JPH04247337A

JPH04247337A - 光ディスク

Info

Publication number: JPH04247337A
Application number: JP3033369A
Authority: JP
Inventors: Tsuneo Hagiwara; 恒夫萩原; Aritami Yonemura; 米村　有民
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1991-02-04
Filing date: 1991-02-04
Publication date: 1992-09-03

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、レーザーなどの光によ
り、情報の記録、再生を行う光ディスクに関する。

【０００２】

【従来の技術】光ディスクは、高密度・大容量の情報記
録媒体として注目され種々のタイプの光ディスクの研究
開発が行われている。これらの中で、消去可能で書換え
可能な光磁気ディスクは利用分野が広く、将来への期待
が大きい。そのため、種々の材料・システムが発表され
ており、その実用化が期待される。

【０００３】これらの光ディスクには、ほこりなどの付
着を防止するために帯電防止処理を行う必要があり、通
常は基板の表面に帯電防止剤を塗工したり、帯電防止剤
の基板への練り込みによる方法などがとられている。し
かし、前者の処理では耐久性に問題があり、後者では成
型性、光透過性の点で問題がある。

【０００４】一方、光ディスクの基板は一般的にはポリ
カーボネート樹脂などが用いられるために、基板の表面
硬度が小さい。そこで、表面の損傷を避けるためにＵＶ
硬化樹脂などにより表面硬化処理を施すことが提案され
ている。しかし、これらのＵＶ硬化樹脂の塗工による被
覆では、ディスクの回転中の空気との摩擦による樹脂の
帯電があり、ゴミ、ホコリの付着による読み出し面の汚
れなどが多く、記録、読み出し信号の信頼性を低下させ
ている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、耐久性に優
れた帯電防止性を有し、しかも、十分な表面硬度を有す
る光ディスクの提供を目的とする。さらに詳しくは、表
面電気抵抗が低くかつ表面硬度の高い塗膜を基板上に設
けた光デイスクの提供を目的とする。また、一般には光
デイスクの基板材料としてはポリカーボネートのような
有機高分子からなる樹脂が用いられ、かつ、ホコリを極
端に嫌うためにクリーンルーム内で塗工される。このよ
うな、制約の下では、溶媒の使用及び高温の使用は好ま
しくなく、かかる使用の必要がない光ディスクをも目的
とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、塗工性の
観点から無溶媒でも薄膜塗工が可能な低粘度の紫外線（
ＵＶ）硬化性樹脂組成物に焦点を当てた。しかしながら
、一般にＵＶ硬化性樹脂組成物を硬化してなる塗膜の表
面電気抵抗は高く帯電防止性に劣る。本発明者らはこの
点の解決をはかるために鋭意検討の結果、オリゴエチレ
ンオキシドのモノ（メタ）アクリレートが、モノマー中
のＯＨ基とアルキレンオキシドユニットを有するために
低い表面電気抵抗を有する硬化塗膜を与えることを見い
だし既に提案した（特願平２−１７２６５５）。このオ
リゴエチレンオキシドのモノ（メタ）アクリレートは単
官能性であるため硬化性の点からはできるだけ少ない量
で低い表面抵抗を有する硬化塗膜を得ることが望ましい
。本発明者らは、このモノ（メタ）アクリレートをでき
るだけ少量にして低い表面抵抗を有し、硬度の高い硬化
性樹脂組成物を得ることを目的として鋭意検討を行った
。

【０００７】その結果、該オリゴエチレンまたはプロピ
レンオキシドのモノ（メタ）アクリレートと陰イオン系
界面活性剤とを組み合わせることにより、十分な硬度を
保持したままで、硬化物の表面電気抵抗を大きく減少さ
せることができることを見いだした。更に、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート又はそのカプロラクト
ン変性体を混ぜることにより、表面電気抵抗を大きく増
加させることなく表面硬度を上げることが出来、更に必
要に応じて低分子量のアクリレートを添加することによ
り、容易に塗工出来る範囲にまで塗液粘度を下げること
が出来る事を見いだし本発明に到達した。

