JPH04247336A

JPH04247336A - 光ディスク

Info

Publication number: JPH04247336A
Application number: JP3033368A
Authority: JP
Inventors: Tsuneo Hagiwara; 恒夫萩原; Aritami Yonemura; 米村　有民
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1991-02-04
Filing date: 1991-02-04
Publication date: 1992-09-03

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、レーザーなどの光によ
り、情報の記録、再生を行う光ディスクに関する。

【０００２】

【従来の技術】光ディスクは、高密度・大容量の情報記
録媒体として注目され種々のタイプの光ディスクの研究
開発が行われている。これらの中で、消去可能で書換え
可能な光磁気ディスクは利用分野が広く、将来への期待
が大きい。そのため、種々の材料・システムが発表され
ており、その実用化が期待される。

【０００３】これらの光ディスクには、ほこりなどの付
着を防止するために帯電防止処理を行う必要があり、通
常は基板の表面に帯電防止剤を塗工したり、帯電防止剤
の基板への練り込みによる方法などがとられている。し
かし、前者の処理では耐久性に問題があり、後者では成
型性、光透過性の点で問題がある。

【０００４】一方、光ディスクの基板は一般的にはポリ
カーボネート樹脂などが用いられるために、基板の表面
硬度が小さい。そこで、表面の損傷を避けるためにＵＶ
硬化樹脂などにより表面硬化処理を施すことが提案され
ている。しかし、これらのＵＶ硬化樹脂の塗工による被
覆では、ディスクの回転中の空気との摩擦による樹脂の
帯電があり、ゴミ、ホコリの付着による読み出し面の汚
れなどが多く、記録、読み出し信号の信頼性を低下させ
ている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、耐久性に優
れた帯電防止性を有し、しかも、十分な表面硬度を有す
る光ディスクの提供を目的とする。さらに詳しくは、表
面電気抵抗が低くかつ表面硬度の高い塗膜を基板上に設
けた光デイスクの提供を目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、塗工性の
観点から無溶媒でも薄膜塗工が可能な低粘度の紫外線（
ＵＶ）硬化性樹脂組成物に焦点を当てた。しかしながら
、一般にＵＶ硬化性樹脂組成物を硬化してなる塗膜の表
面電気抵抗は高く帯電防止性に劣る。本発明者らはこの
点の解決をはかるために鋭意検討の結果、オリゴエチレ
ンオキシドのモノ（メタ）アクリレートが、モノマー中
のＯＨ基とアルキレンオキシドユニットを有するために
低い表面電気抵抗を有する硬化塗膜を与えることを見い
だし既に提案した（特願平２−１７２６５５）。このオ
リゴエチレンオキシドのモノ（メタ）アクリレートは単
官能性であるため硬化性の点からはできるだけ少ない量
で低い表面抵抗を有する硬化塗膜を得ることが望ましい
。本発明者らは、このモノ（メタ）アクリレートをでき
るだけ少量にして低い表面抵抗を有し、硬度の高い硬化
性樹脂組成物を得ることを目的として鋭意検討を行った
。その結果、該オリゴエチレンまたはプロピレンオキシ
ドのモノ（メタ）アクリレートと陰イオン系界面活性剤
とを組み合わせることにより、十分な硬度を保持したま
まで、硬化物の表面電気抵抗を大きく減少させることが
できることを見いだし本発明に到達した。

【０００７】即ち、本発明は、光ディスクの少なくとも
光照射面（読み取り面）を、（Ａ）一般式（Ｉ）

【０００８】

【化２】（式中、Ｒ１　，Ｒ２　は水素原子またはメチル基を、
ｎは１〜２３の整数を示す。）で表されるエチレンオキ
シドもしくはポリエチレンオキシド、またはプロピレン
オキシドもしくはポリプロピレンオキシドのモノ（メタ
）アクリル酸エステルが硬化性樹脂組成物中に３〜４０
重量％、および（Ｂ）陰イオン系界面活性剤が成分（Ａ）に対して０．
０１〜２００重量％含有され、かつ成分（Ａ），（Ｂ）
の合計量が５０重量％以下である硬化性樹脂組成物を硬
化してなる塗膜で被覆したことを特徴とする光ディスク
である。

