JPH0315262B2 - - Google Patents
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- JPH0315262B2 JPH0315262B2 JP56000939A JP93981A JPH0315262B2 JP H0315262 B2 JPH0315262 B2 JP H0315262B2 JP 56000939 A JP56000939 A JP 56000939A JP 93981 A JP93981 A JP 93981A JP H0315262 B2 JPH0315262 B2 JP H0315262B2
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/253—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
本発明は高性能のビデオ又はオーデイオデイス
ク用基板、特に光学式ビデオ又はオーデイオデイ
スク用基板に関する。 光学技術の進歩により大容量記録再生技術によ
るビデオデイスク、オーデイオデイスク等の情報
記録体は近年急速に発展している分野である。デ
イスクの構成法としては形態ならびに各構成素材
が各方面から検討され、広範多岐にわたつている
が、光学式デイスクの一般例としては、基板、情
報記録層および光反射層の主要な3層を含む多層
構造からなるものが挙げられ、基板としては軽量
性および取扱い簡便性等から透明な合成樹脂製の
シート、フイルムを用いることが多い。しかし、
これら合成樹脂製のシート、フイルム基板は、表
面の耐擦傷性が劣り、デイスク製造時および取扱
い時に傷がつきやすく、ノイズ発生により記録、
再生性能がが低下しやすいという大きな欠点を有
している。これらの欠点を改善するため種々の検
討が実施され、たとえば感光層つまり情報記録層
と基板の中間に光学系の焦点深度以上の透明層を
設けたり、基板の表面に耐摩耗性の保護層を設け
る方法等が提案されている。しかし、単なる通常
の透明コーテイング層では、耐擦傷性が全く不充
分であり、また従来の耐摩耗性保護層でも耐擦傷
性が必ずしも充分でない。その上、これらが本質
的に架橋硬化被膜であることから、情報記録層と
の密着性が低下する欠点が認められていた。 本発明はこれら従来法の欠点を改良し、耐擦傷
性と情報記録層との密着性に優れ、しかも平滑で
情報の精密な記録、再生に適した新規なビデオ又
はオーデイオデイスク用基板を提供することを主
要な目的としている。 すなわち、本発明は合成樹脂円板の表面に特定
成分からなる(メタ)アクリル系硬化膜を形成し
てなるビデオ又はオーデイオデイスク用基板であ
る。 本発明において用いられる合成樹脂円板として
は、ポリメチルメタクリレート又はメチルメタク
リレート共重合体のような公知のメタクリル系の
樹脂板、ポリ塩化ビニル又は塩化ビニル共重合体
のような公知の塩化ビニル系の樹脂板が好ましく
用いられ、透明性の点からメタクリル系の樹脂板
が最も好ましい。しかし、ポリスチレン、スチレ
ン共重合体、ポリエステル、ポリカーボネート等
の透明なシート、フイルムも本発明の合成樹脂板
として使用可能である。 合成樹脂板に塗布する(メタ)アクリレート系
硬化液は活性エネルギー線によつて架橋硬化する
ことが必要である。一般に耐摩耗性の保護層を形
成する方法としては、たとえばシリコン系、メラ
ミン系あるいはウレタン系被覆材を合成樹脂板に
塗布し、加熱硬化する方法があげられるが、これ
らは高温長時間の硬化を必要とするので、生産性
に劣る上に加熱による樹脂板の変形がおこるた
め、特に平滑性を要求される情報デイスク用樹脂
板の表面処理法としては不適当である。この点、
活性エネルギー線による光硬化法は熱変形が少な
い点から好ましいが、熱硬化法、光硬化法を問わ
ず従来法による硬化膜は架橋被膜であるため、親
油性、新水性化合物いずれも濡れが悪く、また硬
化膜表面上にさらに情報記録層を形成するための
感光性の樹脂等を塗布する場合には、均一な塗布
が困難であり、その上密着性も劣るので、実用に
耐えないデイスクとなつた。 もちろん、硬化膜の架橋密度を低減することに
より密着性は改良できるが、この場合には一般の
