JPS58174376A - Ｄ―ヘキソピラノース誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は 式 で表わされるヘキソピラノース誘導体に関スる。

近年、有用な生物活性を有するチェナマイシン（υ８　
Ｆ、３，９５０，３５？　）が見出されたのを契機とし
て、種々のカルバペネム類を純合成的に得る研究が活発
に行われている。特に、合成反応においては、光学活性
体を高収率に得ることが望まれて〜・る。

従来、光学分割などを用いることにより、光学活性体を
得て〜・たが、φ雑でがっ低収率であった。

たとえば、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　　Ｌｅｔｔｅｒｓ
　　ｖｏｌ、　２２゜ｐ９１３〜Ｉ）９１６　（１９８
１）　４ｃ記載の方法によって得られる（３Ｒ，４８，
６Ｒ）−３−アミノ−４−カルボキシ−５−メチルーー
ーラクトンは立体配置は決まって（・るが、ラセｉ体で
あり、有用なものを得るには光学分割をしなければなら
ない。

このような状況下において、本発明者らは種々検討を重
ねた結果、一般式（Ｉ）で表わされる化合物がチェナマ
イシン誘導体合成における有用な中間体であることを見
出し、さらに、このものの光学活性体は、天然の糖、た
とえば、Ｄ−グルコースなどを用いることにより、光学
分割をせずに得られることを見出し、本発明を完成した
。

以下、本発明の詳細な説明する。

ＷおよびＶにおけるアルコキシ基としては、メトキシ、
エトキシ、ｎ−プロポキシ、１１０−プロポキシ、ｎ−
ブトキシ、五ｓｏ−ブトキシ、ｓｅｃ　−ブトキシ、ｔ
ｅｒｔ−ブトキシなどのｃ、−１゜の分枝もしくは直鎖
アルコキシ基が挙げられる。Ｈｆｆ　、　Ｂ龜およびＲ
−におけるアルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−
７’ロビル、１ｓｏ−７’ロ□壱ル、１１−７’チル、
五ｓｏ−ブチル、＄ＣＣ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルな
とのＣ１〜、。の分枝もしくは直鎖アルキル基が、ＶＫ
おけるアルアルキル基としてはベンジル基などが、アル
コキシ基としてはエトキシ、エトキシ基などが、アリー
ルオキシ基としてはフェノキシ、ナフチルオキシ基など
が、アリール基としてはフェニル、ナフチル基などが、
Ｒａにおけるシクロアルキル基とし【はシクロヘキシル
基などが、飽和顎素環式基としてはテトラノ１イドロビ
ラニル基などが挙げられる。

Ｒ６の保護形成基には、通常カルボキシル保護基として
使用し得るすべての基を含み、たとえば、メチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、ム＠ｏ−７’ロビル、ｔａｒｔ−”
；エチル、ｎ−ブチル１、ベンジル、ジフェニルメチル
、トリチル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−メトキシベンジ
ル、ベンゾイルメチル、アセチルメチル、ｐ−ニトロベ
ンゾイルメチル、ｐ−ブロモベンゾイルメチル、ｐ−メ
タンスルホニルベンゾイルメチル、フタルイミドメチル
、トリクロロエチル、　ｌ　、　１　　’／メチルー２
−グロベニル、１゜１−ジメチルプロピル、アセトキシ
メチル、プロピオニルオキシメチル、ピノくロイルオキ
シメチル、１　、１−ジメチル−２−プロペニル、３−
メチル−３−ブチニル、サクシンインドメチル、ｌ−シ
クロプロピルエチル、メチルスルフェニルメチル、フェ
ニルチオメチル、ジメチルアミノメチル、キノリ／−１
−オキサイド−２−メチル、ピリジン−１−オキサイド
−２−イル−メチル、ビス（ｐ−メトキシフェニル）メ
チルなどの基で保護されている場合、または特開昭４６
−７０７３号およびオランダ国公開公報ｙｉｏｓｚｉｓ
号に記載されている、たとえば、ジメチルクロロシラン
のごときシリル化合物で保葭されている場合などが挙げ
られる。

また、塩形成陽イオンとしては１、％に非毒性塩類を形
成するものが好ましく、具体的に％言、ナトリウム、カ
リウムなどのアルカリ金属塩；カルシウム、マグネシウ
ムなどのアルカリ土類金属塩；アンモニウム塩；トリエ
チルアミン、プロカイン、ジペンジルアｉ：／、Ｎ−ベ
ンジル−β−フェネチルアミン、ｌ−工７エナオン、Ｎ
、Ｎ−ジベンジルエチレンジアミンなどの含窒素有機塩
基との塩などが挙げられる。

また、Ｒ’における保護基としては、通常アミノ保護基
として使用し得るすべての基を含み、たとｔ　ｋ！　、
アセチル、トリクロロエトキシカルボニル、トリブロモ
エトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、　ｐ
−１ルエンスルホニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニル、０−ブロモベンジルオキ′ジカルボニル、Ｏ−
ニトロフェニルスルフェニル、（モノ−、ジー、　　ト
ｖ−＞ｐロロアセチル、トリフルオロアセチル、ホルミ
ル、　　ｔｅｒｔ−アミルオキシカルボニル、ｔｅｒｔ
−ブトキシカルボニル、ｐ−メトキシベンジルオキシカ
ルボニル、３゜４−ジメトキシベンジルオキシカルボニ
ル、４−（フェニルアゾ）ベンジルオキシカルボニル、
４−（４−メトキシフェニルアゾ）ベンジルオキシカル
ボニル、ピリジン−１−オキサイド−２−イル−メトキ
シカルボニル、２−フリルオキシカルボニル、ジフェニ
ルメトキシカルボニル、１，１−ジメチルグロボキシカ
ルボニル、インプロポキシカルボニル、ｌ−シクログロ
ビルエトキシカルボニル、フタロイル、サクシニル、ｌ
−アダマンチルオキシカルボニル、８−キノリルオキシ
カルボニルなどの脱離しやす（・アシル基が挙げられ、
更に、）リチル、２−ニトロフェニルチオ、２．４−ジ
ニトロフェニルチオ、２−ヒドロキシベンジリデン、２
−ヒドロキシ−５−クロロベンジリチン、２−ヒドロキ
シ−１−ナフチルメチレン、３−ヒドロキシ−４−ピリ
ジルメチレン、１−メトキシカルボニル−２−プロピリ
デン、１−エトキシカルボニル−２−プロピリデン、３
−エトキシカルボニル−２−ブチリデン、ｌ−アセチル
−２−プロピリチン、ｌ−ベンゾイル−２−プロピリチ
ン、１−（Ｎ−（２−メトキシフェニル）カルバモイル
ツー２−プロピリデン、１−（Ｎ−（４−メトキシフェ
ニル）カルバモイルツー２−プロピリデン、２−エトキ
シカルボ盈ルシクロへキシリチン、２−エトキシカルボ
ニルシクロベンチリチン、２−アセチルシクロヘキシ、
リチン、３．３−ジメチル−５−オキソシクロヘキシリ
デンなどの脱離しやす（・基′または、ジーもしくはト
リーアルキルシリルなどのアミノ基の保饅基が挙げられ
る。