【０００８】即ち、本発明は、光ディスクの少なくとも
光照射面（読み取り面）を、（Ａ）一般式（Ｉ）ＣＨ２　＝ＣＲ１　ＣＯ（ＯＣＨ２　ＣＨＲ２　）ｎ　
ＯＨ　　　　　　　　　　　　　　　　・・・（Ｉ）（
式中、Ｒ１　、Ｒ２　は水素原子またはメチル基を、ｎ
は４〜６の整数を示す。）で表されるオリゴエチレンオ
キシドおよびオリゴプロピレンオキシドのモノ（メタ）
アクリレートの１種またはそれ以上を３〜４０重量％、
（Ｂ）ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレ
ートまたはそのカプロラクトン変性体の１種またはそれ
以上を４０〜８０重量％、（Ｃ）成分（Ａ）、（Ｂ）以
外の重合性希釈剤を必要に応じて０〜４０重量％、（Ｄ
）陰イオン系界面活性剤を成分（Ａ）、（Ｂ）および（
Ｃ）の合計重量に対して０．００１〜１０重量％、およ
び（Ｅ）光重合開始剤を成分（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）
の合計重量に対して１〜１０重量％を含んでなる硬化性
樹脂組成物で硬化してなる塗膜で被覆したことを特徴と
する光ディスクである。

【０００９】本発明の光ディスクとしては、ガラスや樹
脂などからなる基板上にピットが形成された記録媒体か
らなるピットタイプの光ディスク、基板上に熱記録層が
形成された記録媒体、レーザー光などの照射によりバブ
ルを形成し、反射光の変化でレベル変動を検知するバブ
ルタイプの光ディスク、あるいは基板上に光磁気記録層
が形成された記録媒体からなる光磁気ディスクなどが含
まれる。

【００１０】本発明に於て用いられる基板としては、ガ
ラス基板の他に、ポリカーボネート、ポリメチルメタク
リレート、アモルファスポリオレフィンなどの樹脂基板
が用いられるが、本発明は樹脂基板に特に好ましく適用
される。

【００１１】光ディスクの記録面とは、樹脂などの基板
上に記録層が形成されている面をいう。記録面の反対面
すなわち光照射面（読み取り面）は、例えば光磁気ディ
スクにおいてはグルーブが形成されておらずフラットな
面である。

【００１２】本発明に用いられる成分（Ａ）のオリゴエ
チレンオキシドのモノ（メタ）アクリレート［本発明に
おいて（メタ）アクリレートは、アクリレートおよびメ
タアクリレートを表わす。］は、下記式で表わされる。ＣＨ２　＝ＣＲ１　ＣＯ（ＯＣＨ２　ＣＨＲ２　）ｎ　
ＯＨ式中、Ｒ１　、Ｒ２　は水素原子又はメチル基であ
り、そのＵＶ硬化性、併用する樹脂との相溶性および硬
化物の表面電気抵抗、表面硬度を勘案して選ばれる。一
般には、ＵＶ硬化性の観点からはＲ１　が水素原子、即
ちアクリレートの方がメチル基、即ちメタアクリレート
より好ましい。また、Ｒ２　が水素原子の場合の方が、
メチル基の場合より表面電気抵抗が低く好ましい。ｎは
４〜６の整数であり、この範囲の（メタ）アクリレート
が硬化物の表面抵抗を低下させ、かつ硬化性樹脂との相
溶性も十分でその上硬化物の基材に対する接着性を損な
わない。ｎが７以上の（メタ）アクリレートから得られ
る塗膜は硬化物の接着性が低下するのと相溶性が低いの
で好ましくない。また、ｎが３以下の（メタ）アクリレ
ートは表面電気抵抗値が低くならず好ましくない。具体
的には、テトラエチレングリコールモノメタクリレート
、ペンタエチレングリコールモノメタクリレート、ヘキ
サエチレングリコールモノメタアクリレート、テトラエ
チレングリコールモノアクリレート、ペンタエチレング
リコールモノアクリレート、ヘキサエチレングリコール
モノアクリレート、テトラプロピレングリコールモノメ
タクリレート、テトラプロピレングリコールモノアクリ
レート等が好適に用いられる。

