り試験器を用
いて１８０ ℃の角度で剥離速度３００ｍｍ／分で貼り
合せ紙を引張って剥離するのに要する力（ｇ／５ｃｍ）
を測定してこの値を初期剥離力とし、上記の貼り合せ
条件を７０℃において７０ｇ／ｃｍ２ の荷重で３日間
圧着したのちに測定したものを経時剥離力とした。
エチレンラミネ−ト紙上に塗布し、放射線を照射して硬
化させたのち、その硬化皮膜面にアクリル樹脂溶剤型粘
着剤・オリバインＢＰＳ−８１７０［ 東洋インキ（株
） 製商品名］を塗布し １００℃で３分間加熱処理し
たのち、この処理面に坪量６４ｇ／ｍ２の貼り合わせ紙
を貼り合わせ、２５℃で２０時間エイジングさせ、エイ
ジング後の試料を５ｃｍ幅に切断し、引張り試験器を用
いて１８０ ℃の角度で剥離速度３００ｍｍ／分で貼り
合せ紙を引張って剥離するのに要する力（ｇ／５ｃｍ）
を測定してこの値を初期剥離力とし、上記の貼り合せ
条件を７０℃において７０ｇ／ｃｍ２ の荷重で３日間
圧着したのちに測定したものを経時剥離力とした。
【００２７】［残留接着率］剥離抵抗の場合と同様にし
てポリエチレンラミネ−ト紙の上にオルガノポリシロキ
サン組成物の硬化皮膜を形成させ、その表面にポリエス
テルテ−プ・ルミラ−３１Ｂ［日東電気工業（株）製商
品名］を貼り合せ、２０ｇ／ｃｍ２ の荷重をのせて７
０℃で２０時間加熱処理してからテ−プをはがしてステ
ンレス板に貼りつけた。 つぎにこの処理テ−プをス
テンレス板から１８０ ℃の角度で剥離速度 ３００ｍ
ｍ／分ではがし、剥離するのに要した力（ｇ／２．５ｃ
ｍ） を測定すると共に、未処理の標準テ−プをステン
レス板から剥離するのに要した力（ｇ／２．５ｃｍ）
を測定し、この未処理の標準テ−プを剥離するのに要し
た力に対する百分率を残留接着率とした。
てポリエチレンラミネ−ト紙の上にオルガノポリシロキ
サン組成物の硬化皮膜を形成させ、その表面にポリエス
テルテ−プ・ルミラ−３１Ｂ［日東電気工業（株）製商
品名］を貼り合せ、２０ｇ／ｃｍ２ の荷重をのせて７
０℃で２０時間加熱処理してからテ−プをはがしてステ
ンレス板に貼りつけた。 つぎにこの処理テ−プをス
テンレス板から１８０ ℃の角度で剥離速度 ３００ｍ
ｍ／分ではがし、剥離するのに要した力（ｇ／２．５ｃ
ｍ） を測定すると共に、未処理の標準テ−プをステン
レス板から剥離するのに要した力（ｇ／２．５ｃｍ）
を測定し、この未処理の標準テ−プを剥離するのに要し
た力に対する百分率を残留接着率とした。
【００２８】［合成例１］撹拌装置、温度計、ジムロ−
トを取りつけた１リットルの四ツロフラスコに下記化１
６（以下Ａ−１と略記する）１６部、下記化１７で示さ
れるオクタメチルシクロテトラシロキサン（以下Ｂ−１
と略記する）６６６ 部および下記化１８で示されるシ
クロテトラシロキサン（以下Ｃ−１と略記する）１５４
部を入れて混合し、これに上記シロキサン全量に対し
て２０ｐｐｍ の下記化１９で示されるアミン化合物を
添加し、室温で５分間撹拌したのち、ここに式ＣＦ３Ｓ
Ｏ３Ｈ で示されスルフオン酸をシロキサン全量に対し
て２．０ 重量部添加し、空気対流下で２時間撹拌しな
がら８０〜８５℃ま昇温し、そのままで６時間酸平衡化
反応させ、反応終了後反応混合物を室温まで冷却し、Ｃ
Ｆ３ＳＯ３Ｈ に対して３倍モルのＮ（Ｃ２Ｈ５）３を
添加しそのまま５時間撹拌を続けて反応混合物中の酸を
中和し、その後活性炭処理し、ろ過し、１１０ ℃、４
ｍｍＨｇでストリップしたところ、淡黄色透明な液体が
９２％で収率で得られたので、これをＩＲ、ＮＭＲで分
析したところ、このものは下記化２０であるオルガノポ
リシロキサン（以下オルガノポリシロキサン−Ｉと略記
する）であることが確認されたが、このものは粘度 ３
７０ｃｐ、 屈折率１．４１６ の物性を示した。
トを取りつけた１リットルの四ツロフラスコに下記化１
６（以下Ａ−１と略記する）１６部、下記化１７で示さ
れるオクタメチルシクロテトラシロキサン（以下Ｂ−１
と略記する）６６６ 部および下記化１８で示されるシ
クロテトラシロキサン（以下Ｃ−１と略記する）１５４
部を入れて混合し、これに上記シロキサン全量に対し
て２０ｐｐｍ の下記化１９で示されるアミン化合物を