次に、１造法について説明する。

製造ルートを以下の様に図式化することができる。

（以下余白） １１ ζ 杉 呂↑　　　　　　む ８↑　　　　　　　↓↓　　　　　　　３↑ＲＩＯのア
ルキル基としては　ｉｌ？　、　１ｍおよびＷにおける
アルキル基として説明したものが挙げられる。

次Ｋ　（ｉ）〜−）の各工程について説明する。

工＠　（ａ） Ｃａｒｂｏｈｙｄｒａｔｅ　Ｒｅｓ、　ｖｏｌ　４．　
ｐ４２２　（１９６７）およびＪ、　Ｏｒｇ、　Ｃｂｅ
ｍ、　ｖｏｌ　３４．　ｐｔｏ４ｓ　（１９６Ｇ）゛の
記載などの方法によって得られた一般式（ｎ）で表わさ
れる化合物は、ラネーニッケルなどを触媒とし、還元を
行うことによって、脱ハロゲン化ならびにアジドの還元
を、ならびに、トリエチルアミンなどの塩基を触媒にし
て、脱アシル化を同時に行（・、アミノアルコール体と
することができる。この反応は反応に不活性な溶媒、た
とえば、メタノール、エタノール、酢ｅ：ｒ−ｙ−ル、
酢酸中で行うことができる。上記アミノアルコール体は
Ｍ製せずに、たとえば、通常のアシル化などを行うこと
によって７ミノ基に保績基を導入し、一般式（ｍ）で表
わされる化合物を得ることができる。

工程（ｂ） 一般式（Ｉ■）で表わされる化合物を通常の緩和な酸化
反応を用−・ることによって、一般式＠）で表わされる
化合物へ導くことができる。酸化剤としては、ビリジニ
ウムクロロクーメート（ｐｃｃ）　、ジョーンズ試薬、
二酸化マンガン、酸化ルテニウム、ジメチルスルホキシ
ド−無水トリフルオロ酢酸、ジメチルスルホキシド−ジ
シクロへキシルカルボジイミド、ジメチルスルホキシド
−無水酢酸などが挙げられる。（＃照：　Ｊ、　Ｏｒｇ
、　Ｃｈｅｍ、　ｖｏｌ　４１．　Ｈａ　２０．　ｐ３
３２９〜９３３３１　（１９７６）　） 工程（Ｃ）　、　（ｄ）　　　　　　　　　１．。

一般式（ＩＶ）で表わされる化１合物にＨｏｒｎｅｒ　
−Ｗｉ　ｔ　ｔ、ｉ　ｇ反応を行うことによって一般式
（Ｖ）で表わされる化合物を経て、一般式（Ｖｌ）で表
わされる化合物に導くことができる。まず、一般式（Ｉ
Ｖ）で表わされる化合物のカルボニル基に対し０Ｒ１ て、一般式Ｏｔ’）ｔｐｃＨ！　で表わされるホスフィ
ンオキサイドのリチウム塩を反応させることによって、
一般式（■）で表わされる化合物を得ることができる。

この反応は反応に不活性な溶媒、たとえば、テトラヒド
ロフラン、ジメチルスルホキシド、ベンゼン、ジエチル
エーテルなどの存在下に行うことができる。一般式 （Ｒ？）、ＰＣＩ、で表わされるホスフィンオキサイド
のリチウム塩は、ホスフィンオキサイド、たとえば１、
メトキシメチルジフェニルホスフィンオキサイドに、上
記した溶媒中にて、塩基、たとえば、リチウムジイソプ
ロピルアミド、ｎ−ブチルリチウムなどを反応させて得
られる。この反応は一り８℃〜室温下行うことができる
。

次に、一般式（Ｖ）で表わされる化合物に塩基を反応さ
せ、脱ホスフィン酸反応を行って、一般式（Ｖｌ）で表
わされる化合物を得ることができる。この反応は、反応
に不活性な溶媒、たとえば、ジメチルホルムアミド、テ
トラヒドロフランなどの存在下行うことができ、塩基と
しては水素化カリウム、水素化ナトリウム、水素化リチ
ウムなどが挙げられる。（Ｈｏｎｅｒ　−Ｗ１ｔｔｉｇ
反応；参照：　Ｊ、Ｃｂｅｍ、　Ｓｏｃ、、　Ｐｅｒｋ
ｉｎ　ｌ。

ｐ３０９９〜ｐ３１０６　（１９７９））工程（ｅ） 一般式（Ｖｌ）で表わされる化合物にクロム酸系酸化剤
、たとえば、ピリジニウムクロロクロメ−ト（ＰＣＣ）
　、コＩＪ　７ズ試薬、ジョーンズ試薬、ピリジニウム
クロメートなどを反応させることによって一般式（■）
で表わされる化合物を得ることができる。この反応は、
反応に不活性な溶媒、たとえば、塩化メチレン、ジメチ
ルホルムアミド、アセトンなどの存在下行うことができ
る。（参照：　Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒ
ｓ　Ｍｌ　３Ｇｐ３４８３〜ｐ３４８４　（１９７？）
）工程（ｆ） 一般式（■）で表わされる化合物を、酸触媒を用いて、
通常の加水分解することによって、一般式（［）で表わ
される化合物を得ることができる。この反応は反応に不
活性な溶媒、たとえば、テトラヒドロフラン、アセトン
、水、またはこれらの混合溶媒などの存在下行うことが
でき、酸触媒としては、塩酸、硫酸、酢酸、リン酸など
が挙げられる。

工程（２） 一般式（■）で表わされる化合物に酸化剤、たとえば、
ジョーンズ試薬、コリンズ試薬、ピリジニウム、クロロ
クロメ−）　（ＦＣＣ）などのクロム酸系酸化剤、酸化
ルテニウム、ジメチルスルホキシド−無水トリフルオロ
酢酸などを反応させることによって一般式（ＩＸ）で表
わされる化合物に導くことができる。溶媒としては、ア
セトン、テトラヒドロフラン、ジ−オキサン、水などの
反応に悪影畳を与えな（・ものが挙げられ、これら２種
以上の俗媒を混合して用いてもよい。

