JPH0424355B2 - - Google Patents
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- JPH0424355B2 JPH0424355B2 JP57057342A JP5734282A JPH0424355B2 JP H0424355 B2 JPH0424355 B2 JP H0424355B2 JP 57057342 A JP57057342 A JP 57057342A JP 5734282 A JP5734282 A JP 5734282A JP H0424355 B2 JPH0424355 B2 JP H0424355B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- group
- methyl
- reaction
- benzyloxycarbonylamino
- Prior art date
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Saccharide Compounds (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
Description
本発明は、
式（）
「式中、R1とR2は、一方が水素原子を、他方
がアルコキシ基を示し；R3とR4は、一方が式
がアルコキシ基を示し；R3とR4は、一方が式
【式】（式中、R6は、アリール基
を；およびR7は、アルキル基を、それぞれ示
す。）で表わされる基を、他方がヒドロキシル基
を示す。；また、R3とR4は、一緒になつて式＝
CH〜OR8（式中、R8は、アルキル基を；および
〜は、シスまたはトランス体でもよいし、それら
の混合物でもよいことを、それぞれ示す。）で表
わされる基もしくはオキソ基を形成していてもよ
い。R5は、保護基を有するアミノ基を；〜は、
アキシアルまたはエクアトリアルでもよいし、そ
れらの混合物でもよいことを、それぞれ示す。」 で表わされるＤ−ヘキソピラノース誘導体に関す
る。 近年、有用な生物活性を有するチエナマイシン
（米国特許第3950357号）が見出されたのを契機と
して、種々のカルバペネム類を純合成的に得る研
究が活発に行われている。特に、合成反応におい
ては、光学活性体を高収率に得ることが望まれて
いる。 従来、光学分割などを用いることにより、光学
活性体を得ていたが、煩雑でかつ低収率であつ
た。たとえば、テトラヘドロン・レターズ
（Tetrahedron Letters）、第22巻、第913〜916頁
（1981年）に記載の方法によつて得られる（4R，
5S，6R）−４−アミノ−カルボキシ−６−メチル
−δ−ラクトンは、立体配置は決まつているが、
ラセミ体であり、有用なものを得るには光学分割
をしなければならない。 このような状況下において、本発明者らは、
種々検討を重ねた結果、一般式（）で表わされ
る化合物がチエナマイシン誘導体合成における有
用に中間体であることを見出し、さらに、この化
合物の光学活性体は、たとえば、Ｄ−グルコース
のような天然の糖を用いることにより、光学分割
をせずに得られることを見出し、本発明を完成し
た。 以下、本発明を詳細に説明する。 R1およびR2におけるアルコキシ基としては、
メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、iso−プ
ロポキシ、ｎ−ブトキシ、iso−ブトキシ、sec−
ブトキシもしくはtert−ブトキシなどのようなC1
〜C10の分枝または直鎖アルコキシ基が挙げられ
る。 R6におけるアリール基としては、フエニルま
たはナフチル基などが；R7およびR8におけるア
ルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、iso−プロピル、ｎ−ブチル、iso−ブチル、
sec−ブチルもしくはtert−ブチルなどのような
C1〜C10の分枝または直鎖アルキル基が挙げられ
る。 また、R5におけるアミノ基の保護基としは、
通常アミノ保護基として使用し得るすべての基を
含み、たとえば、アセチル、トリクロロエトキシ
カルボニル、トリブロモエトキシカルボニル、ベ
ンジルオキシカルボニル、ｐ−トルエンスルホニ
ル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、ｏ−
ブロモベンジルオキシカルボニル、ｏ−ニトロフ
エニルスルフイニル、（モノ−、ジ−、トリ−）
クロロアセチル、トリフルオロアセチル、ホルミ
ル、tert−アミルオキシカルボニル、tert−ブト
キシカルボニル、ｐ−メトキシベンジルオキシカ
ルボニル、３，４−ジメトキシベンジルオキシカ
ルボニル、４−（フエニルアゾ）ベンジルオキシ
カルボニル、４−（４−メトキシフエニルアゾ）
ベンジルオキシカルボニル、（ピリジン−１−オ
キサイド−２−イル）メトキシカルボニル、２−
フリルオキシカルボニル、ジフエニルメトキシカ
ルボニル、１，１−ジメチルプロポキシカルボニ
ル、イソプロポキシカルボニル、１−シクロプロ
ピルエトキシカルボニル、フタロイル、スクシニ
ル、１−アダマンチルオキシカロボニルもしくは
８−キノリルオキシカルボニルなどのような脱離
しやすいアシル基；トリチル、２−ニトロフエニ
ルチオ、２，４−ジニトロフエニルチオ、２−ヒ
ドロキシベンジリデン、２−ヒドロキシ−５−ク
ロロベンジリデン、２−ヒドロキシ−１−ナフチ
ルメチレン、３−ヒドロキシ−４−ピリジルメチ
レン、１−メトキシカルボニル−２−プロピリデ
ン、１−エトキシカルボニル−２−プロピリデ
ン、３−エトキシカルボニル−２−ブチリデン、
１−アセチル−２−プロピリデン、１−ベンゾイ
ル−２−プロピリデン、１−［Ｎ−（２−メトキシ
フエニル）カルバモイル］−２−プロピリデン、
１−［Ｎ−（４−メトキシフエニル）カルバモイ
ル］−２−プロピリデン、２−エトキシカルボニ
ルシクロヘキシリデン、２−テトキシカルボニル
シクロペンチリデン、２−アセチルシクロヘキシ
リデンもしくは３，３−ジメチル−５−オキソシ
クロヘキシリデンなどのような脱離しやすい基；
またはジ一もしくはトリ−アルキルシリルなどの
シリル基などが挙げられる。 つぎに、本発明化合物の製造法について説明す
る。 本発明化合物は、たとえば、以下に示す製造ル
ートにしたがつて製造することができる。 「式中、R5、R6、R7、R8、〜および〜は、そ
れぞれ、前記したと同様の意味を有し；および
R9は、アルキル基を示す。」 R9のアルキル基としては、R7およびR8におい
て説明したと同様のアルキル基が挙げられる。 つぎに、前記製造ルートにしたがつて、(a)〜(d)
の各工程について説明する。 工程(a) カルボハイドレート・リサーチ
（Carbohydrate Res.）、第４巻、第422頁（1967
年）およびジヤーナル・オブ・オーガニツク・ケ
ミストリー（J.Org.Chem.）、第34巻、第1045頁
（1969年）に記載の方法などによつて得られた一
般式（）で表わされる化合物を、ラニー
（Raney）ニツケルのような触媒を用いて還元す
ることによつて、脱ハロゲン化およびアジドの還
元を、並びに、トリエチルアミンのような塩基を
触媒にして、脱アシル化を同時に行い、アミノア
ルコール体とすることができる。 この反応は、反応に不活性な溶媒、たとえば、
メタノール、エタノール、酢酸エチルまたは酢酸
中で行うことができる。 上記アミノアルコール体を精製せずに、たとえ
ば、通常のアシル化などに付することによつて、
アミノ基に保護基を導入し、一般式（）で表わ
される化合物を得ることができる。 工程(b) 一般式（）で表わされる化合物を、通常の緩
和な酸化反応に付することによつて、一般式
（）で表わされる化合物へ誘導することができ
る。 酸化剤としては、ピリジニウムクロロクロメー
ト（PCC）、ジヨーンズ（Jones）試薬、二酸化
マンガン、酸化ルテニウム、ジメチスルホキシド
−無水トリフルオロ酢酸、ジメチルスルホキシド
−ジシクロヘキシルカルボジイミドまたはジメチ
ルスルホキシド−無水酢酸などが挙げられる［参
照：ジヤーナル・オブ・オーガニツク・ケミスト
リー（J.Org.Chem.）、第41巻、第20号、第3329
〜3331頁（1976年）］。 工程(c) 一般式（）で表わされる化合物を、ホーナ−
ウイツテイヒ（Horner−Witting）反応に付すこ
とによつて、一般式（）で表わされる化合物を
得ることができる。 一般式（）で表わされる化合物のカルボニル
基に対して、一般式
す。）で表わされる基を、他方がヒドロキシル基
を示す。；また、R3とR4は、一緒になつて式＝
CH〜OR8（式中、R8は、アルキル基を；および
〜は、シスまたはトランス体でもよいし、それら
の混合物でもよいことを、それぞれ示す。）で表
わされる基もしくはオキソ基を形成していてもよ
い。R5は、保護基を有するアミノ基を；〜は、
アキシアルまたはエクアトリアルでもよいし、そ
れらの混合物でもよいことを、それぞれ示す。」 で表わされるＤ−ヘキソピラノース誘導体に関す
る。 近年、有用な生物活性を有するチエナマイシン
（米国特許第3950357号）が見出されたのを契機と
して、種々のカルバペネム類を純合成的に得る研
究が活発に行われている。特に、合成反応におい
ては、光学活性体を高収率に得ることが望まれて
いる。 従来、光学分割などを用いることにより、光学
活性体を得ていたが、煩雑でかつ低収率であつ
た。たとえば、テトラヘドロン・レターズ
（Tetrahedron Letters）、第22巻、第913〜916頁
（1981年）に記載の方法によつて得られる（4R，
5S，6R）−４−アミノ−カルボキシ−６−メチル
−δ−ラクトンは、立体配置は決まつているが、
ラセミ体であり、有用なものを得るには光学分割
をしなければならない。 このような状況下において、本発明者らは、
種々検討を重ねた結果、一般式（）で表わされ
る化合物がチエナマイシン誘導体合成における有
用に中間体であることを見出し、さらに、この化
合物の光学活性体は、たとえば、Ｄ−グルコース
のような天然の糖を用いることにより、光学分割
をせずに得られることを見出し、本発明を完成し
た。 以下、本発明を詳細に説明する。 R1およびR2におけるアルコキシ基としては、
メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、iso−プ
ロポキシ、ｎ−ブトキシ、iso−ブトキシ、sec−
ブトキシもしくはtert−ブトキシなどのようなC1
〜C10の分枝または直鎖アルコキシ基が挙げられ