添加し、室温で５分間撹拌したのち、ここに式ＣＦ３Ｓ
Ｏ３Ｈ で示されスルフオン酸をシロキサン全量に対し
て２．０ 重量部添加し、空気対流下で２時間撹拌しな
がら８０〜８５℃ま昇温し、そのままで６時間酸平衡化
反応させ、反応終了後反応混合物を室温まで冷却し、Ｃ
Ｆ３ＳＯ３Ｈ に対して３倍モルのＮ（Ｃ２Ｈ５）３を
添加しそのまま５時間撹拌を続けて反応混合物中の酸を
中和し、その後活性炭処理し、ろ過し、１１０ ℃、４
ｍｍＨｇでストリップしたところ、淡黄色透明な液体が
９２％で収率で得られたので、これをＩＲ、ＮＭＲで分
析したところ、このものは下記化２０であるオルガノポ
リシロキサン（以下オルガノポリシロキサン−Ｉと略記
する）であることが確認されたが、このものは粘度 ３
７０ｃｐ、 屈折率１．４１６ の物性を示した。
【００２９】
【化１６】
【００３０】
【化１７】
【００３１】
【化１８】
【００３２】
【化１９】
【００３３】
【化２０】
【００３４】
【化２１】
【００３５】
【化２２】
【００３６】［合成例２］合成例１におけるＡ−１を３
１部、Ｂ−１を５９２ 部、Ｃ−１を３１０ 部とした
ほかは合成例１と同様の方法でオルガノポリシロキサン
の合成を行なったところ、収率９４％で赤色透明な液体
が得られ、このものはＩＲ、 ＮＭＲ で分析した結果
、下記化２１で示されオルガノポリシロキサン（Ｃ以下
オルガノポリシロキサン−ＩＩと略記）であることが確
認され、これは粘度２１０ ｃｐ、屈折率１．４２７
という物性を示した。
１部、Ｂ−１を５９２ 部、Ｃ−１を３１０ 部とした
ほかは合成例１と同様の方法でオルガノポリシロキサン
の合成を行なったところ、収率９４％で赤色透明な液体
が得られ、このものはＩＲ、 ＮＭＲ で分析した結果
、下記化２１で示されオルガノポリシロキサン（Ｃ以下
オルガノポリシロキサン−ＩＩと略記）であることが確
認され、これは粘度２１０ ｃｐ、屈折率１．４２７
という物性を示した。
【００３７】
【化２３】
【００３８】［合成例３］合成例１におけるＡ−１を下
記化２２（以下Ａ−２と略記する）とし、このＡ−２
３１部、Ｂ−１ ６４８部、Ｃ−１ １５５部をフラ
スコに入れたほかは合成例１と同様に処理してオルガノ
ポリシロキサンの合成を行なったところ、淡黄色透明な
液体が収率９０％で得られ、このものはＩＲ、 ＮＭＲ
で分析した結果、下記化２３で示されるオルガノポリ
シロキサン（以下オルガノポリシロキサン−ＩＩＩ と
略記する）であることが確認され、これは粘度５２０ｃ
ｐ、 屈折率１．４１５ という物性を示した。
記化２２（以下Ａ−２と略記する）とし、このＡ−２
３１部、Ｂ−１ ６４８部、Ｃ−１ １５５部をフラ
スコに入れたほかは合成例１と同様に処理してオルガノ
ポリシロキサンの合成を行なったところ、淡黄色透明な
液体が収率９０％で得られ、このものはＩＲ、 ＮＭＲ
で分析した結果、下記化２３で示されるオルガノポリ
シロキサン（以下オルガノポリシロキサン−ＩＩＩ と
略記する）であることが確認され、これは粘度５２０ｃ
ｐ、 屈折率１．４１５ という物性を示した。
【００３９】
【化２４】
【００４０】
【化２５】
【００４１】［合成例４］下記化２４で示されるヘキサ
メチルジシロキサン（以下Ａ−３と略記する）９部、Ｂ
−１７６０ 部、Ｃ−１ １７６部をフラスコに入れた
ほかは合成例１と同様の方法でオルガノポリシロキサン
の合成を行なったところ、淡黄色透明な液体が収率９０
％で得られ、このものはＩＲ、 ＮＭＲ で分析した結
果、下記化２５で示されるオルガノポリシロキサン（以
下オルガノポリシロキサン−ＩＶと略記する）であるこ
とが確認され、これは粘度 ８２０ｃｐ、 屈折率１．
４１６ という物性を示した。
メチルジシロキサン（以下Ａ−３と略記する）９部、Ｂ
−１７６０ 部、Ｃ−１ １７６部をフラスコに入れた
ほかは合成例１と同様の方法でオルガノポリシロキサン
の合成を行なったところ、淡黄色透明な液体が収率９０
％で得られ、このものはＩＲ、 ＮＭＲ で分析した結
果、下記化２５で示されるオルガノポリシロキサン（以
下オルガノポリシロキサン−ＩＶと略記する）であるこ