【００１３】前記式（Ｉ）で表わされるオリゴエチレン
オキシド又はオリゴプロピレンオキシドのモノ（メタ）
アクリル酸エステルは、該組成物中５〜４０重量％含有
される。５重量％未満では帯電防止効果が不足し、一方
４０重量％を超えると該組成物で被覆し硬化させた光デ
ィスクの表面硬度が不十分で好ましくない。

【００１４】本発明において、前記成分Ｂは、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレートまたはそのカプロラ
クトン変性体である。カプロラクトン変性体は、下式で
表わされる。

【００１５】

【化１】（式中、ＡはＣＨ２　＝ＣＨＣＯ−であり、ｐ、ｑ、ｒ
、ｓ、ｔおよびｕは０〜１０の整数であり、かつ、ｐ＋
ｑ＋ｒ＋ｓ＋ｔ＋ｕ≦１４である。）上述のカプロラクトン変性体は、一般にはジペンタエリ
スリトールとカプロラクトンおよびアクリル酸を直接あ
るいは逐次的にエステル化するために、これらの化合物
の混合物として得られる。また、カプロラクトン変性の
程度はジペンタエリスリトールに対するカプロラクトン
の使用量で決まる。ｐ＋ｑ＋ｒ＋ｓ＋ｔ＋ｕ＞１５では
、光架橋性のアクリレート基の密度が低下するため架橋
密度が低下し、目的とする硬度が発現せず、好ましくな
い。具体的には日本化薬製の商品名ＤＰＣＡ２０、ＤＰ
ＣＡ３０、ＤＰＣＡ６０、ＤＰＣＡ１２０が挙げられる
。これらはジペンタエリスリトールをそれぞれ平均２、
３、６、１２分子のカプロラクトンで変性したものであ
り、皮膚刺激性が少なく、臭気が少ないモノマーで、硬
化速度は極めて早く、且つ硬化物は硬度が高いにも拘ら
ず柔軟性を示すため、耐候性に優れた硬化物を与える。更に、粘度も低いため組成物を形成したときに塗布性も
良好となる。使用するＢ成分の量は該組成物中４０〜８
０重量％、好適には５０〜８０重量％である。８０重量
％を超えると、塗膜の表面電気抵抗が高くなり好ましく
ない。また、４０重量％未満では、塗膜の表面硬度を上
げることが出来ないため好ましくない。

【００１６】成分Ｃは、必須ではなく、塗液の粘度を下
げる目的で必要に応じて用いられる。従って、それ自体
低粘度の１〜３官能性の（メタ）アクリレートが用いら
れる。併用する成分（Ａ）および（Ｂ）の種類と組成に
もよるが、粘度１０ポイズ以下、更には５ポイズ以下の
（メタ）アクリレートが好ましく用いられる。好適に用
いられる（メタ）アクリレートとしては、ヘキサメチレ
ングリコールジアクリレート、テトラヒドロフルフリル
アクリレート、ヘキサメチレングリコールジメタクリレ
ート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、トリメ
チロールプロパントリアクリレート、ヒドロキシピバリ
ン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、グリセロ
ールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアク
リレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート等が挙げられ
る。これらの中でヘキサメチレングリコールジアクリレ
ート、テトラヒドロフルフリルアクリレートが硬化物の
ポリカーボネート基板への接着性を改良したり、組成物
の粘度を調製する上で特に好適に用いられる。（Ｃ）成
分の使用量は使用しない０％を含めて全組成物の４０重
量％以下すなわち０〜４０重量％、好ましくは０〜３０
重量％が用いられる。４０重量％を超えると、種類によ
っては表面硬度が高くなるが、表面電気抵抗が低下せず
、また基板との接着性が低下するために好ましくない。