上記酸化剤は一般式（［）で表わされる化合物に対して
１当量から２０当量用いられる。反応温度は一３０℃〜
５０℃で、反応時間は１分間から２日間で行われ、好ま
しくは水冷下付近にて、３０分間から２時間で行われる
。

更に１一般式（ｍ）、　（ｉｖ）、　（ｖ）ｔ　（Ｖｌ
）、　（■）ｌ（１１）および（ＩＸ）で表わされる化
合物にお−・ては、アミノ基およびカルボキシル基の保
護ならびにそれらの脱離、更にはカルボキシル基の塩の
形成は常法に従って行われ、対応する目的化合物に変換
することができる。また、Ｒ”　、　Ｒ’の基に活性な
基が存在するときは、反応に際し、通常の保護基で任意
に保護しておくことができ、反応彼、常法により、その
保護基を脱離させることもできる。以上のようにして得
られた目的化合物、すなわち、一般式Ｑｖ）＋　（ｖ）
ｔ　（ＶＩ）Ｉ　（■）。

（■）および（ＩＸ）で表わされる化合物は常法によっ
て単離することができる。

□ 以上説明した製造法により、たとえば、Ｄ−グ・］・ ルコースなどの光学活性な糖より、光学活性な一般式（
１）で表わされる化合物を得ることができる。

また、本発明は一般式（Ｉ）で表わされるヘキソピラノ
ース誘導体のすべての光学異性体およびラセ建体ならび
にすべての結晶形および水和物におよぶものである。

本発明の一般式（１）で表わされるヘキソピラノース誘
導体を酸化して得られる一般式（Ｘ）で表わされる化合
物、たとえば、（４Ｒ，５８，６Ｒ）　−４−ペンジル
オモ・ジカルボニルアミノ−５−メトキシカルボニル−
６−メチルーーーフクトン？＝＋＝＃ｆ鼾傘準などにア
ミノ基の保籟基の脱離反応、エステルの加水分解、アル
コリシスそして閉環反応などを行うことによって、アゼ
チジノン誘導体を得ることができる。さらに、このもの
をβ−ケトエステル体に変換し、アジド体を経て閉環反
応、ｌそしてメルカプト基の導入などを行うことによっ
て、チェナマイシン誘導体を得ることができる。（参照
；　Ｔ＊ｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒ＠ｖｏｌ　
２１．　Ｉ）２７８３〜ｐ２７８６　（１９８０）、　
１ｂｉｄ　ｖｏｊ　２２．　ｐ９１３〜ｐｓ１ｓ　（１
９８１）） 次に、参考例ならびに実施例にて本発明を説明する。

参考例１゜ Ｃａｒｂｏｈｙｄｒａｔｅ　　Ｒｅｓ、ｖｏｌ　４　　
ｐ４２２　（１９６？）Ｋ記載の方法によって得られた
メチル−３−アジド−４，６−Ｑ−ベンジリデン−２，
３−ジデオキシ−α−Ｄ−アラビノ−へキソビラノシド
ｘｏ、ｏｒ　（３４，３ミリモル）　４ｃ　四塩化炭素
５５０　ｍｇを加え、さらにＮ−ブロモコハク酸イミド
７．３ｔ　（４１，２ミリモル）及び炭酸バリウム１０
．Ｏｆ（５０，７ミリモル）を加え、４０分間加熱還流
する。放冷した後、不溶物を濾去し、減圧下に溶媒を留
去する。得られた残渣をクロロホルム２００−に溶解し
た後、５％亜硫酸水素ナトリウム水溶液、飽和畿酸水素
ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去し、得られ
た油状物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲルＣ−
２００；溶出液：ヘキサン／酢酸エチル）Ｋより精製す
れば、白色結晶１１．ＩＰを得る。さらに、イソプロピ
ルアルコールにより再結晶ｆれば、融点６５〜６５．５
℃を示すプリズム晶のメチル−３−アジド−４−０−ベ
ンゾイル−６−ブロモ−２，３，６−）リゾオキシ−α
−Ｄ−アラビノ−へキソピラノシド９．２　？　（収率
７６．４％）ヲ得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ　’　ニジＮ、２１０５．シｃ、０
１７２２旋光度；〔α〕Ｌ・＋４１．９’　　（ＣＩ、
００．　ＣＨＣｌ、）元素分析：　Ｃ１４）Ｉｔｓ　Ｎ
、ｏ、　Ｂｒ計算値（２）Ｃ；４５，４２　　Ｈ；４．
３６　　Ｎｕｌｌ、３５実測値（至）Ｃ；４５，５０　
　Ｈ；４．３３　　Ｎｕｌｌ、３７ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、
）δ １．５０〜２．４５　（２Ｂ、　ｍ、　Ｃ，−Ｈ）　、
　３．４１　（３Ｈ，８、−０ＣＲ，）　。

ａ、３ｏ　〜３．６０　（２Ｈ、ｍ　、　Ｃｏ−Ｈ）　
１３．６９〜４．３５　（２Ｈ，ｍ　、　Ｃ，−Ｈ，Ｃ
，−Ｈ）　。

４．８７　（ＩＨ，ｍ、　Ｃ１−（（）　、　５．０６
　（ＩＨ，ｍ、　Ｃ４−Ｈ）　。

実施例１ 参考例１の方法によって得られたメチル−３−７シ）’
−４−０−ペンゾイル−６−プロモー２．３．６−）リ
ゾオキシ−α−Ｄ−アラビノ−へキンピラノシドｘｏ、
ｏｒ　（２７，０ミリモル）Ｋメタノール８００−、ラ
ネーニッケルＷ−４２０ｆ及びトリエチルアミン３．８
　ｍ　（２７，２ｔリモル）を加え、水素雰囲気下３．
８ｆｆ／−で中圧接触還元を８時間行う。反応液を濾過
し、残漬を３８０　ｍｇのメタノールで洗浄する。濾液
と洗浄液を合わせ、減圧下に溶媒を留去すれば、粗のメ
チル−３−アミノ−２，３，６−）リゾオキシ−α−り
一アラビノーへキンピラノシドを得る。