【０００９】一般式（Ｉ）中、Ｒ１　，Ｒ２　は水素原
子またはメチル基を、ｎは１〜２３の整数を示す。ｎは
２〜２０が好ましく、３〜１５が特に好ましい。前述の
成分（Ａ）と（Ｂ）との後述の相互作用面からはｎが大
きい方が好ましいが、ｎが大きくなると相溶性が低下し
、且つ粘度が増大するためにｎが２３以下のものが適用
される。一般式（Ｉ）で表されるポリエチレンオキシド
またはポリプロピレンオキシドのモノ（メタ）アクリル
酸エステルとしては、例えば、２−ヒドロキシエチルメ
タクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２
−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプ
ロピルメタクリレート、ジエチレングリコールモノメタ
クリレート、トリエチレングリコールモノメタクリレー
ト、テトラエチレングリコールモノメタクリレート、ペ
ンタエチレングリコールモノアクリレート、ヘキサエチ
レングリコールモノアクリレート、テトラプロピレング
リコールモノメタクリレート、テトラプロピレングリコ
ールモノアクリレート、

【００１０】

【化３】（ＭＡ−１５０、日本乳化剤（株）製）、などが挙げら
れるがこの限りでない。

【００１１】本発明の成分（Ａ）の一般式（Ｉ）で表さ
れるポリエチレンオキシドまたはポリプロピレンオキシ
ドのモノ（メタ）アクリル酸エステルは、該組成物中３
〜４０重量％、好ましくは５〜３５重量％含有される。また、陰イオン系界面活性剤は成分（Ａ）に対して０．
０１〜２００重量％であり、更には０．１〜１００重量
％含有させるのが好ましい。両者の量は用いる化合物に
より適宜この範囲内で選ばれる。成分（Ａ）と成分（Ｂ
）は相互に働き硬化物に優れた帯電防止性を付与する。理由は定かでないが、成分（Ａ）が固体電解質的な役割
をして成分（Ｂ）と特殊な相互作用をしているものと推
定される。

【００１２】該成分（Ａ）が３重量％未満では成分（Ｂ
）との相互作用の割合が不十分で帯電防止効果が不足し
、一方、４０重量％を超えると該組成物で被覆し硬化さ
せた光ディスクの表面皮膜硬度が不十分で好ましくない
。なお、成分（Ａ），（Ｂ）の合計量が５０重量％を越
えると硬化性が不十分となり十分な硬度を持った塗膜が
得られない。

【００１３】成分（Ｂ）の陰イオン界面活性剤としては
、飽和や不飽和の脂肪酸アルカリ金属塩、飽和や不飽和
の脂肪族のスルホン酸塩、置換基を含んでもよい芳香族
のスルホン酸塩、エチレンオキシド単位を含むスルホン
酸塩、各種置換基を含むサルフェートのナトリウム塩な
どが挙げられる。具体的にはトデシルベンゼンスルホン
酸ナトリウム、アシル（牛脂）メチルタウリン酸ナトリ
ウム、ラウロイルメチルタウリン酸ナトリウム、ソジウ
ム・ココイル・イセチネート、α−スルホ脂肪酸エステ
ルナトリウム塩、アシドエーテルソジウムサルフェート
、アルキルエーテルスルホン酸ナトリウム、アルキルサ
ルフェートナトリウム塩、アルキルエーテルサルフェー
トナトリウム塩、オレイン酸カリウム、ヤシ脂肪酸カリ
ウムなどの脂肪酸石鹸が挙げられる。この中で前記相互
作用の面からスルホン酸の塩化合物、硫酸エステルの塩
化合物が好ましい。

【００１４】本発明において、前記成分（Ａ）の化合物
以外の硬化性樹脂組成物には、一般に知られた重合性単
量体や重合性オリゴマー、重合性プレポリマーが用いら
れる。例えばビスフェノールＡエポキシアクリレート、
脂肪酸変性エポキシアクリレート、ノボラックエポキシ
アクリレート、フェノールノボラックエポキシアクリレ
ート、ポリエステルオリゴウレタンアクリレート、多官
能ヒドロキシ化合物のウレタンアクリレート、ポリブタ
ジエンアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ
）アクリレート、（ポリ）アルキレングリコールのジ（
メタ）アクリレートなどの脂肪族多官能アクリレート、
多官能オリゴエステルアクリレート、多官能ポリエステ
ルアクリレート、ホスファゼン化合物のアクリレート変
性物、イソシアヌル酸の多官能アクリレート、その他ビ
ニル重合性化合物、アクリル系重合性化合物などが使用
できる。これらの重合性化合物は単独あるいは混合して
使用される。