【００１７】成分（Ｄ）の陰イオン系界面活性剤は成分
（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）の合計重量に対して０．０
０１〜１０重量％含有させるのが好ましい。成分（Ｄ）
が０．００１重量％未満では硬化が不十分で１０重量％
を越えると溶解性の点から好ましくない。成分（Ａ）お
よび成分（Ｄ）の量は用いる化合物により適宜この範囲
内で選ばれる。成分（Ａ）と成分（Ｄ）は相互に働き硬
化物に優れた帯電防止性を付与する。理由は定かでない
が、成分（Ａ）が固体電解質的な役割をして成分（Ｄ）
と特殊な相互作用をしているものと推定される。

【００１８】該成分（Ａ）は３重量％未満では成分（Ｄ
）との相互作用の割合が不十分で帯電防止効果が不足し
、一方、成分（Ａ）が４０重量％を超えると該組成物で
被覆し硬化させた光ディスクの表面皮膜硬度が不十分で
好ましくない。

【００１９】成分（Ｄ）の陰イオン界面活性剤としては
、飽和や不飽和の脂肪酸アルカリ金属塩、飽和や不飽和
の脂肪族のスルホン酸塩、置換基を含んでもよい芳香族
のスルホン酸塩、エチレンオキシド単位を含むスルホン
酸塩、各種置換基を含むサルフェートのナトリウム塩な
どが挙げられる。具体的にはトデシルベンゼンスルホン
酸ナトリウム、アシル（牛脂）メチルタウリン酸ナトリ
ウム、ラウロイルメチルタウリン酸ナトリウム、ソジウ
ム・ココイル・イセチネート、α−スルホ脂肪酸エステ
ルナトリウム塩、アシドエーテルソジウムサルフェート
、アルキルエーテルスルホン酸ナトリウム、アルキルサ
ルフェートナトリウム塩、アルキルエーテルサルフェー
トナトリウム塩、オレイン酸カリウム、ヤシ脂肪酸カリ
ウムなどの脂肪酸石鹸が挙げられる。この中でスルホン
酸の塩化合物、硫酸エステルの塩化合物が前述の相互作
用の面から特に好ましい。

【００２０】光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、
ミヒラーズケトンなどのベンゾフェノン系開始剤、ベン
ジル、フェニルメトキシジケトンなどのジケトン系開始
剤、アセトフェノンなどのアセトフェノン系開始剤、ベ
ンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタールな
どのベンゾイン系開始剤、２，４−ジエチルチオキサン
トンなどのチオキサントン系開始剤、２−メチルアント
ラキノン、カンファーキノンなどのキノン系開始剤など
が好適に用いられる。必要に応じてアミン系促進剤など
の促進剤の併用も可能である。用いる開始剤量としては
、その上限はコスト等の実用面から制限され、該成分Ａ
，Ｂ，Ｃの合計量に対して１〜１０重量％、好ましくは
２〜５重量％が用いられる。

【００２１】本発明の硬化性樹脂組成物は、公知のスピ
ンコーティング法、浸漬コーティング法、ドクターナイ
フによるコーティング、バーコーターによる方法で、光
ディスクの表面を被覆することが出来る。特にスピンコ
ーテイング法は、膜厚が容易に制御でき実用上最も好ま
しい。光ディスクの被覆にあたっては、光ディスクの側
面をも被覆すると帯電防止効果を向上させることが出来
る。いずれにせよ溶媒を用いずに塗工を可能にするため
に、該硬化性樹脂組成物の粘度は、２０ポイズ以下、好
ましくは１０ポイズ以下、更に好ましくは５ポイズ以下
である。２０ポイズを越えると塗膜制御が円滑に行えな
いために好ましくない。

【００２２】本発明の硬化後の塗膜の厚さは１〜３０μ
ｍ　であり、好ましくは５〜２５μｍ　である。１μｍ
　未満では硬度の上で十分な性能が発揮されず、３０μ
ｍ　を越えると膜厚制御が困難になるばかりか、内部の
硬化性が低下するために好ましくない。