る。 R6におけるアリール基としては、フエニルま
たはナフチル基などが；R7およびR8におけるア
ルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、iso−プロピル、ｎ−ブチル、iso−ブチル、
sec−ブチルもしくはtert−ブチルなどのような
C1〜C10の分枝または直鎖アルキル基が挙げられ
る。 また、R5におけるアミノ基の保護基としは、
通常アミノ保護基として使用し得るすべての基を
含み、たとえば、アセチル、トリクロロエトキシ
カルボニル、トリブロモエトキシカルボニル、ベ
ンジルオキシカルボニル、ｐ−トルエンスルホニ
ル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、ｏ−
ブロモベンジルオキシカルボニル、ｏ−ニトロフ
エニルスルフイニル、（モノ−、ジ−、トリ−）
クロロアセチル、トリフルオロアセチル、ホルミ
ル、tert−アミルオキシカルボニル、tert−ブト
キシカルボニル、ｐ−メトキシベンジルオキシカ
ルボニル、３，４−ジメトキシベンジルオキシカ
ルボニル、４−（フエニルアゾ）ベンジルオキシ
カルボニル、４−（４−メトキシフエニルアゾ）
ベンジルオキシカルボニル、（ピリジン−１−オ
キサイド−２−イル）メトキシカルボニル、２−
フリルオキシカルボニル、ジフエニルメトキシカ
ルボニル、１，１−ジメチルプロポキシカルボニ
ル、イソプロポキシカルボニル、１−シクロプロ
ピルエトキシカルボニル、フタロイル、スクシニ
ル、１−アダマンチルオキシカロボニルもしくは
８−キノリルオキシカルボニルなどのような脱離
しやすいアシル基；トリチル、２−ニトロフエニ
ルチオ、２，４−ジニトロフエニルチオ、２−ヒ
ドロキシベンジリデン、２−ヒドロキシ−５−ク
ロロベンジリデン、２−ヒドロキシ−１−ナフチ
ルメチレン、３−ヒドロキシ−４−ピリジルメチ
レン、１−メトキシカルボニル−２−プロピリデ
ン、１−エトキシカルボニル−２−プロピリデ
ン、３−エトキシカルボニル−２−ブチリデン、
１−アセチル−２−プロピリデン、１−ベンゾイ
ル−２−プロピリデン、１−［Ｎ−（２−メトキシ
フエニル）カルバモイル］−２−プロピリデン、
１−［Ｎ−（４−メトキシフエニル）カルバモイ
ル］−２−プロピリデン、２−エトキシカルボニ
ルシクロヘキシリデン、２−テトキシカルボニル
シクロペンチリデン、２−アセチルシクロヘキシ
リデンもしくは３，３−ジメチル−５−オキソシ
クロヘキシリデンなどのような脱離しやすい基；
またはジ一もしくはトリ−アルキルシリルなどの
シリル基などが挙げられる。 つぎに、本発明化合物の製造法について説明す
る。 本発明化合物は、たとえば、以下に示す製造ル
ートにしたがつて製造することができる。 「式中、R5、R6、R7、R8、〜および〜は、そ
れぞれ、前記したと同様の意味を有し；および
R9は、アルキル基を示す。」 R9のアルキル基としては、R7およびR8におい
て説明したと同様のアルキル基が挙げられる。 つぎに、前記製造ルートにしたがつて、(a)〜(d)
の各工程について説明する。 工程(a) カルボハイドレート・リサーチ
（Carbohydrate Res.）、第４巻、第422頁（1967
年）およびジヤーナル・オブ・オーガニツク・ケ
ミストリー（J.Org.Chem.）、第34巻、第1045頁
（1969年）に記載の方法などによつて得られた一
般式（）で表わされる化合物を、ラニー
（Raney）ニツケルのような触媒を用いて還元す
ることによつて、脱ハロゲン化およびアジドの還
元を、並びに、トリエチルアミンのような塩基を
触媒にして、脱アシル化を同時に行い、アミノア
ルコール体とすることができる。 この反応は、反応に不活性な溶媒、たとえば、
メタノール、エタノール、酢酸エチルまたは酢酸
中で行うことができる。 上記アミノアルコール体を精製せずに、たとえ
ば、通常のアシル化などに付することによつて、
アミノ基に保護基を導入し、一般式（）で表わ
される化合物を得ることができる。 工程(b) 一般式（）で表わされる化合物を、通常の緩
和な酸化反応に付することによつて、一般式
（）で表わされる化合物へ誘導することができ
る。 酸化剤としては、ピリジニウムクロロクロメー
ト（PCC）、ジヨーンズ（Jones）試薬、二酸化
マンガン、酸化ルテニウム、ジメチスルホキシド
−無水トリフルオロ酢酸、ジメチルスルホキシド
−ジシクロヘキシルカルボジイミドまたはジメチ
ルスルホキシド−無水酢酸などが挙げられる［参
照：ジヤーナル・オブ・オーガニツク・ケミスト
リー（J.Org.Chem.）、第41巻、第20号、第3329
〜3331頁（1976年）］。 工程(c) 一般式（）で表わされる化合物を、ホーナ−
ウイツテイヒ（Horner−Witting）反応に付すこ
とによつて、一般式（）で表わされる化合物を
得ることができる。 一般式（）で表わされる化合物のカルボニル
基に対して、一般式
【式】
（式中、R6およびR7は、それぞれ、前記したと
同様の意味を有する。）で表わされるホスフイン
オキサイドのリチウム塩を反応させることによつ
て、一般式（）で表わされる化合物を得ること
ができる。 この反応は、反応に不活性な溶媒、たとえば、
テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、ベ
ンゼンまたはジエチルエーテルなどの存在下に行
うことができる。 この反応の原料化合物である一般式
同様の意味を有する。）で表わされるホスフイン
オキサイドのリチウム塩を反応させることによつ
て、一般式（）で表わされる化合物を得ること
ができる。 この反応は、反応に不活性な溶媒、たとえば、
テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、ベ
ンゼンまたはジエチルエーテルなどの存在下に行
うことができる。 この反応の原料化合物である一般式
【式】
（式中、R6およびR7は、それぞれ、前記したと
同様の意味を有する。）で表わされるホスフイン
オキサイドのリチウム塩は、ホスフインオキサイ
ド、たとえば、メトキシメチルジフエニルホスフ
インオキサイドに、上記した溶媒中で、塩基、た
とえば、リチウムジイソプロピルアミドまたはｎ
−ブチルリチウムなどを反応させて得ることがで
きる。 この反応の反応温度は、通常、−78℃〜室温で
ある。 工程(d) 一般式（）で表わされる化合物に塩基を反応
（脱ホスフイン酸反応）させることによつて、一
般式（）で表わされる化合物を得ることができ
る。 この反応は、反応に不活性な溶媒、たとえば、
ジメチルホルムアミドまたはテトラヒドロフラン
などの存在下に行うことができ、塩基としては、
水素化カリウム、水素化ナトリウムまたは水素化
リチウムなどが挙げられる［ホーナー−ウイツテ
イヒ（Horner−Witting）反応；参照：ジヤーナ
ル・オブ・ザ・ケミカル・ソサエテイー（J.
Chem.Soc.）、パーキン（Perkin）、第3099〜
3106頁（1979年）］。 さらに、一般式（）、（）、（）および
（）で表わされる化合物においては、アミノ基
およびカルボキシル基の保護並びにそれらの脱離
は常法にしたがつて行われ、対応する目的化合物
に変換することができる。また、R5の基に活性
な基が存在するときは、反応に際し、通常の保護
基で任意に保護しておくことができ、反応後、常
法により、その保護基を脱離させることもでき
る。以上のようにして得られた目的化合物、すな
わち、一般式（）、（）および（）で表わさ
れる化合物は、常法によつて単離することができ
る。 以上説明した製造法によつて、たとえば、Ｄ−
グルコースのような光学活性な糖より、光学活性
な一般式（）で表わされる化合物を得ることが
できる。 また、本発明は、一般式（）で表わされるＤ
−ヘキソピラノース誘導体のすべての結晶形およ
び水和物におよぶものである。 このようにして得られた本発明の一般式（）
で表わされるＤ−ヘキソピラノース誘導体を、酸
化および加水分解することによつて、一般式
（）で表わされる化合物を得ることができる。 この製造ルートを、以下に示す。 ［式中、R5、R8、〜、〜およびR9は、それぞれ
前記したと同様の意味を有し；およびR10は、水
素原子、保護形成基または塩形成陽イオンを、そ
れぞれ示す。」 R10の保護形成基としては、通常カルボキシル
保護基として使用し得るすべての基を含み、たと
えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、iso−プ
ロピル、tert−ブチル、ｎ−ブチル、ベンジル、
ジフエニルメチル、トリチル、ｐ−ニトロベンジ
ル、ｐ−メトシベンジル、ベンゾイルメチル、ア
セチルメチル、ｐ−ニトロベンゾイルメチル、ｐ
−ブロモベンゾイルメチル、ｐ−メタンスルホニ
ルベンゾイルメチル、フタルイミドメチル、トリ
クロロエチル、１，１−ジメチル−２−プロペニ
ル、１，１−ジメチルプロピル、アセトキシメチ
ル、プロピオニルオキシメチル、ピバロイルオキ
シメチル、３−メチル−３−ブチニル、スクシン
イミドメチル、１−シクロプロピルエチル、メチ
ルスルフイニルメチル、フエニルチオメチル、ジ
メチルアミノメチチル、（キノリン−１−オキサ
イド−２−イル）メチル、（ピリジン−１−オキ
サイド−２−イル）メチルもしくはビス（ｐ−メ
トキシフエニル）メチルなどのような基が挙げら
れる。また、特開昭46−7073号およびオランダ国
公開公報7105259号に記載されている、たとえば、
ジメチルクロロシランのようなシリル化合物など
から誘導される基が挙げられる。 また、R10の塩形成陽イオンとしては、特に非
毒性塩類を形成するものが好ましく、その非毒性
塩としては、具体的には、ナトリウムもしくはカ
リウムなどのアルカリ金属との塩；カルシウムも
しくはマグネシウムなどのアルカリ土類金属との
塩；アンモニウム塩；またはトリエチルアミン、
プロカイン、ジベンジルアミン、Ｎ−ベンジル−
β−フエネチルアミン、１−エフエナミンもしく
はＮ，Ｎ−ジベンジルエチレンジアミンなどのよ
うな含窒素有機塩基との塩などが挙げられる。 つぎに、(e)〜(g)の各工程について説明する。 工程(e) 一般式（）で表わされる化合物にクロム酸系
酸化剤、たとえば、ピリジニウムクロロクロメー
ト（PCC）、コリンズ（Collins）試薬、ジヨーン
ズ（Jones）試薬またはピリジニウムクロメート
などを反応させることによつて、一般式（）で
表わされる化合物を得ることができる。 この反応は、反応に不活性な溶媒、たとえば、
塩化メチレン、ジメチルルムアミドまたはアセト