得られた残渣を精製することなく、塩化メチレン１００
　ｓｇ及びトリエチルアミン４，３　ｗｔ　（ａｏ、ｓ
ミリモル）を加え、攪拌しながらさらに氷冷下でベンジ
ルオキシカルボニルクロライド４．２−（２９，４ミ’
）モル）を添加する。室温で４時間攪拌した後、反応液
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で耐
久洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に
溶媒を留去し、得られた残渣をカラムクロマトグラフィ
ー（シリカゲル、Ｃ−２００；溶出液：ベン（ン／酢酸
エチル＞ＶＣ付した後、ベンゼンより再結晶すれば、融
点１３２〜１３５℃を示す針状晶のメチル−３−ベンジ
ルオキシカルボニル７（ノー！、３．６−）リゾオキシ
−α−Ｄ−アラビノ−へキンピラノシド４．１　ｔ　（
収率５２．３％）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ　’　；シ０Ｈ３４１０，シＮＨ３
３０５，ν（、、Ｑ１６８０旋ｔｙｔ　：　ｃａ〕”ｊ
　＋　ｏ７．＜＠（Ｃ１，３７，ａｃｔ、）元素分析；
　Ｃ，、Ｈ！、　Ｎｏ。

計算値（へ）Ｃ；６１，００　　Ｈニア、１７　　Ｎ：
４，７４実測値〜Ｃ：６１，１４　　Ｈ；７，３０　　
Ｎ；４，６３質量分析：　（ｍ７ｇ）　２９５（Ｍ＋）
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、）、５ １．２７　（３Ｈ，ｄ　、　Ｊ−６Ｈｚ　、　Ｃ６−Ｈ
）　。

１．６３　（ＩＨ，ｄｄｄ　Ｉ　Ｊ（、−Ｈａ　、　（
４−Ｈａ−１３Ｈ”　ｔＪＣ，−Ｈａ　、　ＣＢ　−Ｈ
−１３Ｈ”　＋ＪＣ１ｌ　　Ｈａ　＊　　Ｃ１Ｈ−３Ｈ
Ｉ　　Ｃ−−Ｈａ）。

２．０１　（ＩＨ，ａａ　、　ｅＴｃ、−Ｈａ　ｌ　Ｃ
，−ｎ、−ｔｓＨｇ　。

ＪＣＩ　Ｈａ　＊　（４Ｈ”４Ｈ”　１　”！　Ｈｅ）
　。

３．３０（３Ｈ，ε、→ＣＨＩ　）　＋２．７０〜４．
２２　（４Ｈ，ａｔ、　Ｃ，−Ｈ，Ｃ４−Ｈ，Ｃ１１−
Ｈ，−０Ｈ）　。

’、”　（”Ｈ１”　＋　ＪＣ１Ｈ＠　Ｃ１−Ｈａ”３
Ｈ”　ｓ　ｅｔ−ａ）ｓ５．０４　（２Ｈ，Ｂ、→惺−
Ｏ）。

実施例２ ジメチルスルホキシド３．８４−（５４，２ｔりモル）
を塩化メチレン９５ｓｄで希釈した後、−７ｉ℃に冷却
する。同温度にて無水トリフルオロ酢酸５，７４１１ｇ
（４０，６ミリモル）を塩化メチレン１３−で希釈した
溶液を１０分間を要して滴下し、その後、１５分間攪拌
する。実施例１の方法で得られたメチル−３−ベンジル
オキシカルボニルアミノ−２，３，６−）リゾオキシ−
α−Ｄ−アラビノ−へキンピラノシド８．Ｏｆ　（！７
，１　ｔリモル）を塩化メチレン９５−に溶解させ、先
に調整された溶液の中へ、−６ＩＣ以下にて、２０分間
を要して滴下する。反応液を一６５℃以下にて１．５時
間攪拌した後、トリエチル７書ン１１．３　ｄ　（８１
，０ミリモル）を同温度以下にて１０分間を要して滴下
し、その後０℃まで昇温する。

反応後、反応液を水Ｚｏｏ−で洗浄し、洗浄液について
は塩化メチレフ１００−で再抽出を行う。

塩化メチレン層を合わせ、飽和食塩水で５回洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留去
する。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリ
カゲル、Ｃ−２００：溶出液：ベンゼン／酢酸エチル）
で精製し、白色晶を得る。さらに、イソプロピルエーテ
ル／ヘキサンで再結晶すれば、融点８２〜８３℃を示す
プリズム晶のメチル−３−ベンジルオキシカルボニルア
ミノ−２，３，６−ドリテオキシーα−Ｄ−アラビノ−
へキンピラノシド−４−ウロース７．４　ｔ　（収率ａ
ｓ、ａ　Ｘ　）を得る。

Ｉ”（ＫＢｒ）　５１．　”　；シＮＨ３３１０，シｃ
ｌ＝＝ｏ　１７３０．１６８０旋光度：〔α〕ｚ＋９１
．２”　（ＣＩ、００．　ＣＨＣ鳳、）元素分析；Ｃ，
、Ｈ，。ＮＯ６ 計算値〜　Ｃ：６１，４２　　Ｈ：８，５３　　Ｎ；４
，７８実測値〜Ｃ：６１，３５　　Ｈ：６．５２　　Ｎ
：４．６０質蓋分析；（φ）　２９３（Ｍ”） ＮＭＢ（ＣＤＣｓ、）δ １．２０　（３）１．　ｄ　、　Ｊｇ６Ｈ！　、　Ｃ，
−（（）　。