塗料と同様耐擦傷性が大巾に低下し、デイスクの
再生時にノイズの原因となる傷の発生を招くこと
になる。これらに対して本発明の硬化液は特定の
(メタ)アクリレート系化合物を用いることによ
り、空気中の活性エネルギー線照射により急速短
時間で架橋硬化し極めて耐擦傷性の優れた硬化膜
を形成する上に、該硬化膜上にさらに情報記録層
を均一かつ強固な密着性を維持して被覆形成しう
るという全く特異な挙動を示すものである。 本発明の硬化膜は1分子当り3個以上の(メ
タ)アクリロイルオキシ基を有する多官能性単量
体(a)30〜90重量部、1分子中に少なくとも1個の
エーテル結合を有し、常圧での沸点が150℃以上
で、かつ20℃での粘度が20センチポイズ以下であ
る1〜2官能性(メタ)アクリレート(b1)9.5
〜69.5重量部および極限粘度が0.01〜0.3/gで
あり、アルキル基の炭素数が1〜8個である(メ
タ)アクリル酸アルキル単独重合体または共重合
体(b2)0.5〜10重量部からなる単量体混合物(A)
10〜80重量部に対して該混合物(A)と混合して均一
な溶液を形成する少なくとも1種の有機溶剤20〜
90重量部を配合してなる組成物を合成樹脂板の表
面に塗布し、好ましくは空気中で活性エネルギー
線を照射し、形成することができる。 本発明で使用される1分子当り3個以上の(メ
タ)アクリロイルオキシ基を有する多官能性単量
体(a)とは3価以上の多価アルコール又はその誘導
体と(メタ)アクリル酸又はこれらの酸のハロゲ
ン化物やエステルとの反応によつて得られる架橋
性単量体であつて、具体例としては、たとえばト
リメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタグリセロールトリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリ
レート等が挙げられる。 このような多官能性単量体は活性エネルギー線
の照射により架橋硬化被膜を形成する主成分とな
るものであるが、中には空気中で照射すると架橋
硬化反応が空気中の酸素によつて抑制され、充分
な耐摩耗性を発現しないものもある。このような
場合には窒素ガスや炭酸ガス等の不活性ガス雰囲
気中で照射する必要がある。これは作業工程の煩
雑性から実用上不利となるため、空気中照射によ
り充分な耐摩耗性を有する架橋硬化被膜を形成し
うる単量体を用いる方が本発明を実施する上でよ
り好ましい。 この条件を満たす多官能性単量体としては下記
の一般式 (式中、X11、X12、X13、X22、X23…、Xo2、
Xo3、X14のうち少なくとも3個はCH2=CR7−
COO基で残りは−OH基である。nは2〜5の整
数である。R7は水素又はメチル基である。) で示されるポリペンタエリスリトールポリ(メ
タ)アクリレートがあげられる。これは活性エネ
ルギー線の照射によつて非常に良好な重合活性を
有しており、また架橋硬化して高度の耐摩耗性を
示す重合体を形成する。具体例としては、ペンタ
エリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペン
タエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、
ジペンタエリスリトールテトル(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)ア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メ
タ)アクリレート等があげられる。前記のような
多官能性単量体は2種以上混合して用いることも
できる。 多官能性単量体の使用量は30〜90重量部であ
り、30重量部未満であると硬化膜の表面硬度、耐
擦傷性が不十分となり、一方90重量部を超えると
硬化膜の平滑性が不十分となる。 次に多官能性単量体(a)と共重合可能な1分子中
に少なくとも1個のエーテル結合を有し、かつ常
圧での沸点が150℃以上で、20℃の粘度が20セン
チポイズ以下である1官能性(メタ)アクリレー
ト(b1)としては2−エトキシエチル(メタ)ア
クリレート、3−エトキシプロピル(メタ)アク