ンなどの存在下に行うことができる［参照：テト
ラヘドロン・レターズ（Tetrahedro Letters）、
第39巻、第3483〜3484頁（1977年）］。 工程(f) 一般式（）で表わされる化合物を、酸触媒を
用いて、通常の加水分解に付することによつて、
一般式（）で表わされる化合物を得ることがで
きる。 この反応は、反応に不活性な溶媒、たとえば、
テトラヒドロフラン、アセトンもしくは水などの
存在下に行うことができ、これら二種以上の溶媒
を混合して用いてもよい。 酸触媒としては、たとえば、塩酸、硫酸、酢酸
またはリン酸などが挙げられる。 工程(g) 一般式（）で表わされる化合物に酸化剤、た
とえば、ジヨーンズ（Jones）試薬、コリンズ
（Collins）試薬もしくはピリジニウムクロロクロ
メート（PCC）などのようなクロム酸系酸化
剤；酸化ルテニウム；またはジメチルスルホキシ
ド−無水トリフルオロ酢酸などを反応させること
によつて、一般式（）で表わされる化合物を得
ることができる。 この反応は、反応に不活性な溶媒、たとえば、
アセトン、テトラヒドロフラン、ジオキサンまた
は水などの存在下に行うことができ、これら二種
以上の溶媒を混合して用いてもよい。 酸化剤の使用量は、一般式（）で表わされる
化合物に対して、１当量から20当量である。 この反応の反応温度および反応時間は、通常、
−30℃〜50℃で、１分間から２日間であり、好ま
しくは、氷冷下付近で、30分間から２時間であ
る。 さらに、一般式（）、（）、（）および
（）で表わされる化合物においては、アミノ基
およびカルボキシル基の保護ならびにそれらの脱
離、さらにはカルボキシル基の塩の形成は常法に
したがつて行われ、対応する目的化合物に変換す
ることができる。また、R5およびR10の各基に活
性な基が存在するときは、反応に際し、通常の保
護基で任意に保護しておくことができ、反応後、
常法により、その保護基を脱離させることもでき
る。以上のようにして得られた化合物、すなわ
ち、一般式（）、（）および（）で表わされ
る化合物は、常法によつて単離することができ
る。 また、一般式（）で表わされる化合物は、た
とえば、（4R，5S，6R）−４−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ−５−メトキシカルボニル−６−
メチル−δ−ラクトンなどにアミノ基の保護基の
脱離反応、エステルの加水分解、アルコリシスお
よび閉環反応などを行つことによつて、アゼチジ
ノン誘導体を得ることができる。さらに、このア
ゼチジノン誘導体をβ−ケトエステル体に変換
し、アジド体を経て、閉環反応およびメルカプト
基の導入などを行うことによつて、チエナマイシ
ン誘導体を得ることができる［参照：テトラヘド
ロン・レターズ（Tetrahedron Letters）、第21
巻、第2783〜2786頁（1980年）、同第22巻、第913
〜916頁（1981年）］。 つぎに、本発明を参考例および実施例を挙げて
説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。 なお、カラムクロマトグラフイーにおけるカラ
ム充填剤は、シリカゲルＣ−200（和光純薬製）を
用いた。 実施例 １ 後述する参考例１の方法によつて得られたメチ
ル−３−アジド−４−Ｏ−ベンゾイル−６−ブロ
モ−２，３，６−トリデオキシ−α−Ｄ−アラビ
ノ−ヘキソピラノシド10.0ｇ（27.0ミリモル）に
メタノール800ml、ラニー（Raney）ニツケルＷ
−420ｇおよびトリエチルアミン3.8ml（27.2ミリ
モル）を加え、水素雰囲気下3.8Kg／cm2で８時間
中圧接触還元させる。反応混合物を過し、滓
をメタノール350mlで洗浄する。先に得られた
液と洗浄液を合わせ、減圧下に溶媒を留去すれ
ば、粗のメチル−３−アミノ−２，３，６−トリ
デオキシ−α−Ｄ−アラビノ−ヘキソピラノシド
を得る。得られた残留物を精製することなく、塩
化メチレン100mlおよびトリエチルアミン4.3ml
（30.8ミリモル）を加え、これに撹拌しながら、
氷冷下、ベンジルオキシカルボニルクロライド
4.2ml（29.4ミリモル）を添加する。室温で４時
間撹拌した後、反応混合物を飽和炭化水素ナトリ
ウム水溶液、水および飽和食塩水で順次洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶
媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマトグ
ラフイー（溶離液；ベンゼン／酢酸エチル）で精
製した後、ベンゼンで再結晶すれば、融点132〜
135℃を示す針状晶のメチル−３−ベンジルオキ
シカルボニルアミノ−２，３，６−トリデオキシ
−α−Ｄ−アリビノ−ヘキソピラノシド4.1ｇ
（収率52.3％）を得る。 IR（KBr）cm-1；νOH3410、νNH3305、νC=01680 旋光度；［α］22 D＋117.4°（C1.37、CHCl3） 元素分析；C15H21NO5 計算値（％） Ｃ；61.00 Ｈ；7.17 Ｎ；4.74 実測値（％） Ｃ；61.14 Ｈ；7.30 Ｎ；4.63 質量分析；（ｍ／ｚ）295（M+） NMR（CDCl3）δ値； 1.27（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz、C6−Ｈ）、 1.63（1H、ddd、JC2-Ha、C2-He＝13Hz、
JC2-Ha、C3-H＝13Hz、JC2-Ha、C1-H＝13Hz、C2−
Ha）、 2.01（1H、dd、JC2-He、C2-Ha＝13Hz、
JC2-He、C3-H＝４Hz、C2−He）、 3.30（3H、ｓ、−OCH3）、 2.70〜4.22（4H、ｍ、C3−Ｈ、C4−Ｈ、C5−
Ｈ、−OH）、 4.64（1H、bd、JC1-H、C2-Ha＝３Hz、C1−Ｈ）、 5.04（2H、ｓ、
同様の意味を有する。）で表わされるホスフイン
オキサイドのリチウム塩は、ホスフインオキサイ
ド、たとえば、メトキシメチルジフエニルホスフ
インオキサイドに、上記した溶媒中で、塩基、た
とえば、リチウムジイソプロピルアミドまたはｎ
−ブチルリチウムなどを反応させて得ることがで
きる。 この反応の反応温度は、通常、−78℃〜室温で
ある。 工程(d) 一般式（）で表わされる化合物に塩基を反応
（脱ホスフイン酸反応）させることによつて、一
般式（）で表わされる化合物を得ることができ
る。 この反応は、反応に不活性な溶媒、たとえば、
ジメチルホルムアミドまたはテトラヒドロフラン
などの存在下に行うことができ、塩基としては、
水素化カリウム、水素化ナトリウムまたは水素化
リチウムなどが挙げられる［ホーナー−ウイツテ
イヒ（Horner−Witting）反応；参照：ジヤーナ
ル・オブ・ザ・ケミカル・ソサエテイー（J.
Chem.Soc.）、パーキン（Perkin）、第3099〜
3106頁（1979年）］。 さらに、一般式（）、（）、（）および
（）で表わされる化合物においては、アミノ基
およびカルボキシル基の保護並びにそれらの脱離
は常法にしたがつて行われ、対応する目的化合物
に変換することができる。また、R5の基に活性
な基が存在するときは、反応に際し、通常の保護
基で任意に保護しておくことができ、反応後、常
法により、その保護基を脱離させることもでき
る。以上のようにして得られた目的化合物、すな
わち、一般式（）、（）および（）で表わさ
れる化合物は、常法によつて単離することができ
る。 以上説明した製造法によつて、たとえば、Ｄ−
グルコースのような光学活性な糖より、光学活性
な一般式（）で表わされる化合物を得ることが
できる。 また、本発明は、一般式（）で表わされるＤ
−ヘキソピラノース誘導体のすべての結晶形およ
び水和物におよぶものである。 このようにして得られた本発明の一般式（）
で表わされるＤ−ヘキソピラノース誘導体を、酸
化および加水分解することによつて、一般式
（）で表わされる化合物を得ることができる。 この製造ルートを、以下に示す。 ［式中、R5、R8、〜、〜およびR9は、それぞれ
前記したと同様の意味を有し；およびR10は、水
素原子、保護形成基または塩形成陽イオンを、そ
れぞれ示す。」 R10の保護形成基としては、通常カルボキシル
保護基として使用し得るすべての基を含み、たと
えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、iso−プ
ロピル、tert−ブチル、ｎ−ブチル、ベンジル、
ジフエニルメチル、トリチル、ｐ−ニトロベンジ
ル、ｐ−メトシベンジル、ベンゾイルメチル、ア
セチルメチル、ｐ−ニトロベンゾイルメチル、ｐ
−ブロモベンゾイルメチル、ｐ−メタンスルホニ
ルベンゾイルメチル、フタルイミドメチル、トリ
クロロエチル、１，１−ジメチル−２−プロペニ
ル、１，１−ジメチルプロピル、アセトキシメチ
ル、プロピオニルオキシメチル、ピバロイルオキ
シメチル、３−メチル−３−ブチニル、スクシン
イミドメチル、１−シクロプロピルエチル、メチ
ルスルフイニルメチル、フエニルチオメチル、ジ
メチルアミノメチチル、（キノリン−１−オキサ
イド−２−イル）メチル、（ピリジン−１−オキ
サイド−２−イル）メチルもしくはビス（ｐ−メ
トキシフエニル）メチルなどのような基が挙げら
れる。また、特開昭46−7073号およびオランダ国
公開公報7105259号に記載されている、たとえば、
ジメチルクロロシランのようなシリル化合物など
から誘導される基が挙げられる。 また、R10の塩形成陽イオンとしては、特に非
毒性塩類を形成するものが好ましく、その非毒性
塩としては、具体的には、ナトリウムもしくはカ
リウムなどのアルカリ金属との塩；カルシウムも
しくはマグネシウムなどのアルカリ土類金属との
塩；アンモニウム塩；またはトリエチルアミン、
プロカイン、ジベンジルアミン、Ｎ−ベンジル−
β−フエネチルアミン、１−エフエナミンもしく
はＮ，Ｎ−ジベンジルエチレンジアミンなどのよ
うな含窒素有機塩基との塩などが挙げられる。 つぎに、(e)〜(g)の各工程について説明する。 工程(e) 一般式（）で表わされる化合物にクロム酸系
酸化剤、たとえば、ピリジニウムクロロクロメー
ト（PCC）、コリンズ（Collins）試薬、ジヨーン
ズ（Jones）試薬またはピリジニウムクロメート
などを反応させることによつて、一般式（）で
表わされる化合物を得ることができる。 この反応は、反応に不活性な溶媒、たとえば、
塩化メチレン、ジメチルルムアミドまたはアセト
ンなどの存在下に行うことができる［参照：テト
ラヘドロン・レターズ（Tetrahedro Letters）、