【００２３】該組成物を塗布した光ディスクは低圧水銀
灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯などの紫外ランプ、ハロゲ
ンランプ、電子線などの活性光線などを用いて公知の方
法、条件により硬化される。

【００２４】本発明で得られる光ディスクの表面抵抗は
１０１５Ω／□未満、好ましくは１０１４Ω／□以下で
ある。これ以上の抵抗を有するものは帯電防止性の観点
から効果がない。また、表面硬度は取扱いの観点から鉛
筆硬度がＨＢ以上、好ましくはＦ以上である。

【００２５】

【発明の効果】本発明は無溶媒で高度の耐久性をもつ帯
電防止能を有し、しかも充分な表面硬度を有する光ディ
スクを提供することができる。

【００２６】

【実施例】以下実施例により本発明をさらに詳細に説明
する。本発明はかかる実施例に限定されない。

【００２７】実施例において、表面抵抗（Ω／□）はＪ
ＩＳ　　Ｋ６９１１によった。また、鉛筆硬度は、三菱
鉛筆製ユニを用いて測定した。

【００２８】

【実施例１】ＣＨ２　＝ＣＨ−ＣＯ（ＯＣＨ２　ＣＨ２　）４ＯＨで
表されるテトラエチレングリコールモノアクリレートが
１０重量％、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレートである日本化薬製のＤＰＣＡ６０
とＤＰＣＡ３０が夫々３０重量％、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレートが２０重量％、ヘキサメチレン
グリコールジアクリレートが１０重量％からなる組成物
１００重量部に、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウ
ム０．５重量部、光重合開始剤イルガキュア９０７（チ
バガイギー社製）を３重量部含む硬化性樹脂組成物を調
製した。この組成物の粘度はＢ型粘度計をによる２５℃
の測定で１．９ポイズであった。この組成物を厚さ１．
２ｍｍ　のポリカーボネートディスクのフラット面に１
０μｍ　の厚さになるようにスピンコート法により塗布
した。引き続き、長さ約２７ｃｍ、２ＫＷの高圧水銀灯
を用い、２０ｃｍの高さから紫外線を１分間照射し、塗
膜を硬化させた。

【００２９】硬化後のポリカーボネートディスクの硬化
面について、表面抵抗および鉛筆硬度を測定した。

【００３０】その結果表面鉛筆硬度はＨで、表面抵抗は
２．６×１０１３Ω／□であった。

【００３１】また、この硬化物塗膜をもつ基板を８０℃
，８５％湿度の湿熱試験器中で耐候性試験を２０００時
間行ったが、試験の前後で硬化塗膜に変化は認められな
かった。

【００３２】

【比較例１】ＣＨ２　＝ＣＨ−ＣＯ（ＯＣＨ２　ＣＨ２　）４ＯＨで
表されるテトラエチレングリコールモノアクリレートが
１０重量％、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレートの日本化薬製ＤＰＣＡ６０とＤＰ
ＣＡ３０が夫々３０重量％、ジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレートが２０重量％、ヘキサメチレングリコ
ールジアクリレートが１０重量％からなる組成物１００
重量部に、光重合開始剤イルガキュア９０７（チバガイ
ギー社製）を３重量部含む硬化性樹脂組成物を調製した
。

【００３３】この組成物を厚さ１．２ｍｍ　のポリカー
ボネートディスクのフラット面に１０μｍ　の厚さにな
るようにスピンコート法により塗布した。引き続き、長
さ約２７ｃｍ、２ＫＷの高圧水銀灯を用い、２０ｃｍの
高さから紫外線を１分間照射し、塗膜を硬化させた。