リレート、2−ブトキシエチル(メタ)アクリレ
ート、フエノキシエチル(メタ)アクリレート、
2−(2−メトキシエトキシ)−エチル(メタ)ア
クリレート、2−(2−エトキシエトキシ)−エチ
ル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリ
ル(メタ)アクリレート、2−テトラヒドロフル
フリロキシエチル(メタ)アクリレート、2−グ
リシジロキシエチル(メタ)アクリレート等があ
げられる。これらは空気中酸化性と共に塗膜平滑
性の点から好ましい成分となる。 1官能性(メタ)アクリレート(b1)は上記の
性質を有するものであるが、常圧での沸点が150
℃未満であると単量体が揮散しやすく、環境上の
問題があり、また組成物の組成変化が生じやすく
なる。また粘度が20センチポイズを超えると硬化
膜の平滑性が不十分となる。また(b1)成分はエ
ーテルを結合を有するが、分子中にエーテル結合
を有する単量体は空気中での紫外線硬化性が良好
であり好ましい。 また、(b1)成分の使用量は9.5〜69.5重量部で
あるが、9.5重量部未満では硬化膜の平滑性が不
十分となり、69.5重量部を超えると硬化膜の表面
硬度、耐擦傷性が不十分となる。 1分子当りの(メタ)アクリロイルオキシ基が
2個のものとしては、グリコールジ(メタ)アク
リレート、ポリアルキレングリコールジ(メタ)
アクリレート等のジエチレン性不飽和化合物があ
げられる。なお、空気中での硬化性の高い化合物
としてはたとえば下記の一般式で示されるものが
あり、具体的には2,2−ビス(4−アクリロイ
ルオキシフエニル)プロパン、2,2−ビス(4
−アクリロイルオキシエトキシフエニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−アクリロイルオキシエト
キシフエニル)プロパン、2,2−ビス(4−ア
クリロイルオキシプロポキシフエニル)プロパ
ン、2,2−ビス〔4−アクリロイルオキシ(2
−ヒドロキシプロポキシ)フエニル〕プロパン等
がある。これらは硬化膜に可撓性と樹脂板への密
着性をを付与するのに有効である。 (式中、X1、X2…Xoは炭素数6以下のアルキ
レン基又はその水素原子1個が水酸基で置換され
たものであり、nは0〜5の整数である。) また、上記(b1)成分と共に極限粘度が0.01〜
0.3/gであり、アルキル基の炭素数が1〜8
個である(メタ)アクリル酸アルキル単独重合体
または共重合体(b2)成分を併用することは特に
基板との密着性を向上させるために特に効果的で
ある。 (b2)成分のアルキル基の炭素数が8を超える
と重合体のガラス転移温度が低下し、取扱い上問
題が生じる。また使用量は0.5〜10重量部である
が、0.5重量部未満では密着性向上効果が少なく、
10重量部を超えると硬化膜の表面硬度、耐擦傷性
が不十分となる。 また架橋硬化被膜にすぐれた防曇性および制電
性を与えるために、上記混合物(A)にさらに、下記
の一般式 (式中、R1は水素かメチル基であり、Yは−
CONH基又は−COO基であり、l、m、nおよ
びrは0〜5の整数である。) で示されるスルホン酸系単量体(C)および/又は下
記の一般式 (式中、R2は水素又はメチル基であり、R3は
水素又は
ク用基板、特に光学式ビデオ又はオーデイオデイ
スク用基板に関する。 光学技術の進歩により大容量記録再生技術によ
るビデオデイスク、オーデイオデイスク等の情報
記録体は近年急速に発展している分野である。デ
イスクの構成法としては形態ならびに各構成素材
が各方面から検討され、広範多岐にわたつている
が、光学式デイスクの一般例としては、基板、情
報記録層および光反射層の主要な3層を含む多層
構造からなるものが挙げられ、基板としては軽量
性および取扱い簡便性等から透明な合成樹脂製の
シート、フイルムを用いることが多い。しかし、
これら合成樹脂製のシート、フイルム基板は、表
面の耐擦傷性が劣り、デイスク製造時および取扱
い時に傷がつきやすく、ノイズ発生により記録、
再生性能がが低下しやすいという大きな欠点を有
している。これらの欠点を改善するため種々の検
討が実施され、たとえば感光層つまり情報記録層
と基板の中間に光学系の焦点深度以上の透明層を