第39巻、第3483〜3484頁（1977年）］。 工程(f) 一般式（）で表わされる化合物を、酸触媒を
用いて、通常の加水分解に付することによつて、
一般式（）で表わされる化合物を得ることがで
きる。 この反応は、反応に不活性な溶媒、たとえば、
テトラヒドロフラン、アセトンもしくは水などの
存在下に行うことができ、これら二種以上の溶媒
を混合して用いてもよい。 酸触媒としては、たとえば、塩酸、硫酸、酢酸
またはリン酸などが挙げられる。 工程(g) 一般式（）で表わされる化合物に酸化剤、た
とえば、ジヨーンズ（Jones）試薬、コリンズ
（Collins）試薬もしくはピリジニウムクロロクロ
メート（PCC）などのようなクロム酸系酸化
剤；酸化ルテニウム；またはジメチルスルホキシ
ド−無水トリフルオロ酢酸などを反応させること
によつて、一般式（）で表わされる化合物を得
ることができる。 この反応は、反応に不活性な溶媒、たとえば、
アセトン、テトラヒドロフラン、ジオキサンまた
は水などの存在下に行うことができ、これら二種
以上の溶媒を混合して用いてもよい。 酸化剤の使用量は、一般式（）で表わされる
化合物に対して、１当量から20当量である。 この反応の反応温度および反応時間は、通常、
−30℃〜50℃で、１分間から２日間であり、好ま
しくは、氷冷下付近で、30分間から２時間であ
る。 さらに、一般式（）、（）、（）および
（）で表わされる化合物においては、アミノ基
およびカルボキシル基の保護ならびにそれらの脱
離、さらにはカルボキシル基の塩の形成は常法に
したがつて行われ、対応する目的化合物に変換す
ることができる。また、R5およびR10の各基に活
性な基が存在するときは、反応に際し、通常の保
護基で任意に保護しておくことができ、反応後、
常法により、その保護基を脱離させることもでき
る。以上のようにして得られた化合物、すなわ
ち、一般式（）、（）および（）で表わされ
る化合物は、常法によつて単離することができ
る。 また、一般式（）で表わされる化合物は、た
とえば、（4R，5S，6R）−４−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ−５−メトキシカルボニル−６−
メチル−δ−ラクトンなどにアミノ基の保護基の
脱離反応、エステルの加水分解、アルコリシスお
よび閉環反応などを行つことによつて、アゼチジ
ノン誘導体を得ることができる。さらに、このア
ゼチジノン誘導体をβ−ケトエステル体に変換
し、アジド体を経て、閉環反応およびメルカプト
基の導入などを行うことによつて、チエナマイシ
ン誘導体を得ることができる［参照：テトラヘド
ロン・レターズ（Tetrahedron Letters）、第21
巻、第2783〜2786頁（1980年）、同第22巻、第913
〜916頁（1981年）］。 つぎに、本発明を参考例および実施例を挙げて
説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。 なお、カラムクロマトグラフイーにおけるカラ
ム充填剤は、シリカゲルＣ−200（和光純薬製）を
用いた。 実施例 １ 後述する参考例１の方法によつて得られたメチ
ル−３−アジド−４−Ｏ−ベンゾイル−６−ブロ
モ−２，３，６−トリデオキシ−α−Ｄ−アラビ
ノ−ヘキソピラノシド10.0ｇ（27.0ミリモル）に
メタノール800ml、ラニー（Raney）ニツケルＷ
−420ｇおよびトリエチルアミン3.8ml（27.2ミリ
モル）を加え、水素雰囲気下3.8Kg／cm2で８時間
中圧接触還元させる。反応混合物を過し、滓
をメタノール350mlで洗浄する。先に得られた
液と洗浄液を合わせ、減圧下に溶媒を留去すれ
ば、粗のメチル−３−アミノ−２，３，６−トリ
デオキシ−α−Ｄ−アラビノ−ヘキソピラノシド
を得る。得られた残留物を精製することなく、塩
化メチレン100mlおよびトリエチルアミン4.3ml
（30.8ミリモル）を加え、これに撹拌しながら、
氷冷下、ベンジルオキシカルボニルクロライド
4.2ml（29.4ミリモル）を添加する。室温で４時
間撹拌した後、反応混合物を飽和炭化水素ナトリ
ウム水溶液、水および飽和食塩水で順次洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶
媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマトグ
ラフイー（溶離液；ベンゼン／酢酸エチル）で精
製した後、ベンゼンで再結晶すれば、融点132〜
135℃を示す針状晶のメチル−３−ベンジルオキ
シカルボニルアミノ−２，３，６−トリデオキシ
−α−Ｄ−アリビノ−ヘキソピラノシド4.1ｇ
（収率52.3％）を得る。 IR（KBr）cm-1；νOH3410、νNH3305、νC=01680 旋光度；［α］22 D＋117.4°（C1.37、CHCl3） 元素分析；C15H21NO5 計算値（％） Ｃ；61.00 Ｈ；7.17 Ｎ；4.74 実測値（％） Ｃ；61.14 Ｈ；7.30 Ｎ；4.63 質量分析；（ｍ／ｚ）295（M+） NMR（CDCl3）δ値； 1.27（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz、C6−Ｈ）、 1.63（1H、ddd、JC2-Ha、C2-He＝13Hz、
JC2-Ha、C3-H＝13Hz、JC2-Ha、C1-H＝13Hz、C2−
Ha）、 2.01（1H、dd、JC2-He、C2-Ha＝13Hz、
JC2-He、C3-H＝４Hz、C2−He）、 3.30（3H、ｓ、−OCH3）、 2.70〜4.22（4H、ｍ、C3−Ｈ、C4−Ｈ、C5−
Ｈ、−OH）、 4.64（1H、bd、JC1-H、C2-Ha＝３Hz、C1−Ｈ）、 5.04（2H、ｓ、
【式】）
、5.32（1H、bd、Ｊ＝７Hz、NH）、
7.28（5H、ｓ、
【式】
）
実施例 ２
ジメチルスルホキシド3.84ml（54.2ミリモル）
を塩化メチレン95mlで希釈した後、−75℃に冷却
する。これに同温度で無水トリフルオロ酢酸5.74
ml（40.6ミリモル）を塩化メチレン13mlで希釈し
た溶液を、10分間を要して滴下した後、15分間撹
拌する。実施例１の方法で得られたメチル−３−
ベンジルオキシカルボニルアミノ−２，３，６−
トリデオキシ−α−Ｄ−アラビノ−ヘキソピラノ
シド8.0ｇ（21.1ミリモル）を塩化メチレン95ml
に溶解させ、この溶液を先に調製された溶液の中
へ、−65℃以下で、20分間を要して滴下する。反
応混合物を−65℃以下で1.5時間撹拌した後、こ
れにトリエチルアミン11.3ml（81.0ミリモル）を
同温度以下で、10分間を要して滴下した後、０℃
まで昇温させる。反応後、反応混合物を水100ml
で洗浄し、洗浄液を塩化メチレン100mlで再抽出
する。塩化メチレン層を合わせ、飽和食塩水で５
回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた
後、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物を
カラムクロマトグラフイー（溶離液；ベンゼン／
酢酸エチル）で精製すれば、白色晶を得る。さら
に、ジイソプロピルエーテル／ヘキサンで再結晶
すれば、融点82〜83℃を示すプリズム晶のメチル
−３−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２，
３，６−トリデオキシ−α−Ｄ−アラビノ−ヘキ
ソピラノシド−４−ウロース7.4ｇ（収率93.3％）
を得る。 IR（KBr）cm-1；νNH3310、νC=01730、1680 旋光度；［α］20 D＋91.2°（C1.00、CHCl3） 元素分析；C15H19NO5 計算値（％） Ｃ；61.42 Ｈ；6.53 Ｎ；4.78 実測値（％） Ｃ；61.35 Ｈ；6.52 Ｎ；4.60 質量分析；（ｍ／ｚ）293（M+） NMR（CDCl3）δ値； 1.20（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz、C6−Ｈ）、 1.86（1H、ddd、JC2-Ha、C2-He＝15Hz、
JC2-Ha、C1-H＝４Hz、JC2-Ha、C3-H＝14Hz、C2−
Ha）、 2.64（1H、ddd、JC2-Ha、C2-He＝15Hz、
JC2-He、C1-H＝７Hz、JC2-He、C3-H＝７Hz、C2−
He）、 3.34（3H、ｓ、−OCH3）、 4.28（1H、ｑ、Ｊ＝７Hz、C5−Ｈ）、 4.43〜5.23（2H、ｍ、C1−Ｈ、C3−Ｈ）、 5.01（2H、ｓ、
を塩化メチレン95mlで希釈した後、−75℃に冷却
する。これに同温度で無水トリフルオロ酢酸5.74
ml（40.6ミリモル）を塩化メチレン13mlで希釈し
た溶液を、10分間を要して滴下した後、15分間撹
拌する。実施例１の方法で得られたメチル−３−
ベンジルオキシカルボニルアミノ−２，３，６−
トリデオキシ−α−Ｄ−アラビノ−ヘキソピラノ
シド8.0ｇ（21.1ミリモル）を塩化メチレン95ml
に溶解させ、この溶液を先に調製された溶液の中
へ、−65℃以下で、20分間を要して滴下する。反
応混合物を−65℃以下で1.5時間撹拌した後、こ
れにトリエチルアミン11.3ml（81.0ミリモル）を
同温度以下で、10分間を要して滴下した後、０℃
まで昇温させる。反応後、反応混合物を水100ml
で洗浄し、洗浄液を塩化メチレン100mlで再抽出
する。塩化メチレン層を合わせ、飽和食塩水で５
回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた
後、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物を
カラムクロマトグラフイー（溶離液；ベンゼン／
酢酸エチル）で精製すれば、白色晶を得る。さら
に、ジイソプロピルエーテル／ヘキサンで再結晶
すれば、融点82〜83℃を示すプリズム晶のメチル
−３−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２，
３，６−トリデオキシ−α−Ｄ−アラビノ−ヘキ
ソピラノシド−４−ウロース7.4ｇ（収率93.3％）
を得る。 IR（KBr）cm-1；νNH3310、νC=01730、1680 旋光度；［α］20 D＋91.2°（C1.00、CHCl3） 元素分析；C15H19NO5 計算値（％） Ｃ；61.42 Ｈ；6.53 Ｎ；4.78 実測値（％） Ｃ；61.35 Ｈ；6.52 Ｎ；4.60 質量分析；（ｍ／ｚ）293（M+） NMR（CDCl3）δ値； 1.20（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz、C6−Ｈ）、 1.86（1H、ddd、JC2-Ha、C2-He＝15Hz、