１．８６　（ＩＨ，ｄａｄ、　Ｊｃ、−Ｈｌｌ、　Ｃ，
−Ｈ＠″１６）ＩＩ。

ＪＣ，−１（九Ｃ，Ｈ−４Ｈも ＪＣ，Ｈ，、Ｃ，Ｈ＝１４Ｈｘ　、　Ｃｔ−Ｈａ）　。

２．６４　（ＩＨ、ｄｄｄ　、　ＪＣ，−ＨＡ　、　Ｃ
，−Ｈｅ−１５Ｈｚ　。

ＪＣ，−ＨＡ、　Ｃ，Ｈ＝７Ｈｉ　。

Ｊ　ｃｔ　　Ｈｅ　、０３　　Ｈ−７”＊　Ｃｍ　　Ｈ
ｅ）。

３．３４　（３Ｈ＋　ｓ　ｓ　−０ＣＨｓ　）　。

４．２８　（ＩＨ，Ｑ　、　Ｊ−７Ｈ冨、Ｃ，−Ｈ）。

４．４３〜５．２３　（２Ｈ，ｍ、　ＣＩＨ，Ｃｍ　Ｈ
）　。

５．０１（２Ｈ山−Ｏｃ！！ＬＫ））　＊！！且 実施例３ モレキュラシーブス（３λ、　粉末、１００℃にて２時
間乾燥させたものを使用）２ｆ、ピリジニウムクロロク
ｑメー）　１，４　ｆの塩化メチレン懸濁溶液１０ｓｇ
ＫＣａｒｂｏｈｙｄｒａｔｅ　　Ｒｅａ、ｖｏ１４．ｐ
４２２（ｔ９ｅｔ）記載の方法で得たメチル−３−アセ
チルアミノ−２，３，６−）リゾオキシ−α−Ｄ−アラ
ビノーヘキソピラノシド４５０岬を加え、室温にて２．
５時間反応させる。反応後、反応液をジエチルエーテル
２５−−ヘキサン５−の混合溶液で希釈し、５分間攪拌
した後、シリカゲルＧを約３ｃＦＲの厚さにひいたグラ
スフィルターで濾過し、残渣をジエチルエーテル１００
−で洗浄する。濾液と洗浄液を合わせ、減圧下に溶媒を
留去すれば、融点１０５〜１１０℃を示す結晶のメチル
−３−アセチルアミノ−２，３，６−）リゾオキシ−α
−Ｄ−アラビノ−ヘキソピラノシド−４−ウロー、Ｘ４
５岬（収率１０％）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−’　；νＮＨ３２９０，”Ｃｍ０
１７３０．１６５０質量分析；　（ｍ／Ｑ、　２０１　
（Ｍ”）ＮＭＲ（ＣＤＣ１ｍ）δ １．２４　（３Ｈ，ｄ　、　Ｊ＝７Ｈｚ　、　Ｃ，−Ｈ
）　。

１　、１７〜２　、ａｏ　（ＩＨ９ｍ、　Ｃｔ　Ｈａ）
　。

１．９９　（３Ｈ，Ｂ、　ＣＢ、Ｃｏ−）　。

２．５０〜２．９７　（ＩＪ　ｔｎ、　Ｃ，−Ｈｅ）。

３．４１　　（３Ｈ９ｓ　ｔ　−０ＣＨｊ　）　。

４．２０〜４．６５　（ｘａ、ｍ、　Ｃ，−Ｈ）。

４、ＴＯ〜５．２７　（２Ｈ，ａｔ、　Ｃ，−Ｈ，Ｃ，
−Ｔ（）。

６．７９　　（ＩＨ，ｂｄ、Ｊ＝？Ｈ冨、ンＮＨ）実施
例４ アルゴン気流下、テトラヒドロフラン１４０−にジイソ
プロピルアミン６．９　ｍ　（４９，Ｏ１９モル）を加
走、−７０℃に冷却する。これに真−ブチルリチウム（
１，５２Ｎ−ヘキサン溶液）　３２，２．１　（４９，
０ミリモル）を−６０℃以下に保ちながら１０分間を璧
して滴下し、−７５℃で２０分間攪拌する。この溶液に
メトキシメチ羨ジフェニルホ１０分間を要して滴下する
。同温度以下にて２（１分間攪拌した稜、実施例２で得
られたメチル−３−ベンジルオキシカルボニルアミノ−
２，ｓ。

６−ドリデオキシーα−り一アラビノーヘキソビラノシ
ド−４−クロース７、ｏ　ｇ　（２３，９ミリモル）の
テトラヒドロフラン溶液６０ＷＩｔを一６５℃以下で２
０分間を要して滴下し、同温度以下で１．５時間攪拌す
る。反応後、−１０℃まで昇温し、攪拌下１０９６クエ
ン酸水溶液１００　ｗＩｔを加えた。有機層を分取した
後、水層な酢酸エチル１００−で３回抽出を行う。有機
層を合わせ、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、残留物をカ
ラムクロマドグ２フイー（シリカゲル、Ｃ−２００；溶
出液：ベンゼン／酢酸エチル）で精製すれば、無定形結
晶のメチル−３−ベンジルオキシカルボニルアミノ−４
−ジフェニルホスフィノイルメトキシメチル−２，３，
６−ドリデオキシーα−Ｄ−アラビノ−へキンピラノシ
ド１１．９　ｔ　（収率９２．３％）を得る。この無定
形結晶は２種のジアステレオマーの混合物であり、中圧
カラムクロマトグラフィー（シリカゲル。

２５μ；浴出液：酢酸エチル）によって分離することが
出来、上部異性体（Ｒｆ　＝　０，６１　：展開溶媒：
酢酸エチル）対下部異性体（Ｒｆ　＝　０，５６　：展
開溶媒：＃酸エチル）の比は３：ｌであった。

〔上部異性体〕

Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　）　ｃｐｓ−”　’、　　シＮＨ，
ＯＨ３３００（ブロード）νｃ＝ｏ　１７０５．　’ｐ
、０１１２５．１１１０旋光度：　（α）％　＋　６０
，６°（Ｃ１，０４，ＣＨＣｌ、　）ｉｎ分析；　（ｍ
／Ｘ）　５３９　（Ｍ＋）ＮＭＲ（ＣＩ）ＣＢ３　）δ １．１５　（３Ｈ，ｄ、Ｊ富７Ｈｘ　、　ＣＩ−Ｈ）　
。

１．６７〜２．１０　（２Ｈ，ｍ、　ｃ、−Ｈ）＋３．
２６　（３Ｈ，Ｓ、　−０ＣＲ，）３．７８〜４．７２
　（４Ｈ，ｍ、　Ｃ，−Ｈ，Ｃｇ−Ｈ，ＣＢ−ＨＰ−Ｃ
Ｈ’Ｊ。

５．０６（２Ｈ，８，−０（、！！、−Ｏ＞。

５．２２　　（ＩＨ、ｂ龜、　−（）Ｈ）　ｔ　　　　
　□“：： ■旦 ＪＲ（ＫＢｒ）、、’　；　　シＮＨ，ｏＨｓｓｏｏ　
（プ０−）’）。

νＣ＝０　１７０８．シル−Ｑ　１１２７．１１１１旋
光度：　〔α）　　＋　７２．２°（ｃｔ、ｏｏ、ｃｎ
ｃｌ、）質量分析；（φ）　５３９　（Ｍ”） ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、）Ｊ １．１９　（３Ｈ，ａ、　Ｃ，−Ｈ）。