設けたり、基板の表面に耐摩耗性の保護層を設け
る方法等が提案されている。しかし、単なる通常
の透明コーテイング層では、耐擦傷性が全く不充
分であり、また従来の耐摩耗性保護層でも耐擦傷
性が必ずしも充分でない。その上、これらが本質
的に架橋硬化被膜であることから、情報記録層と
の密着性が低下する欠点が認められていた。 本発明はこれら従来法の欠点を改良し、耐擦傷
性と情報記録層との密着性に優れ、しかも平滑で
情報の精密な記録、再生に適した新規なビデオ又
はオーデイオデイスク用基板を提供することを主
要な目的としている。 すなわち、本発明は合成樹脂円板の表面に特定
成分からなる(メタ)アクリル系硬化膜を形成し
てなるビデオ又はオーデイオデイスク用基板であ
る。 本発明において用いられる合成樹脂円板として
は、ポリメチルメタクリレート又はメチルメタク
リレート共重合体のような公知のメタクリル系の
樹脂板、ポリ塩化ビニル又は塩化ビニル共重合体
のような公知の塩化ビニル系の樹脂板が好ましく
用いられ、透明性の点からメタクリル系の樹脂板
が最も好ましい。しかし、ポリスチレン、スチレ
ン共重合体、ポリエステル、ポリカーボネート等
の透明なシート、フイルムも本発明の合成樹脂板
として使用可能である。 合成樹脂板に塗布する(メタ)アクリレート系
硬化液は活性エネルギー線によつて架橋硬化する
ことが必要である。一般に耐摩耗性の保護層を形
成する方法としては、たとえばシリコン系、メラ
ミン系あるいはウレタン系被覆材を合成樹脂板に
塗布し、加熱硬化する方法があげられるが、これ
らは高温長時間の硬化を必要とするので、生産性
に劣る上に加熱による樹脂板の変形がおこるた
め、特に平滑性を要求される情報デイスク用樹脂
板の表面処理法としては不適当である。この点、
活性エネルギー線による光硬化法は熱変形が少な
い点から好ましいが、熱硬化法、光硬化法を問わ
ず従来法による硬化膜は架橋被膜であるため、親
油性、新水性化合物いずれも濡れが悪く、また硬
化膜表面上にさらに情報記録層を形成するための
感光性の樹脂等を塗布する場合には、均一な塗布
が困難であり、その上密着性も劣るので、実用に
耐えないデイスクとなつた。 もちろん、硬化膜の架橋密度を低減することに
より密着性は改良できるが、この場合には一般の
塗料と同様耐擦傷性が大巾に低下し、デイスクの
再生時にノイズの原因となる傷の発生を招くこと
になる。これらに対して本発明の硬化液は特定の
(メタ)アクリレート系化合物を用いることによ
り、空気中の活性エネルギー線照射により急速短
時間で架橋硬化し極めて耐擦傷性の優れた硬化膜
を形成する上に、該硬化膜上にさらに情報記録層
を均一かつ強固な密着性を維持して被覆形成しう
るという全く特異な挙動を示すものである。 本発明の硬化膜は1分子当り3個以上の(メ
タ)アクリロイルオキシ基を有する多官能性単量
体(a)30〜90重量部、1分子中に少なくとも1個の
エーテル結合を有し、常圧での沸点が150℃以上
で、かつ20℃での粘度が20センチポイズ以下であ
る1〜2官能性(メタ)アクリレート(b1)9.5
〜69.5重量部および極限粘度が0.01〜0.3/gで
あり、アルキル基の炭素数が1〜8個である(メ
タ)アクリル酸アルキル単独重合体または共重合
体(b2)0.5〜10重量部からなる単量体混合物(A)
10〜80重量部に対して該混合物(A)と混合して均一
な溶液を形成する少なくとも1種の有機溶剤20〜
90重量部を配合してなる組成物を合成樹脂板の表
面に塗布し、好ましくは空気中で活性エネルギー
線を照射し、形成することができる。 本発明で使用される1分子当り3個以上の(メ
タ)アクリロイルオキシ基を有する多官能性単量
体(a)とは3価以上の多価アルコール又はその誘導
体と(メタ)アクリル酸又はこれらの酸のハロゲ
ン化物やエステルとの反応によつて得られる架橋
性単量体であつて、具体例としては、たとえばト
リメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタグリセロールトリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリ
レート等が挙げられる。 このような多官能性単量体は活性エネルギー線
の照射により架橋硬化被膜を形成する主成分とな
るものであるが、中には空気中で照射すると架橋
硬化反応が空気中の酸素によつて抑制され、充分
な耐摩耗性を発現しないものもある。このような
場合には窒素ガスや炭酸ガス等の不活性ガス雰囲
気中で照射する必要がある。これは作業工程の煩
雑性から実用上不利となるため、空気中照射によ
り充分な耐摩耗性を有する架橋硬化被膜を形成し
うる単量体を用いる方が本発明を実施する上でよ
り好ましい。 この条件を満たす多官能性単量体としては下記
の一般式 (式中、X11、X12、X13、X22、X23…、Xo2、
Xo3、X14のうち少なくとも3個はCH2=CR7−
COO基で残りは−OH基である。nは2〜5の整
数である。R7は水素又はメチル基である。) で示されるポリペンタエリスリトールポリ(メ
タ)アクリレートがあげられる。これは活性エネ
ルギー線の照射によつて非常に良好な重合活性を
有しており、また架橋硬化して高度の耐摩耗性を
示す重合体を形成する。具体例としては、ペンタ
エリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペン
タエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、
ジペンタエリスリトールテトル(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)ア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メ
タ)アクリレート等があげられる。前記のような
多官能性単量体は2種以上混合して用いることも
できる。 多官能性単量体の使用量は30〜90重量部であ
り、30重量部未満であると硬化膜の表面硬度、耐
擦傷性が不十分となり、一方90重量部を超えると
硬化膜の平滑性が不十分となる。 次に多官能性単量体(a)と共重合可能な1分子中
に少なくとも1個のエーテル結合を有し、かつ常
圧での沸点が150℃以上で、20℃の粘度が20セン
チポイズ以下である1官能性(メタ)アクリレー
ト(b1)としては2−エトキシエチル(メタ)ア
クリレート、3−エトキシプロピル(メタ)アク
リレート、2−ブトキシエチル(メタ)アクリレ
ート、フエノキシエチル(メタ)アクリレート、
2−(2−メトキシエトキシ)−エチル(メタ)ア
クリレート、2−(2−エトキシエトキシ)−エチ
ル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリ
ル(メタ)アクリレート、2−テトラヒドロフル
フリロキシエチル(メタ)アクリレート、2−グ
リシジロキシエチル(メタ)アクリレート等があ
げられる。これらは空気中酸化性と共に塗膜平滑
性の点から好ましい成分となる。 1官能性(メタ)アクリレート(b1)は上記の
性質を有するものであるが、常圧での沸点が150
℃未満であると単量体が揮散しやすく、環境上の
問題があり、また組成物の組成変化が生じやすく
なる。また粘度が20センチポイズを超えると硬化
膜の平滑性が不十分となる。また(b1)成分はエ
ーテルを結合を有するが、分子中にエーテル結合
を有する単量体は空気中での紫外線硬化性が良好
であり好ましい。 また、(b1)成分の使用量は9.5〜69.5重量部で
あるが、9.5重量部未満では硬化膜の平滑性が不
十分となり、69.5重量部を超えると硬化膜の表面
硬度、耐擦傷性が不十分となる。 1分子当りの(メタ)アクリロイルオキシ基が
2個のものとしては、グリコールジ(メタ)アク
リレート、ポリアルキレングリコールジ(メタ)
アクリレート等のジエチレン性不飽和化合物があ
げられる。なお、空気中での硬化性の高い化合物
としてはたとえば下記の一般式で示されるものが
あり、具体的には2,2−ビス(4−アクリロイ
ルオキシフエニル)プロパン、2,2−ビス(4
−アクリロイルオキシエトキシフエニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−アクリロイルオキシエト
キシフエニル)プロパン、2,2−ビス(4−ア
クリロイルオキシプロポキシフエニル)プロパ