【００１５】本発明の硬化性樹脂組成物は、必要に応じ
て、光重合開始剤、熱重合開始剤などのラジカル重合開
始剤などを添加して用いる。光重合開始剤としては、ベ
ンゾフェノン、ミヒラーズケトンなどのベンゾフェノン
系開始剤、ベンジル、フェニルメトキシジケトンなどの
ジケトン系開始剤、アセトフェノンなどのアセトフェノ
ン系開始剤、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメ
チルケタールなどのベンゾイン系開始剤、２，４−ジエ
チルチオキサントンなどのチオキサントン系開始剤、２
−メチルアントラキノン、カンファーキノンなどのキノ
ン系開始剤などが好適に用いられる。必要に応じてアミ
ン系促進剤などの促進剤の併用も可能である。熱硬化の
場合にはアゾビスイスブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、ベ
ンゾイルペルオキシド（ＢＰＯ）、クメンヒドロペルオ
キシド、ジクミルペルオキシド、ジターシャリーブチル
ペルオキシド、ラウロイルペルオキシドなどが挙げられ
る。用いる開始剤量としては、コスト等の実用面からその上
限は制限され、該組成物１００重量部に対して１〜１０
重量部、好ましくは２〜５重量部が用いられる。

【００１６】本発明の硬化性樹脂組成物は塗布性の改善
、作業性の向上などのために、必要に応じて溶媒で希釈
される。なお、ポリカーボネート樹脂を基板として用い
る場合はメタノール、エタノール、イソプロパノールな
どのアルコール性溶媒が好適に用いられる。

【００１７】本発明の硬化性樹脂組成物は、公知のスピ
ンコーティング法、浸漬コーティング法、ドクターナイ
フによるコーティング、バーコーターによる方法で、光
ディスクの表面を被覆することが出来る。光ディスクの
被覆にあたっては、光ディスクの側面をも被覆すると帯
電防止効果を向上させることが出来る。

【００１８】本発明の硬化後の塗膜の厚さは１〜３０μ
ｍ　であり、好ましくは５〜２５μｍ　である。１μｍ
　未満では硬度の上で十分な性能が発揮されず、３０μ
ｍ　を越える膜厚制御が困難になるばかりか、内部の硬
化性が低下するために好ましくない。

【００１９】重合性単量体組成物を塗布した光ディスク
は低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯などの紫外ラン
プ、ハロゲンランプ、電子線などの活性光線、あるいは
熱処理などを用いて公知の方法、条件により硬化される
。この中で、紫外ランプ、ハロゲンランプ、電子線など
の活性光線を用いるのが操作性、生産性の観点から好ま
しい。

【００２０】本発明で得られる光ディスクの表面抵抗は
１０１５Ω／□未満が好ましく、１０１４Ω／□以下が
更に好ましい。これ以上の抵抗を有するものは帯電防止
性の観点から効果がない。また、表面硬度は取扱いの観
点から鉛筆硬度がＨＢ以上のものが好しく、Ｆ以上のも
のが更に好ましい。

【００２１】

【発明の効果】本発明は、高度の耐久性をもつ帯電防止
能を有し、しかも充分な表面硬度を有する光ディスクを
提供することができる。

【００２２】

【実施例】以下実施例により本発明をさらに詳細に説明
する。本発明はかかる実施例に限定されない。

【００２３】実施例において、表面抵抗（Ω／□）はＪ
ＩＳ　　Ｋ６９１１によった。また、鉛筆硬度は、三菱
鉛筆製ユニを用いて測定した。

【００２４】

【実施例１】厚さ１．２ｍｍのポリカーボネートディス
クのフラット面にアクリル系の光硬化性樹脂組成物であ
る日本精化（株）のＮＳＣ−７１０６が９６重量％、下
記式で表わされる日本乳化剤（株）のＭＡ１５０が４重
量％からなる組成物１００重量部に、ドデシルベンゼン
スルホン酸ナトリウムを０．１重量部含む硬化性組成物
を５〜１０μｍ　の厚さになるようにスピンコート法に
より塗布した。引き続き、長さ約２７ｃｍ、２Ｋｗの高
圧水銀灯を用い、２０ｃｍの高さから紫外線を１分間照
射し、塗膜を硬化させた。

【００２５】

【化４】硬化後のポリカーボネートディスクの硬化面について、
表面抵抗および鉛筆硬度を測定した。鉛筆硬度はＨであ
り、表面抵抗は９．８×１０１３Ω／□であった。

【００２６】

【比較例１】厚さ１．２ｍｍのポリカーボネートディス
クのフラット面に前述の日本精化（株）のＮＳＣ−７１
０６を９６重量％、日本乳化剤（株）のＭＡ１５０を４
重量％含む硬化性組成物を５〜１０μｍ　の厚さになる
ようにスピンコート法により塗布した。引き続き、長さ
約２７ｃｍ、２Ｋｗの高圧水銀灯を用い、２０ｃｍの高
さから紫外線を１分間照射し、塗膜を硬化させた。硬化
後のポリカーボネートディスクの硬化面について、表面
抵抗および鉛筆硬度を測定した。鉛筆硬度はＨであった
が、表面抵抗は１．２×１０１５Ω／□であった。