JC2-Ha、C1-H＝４Hz、JC2-Ha、C3-H＝14Hz、C2−
Ha）、 2.64（1H、ddd、JC2-Ha、C2-He＝15Hz、
JC2-He、C1-H＝７Hz、JC2-He、C3-H＝７Hz、C2−
He）、 3.34（3H、ｓ、−OCH3）、 4.28（1H、ｑ、Ｊ＝７Hz、C5−Ｈ）、 4.43〜5.23（2H、ｍ、C1−Ｈ、C3−Ｈ）、 5.01（2H、ｓ、
【式】
）7.20（5H、ｓ、
【式】
）
実施例 ３
モスキユラシーブス（３Å、粉末、100℃で２
時間乾燥させたものを使用）２ｇおよびピリジニ
ウムクロロクロメート1.4ｇの塩化メチレン懸濁
液10mlにカルボハイドレート・リサーチ
（Carbohydrate Res.）、第４巻、第422頁（1967
年）記載の方法で得られたメチル−３−アセチル
アミノ−２，３，６−トリデオキシ−α−Ｄ−ア
ラビノ−ヘキソピラノシド450mgを加え、室温で
2.5時間撹拌する。反応後、反応混合物をジエチ
ルエーテル25ml−ヘキサン５mlの混合溶液を希釈
し、５分間撹拌した後、これをシリカゲルＧが約
３cmの厚さに敷かれたグラスフイルターで過
し、滓をジエチルエーテル100mlで洗浄する。
先に得られた液と洗浄を合わせ、減圧下に溶媒
を留去すれば、融点105〜110℃を示す結晶のメチ
ル−３−アセチルアミノ−２，３，６−トリデオ
キシ−α−Ｄ−アラビノ−ヘキソピラノシド−４
−ウロース45mg（収率10％）を得る。 IR（KBr）cm-1；νNH3290、νC=01730、1650 質量分析；（ｍ／ｚ）201（M+） NMR（CDCl3）δ値； 1.24（3H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6−Ｈ）、 1.17〜2.30（1H、ｍ、C2−Ha）、 1.99（3H、ｓ、CH3CO−）、 2.50〜2.97（1H、ｍ、C2−He）、 3.41（3H、ｓ、−OCH3）、 4.20〜4.65（1H、ｍ、C5−Ｈ） 4.70〜5.27（2H、ｍ、C1−Ｈ、C3−Ｈ）、 6.79（1H、bd、Ｊ＝７Hz、NH） 実施例 ４ アルゴン気流下、テトラヒドロフラン140mlに
ジイソプロピルアミン6.9ml（49.0ミリモル）を
加え、−70℃に冷却する。これにｎ−ブチルリチ
ウム（1.52Nヘキサン溶液）32.2ml（49.0ミリモ
ル）を−60℃以下に保ちながら10分間を要して滴
下し、−75℃で20分間撹拌する。この溶液にメト
キシメチルジフエニルホスフインオキサイド12.0
ｇ（49.0ミリモル）のテトラヒドロフラン溶液
140mlを−65℃以下で、10分間を要して滴下する。
同温度以下で、20分間撹拌した後、得られた混合
物に実施例２で得られたメチル−３−ベンジルオ
キシカルボニルアミノ−２，３，６−トリデオキ
シ−α−Ｄ−アラビノ−ヘキソピラノシド−４−
ウロース7.0ｇ（23.9ミリモル）のテトラヒドロ
フラン溶液60mlを−65℃以下で、20分間を要して
滴下する。同温度以下で、1.5時間撹拌した後、−
10℃まで昇温させ、撹拌しながら、10％クエン酸
水溶液（Ｗ／Ｗ）100mlを加え、有機層を分取す
る。水層を酢酸エチル100mlずつで３回抽出する。
先に分取した有機層と抽出液を合わせ、飽和食塩
水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物を
カラムクロマトグラフイー（溶離液；ベンゼン／
酢酸エチル）で精製すれば、無定形結晶のメチル
−３−ベンジルオキシカルボニルアミノ−４−ジ
フエニルホスフイノイルメトキシメチル−２，
３，６−トリデオキシ−α−Ｄ−アラビノ−ヘキ
ソピラノシド11.9ｇ（収率92.3％）を得る。この
無定形結晶は２種のジアステレオマーの混合物で
あり、中圧カラムクロマトグラフイー（シリカゲ
ル、25μ；溶離液；酢酸エチル）で分離すること
ができ、上部異性体（Rf＝0.61；溶離液；酢酸エ
チル）対下部異性体（Rf＝0.56；溶離液；酢酸エ
チル）の比は３：１であつた。 ［上部異性体］ IR（KBr）cm-1；νNH、OH3300（ブロード）、νC=0
1705、νP=01125、1110 旋光度；［α］20 D＋60.6°（C1.04、CHCl3） 質量分析；（ｍ／ｚ）539（M+） NMR（CDCl3）δ値； 1.15（3H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6−Ｈ）、 1.67〜2.10（2H、ｍ、C2−Ｈ）、 3.23（3H、ｓ、
時間乾燥させたものを使用）２ｇおよびピリジニ
ウムクロロクロメート1.4ｇの塩化メチレン懸濁
液10mlにカルボハイドレート・リサーチ
（Carbohydrate Res.）、第４巻、第422頁（1967
年）記載の方法で得られたメチル−３−アセチル
アミノ−２，３，６−トリデオキシ−α−Ｄ−ア
ラビノ−ヘキソピラノシド450mgを加え、室温で
2.5時間撹拌する。反応後、反応混合物をジエチ
ルエーテル25ml−ヘキサン５mlの混合溶液を希釈
し、５分間撹拌した後、これをシリカゲルＧが約
３cmの厚さに敷かれたグラスフイルターで過
し、滓をジエチルエーテル100mlで洗浄する。
先に得られた液と洗浄を合わせ、減圧下に溶媒
を留去すれば、融点105〜110℃を示す結晶のメチ
ル−３−アセチルアミノ−２，３，６−トリデオ
キシ−α−Ｄ−アラビノ−ヘキソピラノシド−４
−ウロース45mg（収率10％）を得る。 IR（KBr）cm-1；νNH3290、νC=01730、1650 質量分析；（ｍ／ｚ）201（M+） NMR（CDCl3）δ値； 1.24（3H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6−Ｈ）、 1.17〜2.30（1H、ｍ、C2−Ha）、 1.99（3H、ｓ、CH3CO−）、 2.50〜2.97（1H、ｍ、C2−He）、 3.41（3H、ｓ、−OCH3）、 4.20〜4.65（1H、ｍ、C5−Ｈ） 4.70〜5.27（2H、ｍ、C1−Ｈ、C3−Ｈ）、 6.79（1H、bd、Ｊ＝７Hz、NH） 実施例 ４ アルゴン気流下、テトラヒドロフラン140mlに
ジイソプロピルアミン6.9ml（49.0ミリモル）を
加え、−70℃に冷却する。これにｎ−ブチルリチ
ウム（1.52Nヘキサン溶液）32.2ml（49.0ミリモ
ル）を−60℃以下に保ちながら10分間を要して滴
下し、−75℃で20分間撹拌する。この溶液にメト
キシメチルジフエニルホスフインオキサイド12.0
ｇ（49.0ミリモル）のテトラヒドロフラン溶液
140mlを−65℃以下で、10分間を要して滴下する。
同温度以下で、20分間撹拌した後、得られた混合
物に実施例２で得られたメチル−３−ベンジルオ
キシカルボニルアミノ−２，３，６−トリデオキ
シ−α−Ｄ−アラビノ−ヘキソピラノシド−４−
ウロース7.0ｇ（23.9ミリモル）のテトラヒドロ
フラン溶液60mlを−65℃以下で、20分間を要して
滴下する。同温度以下で、1.5時間撹拌した後、−
10℃まで昇温させ、撹拌しながら、10％クエン酸
水溶液（Ｗ／Ｗ）100mlを加え、有機層を分取す
る。水層を酢酸エチル100mlずつで３回抽出する。
先に分取した有機層と抽出液を合わせ、飽和食塩
水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物を
カラムクロマトグラフイー（溶離液；ベンゼン／
酢酸エチル）で精製すれば、無定形結晶のメチル
−３−ベンジルオキシカルボニルアミノ−４−ジ
フエニルホスフイノイルメトキシメチル−２，
３，６−トリデオキシ−α−Ｄ−アラビノ−ヘキ
ソピラノシド11.9ｇ（収率92.3％）を得る。この
無定形結晶は２種のジアステレオマーの混合物で
あり、中圧カラムクロマトグラフイー（シリカゲ
ル、25μ；溶離液；酢酸エチル）で分離すること
ができ、上部異性体（Rf＝0.61；溶離液；酢酸エ
チル）対下部異性体（Rf＝0.56；溶離液；酢酸エ
チル）の比は３：１であつた。 ［上部異性体］ IR（KBr）cm-1；νNH、OH3300（ブロード）、νC=0
1705、νP=01125、1110 旋光度；［α］20 D＋60.6°（C1.04、CHCl3） 質量分析；（ｍ／ｚ）539（M+） NMR（CDCl3）δ値； 1.15（3H、ｄ、Ｊ＝７Hz、C6−Ｈ）、 1.67〜2.10（2H、ｍ、C2−Ｈ）、 3.23（3H、ｓ、
【式】
）、3.26（3H、ｓ、−OCH3）、
3.78〜4.72（4H、ｍ、C1−Ｈ、C3−Ｈ、C5−
Ｈ、
Ｈ、
【式】
）、5.06（2H、ｓ、
【式】
）、
5.22（1H、bs、−OH）、
5.40（1H、bd、Ｊ＝10Hz、NH）、
7.00〜8.20（15H、ｍ、
【式】
）
［下部異性体］
IR（KBr）cm-1；νNH、OH3300（ブロード）、νC=0
1708、νP=01127、1111 旋光度；［α］20 D＋72.2°（C1.00、CHCl3） 質量分析；（ｍ／ｚ）539（M+） NMR（CDCl3）δ値； 1.19（3H、ｄ、C6−Ｈ）、 1.70〜2.10（2H、ｍ、C2−Ｈ）、 3.15（3H、ｓ、
1708、νP=01127、1111 旋光度；［α］20 D＋72.2°（C1.00、CHCl3） 質量分析；（ｍ／ｚ）539（M+） NMR（CDCl3）δ値； 1.19（3H、ｄ、C6−Ｈ）、 1.70〜2.10（2H、ｍ、C2−Ｈ）、 3.15（3H、ｓ、
【式】
）、3.20（3H、ｓ、−OCH3）、
3.70〜5.20（7H、ｍ、C1−Ｈ、C3−Ｈ、C5−
Ｈ、−OH、
Ｈ、−OH、
【式】、
【式】
）、5.75（1H、bd、Ｊ＝８Hz、NH）、
6.90〜8.20（15H、ｍ、
【式】
）
実施例 ５
水素化カリウム（純度35％）480mg（4.14ミリ
モル）を乾燥ヘキサンで２回洗浄した後、減圧下
で乾燥させる。得られた水素化カリウムにジメチ
ルホルムアミド３mlを加え、懸濁液とし、その中
へ実施例４で得られたメチル−３−ベンジルオキ
シカルボニルアミノ−４−ジフエニルホスフイノ
イルメトキシメチル−２，３，６−トリデオキシ
−α−Ｄ−アラビノ−ヘキソピラノシドの上部異
性体747mg（1.38ミリモル）のジメチルホルムア
ミド溶液を氷冷下20分間を要して滴下する。同温