とが確認され、これは粘度 ８２０ｃｐ、 屈折率１．
４１６ という物性を示した。
【００４２】
【化２６】
【００４３】
【化２７】
【００４４】［合成例５］合成例４で使用したＡ−３
１６部、Ｂ−１ ５９２部、Ｃ−１３１０ 部をフラ
スコに入れたほかは合成例１と同様に処理してオルガノ
ポリシロキサンの合成を行なったところ、赤色透明な液
体を収率９０％で得られたが、このものはＩＲ、ＮＭＲ
で分析の結果、下記化２６で示されるオルガノポリシロ
キサン（以下オルガノポリシロキサン−Ｖ と略記する
）であることが確認され、これは粘度 ４００ｃｐ、
屈折率１．４２８ という物性を示した。
１６部、Ｂ−１ ５９２部、Ｃ−１３１０ 部をフラ
スコに入れたほかは合成例１と同様に処理してオルガノ
ポリシロキサンの合成を行なったところ、赤色透明な液
体を収率９０％で得られたが、このものはＩＲ、ＮＭＲ
で分析の結果、下記化２６で示されるオルガノポリシロ
キサン（以下オルガノポリシロキサン−Ｖ と略記する
）であることが確認され、これは粘度 ４００ｃｐ、
屈折率１．４２８ という物性を示した。
【００４５】
【化２８】
【００４６】［実施例１〜３、比較例１〜２］合成例１
〜５で得られたオルガノポリシロキサンＩ 〜Ｖ に電
子線を照射して硬化させ、このときの硬化性、およびこ
の硬化皮膜の剥離特性をしらべたところ、下記表１に示
したとおりの結果が得られた。
〜５で得られたオルガノポリシロキサンＩ 〜Ｖ に電
子線を照射して硬化させ、このときの硬化性、およびこ
の硬化皮膜の剥離特性をしらべたところ、下記表１に示
したとおりの結果が得られた。
【００４７】
【表１】
【００４８】［実施例４〜６、比較例３〜４］合成例１
〜５で得られたオルガノポリシロキサンＩ 〜Ｖ に光
反応開始剤としてのベンゾインイソブチルエ−テルを５
重量％添加し、これをポリエチレンラミネ−ト紙にオフ
セット印刷機を用いて塗布量が約１．０ｇ／ｍ２ とな
るように塗布したのち、これに空気中において高圧水銀
灯（８０Ｗ／ｃｍ）を２本使用し、８ｃｍの距離から紫
外線を照射して硬化させ、このときの硬化性およびこの
硬化皮膜の剥離特性をしらべたところ、下記表２に示し
たとおりの結果が得られた。
〜５で得られたオルガノポリシロキサンＩ 〜Ｖ に光
反応開始剤としてのベンゾインイソブチルエ−テルを５
重量％添加し、これをポリエチレンラミネ−ト紙にオフ
セット印刷機を用いて塗布量が約１．０ｇ／ｍ２ とな
るように塗布したのち、これに空気中において高圧水銀
灯（８０Ｗ／ｃｍ）を２本使用し、８ｃｍの距離から紫
外線を照射して硬化させ、このときの硬化性およびこの
硬化皮膜の剥離特性をしらべたところ、下記表２に示し
たとおりの結果が得られた。
【００４９】
【表２】
【００５０】
【発明の効果】本発明は放射線硬化性オルガノポリシロ
キサン組成物に関するもので、これは前記したように下
記化２７［ここにＲ１は水素原子または炭素１〜４の低
級アルキル基あるいはフェニル基、Ｒ２はＲ１と同じ基
または下記化２８（Ｒ３は水素原子またはメチル基、ｎ
は１〜３）で示される基でその３〜３０モル％は下記
化２９基であるもの、ａ、 ｂ、 ｄ は２００ 未満
の数、ｃ は１〜３］で示されるオルガノポリシロキサ
ンを主成分としてなるものであるが、このものは３官能
性のシロキサン単位の導入された（メタ）アクリロキシ
基含有シロキサンであることから放射線照射で容易に硬
化し、この硬化皮膜は軽剥離性を示し、経時でも安定し
た剥離特性を示すという有利性を与える。
キサン組成物に関するもので、これは前記したように下
記化２７［ここにＲ１は水素原子または炭素１〜４の低
級アルキル基あるいはフェニル基、Ｒ２はＲ１と同じ基
または下記化２８（Ｒ３は水素原子またはメチル基、ｎ
は１〜３）で示される基でその３〜３０モル％は下記
化２９基であるもの、ａ、 ｂ、 ｄ は２００ 未満
の数、ｃ は１〜３］で示されるオルガノポリシロキサ
ンを主成分としてなるものであるが、このものは３官能
性のシロキサン単位の導入された（メタ）アクリロキシ
基含有シロキサンであることから放射線照射で容易に硬
化し、この硬化皮膜は軽剥離性を示し、経時でも安定し