ン、2,2−ビス〔4−アクリロイルオキシ(2
−ヒドロキシプロポキシ)フエニル〕プロパン等
がある。これらは硬化膜に可撓性と樹脂板への密
着性をを付与するのに有効である。 (式中、X1、X2…Xoは炭素数6以下のアルキ
レン基又はその水素原子1個が水酸基で置換され
たものであり、nは0〜5の整数である。) また、上記(b1)成分と共に極限粘度が0.01〜
0.3/gであり、アルキル基の炭素数が1〜8
個である(メタ)アクリル酸アルキル単独重合体
または共重合体(b2)成分を併用することは特に
基板との密着性を向上させるために特に効果的で
ある。 (b2)成分のアルキル基の炭素数が8を超える
と重合体のガラス転移温度が低下し、取扱い上問
題が生じる。また使用量は0.5〜10重量部である
が、0.5重量部未満では密着性向上効果が少なく、
10重量部を超えると硬化膜の表面硬度、耐擦傷性
が不十分となる。 また架橋硬化被膜にすぐれた防曇性および制電
性を与えるために、上記混合物(A)にさらに、下記
の一般式 (式中、R1は水素かメチル基であり、Yは−
CONH基又は−COO基であり、l、m、nおよ
びrは0〜5の整数である。) で示されるスルホン酸系単量体(C)および/又は下
記の一般式 (式中、R2は水素又はメチル基であり、R3は
水素又は
【式】基であり、R4は水素又
はメチル基であり、mおよびnは1〜15の整数で
ある。) で示されるリン酸エステル系単量体(d)0.5〜20重
量部と、 下記の一般式 NR5R6(CH2CH2OH) (式中、R5およびR6は水素、炭素数1〜15の
アルキル基又はCH2CH2OH基である。) で示されるエタノールアミン系化合物(e)1〜20重
量部を加えることができる。 本発明で用いられるスルホン酸系単量体(c)は二
重結合を有する不飽和モノカルボン酸又はその酸
アミドのスルホアルキルエステルであつて具体例
としては、スルホエチル(メタ)アクリレート、
スルホプロキル(メタ)アクリレート、スルホブ
チル(メタ)アクリレート、スルホエチルビニル
アセテート、スルホプロピルビニルアセテート、
スルホプロピルビニルプロピオネート、2−アク
リルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、2
−メタアクリルアミド−2−メチルプロパンスル
ホン酸、3−アクリルアミド−3−メチルブタン
スルホン酸等があげられる。 リン酸エステル系単量体(d)は少なくとも1個の
(メタ)アクリロイルオキシ基を有するものであ
り、具体例としては(メタ)アクリロイルオキシ
エチルフオスフエート、ジ(メタ)アクリロイル
オキシエチルフオスフエート、(メタ)アクリロ
イルオキシプロピルフオスフエート、(メタ)ア
クリロイルオキシブチルフオスフエート等があげ
られる。これ以外のハロゲン化ビニルフオスフエ
ートやアルキル置換ビニルフオスフエート等の
(メタ)アクリロイルオキシ基を有しないものは、
空気中での硬化を阻害するので好ましくない。 エタノールアミン化合物(e)は1分子中に少なく
とも1個の−CH2CH2OH基を有するアルキルア
ミンであつて、N置換アルキル基の炭素数は1〜
15が適当であり、15をこえると被膜の硬度低下を
きたすため好ましくない。具体例としては、エタ
ノールアミン、β−エチルヘキシルエタノールア
ミン、ジエタノールアミン、N−ブチルエタノー
ルアミン、N−ヘキシルジエタノールアミン、N
−ラウリルジエタノールアミン、N−セチルジエ
タノールアミン、トリエタノールアミン等があげ
られる。 これらの(c)、(d)および(e)成分は本発明の実施に
あたり添加しないでも耐摩耗性のすぐれた架橋被
膜を得ることができるが、これらの成分を配合す
ると硬化膜に制電性、防曇性を付与することがで
きる。一般に合成樹脂板は硬化膜の有無によらず
帯電性が強く、異物、塵埃を付着しやすい上に撥
水性のため湿気による曇りを発生しやすい傾向が
ある。これらは樹脂板表面の傷と同様に光散乱の
原因となり、記録、再生精度を低下させるので好
ましくない。そのため、通常は帯電防止剤や防曇
剤を情報デイスクの樹脂中に練込んだり、表面に
塗布する対策がとられるが、耐久性に欠け、長期