度で１時間撹拌した後、反応混合物に水20mlを加
え、酢酸エチル50mlずつで４回抽出する。有機層
を合わせ、飽和食塩水で３回洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させた後、減圧下に溶媒を留去
する。得られた残留物をカラムクロマトグラフイ
ー（溶離液；ベンゼン／酢酸エチル）で精製した
後、ヘキサンで再結晶すれば、融点66〜67℃を示
す針状晶のメチル−３−ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ−４−メトキシメチレン−２，３，４，
６−テトラデオキシ−α−Ｄ−アラビノ−ヘキソ
ピラノシド333mg（収率74.9％）を得る。 IR（KBr）cm-1；νNH3325、νC=01700 旋光度；［α］20 D＋86.9°（C1.04、CHCl3） 元素分析；C17H23NO5 計算値（％） Ｃ；63.54 Ｈ；7.21 Ｎ；4.36 実測値（％） Ｃ；63.49 Ｈ；7.26 Ｎ；4.34 質量分析；（ｍ／ｚ）521（M+） NMR（CDCl3）δ値； 3.39（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz、C6−Ｈ）、 1.70〜1.85（1H、ｍ、C2−Ha）、 2.12（1H、ddd、JC2-Ha、C2-He＝14Hz、
JC2-He、C3-H＝９Hz、JC2-He、C1-H＝４Hz、C2−
He）、 3.36（3H、ｓ、−OCH3）、 3.57（3H、ｓ、CH3 Ｏ−CH＝）、 4.12〜4.38（1H、ｍ、C3−Ｈ）、 4.66（1H、dq、JC5-H、C5-CH3＝７Hz、
JC5-H、=CH-＝２Hz、C5−Ｈ）、 4.87（1H、dd、JC1-H、C2-Ha＝８Hz、
JC1-H、C2-He＝４Hz、C1−Ｈ）、 5.09（2H、ｓ、
モル）を乾燥ヘキサンで２回洗浄した後、減圧下
で乾燥させる。得られた水素化カリウムにジメチ
ルホルムアミド３mlを加え、懸濁液とし、その中
へ実施例４で得られたメチル−３−ベンジルオキ
シカルボニルアミノ−４−ジフエニルホスフイノ
イルメトキシメチル−２，３，６−トリデオキシ
−α−Ｄ−アラビノ−ヘキソピラノシドの上部異
性体747mg（1.38ミリモル）のジメチルホルムア
ミド溶液を氷冷下20分間を要して滴下する。同温
度で１時間撹拌した後、反応混合物に水20mlを加
え、酢酸エチル50mlずつで４回抽出する。有機層
を合わせ、飽和食塩水で３回洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させた後、減圧下に溶媒を留去
する。得られた残留物をカラムクロマトグラフイ
ー（溶離液；ベンゼン／酢酸エチル）で精製した
後、ヘキサンで再結晶すれば、融点66〜67℃を示
す針状晶のメチル−３−ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ−４−メトキシメチレン−２，３，４，
６−テトラデオキシ−α−Ｄ−アラビノ−ヘキソ
ピラノシド333mg（収率74.9％）を得る。 IR（KBr）cm-1；νNH3325、νC=01700 旋光度；［α］20 D＋86.9°（C1.04、CHCl3） 元素分析；C17H23NO5 計算値（％） Ｃ；63.54 Ｈ；7.21 Ｎ；4.36 実測値（％） Ｃ；63.49 Ｈ；7.26 Ｎ；4.34 質量分析；（ｍ／ｚ）521（M+） NMR（CDCl3）δ値； 3.39（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz、C6−Ｈ）、 1.70〜1.85（1H、ｍ、C2−Ha）、 2.12（1H、ddd、JC2-Ha、C2-He＝14Hz、
JC2-He、C3-H＝９Hz、JC2-He、C1-H＝４Hz、C2−
He）、 3.36（3H、ｓ、−OCH3）、 3.57（3H、ｓ、CH3 Ｏ−CH＝）、 4.12〜4.38（1H、ｍ、C3−Ｈ）、 4.66（1H、dq、JC5-H、C5-CH3＝７Hz、
JC5-H、=CH-＝２Hz、C5−Ｈ）、 4.87（1H、dd、JC1-H、C2-Ha＝８Hz、
JC1-H、C2-He＝４Hz、C1−Ｈ）、 5.09（2H、ｓ、
【式】
）、5.33（1H、bd、Ｊ＝８Hz、NH）、
6.01（1H、ｍ、CH3O−ＣＨ＝）、
7.35（5H、ｓ、
【式】
）、
なお、実施例４で得られた下部異性体について
も同様に操作を行えば、メチル−３−ベンジルオ
キシカルボニルアミノ−４−メトキシメチレン−
２，３，４，６−テトラデオキシ−α−Ｄ−アラ
ビノ−ヘキスピラノシドを得る。 参考例 １ カルボハイドレート・リサーチ
（Carbohydrate Res.）、第４巻、第422頁（1967
年）に記載の方法によつて得られたメチル−３−
アジド−４，６−Ｏ−ベンジリデン−２，３−ジ
デオキシ−α−Ｄ−アラビノ−ヘキソピラノシド
10.0ｇ（34.3ミリモル）に四塩化炭素550mlを加
え、さらにＮ−ブロモコハク酸イミド7.3ｇ
（41.2ミリモル）および炭酸バリウム10.0ｇ（50.7
ミリモル）を加え、40分間還流する。放冷した
後、不溶物を去し、減圧下に溶媒を留去する。
得られた残留物をクロロホルム200mlに溶解させ
た後、５％亜硫酸水素ナトリウム水溶液、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液、水および飽和食塩水で
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
る。溶媒を留去し、得られた油状物をカラムクロ
マトグラフイー（溶離液；ヘキサン／酢酸エチ
ル）で精製すれば、白色結晶11.1ｇを得る。さら
に、イソプロピルアルコールで再結晶すれば、融
点65〜65.5℃を示すプリズム晶のメチル−３−ア
ジド−４−Ｏ−ベンゾイル−ブロモ−２，３，６
−トリデオキシ−α−Ｄ−アラビノ−ヘキソピラ
ノシド9.2ｇ（収率76.4％）を得る。 IR（KBr）cm-1；νN32105、νC=01722 旋光度；［α］20 D＋41.9°（C1.00、CHCl3） 元素分析；C14H16N3O4Br 計算値（％） Ｃ；45.42 Ｈ；4.36 Ｎ；11.35 実測値（％） Ｃ；45.50 Ｈ；4.33 Ｎ；11.37 NMR（CDCl3）δ値； 1.50〜2.45（2H、ｍ、C2−Ｈ）、3.41（3H、ｓ、
−OCH3）3.30〜3.60（2H、ｍ、、C6−Ｈ）、3.69
〜4.35（2H、ｍ、C3−Ｈ、C5−Ｈ）、4.87（1H、
ｍ、C1−Ｈ）、5.06（1H、ｍ、C4−Ｈ）、7.10〜
8.20（5H、ｍ、
も同様に操作を行えば、メチル−３−ベンジルオ
キシカルボニルアミノ−４−メトキシメチレン−
２，３，４，６−テトラデオキシ−α−Ｄ−アラ
ビノ−ヘキスピラノシドを得る。 参考例 １ カルボハイドレート・リサーチ
（Carbohydrate Res.）、第４巻、第422頁（1967
年）に記載の方法によつて得られたメチル−３−
アジド−４，６−Ｏ−ベンジリデン−２，３−ジ
デオキシ−α−Ｄ−アラビノ−ヘキソピラノシド
10.0ｇ（34.3ミリモル）に四塩化炭素550mlを加
え、さらにＮ−ブロモコハク酸イミド7.3ｇ
（41.2ミリモル）および炭酸バリウム10.0ｇ（50.7
ミリモル）を加え、40分間還流する。放冷した
後、不溶物を去し、減圧下に溶媒を留去する。
得られた残留物をクロロホルム200mlに溶解させ
た後、５％亜硫酸水素ナトリウム水溶液、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液、水および飽和食塩水で
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
る。溶媒を留去し、得られた油状物をカラムクロ
マトグラフイー（溶離液；ヘキサン／酢酸エチ
ル）で精製すれば、白色結晶11.1ｇを得る。さら
に、イソプロピルアルコールで再結晶すれば、融
点65〜65.5℃を示すプリズム晶のメチル−３−ア
ジド−４−Ｏ−ベンゾイル−ブロモ−２，３，６
−トリデオキシ−α−Ｄ−アラビノ−ヘキソピラ
ノシド9.2ｇ（収率76.4％）を得る。 IR（KBr）cm-1；νN32105、νC=01722 旋光度；［α］20 D＋41.9°（C1.00、CHCl3） 元素分析；C14H16N3O4Br 計算値（％） Ｃ；45.42 Ｈ；4.36 Ｎ；11.35 実測値（％） Ｃ；45.50 Ｈ；4.33 Ｎ；11.37 NMR（CDCl3）δ値； 1.50〜2.45（2H、ｍ、C2−Ｈ）、3.41（3H、ｓ、
−OCH3）3.30〜3.60（2H、ｍ、、C6−Ｈ）、3.69
〜4.35（2H、ｍ、C3−Ｈ、C5−Ｈ）、4.87（1H、
ｍ、C1−Ｈ）、5.06（1H、ｍ、C4−Ｈ）、7.10〜
8.20（5H、ｍ、
【式】
）
参考例 ２
実施例５で得られたメチル−３−ベンジルオキ
シカルボニルアミノ−４−メトキシメチレン−
２，３，４，６−テトラデオキシ−α−Ｄ−アラ
ビノ−ヘキソピラノシド250mg（0.78ミリモル）
を塩化メチレン2.5mlに溶解させ、この溶液にピ
リジニウムクロロクロメート503mg（2.33ミリモ
ル）を加え、室温で１日間撹拌する。反応混合物
にジエチルエーテル10mlを加え、15分間撹拌した
後、これにシリカゲルＧが約３cmの厚さに敷かれ
たグラスフイルターで過し、滓をジエチルエ
ーテル100mlぜ洗浄する。先に得られた液と洗
浄液を合わせ、減圧下に溶媒を留去し、得られた
残留物をカラムクロマトグラフイー（溶離液；ベ
ンゼン／酢酸エチル）で精製すれば、白色結晶
78.6mg（収率30％）を得る。さらにこれをジイソ
プロピルエーテルで再結晶すれば、融点128℃を
示す針状晶のメチル−３−ベンジンルオキシカル
ボニルアミノ−４−メトキシカルボニル２，３，
４，６−テトラデオキシ−α−Ｄ−アラビノ−ヘ
キソピラノシドを得る。 IR（KBr）cm-1；νNH3320、νC=01718、1680 旋光度；［α］20 D＋79.6°（C1.06、CHCl3） 元素分析；C17H23NO6 計算値（％） Ｃ；60.52 Ｈ；6.87 Ｈ；4.15 実測値（％） Ｃ；60.61 Ｈ；6.93 Ｈ；4.39 質量分析；（ｍ／ｚ）337（M+） NMR（CDCl3）δ値； 1.17（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz、C6−Ｈ）、 1.65（1H、ddd、JC2-Ha、C2-He＝13Hz、
JC2-Ha、C3-H＝13Hz、JC2-Ha、C1-H＝３Hz、C2−