【００３４】硬化後のポリカーボネートディスクの硬化
面について、表面抵抗および鉛筆硬度を測定した。

【００３５】その結果表面鉛筆硬度はＨで、表面抵抗は
１．１×１０１５Ω／□であった。

【００３６】

【実施例２】ＣＨ２　＝ＣＨ−ＣＯ（ＯＣＨ２　ＣＨ２　）６ＯＨで
表されるヘキサエチレングリコールモノアクリレートが
１０重量％、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレートの日本化薬製のＤＰＣＡ１２０と
ＤＰＣＡ２０が夫々３０重量％、ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレートが２０重量％、ヘキサメチレング
リコールジアクリレート１０重量％からなる組成物１０
０重量部に、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム１
重量部、光重合開始剤イルガキュア９０７（チバガイギ
ー社製）を５重量部含む硬化性樹脂組成物を調製した。この組成物の粘度はＢ型粘度計をによる２５℃の測定で
１．７ポイズであった。この組成物を厚さ１．２ｍｍ　
のポリカーボネートディスクのフラット面に１０μｍ　
の厚さになるようにスピンコート法により塗布した。引
き続き、長さ約２７ｃｍ、２ＫＷの高圧水銀灯を用い、
２０ｃｍの高さから紫外線を１分間照射し、塗膜を硬化
させた。

【００３７】硬化後のポリカーボネートディスクの硬化
面について、表面抵抗および鉛筆硬度を測定した。

【００３８】得られたディスクの表面硬度はＨであり、
表面抵抗は１．５×１０１３Ω／□であった。

【００３９】

【比較例２】ＣＨ２　＝ＣＨ−ＣＯ（ＯＣＨ２　ＣＨ２　）６ＯＨで
表されるヘキサエチレングリコールモノアクリレートが
１０重量％、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレートの共に日本化薬製ＤＰＣＡ１２０
とＤＰＣＡ２０が夫々３０重量％、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレートが２０重量％、ヘキサメチレン
グリコールジアクリレートが１０重量％からなる組成物
１００重量部に、光重合開始剤イルガキュア９０７（チ
バガイギー社製）を５重量部含む硬化性樹脂組成物を調
製した。この組成物の粘度はＢ型粘度計をによる２５℃
の測定で１．７ポイズであった。この組成物を厚さ１．
２ｍｍ　のポリカーボネートディスクのフラット面に１
０μｍ　の厚さになるようにスピンコート法により塗布
した。引き続き、長さ約２７ｃｍ、２ＫＷの高圧水銀灯
を用い、２０ｃｍの高さから紫外線を１分間照射し、塗
膜を硬化させた。

【００４０】硬化後のポリカーボネートディスクの硬化
面について、表面抵抗および鉛筆硬度を測定した。

【００４１】得られたディスクの表面硬度はＨであり、
表面抵抗は１．５×１０１５Ω／□であった。

【００４２】

【実施例３】ＣＨ２　＝ＣＨ−ＣＯ（ＯＣＨ２　ＣＨ２　）５ＯＨで
表されるペンタエチレングリコールモノアクリレートが
５重量％、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレートの共に日本化薬製のＤＰＣＡ６０が
４５重量％とＤＰＣＡ３０が２０重量％、トリメチロー
ルプロパントリアクリレートが２０重量％、ヘキサメチ
レングリコールジアクリレートが１０重量％からなる組
成物１００重量部に、アルキルエーテルスルホン酸ナト
リウム（アバネルＳ７０；日本油脂（株）製）を１重量
部、光重合開始剤イルガキュア９０７（チバガイギー社
製）を３重量部含む硬化性樹脂組成物を調製した。この
組成物の粘度はＢ型粘度計をによる２５℃の測定で２．
１ポイズであった。この組成物を厚さ１．２ｍｍ　のポ
リカーボネートディスクのフラット面に１０μｍ　の厚
さになるようにスピンコート法により塗布した。引き続
き、長さ約２７ｃｍ、２ＫＷの高圧水銀灯を用い、２０
ｃｍの高さから紫外線を１分間照射し、塗膜を硬化させ
た。　　硬化後のポリカーボネートディスクの硬化面に
ついて、表面抵抗および鉛筆硬度を測定した。