使用した場合は添加剤の浸出、凝集、析出等がお
こつてやはり光散乱の原因となる。この点本発明
では(c)、(d)成分は硬化時に重合固定化され、また
(e)成分は(c)および/又は(d)成分と反応固定化され
るため耐久性が良好である。なお、(e)成分は(c)お
よび/又は(d)成分と併用配合することが好まし
く、微量の添加でも顕著な相乗効果が得られる。
特に(c)成分は硬化液中の他成分との相溶性に欠け
るため(e)成分との併用が特に望ましい。 本発明の被覆材組成物を構成する単量体混合物
(A)と混合して使用する有機溶剤(B)は被覆材組成物
を合成樹脂板の表面に塗布する場合の作業性、均
一な塗布被膜形成性あるいは貯蔵安定性に極めて
好ましい効果を付与し、また架橋硬化被膜の樹脂
板に対する密着性を増大させるために使用され
る。 本発明で使用する有機溶剤は、 (1) 多官能性の(メタ)アクリレート単量体混合
物(A)と混合して均一な溶液を形成する。 (2) 常圧での沸点が50℃以上、200℃以下である
こと、 (3) 常温での粘度が10センチポイズ以下であるこ
と、 等の条件を満足するものである。具体的にはエタ
ノール、イソプロパノール、ノルマルプロパノー
ル、イソブチルアルコール、ノルマルブチルアル
コールなどのアルコール類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水
素類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン
類、ジオキサン等のエーテル類、酢酸エチル、酢
酸n−ブチル、プロピオン酸エチルなどの酸エス
テル類やN,N−ジメチルフオルムアミド等があ
る。これらの有機溶剤は1種を単独に使用しても
よく、また混合したものの沸点、成分割合が前述
の要件を満たす範囲内であれば、2種以上を混合
して使用してもよい。 上記硬化液を基板に塗布するには、流延法、ス
プレー法、回転法、浸漬法等通常の塗布方法はい
ずれも適用できるが、特に均一かつ平滑な塗膜形
成が要求される情報デイスク用基板としては浸漬
法や回転法が最も好適である。膜厚としては情報
の再生に用いる光学系によつて選択されるが厚す
ぎるとクラツク発生や平滑性低下がおこり、又薄
すぎると硬度低下がおこるため、光学系の焦点深
度も考慮して1〜30μ、好ましくは3〜10μの範
囲にするのが好ましい。 本発明の硬化液を合成樹脂板の表面に塗布し、
架橋硬化被膜を形成させるためには、紫外線、電
子線あるいは放射線等の活性エネルギー線を照射
する必要がある。その中でも紫外線照射による方
法は実用的な面からみて最も好ましい。 紫外線を利用する場合には硬化液中に紫外線照
射によつて単量体の重合反応を開始させる光増感
剤を加えることによつて硬化速度をを上げること
ができる。このような光増感剤の具体例として
は、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテル、アセトイン、ブチロイン、トルオイ
ン、ベンジル、ベンゾフエノン、P−クロルベン
ゾフエノン、P−メトキシベンゾフエノン等のカ
ルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスル
フイド、テトラメチルチウラムジスルフイド等の
硫黄化合物、アゾビスイソブチロニトリル、アゾ
ビス−2,4−ジメチルバレロニトリル等のアゾ
化合物、ベンゾイルパーオキサイド、ジターシヤ
リ−ブチルパーオキサイド等のパーオキサイド化
合物などがあげられる。光増感剤の配合量は硬化
液100重量部に対して0.01〜10重量部が好ましい。
これらの光増感剤は単独で使用してもよいし、2
種以上組合わせて用いてもよい。 なお上記硬化液は窒素等の不活性雰囲気中でも
硬化可能であり、従来公知の硬化液に比較してあ
る程度良好な性能バランスを有する硬化膜が得ら
れるが、不経済である上に特に情報記録層との密
着性に劣るため空気中での硬化が好ましい。 本発明の表面に硬化膜を形成してなる合成樹脂
板の一方の面を、情報デイスクを製造する通常の
方法で加熱下に母型でプレスすると情報記録体が
得られる。この方法は、硬化膜の耐熱性の良さに
起因して通常のプレス成型以上に加熱することが