Ha）、 1.93〜2.40（2H、ｍ、JC4-H、C5-H＝10Hz、C2−
He、C4−Ｈ）、 3.36（3H、ｓ、−OCH3）、 3.60（3H、ｓ、−COOCH3）、 3.80〜4.46（2H、ｍ、JC4-H、C5-H＝10Hz、C3−
Ｈ、C5−Ｈ）、 4.75（1H、ｄ、Ｊ＝３Hz、C1−Ｈ）、 4.93（1H、bd、Ｊ＝10Hz、NH）、 5.02（2H、ｓ、
シカルボニルアミノ−４−メトキシメチレン−
２，３，４，６−テトラデオキシ−α−Ｄ−アラ
ビノ−ヘキソピラノシド250mg（0.78ミリモル）
を塩化メチレン2.5mlに溶解させ、この溶液にピ
リジニウムクロロクロメート503mg（2.33ミリモ
ル）を加え、室温で１日間撹拌する。反応混合物
にジエチルエーテル10mlを加え、15分間撹拌した
後、これにシリカゲルＧが約３cmの厚さに敷かれ
たグラスフイルターで過し、滓をジエチルエ
ーテル100mlぜ洗浄する。先に得られた液と洗
浄液を合わせ、減圧下に溶媒を留去し、得られた
残留物をカラムクロマトグラフイー（溶離液；ベ
ンゼン／酢酸エチル）で精製すれば、白色結晶
78.6mg（収率30％）を得る。さらにこれをジイソ
プロピルエーテルで再結晶すれば、融点128℃を
示す針状晶のメチル−３−ベンジンルオキシカル
ボニルアミノ−４−メトキシカルボニル２，３，
４，６−テトラデオキシ−α−Ｄ−アラビノ−ヘ
キソピラノシドを得る。 IR（KBr）cm-1；νNH3320、νC=01718、1680 旋光度；［α］20 D＋79.6°（C1.06、CHCl3） 元素分析；C17H23NO6 計算値（％） Ｃ；60.52 Ｈ；6.87 Ｈ；4.15 実測値（％） Ｃ；60.61 Ｈ；6.93 Ｈ；4.39 質量分析；（ｍ／ｚ）337（M+） NMR（CDCl3）δ値； 1.17（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz、C6−Ｈ）、 1.65（1H、ddd、JC2-Ha、C2-He＝13Hz、
JC2-Ha、C3-H＝13Hz、JC2-Ha、C1-H＝３Hz、C2−
Ha）、 1.93〜2.40（2H、ｍ、JC4-H、C5-H＝10Hz、C2−
He、C4−Ｈ）、 3.36（3H、ｓ、−OCH3）、 3.60（3H、ｓ、−COOCH3）、 3.80〜4.46（2H、ｍ、JC4-H、C5-H＝10Hz、C3−
Ｈ、C5−Ｈ）、 4.75（1H、ｄ、Ｊ＝３Hz、C1−Ｈ）、 4.93（1H、bd、Ｊ＝10Hz、NH）、 5.02（2H、ｓ、
【式】
）、7.30（5H、ｓ、
【式】）
参考例 ３
参考例２で得られたメチル−３−ベンジンルオ
キシカルボニルアミノ−４−メトキシカルボニル
−２，３，４，６−テトラデオキシ−α−Ｄ−ア
ラビノ−ヘキソピラノシド36mg（0.11ミリモル）
をテトラヒドロフラン0.7mlに溶解させ、これに
0.6N塩酸0.7mlを加え、３時間還流する。反応混
合物に水３mlを加え、酢酸エチル15mlずつで２回
抽出する。酢酸エチル層を合わせ、飽和食塩水、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水および飽和食
塩水で順次洗浄する。無水硫酸マグネシウムで乾
燥させた後、減圧下に溶媒を留去する。得られた
残留物をジイソプロピルエーテルで洗浄すれば、
融点184〜187℃を示す白色結晶の３−ベンジルカ
ルボニルアミノ−４−メトキシカルボニル−２，
３，４，６−テトラデオキシ−α−Ｄ−アラビノ
−ヘキソピラノース34mg（収率98.4％）を得る。 IR（KBr）cm-1；νOH3410（シヨルダー）、νNH3320、
νC=01720、1677 旋光度；［α］20 D＋36.5°（C1.20、MeOH） 質量分析；（ｍ／ｚ）323（M+） 参考例 ４ 参考例３で得られた３−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−４−メトキシカルボニル−２，３，
４，６−テトラデオキシ−α−Ｄ−アラビノ−ヘ
キソピラノース30mg（9.28×10-5モル）をアセト
ン1.5mlに溶解させ、この溶液に氷冷下、8Nジヨ
ーンズ（Jones）試薬0.04ml（1.06×10-4モル）を
加える。氷冷下で40分間撹拌した後、イソプロピ
ルアルコール0.02mlを加え、同温度で10分間撹拌
する。反応混合物に酢酸エチル10mlを加え、飽和
食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水およ
び飽和食塩水で順次洗浄する。無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥させた後、減圧下に溶媒を留去し、得
られた残留物をカラムクロマトグラフイー（溶離
液；ベンゼン／酢酸エチル）で精製すれば、白色
結晶15.2mg（収率50.7％）を得る。さらに、これ
をベンゼン／ジイソプロピルエーテルで再結晶す
れば、融点118.5〜119℃を示す針状晶の（4R，
5S，6R）−４−ベンジルオキシカルボニルアミノ
−５−メトキシカルボニル−６−メチル−δ−ラ
クトンを得る。 IR（KBr）cm-1；νNH3365、νC=01720 旋光度；［α］20 D＋2.2°（C1.20、CHCl3） 元素分析；C16H19NO6 計算値（％） Ｃ；59.81 Ｈ；5.96 Ｎ；4.36 実測値（％） Ｃ；59.88 Ｈ；6.01 Ｎ；4.26 質量分析；（ｍ／ｚ）321（M+） NMR（CDCl3）δ値； 1.38（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz、−CH3）、 2.38〜2.79（2H、ｍ、JC4-H、C5-H＝10Hz、C2−
Ha、C4−Ｈ）、 3.00（1H、dd、JC2-He、C2-Ha＝15Hz、
JC2-He、C3-H＝７Hz、C2−He）、 3.69（3H、ｓ、−COOCH3）、 4.13〜4.62（2H、ｍ、JC4-H、C5-H＝10Hz、C3−
Ｈ、C5−Ｈ）、 5.08（2H、ｓ、
キシカルボニルアミノ−４−メトキシカルボニル
−２，３，４，６−テトラデオキシ−α−Ｄ−ア
ラビノ−ヘキソピラノシド36mg（0.11ミリモル）
をテトラヒドロフラン0.7mlに溶解させ、これに
0.6N塩酸0.7mlを加え、３時間還流する。反応混
合物に水３mlを加え、酢酸エチル15mlずつで２回
抽出する。酢酸エチル層を合わせ、飽和食塩水、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水および飽和食
塩水で順次洗浄する。無水硫酸マグネシウムで乾
燥させた後、減圧下に溶媒を留去する。得られた
残留物をジイソプロピルエーテルで洗浄すれば、
融点184〜187℃を示す白色結晶の３−ベンジルカ
ルボニルアミノ−４−メトキシカルボニル−２，
３，４，６−テトラデオキシ−α−Ｄ−アラビノ
−ヘキソピラノース34mg（収率98.4％）を得る。 IR（KBr）cm-1；νOH3410（シヨルダー）、νNH3320、
νC=01720、1677 旋光度；［α］20 D＋36.5°（C1.20、MeOH） 質量分析；（ｍ／ｚ）323（M+） 参考例 ４ 参考例３で得られた３−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−４−メトキシカルボニル−２，３，
４，６−テトラデオキシ−α−Ｄ−アラビノ−ヘ
キソピラノース30mg（9.28×10-5モル）をアセト
ン1.5mlに溶解させ、この溶液に氷冷下、8Nジヨ
ーンズ（Jones）試薬0.04ml（1.06×10-4モル）を
加える。氷冷下で40分間撹拌した後、イソプロピ
ルアルコール0.02mlを加え、同温度で10分間撹拌
する。反応混合物に酢酸エチル10mlを加え、飽和
食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水およ
び飽和食塩水で順次洗浄する。無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥させた後、減圧下に溶媒を留去し、得
られた残留物をカラムクロマトグラフイー（溶離
液；ベンゼン／酢酸エチル）で精製すれば、白色
結晶15.2mg（収率50.7％）を得る。さらに、これ
をベンゼン／ジイソプロピルエーテルで再結晶す
れば、融点118.5〜119℃を示す針状晶の（4R，
5S，6R）−４−ベンジルオキシカルボニルアミノ
−５−メトキシカルボニル−６−メチル−δ−ラ
クトンを得る。 IR（KBr）cm-1；νNH3365、νC=01720 旋光度；［α］20 D＋2.2°（C1.20、CHCl3） 元素分析；C16H19NO6 計算値（％） Ｃ；59.81 Ｈ；5.96 Ｎ；4.36 実測値（％） Ｃ；59.88 Ｈ；6.01 Ｎ；4.26 質量分析；（ｍ／ｚ）321（M+） NMR（CDCl3）δ値； 1.38（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz、−CH3）、 2.38〜2.79（2H、ｍ、JC4-H、C5-H＝10Hz、C2−
Ha、C4−Ｈ）、 3.00（1H、dd、JC2-He、C2-Ha＝15Hz、
JC2-He、C3-H＝７Hz、C2−He）、 3.69（3H、ｓ、−COOCH3）、 4.13〜4.62（2H、ｍ、JC4-H、C5-H＝10Hz、C3−
Ｈ、C5−Ｈ）、 5.08（2H、ｓ、
【式】
）、5.22（1H、bd、Ｊ＝８Hz、NH）、
7.33（5H、ｓ、
【式】
）、13C−NMR（CDCl3）δ値；
19.6（Ｑ、Ｃ−６）、35.4（Ｔ、Ｃ−２）、
47.3（Ｄ、Ｃ−３）、52.4（Ｄ、Ｃ−４）、
52.8（Ｑ、−OCH3）、66.8（Ｔ、
【式】
）、74.8（Ｄ、Ｃ−５）、
127.9、128.4、136.0（
【式】
）、155.3（Ｓ、−COO−）、
169.3、170.8（Ｓ、Ｃ−１、−COOＣH3）
参考例 ５
５％パラジウム−炭素25mgを用い、参考例４の
方法で得られた（4R，5S，6R）−４−ベンジル
オキシカルボニルアミノ−５−メトキシカルボニ
ル−６−メチル−δ−ラクトン65mg（2.02×10-4
モル）をメタノール３ml溶液中で水素雰囲気下で
１時間接触還元させる。５％パラジウム−炭素を
去した後、減圧下に溶媒を留去すれば、粗の
（4R，5S，6R）−４−アミノ−５−メトキシカル
ボニル−６−メチル−δ−ラクトン38mg（収率
100％）を得る。得られた残留物を精製すること