１．７０〜２．１０　（２Ｈ，ｍ、　ｃ、　Ｈ）　。

３．７０　〜５．２０　　　（６Ｈ，ｍ＋、　　Ｃｌ−
Ｈ，Ｃｓ−Ｈ，ＣＢ−Ｈ，−ＯＨ。

、ｐ−ＣＩ！＜　、−ｏｃ！！！＠こ））。

１Ｈ 実施例５．、、、ｉ。

水素化カリウム（純度＝３５％）　４８０ｉｙ　（４，
１４ミリモル）を乾燥ヘキサンで２回洗浄した後、減圧
下で乾燥する。得られた水素化カリウムにジメチルホル
ムアミド３−を加え、懸濁液とし、その中へ実施例４で
得られたメチル−３−ベンジルオキシカルボニルアミノ
−４−ジフェニルホスフィノイルメトキシメチル−２，
Ｂ、＠　−）リゾオキシ−α−Ｄ−アラビノ−ヘキソピ
ラノシドの上部異性体７４７　ｗｆ（１，３８ｔ　リモ
ル）のジメチルホルムアミド溶液を水冷下２０分間を要
して滴下する。水冷下にて１時間攪拌した後、反応液に
水２０−を加え、酢酸エチル５０−で４回抽出を行う。

有機層を合わせ、飽和食塩水で３回洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させた後、減圧下に溶媒を留去する。

得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル
、Ｃ−２００；溶出液：ベンゼン／酢酸エチル）によっ
て精製した後、さらにヘキサンで再結晶すれば、融点６
６〜６７℃を示す針状晶のメチル−３−べ／ジルオキシ
カルボニルアミノー４−メトキシメチレン−２，３，４
，６−チトラデオキシーα−Ｄ−アラビノ−へキソビラ
ノシド３３３ｑ（収率７４．９％　）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）１２ｗ−’　ニジＮＨ３Ｂ２５．νｃ＝
ｏ　１７０Ｇ旋光度：〔α）Ｄ　＋　８８．９”　（Ｃ
１，０４ＣＨＣｌ、　）質量分析；　（ｍ／ｘ）　３２
１　（Ｍ＋）元素分析ｔ　ｃｎ　Ｈ！Ｉ　ＮＯ１ 計算値〜Ｃ：６３，５４　　Ｈニア、２１　　Ｎ；４，
３６実測値（至）Ｃ：６３，４９　　Ｈ；７，２６　　
Ｎ：４．３４ＮＭＲ（ＣＤＣＩｍ）δ ３．３９　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ寓６Ｈｇ、　Ｃ，−Ｈ）　
。

１．７０〜１．８５　（ＩＨ，ｍ、　ｃ、−Ｈａ）　。

２．１２　〜２．４５　　（ＩＨ，ｄｄｄ、Ｊｃ、−１
１ａ、Ｃ１−Ｈａ　−１４Ｈｚ　。

９ＨｇＪ ＪＣ，−Ｈａ、ＣＢ−Ｈｔ　ＣＢ−Ｈｅ、Ｃｌ−Ｈ”４
Ｈｇ　、　ＣＢ−Ｈｅ）　＊ ３、・３６　（３Ｈ，ｓ　、　−０ＣＨ３）　。

３．５７　（３Ｈ，８、ＣＨ３０−ＣＨ−）　？４．１
２〜４．３８　（ＩＨ，ｍ、　ｃ、−Ｈ）　＋４、’６
６　（ＩＨｙ　ｄｑｔ　ＪＣｓ−Ｈ，ｃｓ−ｃＨ３ｘ７
ＨｚＪｃ、−Ｈ、−１−ＣＨ−−２Ｈｚ　ｔ　ＣＢ−Ｈ
）＋４　、８７　（ＩＨ＠　ｄ’　＠　Ｊｅｔ　−Ｈｔ
　ＣＩＨａ　　　。

ＪＣ，Ｈ，ｃ、　Ｈｅ−４Ｈ”＊　ｃ、−Ｈ）。

５．０９　（２Ｈ，ａ、−ｏｃＨ！−□　）ｔ５．３３
　（ＩＨ，ｂｄ、Ｊ−８Ｈｚ、　〉ＮＨ）。

６．０１　（ＩＨ、ｍ　、　ＣＨ３０べＪ−）。

も同様に操作を行えば、メチル−３−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ−４−メトキシメチレン−２，３，４，
６−デトラデオキシーα−Ｄ−アラヒノーへキンピラノ
シドが得られる。

実施例６ 実施例５で得られたメチル−３−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−４−メトキシメチレン−２，３，４，６−
チトラデオキシーα−Ｄ−アラビノ−へキンピラノシド
２５０岬（ｏ、ｙｓ　＜　リ４ル）を塩化メチレン２．
５ｓｇＫ溶解させ、ピリジニウムクロロクロメ−）　５
０３　ｑ（２，３３ミリモル）を加え、室温で１日攪拌
する。反応液にエチルエーテル１０ｇｔを加え、１５分
間攪拌した後シリカゲルＧを約３ｃｍの厚さにひいたグ
ラスフィルターで濾過し、残渣をエチルエーテ、１％／
１００ン／酢酸エチル）で精製すれば、白墨結晶７８．
６ｑ（収率３０％）を得る。さらｋこれをジイソプロピ
ルエーテルで＾結晶すれば、融点１２８℃を示ス針状晶
のメチル−３−ベンジルオキシカルＭ　＝　Ａ／ア（／
−４−／）キシカルボニル−２゜８、４．６−チトラデ
オキシーα−Ｄ−７ツピノーヘキソピラノシドが得られ
る。

ＪＲ（ＫＢｒ）ｍ−’　；νＮＨ３３２Ｇ、シＣ−０１
７１８．１６１１０旋光度、〔α）、　＋　７９．６”
　（Ｃｔ、ｏｓ、　ＣＨＣｌ、　）質量分析：　（ｍ７
ｇ）　３３７　（Ｍ”）元素分析；　ＣＨ７”１８　Ｎ
Ｏ＠ 計算値＜１１　　Ｃ；６０，６２　　Ｈ：６，８７　　
Ｎ；４，１５実ｍ１ｍＮ　　ｃ：６０，６１　　Ｈ；６
，９８　　Ｎ；４，８９ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、）　Ｊ １．１７　（３Ｈ，ｄ　Ｊ−６Ｈ，ｓ、Ｃ＠−Ｈ）。

１．６６　（ＩＨ＋　ｄｄ’＊　ＪＣｌ−Ｈａ　、Ｃｍ
−Ｈａ　−１３Ｈ４ＪＣ＠　　Ｈａ　ｇＣ＠−Ｈ８１”
”　＊　　Ｊ　ｃ＊−Ｈａ　＠ｃ、−ｎｓａ３）１ｓ　
、　Ｃ２−Ｈａ　）。