【００４３】得られたディスクの表面硬度はＨであり、
表面抵抗は３．１×１０１３Ω／□であった。

【００４４】

【実施例４】　　　　ＣＨ２　＝ＣＨ（ＣＨ３　）−ＣＯ（ＯＣＨ２
　ＣＨ２　）４　ＯＨで表されるテトラエチレングリコ
ールモノメタクリレートが２０重量％、カプロラクトン
変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの共に
日本化薬製のＤＰＣＡ６０が４５重量％とＤＰＣＡ３０
が３５重量％からなる組成物１００重量部に、Ｒ（ＯＣ
Ｈ２　ＣＨ２　Ｏ）ｎ　ＳＯ３　Ｎａ（レベノールＷＸ
；花王（株）製）を１重量部、光重合開始剤イルガキュ
ア９０７（チバガイギー社製）を３重量部含む硬化性樹
脂組成物を調製した。この組成物の粘度はＢ型粘度計を
による２５℃の測定で２．０ポイズであった。この組成
物を厚さ１．２ｍｍ　のポリカーボネートディスクのフ
ラット面に１０μｍ　の厚さになるようにスピンコート
法により塗布した。引き続き、長さ約２７ｃｍ、２ＫＷ
の高圧水銀灯を用い、２０ｃｍの高さから紫外線を１分
間照射し、塗膜を硬化させた。

【００４５】硬化後のポリカーボネートディスクの硬化
面について、表面抵抗および鉛筆硬度を測定した。

【００４６】得られたディスクの表面硬度はＦであり、
表面抵抗は６．８×１０１３Ω／□であった。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】　　光ディスクの少なくとも光照射面（読
み取り面）を、（Ａ）一般式（Ｉ）ＣＨ２　＝ＣＲ１　ＣＯ（ＯＣＨ２　ＣＨＲ２　）ｎ　
ＯＨ　　　　　　　　　　　　　　　　・・・（Ｉ）（
式中、Ｒ１　、Ｒ２　は水素原子またはメチル基を、ｎ
は４〜６の整数を示す。）で表されるオリゴエチレンオ
キシドおよびオリゴプロピレンオキシドのモノ（メタ）
アクリレートの１種またはそれ以上を３〜４０重量％、
（Ｂ）ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレ
ート又はそのカプロラクトン変性体の１種またはそれ以
上を４０〜８０重量％、（Ｃ）成分（Ａ）、（Ｂ）以外
の重合性希釈剤を必要に応じて０〜４０重量％、（Ｄ）
陰イオン系界面活性剤を成分（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ
）の合計重量に対して０．００１〜１０重量％、および（Ｅ）光重合開始剤を成分（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）
の合計重量に対して１〜１０重量％を含んでなる硬化性
樹脂組成物を硬化してなる塗膜で被覆したことを特徴と
する光ディスク。
【請求項２】　　成分（Ｂ）がカプロラクトン変性のジ
ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートであ
ることを特徴とする請求項１の光ディスク。
【請求項３】　　成分（Ｄ）がスルホン酸の塩化合物及
び／または硫酸エステルの塩化合物であることを特徴と
する請求項１または２の光ディスク
【請求項４】　　成分（Ｃ）が、Ｂ型粘度計による２５
℃の測定で粘度１０ポイズ以下の１〜３官能性の（メタ
）アクリレートであることを特徴とする請求項１、２ま
たは３の光デイスク。
【請求項５】　　成分（Ｃ）がヘキサメチレングリコー
ルジアクリレート及び／またはテトラヒドロフルフリル
アクリレートであることを特徴とする請求項１〜４のい
ずれかの光デイスク。
【請求項６】　　硬化性樹脂組成物の粘度がＢ型粘度計
による２５℃の測定で１０ポイズ以下であることを特徴
とする請求項１〜５のいずれかの光デイスク。
【請求項７】　　硬化性樹脂組成物を硬化してなる塗膜
の鉛筆硬度がＦ以上であり、かつ、表面抵抗が１０１４
Ω／□以下であることを特徴とする請求項１〜６のいず
れかの光デイスク。