た剥離特性を示すという有利性を与える。
【００５１】
【化２９】
【００５２】
【化３０】
【００５３】
【化３１】
【化３２】
【化３３】
【化３４】
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 ［ここにＲ１は水素原子または炭素数１〜４の低級アル
キル基あるいはフェニル基、Ｒ２はＲ１と同じ基または
【化２】 （Ｒ３は水素原子またはメチル基、ｎ は１〜３）で示
される基でその３〜３０モル％は 【化３】 であるもの、ａ、 ｂ、 ｄ は２００ 未満の数、ｃ
は１〜３］で示されるオルガノポリシロキサンを主成
分としてなることを特徴とする放射線硬化性オルガノポ
リシロキサン組成物。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3041424A JP2669947B2 (ja) | 1991-01-23 | 1991-01-23 | 放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
| EP19920100916 EP0496343A3 (en) | 1991-01-23 | 1992-01-21 | Method for surface-release coating and coating agent therefor |
| US07/964,685 US5391405A (en) | 1991-01-23 | 1992-10-22 | Method for surface-release coating and coating agent therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3041424A JP2669947B2 (ja) | 1991-01-23 | 1991-01-23 | 放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04239526A true JPH04239526A (ja) | 1992-08-27 |
| JP2669947B2 JP2669947B2 (ja) | 1997-10-29 |
Family
ID=12607983
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3041424A Expired - Lifetime JP2669947B2 (ja) | 1991-01-23 | 1991-01-23 | 放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0496343A3 (ja) |
| JP (1) | JP2669947B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09249747A (ja) * | 1996-03-19 | 1997-09-22 | Toray Ind Inc | シリコーンゴム、シリコーンゴム粒子、炭素繊維用プリカーサーおよび炭素繊維 |
| JP2002179797A (ja) * | 2000-12-08 | 2002-06-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シリコーン分岐型ポリエーテル変性シリコーン化合物の製造方法及びこの方法によって得られた化合物を含有する化粧料 |
| JP2020186284A (ja) * | 2019-05-10 | 2020-11-19 | 信越化学工業株式会社 | 放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物並びに剥離シート |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2844502B2 (ja) | 1991-10-30 | 1999-01-06 | 信越化学工業株式会社 | 熱転写記録シート及び熱転写記録シート用背面剤 |