１．９３〜２．４０　（２Ｈ，ｍ、　Ｊｃ、　Ｈ，Ｃ，
Ｈ＋ａｗｌＯＨＫ　。

Ｃ，−Ｈｌｌｌ　、　Ｃ４−Ｈ）。

３．３２　（３Ｈ，８，−ＯＣＨ，）ｔ３．６０　（３
Ｈ，Ｂ　、　　−ＣＯＯＣＨ，）　。

３．８０　〜４．４６　　（２Ｈ，、ｍ、Ｊ（４Ｈ，Ｃ
，Ｈ＝＊１０Ｈｚ。

Ｃ３−Ｈ、Ｃ，−Ｈ）　。

４．７５　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝３）１冨ｔ　Ｃｔ−Ｈ）
−４，９３（ＩＨ，ｂｄ、Ｊ−１０Ｈ！、　＞ＮＨ）。

実施例７ 実施例６で得られたメチル−３−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−４−メトキシカルボニル−２，３，４，６
−チトラデオキシーα−Ｄ−アラビノ−ヘキソピラノシ
ド３＠　ｑ　（０，１１ｔリモル）をテト２ヒドロフ９
７０，７ｍｇＫ溶解さセ、これＫ　Ｃ１６Ｎ−塩酸０．
７　ｍｇを加え、３時間加熱還流する。反応液に水３−
を加え、酢酸エチル１！６−で２回抽出する。酢酸エチ
ル層を合わせ、飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液、水及び飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させた後、減圧下に溶媒を留去する。

得られた残漬をジイソプロピルエーテルで洗浄すれば、
融点１８４〜１８７℃を示す白色結晶の３−ベンジルオ
キシカルボニルアイノー４−メトキシカルボニル−２，
３，４，６−チトラデオキシーα−Ｄ−アラビノ−へ中
ソピラノース３４岬（収率９８．４％）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）、−’　　：　　’ＯＨ３４１０（ショ
ルダー）。

’ＮＨａＢ２Ｇ、νｃ＝０１７２０．１６７７旋光度：
〔α）Ｄ　　＋　３６．５＠（Ｃ１，２０９ＭｅＯＨ）
質量分析；　３２３　（Ｍ”） 実施例８ 実施例フで得られた３−ペンジルオキシカルボニルア之
ノー４−メトキシカルボニル−２゜３．４．６−チトラ
デオキシー〇−アラビノーー・、キンビラノース３０　
ｗｇ　　（９，２８Ｘ　１Ｇ　’モル）をア七トン１．
５　ｗｔに溶解させ、水冷下８Ｎ−ジョ−ンズ試薬０．
０４　ｗ　（１，０６Ｘ　１０−’モル）を加える。水
冷下にて４０分間攪拌した後、イソプルピルアルコール
０．０２−を加え１０分間攪拌する。

反応液に酢酸エチル１０−を加え飽和食塩水、飽和炭酸
水素す）　ＩＪウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄
する。無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧下に
溶媒を留去して、得られた残渣をカラムクロマトグラフ
ィー（シリカゲル、Ｃ−２００：溶出液：ベンゼン／酢
酸量チル）で精製すれば、白色結晶１ｓｚｑ（収率１Ｇ
、７％）を得る。さらに、これをベンゼン／ジイソプロ
ピルエーテルで再結晶すれば、融点１１１１．１〜１１
９℃を示す針状晶の（４Ｒ，６８，６Ｒ）−４−ペンジ
ルオキシカルボニルアミノ−５−メトキシカルボニル−
６−メチルーーーラクトンを得る。

・１：１１ １Ｒ（ＫＢｒ）３’　；νＮＨ３３６５，シＣ−０１７
！０旋光度：〔α）、　＋　２．２°（ＣＩ、２０．　
ＣＨＣｌ、）質量分析；（φ）　　３２１　（Ｍ”）元
素分析：　Ｃ，、Ｈ，、Ｎｏ６ 計算値〜　Ｃ：５９．８１　　Ｈ：５，９６　　Ｎ；４
，３６実測値Ｎ　　Ｃ：５９．８８　　Ｈ：６．Ｏｆ　
　Ｎ；４，２６ＮＭＢ（ＣＤＣＩ、）δ １．３８　（３Ｈ、ｄ、Ｊ−６Ｈｚ、−ｃａ、）。

２．３８〜２．７９　（２Ｈ，ｍ、Ｊｃ、　Ｈ，ｃｌＨ
ｚ−１０Ｈｚ。

Ｃ，−Ｈａ　、　Ｃ４−Ｈ）　。

３　、　Ｇｏ　（ＩＨ，ｄｄ　Ｉ　ＪＣ，−Ｈｅ　、　
Ｃ３−Ｈａ−１！！Ｈ！　ｔＪＣ，−Ｈａ　、Ｃ，−Ｈ
１ｌＩｌ１７Ｈ１、Ｃ２−Ｈ・）・３．６９　（ｓＨ，
ｓ、　−ＣＯＯＣＨＢ）。

４　、１３〜４．６２　（２Ｈ，ｍ、　Ｊｃ、−Ｈ，Ｃ
，−ＨｍｌＯＨｇ　。

Ｃ，−Ｈ、Ｃ，−Ｈ）　。

５、Ｏｌｌ　（２Ｈ＊　ａｔ　（）−０！＊−Ｑ　ＬＩ
易Ｃ司ｑ侃（ＣＤＣＩ、）Ｊ ：：：、、、。

１ｅ、ｓ　（Ｑｖ　Ｃ−６）、　８５．４　（Ｔ、　ｃ
−ｚ）ｔ４７．３　（Ｄ、　Ｃ−４）、　５２．４　（
Ｄ、　Ｃ−４）。

６２．８　（ＱｓｓＨ，）、　ｓｒｓ、ｓ　（Ｔ、→−
勉ぺ〕）。

７４．８　（Ｄ、Ｃ−５）。

１２７．９．１２８，４　、１３６．０　（−Ｑ　Ｌｉ
２Ｓ、３　（Ｓ、慢ト）。

１６９．３．１７０．８　（Ｓ、　Ｃ−１，−ＣＯＯＣ
Ｈ，）実施例９ ５％パラジウム炭＄　２５　ｍｌを用い、実施例Ｓの方
法で得られた（４Ｒ，５８，６Ｂ）−４−ベンジルオキ
シカルボニルアミノ−５−メトキシカルボニル−６−メ
チルーーーラクトン６ｓｑ（２，０２Ｘ　１０　’モル
）をメタノール３−溶液中で水素雰囲気下にて１時間接
触還元する。８％パラジウム炭素を濾去した後、減圧下
に溶媒を留去すれば粗の（４Ｒ，５８，６Ｒ）−４−ア
書ノー５−メトキシカルボニル−６−メチル−１−ラク
ト７３８　！　（収率１ＧＯＮ　）を得る。これに濃塩
酸ｌ−を加え、４０分間加熱還流した後、減圧下にこれ
を留去する。さらに、ベンゼン共沸を３回行い無定形結
晶である粗の（４Ｒ。