【００２７】

【実施例２】６官能ウレタンアクリレートオリゴマー（
Ｕ１２２６Ａ，新中村化学工業（株）製）が５０重量％
、トリメチロールプロパントリアクリレートが４０重量
％、およびテトラエチレングリコールモノメタクリレー
トが１０重量％からなる組成物１００重量部に対し、ト
デシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを１重量部、光開
始剤ダロキュア１１７３を３重量部含む硬化性樹脂組成
物を１．２ｍｍ厚みのポリカーボネートディスクに塗布
し、前記と同様に光硬化させた。得られたディスクの表
面硬度はＦであり、表面抵抗は３．６×１０１３Ω／□
であった。

【００２８】

【比較例２】６官能ウレタンアクリレートオリゴマー（
Ｕ１２２６Ａ，新中村化学工業（株）製）が５０重量％
、トリメチロールプロパントリアクリレートが４０重量
％、およびテトラエチレングリコールモノメタクリレー
トが１０重量％からなる組成物１００重量部に、光開始
剤ダロキュア１１７３を３重量部含む硬化性樹脂組成物
を１．２ｍｍ厚みのポリカーボネートディスクに塗布し
、前記と同様に光硬化させた。得られたディスクの表面
硬度はＦであり、表面抵抗は１．０５×１０１５Ω／□
であった。

【００２９】

【実施例３】ホスファゼンのヘキサアクリレート（Ｕ−
１０００，出光石油化学（株）製）が７０重量％、テト
ラプロピレングリコールモノメタクリレートが３０重量
％からなる組成物１００重量部に、アルキルエーテルス
ルホン酸ナトリウム（アバネルＳ７４；日本油脂（株）
製）０．１重量部、光開始剤イルガキュア９０７（チバ
ガイギー社製）３重量部からなる硬化性樹脂組成物を実
施例１と同様に厚さ１．２ｍｍのポリカーボネートディ
スクのフラット面に塗布し、光硬化させた。硬化塗膜の
表面硬度はＨで表面抵抗は３．５×１０１２Ω／□であ
った。

【００３０】

【実施例４】カプロラクトン変性ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレート（ＤＰＣＡ６０；日本化薬（株）
製）が６０重量％、トリメチロールプロパントリアクリ
レートが２０重量％、テトラエチレングリコールモノア
クリレートが２０重量％からなる組成物１００重量部に
、ラウロイルメチルタウリン酸ナトリウム（ダイヤポン
Ｌ；日本油脂（株）製）を２重量部、光開始剤イルガキ
ュア９０７（チバガイギー社製）を３重量部含む硬化性
樹脂組成物を実施例１と同様に厚さ１．２ｍｍのポリカ
ーボネートディスクのフラット面に塗布し、光硬化させ
た。硬化塗膜の表面硬度はＦで、表面抵抗は６．２×１
０１３Ω／□であった。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】　　光ディスクの少なくとも光照射面（読
み取り面）を、（Ａ）一般式（Ｉ）【化１】（式中、Ｒ１　，Ｒ２　は水素原子またはメチル基を、
ｎは１〜２３の整数を示す。）で表されるエチレンオキ
シドもしくはポリエチレンオキシド、またはプロピレン
オキシドもしくはポリプロピレンオキシドのモノ（メタ
）アクリル酸エステルが硬化性樹脂組成物中に３〜４０
重量％、および（Ｂ）陰イオン系界面活性剤が成分（Ａ）に対して０．
０１〜２００重量％含有され、かつ成分（Ａ），（Ｂ）
の合計量が全体の５０重量％以下である硬化性樹脂組成
物を硬化してなる塗膜で被覆したことを特徴とする光デ
ィスク。
【請求項２】　　硬化性樹脂組成物を硬化してなる塗膜
の鉛筆硬度がＦ以上であり、かつ、表面抵抗が１０１４
Ω／□以下であることを特徴とする請求項１の光デイス
ク。
【請求項３】　　陰イオン系界面活性剤がスルホン酸塩
及び／または硫酸エステルの塩を含むことを特徴とする
請求項１または２の光デイスク。