なく、濃塩酸１mlを加え、40分間還流する。減圧
下に溶媒を留去し、得られた残留物にベンゼンを
加え、ベンゼン共沸を３回行えば、無定形結晶で
ある粗の（4R，5S，6R）−４−アミノ−５−カ
ルボキシル−６−メチル−δ−ラクトン・塩酸塩
42mg（収率100％）を得る。これにベンジルアル
コール0.3mlを加え、70℃で７時間撹拌すれば、
ベンジル＝（3R，4S，5R）−４−アミノ−４−カ
ルボキシル−５−ヒドロキシ−ヘキサネート・塩
酸塩を得る。この反応混合物を精製することな
く、これにベンジルアルコール0.3ml、ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド42mg（2.02×10-4モル）
およびトリエチルアミン0.028ml（2.02×10-4モ
ル）を添加し、55℃で5.5時間撹拌する。冷却し
た後、析出晶を去し、液をカラムクロマトグ
ラフイー（溶離液；ベンゼン／酢酸エチル）で精
製すれば、油状の（3S，4R）−３−［（1′R）−1′−
ヒドロキシエチル］−４−ベンジルオキシカルボ
ニルメチル−２−アゼチジノン23mgを得る
［（4R，5S，6R）−４−ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ−５−メトキシカルボニル−６−メチル
−δ−ラクトンからの収率；43.2％］。 旋光度；［α］20 D＋9.9°（C2.3、CHCl3） 質量分析；（ｍ／ｚ）263（M+） NMR（CDCl3）δ値； 1.27（3H、ｄ、Ｊ＝6.3Hz、
方法で得られた（4R，5S，6R）−４−ベンジル
オキシカルボニルアミノ−５−メトキシカルボニ
ル−６−メチル−δ−ラクトン65mg（2.02×10-4
モル）をメタノール３ml溶液中で水素雰囲気下で
１時間接触還元させる。５％パラジウム−炭素を
去した後、減圧下に溶媒を留去すれば、粗の
（4R，5S，6R）−４−アミノ−５−メトキシカル
ボニル−６−メチル−δ−ラクトン38mg（収率
100％）を得る。得られた残留物を精製すること
なく、濃塩酸１mlを加え、40分間還流する。減圧
下に溶媒を留去し、得られた残留物にベンゼンを
加え、ベンゼン共沸を３回行えば、無定形結晶で
ある粗の（4R，5S，6R）−４−アミノ−５−カ
ルボキシル−６−メチル−δ−ラクトン・塩酸塩
42mg（収率100％）を得る。これにベンジルアル
コール0.3mlを加え、70℃で７時間撹拌すれば、
ベンジル＝（3R，4S，5R）−４−アミノ−４−カ
ルボキシル−５−ヒドロキシ−ヘキサネート・塩
酸塩を得る。この反応混合物を精製することな
く、これにベンジルアルコール0.3ml、ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド42mg（2.02×10-4モル）
およびトリエチルアミン0.028ml（2.02×10-4モ
ル）を添加し、55℃で5.5時間撹拌する。冷却し
た後、析出晶を去し、液をカラムクロマトグ
ラフイー（溶離液；ベンゼン／酢酸エチル）で精
製すれば、油状の（3S，4R）−３−［（1′R）−1′−
ヒドロキシエチル］−４−ベンジルオキシカルボ
ニルメチル−２−アゼチジノン23mgを得る
［（4R，5S，6R）−４−ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ−５−メトキシカルボニル−６−メチル
−δ−ラクトンからの収率；43.2％］。 旋光度；［α］20 D＋9.9°（C2.3、CHCl3） 質量分析；（ｍ／ｚ）263（M+） NMR（CDCl3）δ値； 1.27（3H、ｄ、Ｊ＝6.3Hz、
【式】
）、2.74（2H、ｄ、Ｊ＝6.8Hz、C5−Ｈ）、
2.86（1H、dd、JC3-H、C4-H＝2.2Hz、JC3-H、C1′-H
＝6.7Hz、C3−Ｈ）、 3.09（1H、bs、−OH）、 3.94（1H、dt、JC4-H、C3-H＝2.2Hz、JC4-H、C5-H
＝6.8Hz、C4−Ｈ）、 4.14（1H、dq、JC1′-H、C3-H＝6.6Hz、JC1′-H、CH3
＝6.6Hz、
＝6.7Hz、C3−Ｈ）、 3.09（1H、bs、−OH）、 3.94（1H、dt、JC4-H、C3-H＝2.2Hz、JC4-H、C5-H
＝6.8Hz、C4−Ｈ）、 4.14（1H、dq、JC1′-H、C3-H＝6.6Hz、JC1′-H、CH3
＝6.6Hz、
【式】
）、5.13（2H、ｓ、
【式】
）、6.52（1H、bs、NH）、
7.35（5H、ｓ、
【式】
）、13C−NMR（CDCl3）δ値；
21.3（Ｑ、CH3）、3.4（Ｔ、−ＣH2COO−）、
47.6（Ｄ、Ｃ−４）、64.0（Ｄ、Ｃ−３）、
65.3（Ｄ、
【式】
）、
66.9（Ｔ、
【式】
）、
128.4、129.1、135.3（
【式】
）、
168.0、171.2（Ｓ、Ｃ−２、−COO−）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式 「式中、R1とR2は、一方が水素原子を、他方
がアルコキシ基を示し；R3とR4は、一方が式
【式】（式中、R6は、アリール基 を；およびR7は、アルキル基を、それぞれ示
す。）で表わされる基を、他方がヒドロキシル基
を示す。；また、R3とR4は、一緒になつて式＝
CH〜OR8（式中、R8は、アルキル基を；および
〜は、シスまたはトランス体でもよいし、それら
の混合物でもよいことを、それぞれ示す。）で表
わされる基もしくはオキソ基を形成していてもよ
い。R5は、保護基を有するアミノ基を；〜は、
アキシアルまたはエクアトリアルでもよいし、そ
れらの混合物でもよいことを、それぞれ示す。」 で表わされるＤ−ヘキソピラノース誘導体。 ２ R3とR4が一緒になつてオキソ基を形成して
いる特許請求の範囲第１項記載のＤ−ヘキソピラ
ノース誘導体。 ３ メチル−３−ベンジルオキシカルボニルアミ
ノ−２，３，６−トリデオキシ−α−Ｄ−アラビ
ノ−ヘキソピラノシド−４−ウロースである特許
請求の範囲第２項記載のＤ−ヘキソピラノース誘
導体。 ４ R3とR4は、一方が式【式】（式 中、R6は、アリール基を；およびR7は、アルキ
ル基を、それぞれ示す。）で表わされる基で、他
がヒドロキシル基である特許請求の範囲第１項記
載のＤ−ヘキソピラノース誘導体。 ５ メチル−３−ベンジルオキシカルボニルアミ
ノ−４−ジフエニルホスフイノイルメトキシメチ
ル−２，３，６−トリデオキシ−α−Ｄ−アラビ
ノーヘキソピラノシドである特許請求の範囲第４
項記載のＤ−ヘキソピラノース誘導体。 ６ R3とR4が一緒になつて式＝CH〜OR8（式中、
R8は、アルキル基を；および〜は、シスまたは
トランス体でもよいし、それらの混合物でもよい
ことを、それぞれ示す。）で表わされる基を形成
している特許請求の範囲第１項記載のＤ−ヘキソ
ピラノース誘導体。 ７ メチル−３−ベンジルオキシカルボニルアミ
ノ−４−メトキシメチレン−２，３，46−テトラ
デオキシ−α−Ｄ−アラビノーヘキソピラノシド
である特許請求の範囲第６項記載のＤ−ヘキソピ
ラノース誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57057342A JPS58174376A (ja) | 1982-04-08 | 1982-04-08 | Ｄ―ヘキソピラノース誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57057342A JPS58174376A (ja) | 1982-04-08 | 1982-04-08 | Ｄ―ヘキソピラノース誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58174376A JPS58174376A (ja) | 1983-10-13 |
| JPH0424355B2 true JPH0424355B2 (ja) | 1992-04-24 |
Family
ID=13052894
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57057342A Granted JPS58174376A (ja) | 1982-04-08 | 1982-04-08 | Ｄ―ヘキソピラノース誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58174376A (ja) |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1457560A (en) * | 1974-03-20 | 1976-12-08 | Farmaceutici Italia | Hexoses |
| US4265885A (en) * | 1978-10-25 | 1981-05-05 | Farmitalia Carlo Erba S.P.A. | Anthracyclines containing branched-chain amino-deoxy sugars |
| US4282148A (en) * | 1980-01-14 | 1981-08-04 | Merck & Co., Inc. | Synthesis of thienamycin via esters of (3SR, 4RS)-3-[(SR)-1-hydroxyethyl]-β,2-dioxo-4-azetidinebutanoic acid |
| US4269772A (en) * | 1980-01-14 | 1981-05-26 | Merck & Co., Inc. | Synthesis of thienamycin via trans-3-carboxymethylene-4-carboxy-5-methyl-Δ2 -isoxazoline |
| US4287123A (en) * | 1980-01-14 | 1981-09-01 | Merck & Co., Inc. | Synthesis of thienamycin via (3SR, 4RS)-3-((RS)-1-acyloxyethyl)-2-oxo-4-azetidineacetate |
-
1982
- 1982-04-08 JP JP57057342A patent/JPS58174376A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58174376A (ja) | 1983-10-13 |
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