| JP6991236B2 (ja) | 2017-10-24 | 2022-02-10 | 信越化学工業株式会社 | ラジカル重合性オルガノポリシロキサンの製造方法、放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物、及び剥離シート |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2918254C2 (de) * | 1979-05-05 | 1984-08-30 | Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen | Verfahren zur Herstellung von vernetzten Organopolysiloxanen und deren Verwendung in abhäsiven Beschichtungsmassen |
| US4568566A (en) * | 1984-10-30 | 1986-02-04 | General Electric Company | Acrylic-functional silicone resin compositions |
| DE3810140C1 (ja) * | 1988-03-25 | 1989-10-05 | Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen, De |
-
1991
- 1991-01-23 JP JP3041424A patent/JP2669947B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-01-21 EP EP19920100916 patent/EP0496343A3/en not_active Ceased
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09249747A (ja) * | 1996-03-19 | 1997-09-22 | Toray Ind Inc | シリコーンゴム、シリコーンゴム粒子、炭素繊維用プリカーサーおよび炭素繊維 |
| JP2002179797A (ja) * | 2000-12-08 | 2002-06-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シリコーン分岐型ポリエーテル変性シリコーン化合物の製造方法及びこの方法によって得られた化合物を含有する化粧料 |
| JP2020186284A (ja) * | 2019-05-10 | 2020-11-19 | 信越化学工業株式会社 | 放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物並びに剥離シート |
| WO2020230723A1 (ja) * | 2019-05-10 | 2020-11-19 | 信越化学工業株式会社 | 放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物並びに剥離シート |
| CN113825636A (zh) * | 2019-05-10 | 2021-12-21 | 信越化学工业株式会社 | 放射线硬化性有机聚硅氧烷组合物以及剥离片 |
| US12534649B2 (en) | 2019-05-10 | 2026-01-27 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Radiation-curable organopolysiloxane composition and a release sheet |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2669947B2 (ja) | 1997-10-29 |
| EP0496343A2 (en) | 1992-07-29 |
| EP0496343A3 (en) | 1993-04-14 |
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