５８．６Ｒ）−４−アミノ−５−カルボキシル−６−メ
チルーーーラクトン塩酸塩４２ｑ（収率１ｏｏ　Ｘ　）
を得る。これにベンジルアルコールＯ，Ｓ−を加え、攪
拌しながら、７０℃で７時間反応させ、ヘンシル＝（４
Ｒ，５Ｂ、６Ｒ）−４−アきノー５−カルボキシル−６
−ヒトロキシーヘキサネート塩酸塩を得、この反応液に
ベンジルアルコール０．３　ｍ、ジシク四へキシルカル
ボジイミド４２　ｗｇ　（２，Ｏｚ　ｘ　ｔｏ　４モル
）及びトリエチルアミン０，０２８　ｗｔ　（２，０２
Ｘ　１０−’モル）を添加し、５５℃で６．５時間攪拌
する。冷却後、析出晶を濾去し、濾液をカラムクロマト
グラフィー（シリカゲル、Ｃ−２００；溶出液：ベンゼ
ン／酢酸エチル）に付し、（３８，４Ｒ）−３−［（１
’ｕ）　−１ｔ−ヒドロキシエチル〕−４−ベンジルオ
キシカルボニルメチル−２−アゼチジノン２３キを油状
物として得る。［（４Ｒ，５８゜６Ｒ）−４−ベンジル
オキシカルボニルアミノ−５−メトキシカルボニル−６
−）ｆルーーーラクトンからの収率：　４３．２　％　
：）旋光度：〔α〕π　＋９・”　（０２，３，ＣＨＣ
鳳、）質量分析；（φ）　　２６３　（ｒ） ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、）Ｊ ２．７４　　（２Ｈ，ｄ、Ｊ−６，８Ｈｚ、　ＣＢ−Ｈ
）。

２．８６　（１）１．　ｄｄ、　ＪＣ，−Ｈ，Ｃ，Ｈ＝
２．２ＨＩ。

ＪＣＢ　Ｈ、Ｃ１’　Ｈ−６−７Ｈ”　＊　ＣＩ　Ｈ）
　＊３．０９　（ＩＨ，ｂｓ、　（））Ｉ）　。

３．９４　（ＩＨ，ｄｔ　、　Ｊ（、−Ｈ，（、−Ｈ−
２，２Ｈｚ　。

ＪＣ４Ｈ，Ｃ５Ｈ−＋６．８Ｈｚ、Ｃ４−（（）。

４．１４　（ＩＨ，ｄｑ、　Ｊｃ１／−Ｈ，ｃ、−Ｈ＝
６，６Ｈｇ。

ＭＩｉ　　、・：１ １ｓＣ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、）ＩＳ ２１．３　（Ｑ、　ＣＨ，）　、　３９．４　（Ｔ、、
−ＣＨＣｏｏ−）　。

４７．６　（Ｄ、Ｃ−４）、　６４．０　（Ｄ、Ｃ−３
）。

６５．３　（Ｄ、占−）ｔ　ａｓ、ｅ　（’ｒ、−ｏ雪
０）。

１２８．４．１２９，１．１３５．３　（う）。

１６８．０．ｌフ１．２　　（ｓ　、　Ｃ−２、−ＣＯ
Ｏ−）特許出願人 富山化学工業株式会社

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１１式 で表わされるヘキソピラノース誘導体。 （２）Ｒす」諺が一緒になってオキソ基を形成している
   特許請求の範囲第（１）項記載の化合物。 （３）　　メチル−３−ペンジルオキシカルボニルア書
   ノー２．３．６−）リゾオキシ−α−Ｄ−アラビノーヘ
   キンビラノシド−４−ウロースである特許請求の範囲第
   （２）項記載の化合物。０醋 Ｒ？はアルキル基、アルアルキル基、アルコキシ基、ア
   リールオキシ基またはアリール基を示しＷはアルキル基
   、シクロアルキル基または飽和複素環式基を示す。）で
   表わされる基、他方がヒドロキシル基である特許請求の
   範囲第（１）項記載の化合物。 （５Ｊ　　／チルー３−ベンジルオキシカルボニルアミ
   ノ−４−ジフェニルホスフィノイルメトキシメチル−２
   ，３，６−）リゾオキシ−α−Ｄ−アラビノ−ヘキソピ
   ラノシドである特許請求の範囲第（４）項記載の化合物
   。 （６）　　Ｒ１とＷが一緒になって式−ＣＨ〜ＯＲ・（
   式中、Ｗはアルキル基を示し、〜はシスまたはトランス
   体でもよいし、それらの混合物でもよい。）で表わされ
   る基を形成して（・る特許請求の範囲第（１）項記載の
   化合物。 （カ　　メチル−３−ベンジルオキシカルボニルアミノ
   −４−メトキシメチレン−ｚ、ｓ、４．ｔ−テトラデオ
   キシ−α−Ｄ−アラビノ−ヘキソピラノシドである特許
   請求の範囲第（７）＊記載の化合物。 （８１Ｒ”まり４１　Ｒ’が式−ＣＯＯＲ”　（式中、
   Ｒ’　＋ｓ　水素Ｗ子または力走ボキシル基の保膜基を
   示す。）で表わされる基である％ｔ’Ｆ請求の範囲第（
   １）項記載の化合物。 （９１Ｋ’またはＷがアルコキシ基である特許請求の範
   囲第（８）項記載の化合物。 Ｑｌ）？ルー３−ペンジルオキンカルボニルア建ノー４
   −Ｃ−メトキシカルボニル−２’、　３　、４゜・−テ
   ト２デオキシーα−Ｄ−アラビノ−へキンピラノシドで
   ある特許請求の範囲第（９）項記載の化合物。 Ｑｌ）　　Ｒ１またはＶがヒドロキシル基である特許請
   求の範囲第（８）項記載の化合物。 ０３３−ベンジルオキシカルボニルアミノ−４−Ｃ−メ
   トキシカルボニル−，２、３、４、６−チトラデオキシ
   ーＤ−アラビノ−へチンピ２ノースである特許請求の範
   囲第０１項記載の化合物。