可能となり、硬化膜の軟化と基材樹脂の流動性向
上と相まつて微細な信号の転写がより容易となる
とともに、冷却後、樹脂で形成された信号の形状
がよりシヤープになる。しかし母型表面に刻み込
まれた信号を精確に転写するためには合成樹脂板
の一方の面に流体成型樹脂を設け、この流体成型
樹脂の上に母型をあて、次いで反対側から合成樹
脂板を介して活性エネルギー線を照射することに
よつて流体成型樹脂を硬化させるのが有利であ
る。この点に関するより詳しいプロセスは特開昭
53−86756号公報および同53−116105号公報にも
開示されている。 本発明における流体成型樹脂としては上記硬化
液をそのまゝ使用することも可能であり、フルオ
レセインやバリレン蒸気のような光重合性気体単
量体、トリチオール化合物およびトリエン化合物
の混合物等の放射線硬化性液体ラツカー等も用い
られる。特に本発明の効果を充分発揮するには、
(メタ)アクリル酸の低分子モノ−、ジ−、トリ
−又はテトラ−エステルの液体混合物を含有する
放射線硬化性化合物が合成樹脂板との密着性の点
から好適である。具体例としては、アルキル(メ
タ)アクリレート、フエニル(メタ)アクリレー
ト、アルコキシ(メタ)アクリレート、アルキレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリアル
キレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリ
メチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、
ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン
(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリ
レート等があげられ、これらは単独で用いてもよ
いし、混合物として用いてもよい。 上記流体成型樹脂を通常の方法で合成樹脂板上
に塗布し、母型をあて、合成樹脂板を介して活性
エネルギー線を照射すると流体成型樹脂は硬化
し、母型表面の記録信号が転写される。流体成型
樹脂を塗布する方法としては、得られる膜厚精度
の点から回転法が適当である。 信号の転写つまり情報の記録が終了した合成樹
脂板は母型からはなし、その面にさらに蒸着法に
よつてアルミニウム等の光反射層を形成するのが
有利である。また必要に応じて、光反射層の上に
適当な保護層を設けたり、2枚のデイスク(情報
記録体)の保護層同志を貼合わせて1組のデイス
クとして使用することもできる。このようにする
と、情報記録体の両面外層が耐擦傷性硬化膜で保
護されることになり、本発明の効果が最も有効に
発揮されることになる。なお本発明は透過光で情
報を再生する方式の情報記録体にも充分適用で
き、この場合には光反射層のかわりに本発明の硬
化液を用いて耐擦傷性硬化膜を形成するのが有利
である。 以下実施例により本発明をさらに詳細に説明す
る。 実施例1〜3および比較例〜15 表−1に示す各種硬化液をつくり、1.5mm厚の
ポリメチルメタクリレート樹脂板(三菱レイヨン
製アクリライトL)を上記硬化液中に浸漬して引
上げ、板の両面に被膜を形成させた。1分間放置
後、所定の雰囲気下に2KWの高圧水銀灯を用い
て板の両面それぞれ20cmの距離から紫外線を10秒
間照射し、約4μの硬化膜層を形成させた。更に
該硬化膜層の一面上にメチルメタクリレート8重
量部、トリメチロールプロパントリアクリレート
20重量部とベンゾインイソブチルエーテル2重量
部よりなる流体成型樹脂を回転塗布し、この上に
直径30cmのアルミニウム板製の平板状デイスク母
型をあて、反対側の硬化膜面より20cmの距離から
2KWの高圧水銀灯を60秒間照射した。平板状デ
イスク母型を除去した後、硬化した流体成型樹脂
の上に真空蒸着法により約350Å厚のアルミニウ
ムの光反射層を設けて片面情報記録デイスクを製
造した。各種性能の評価結果を比較例と共に表−
1、表−2に示す。 (1) 耐擦傷性 a 鉛筆硬度 JIS K5651−1966の方法で測定した。 b スチールウール法 #000のスチールウールを直径25mmの円筒先
端に装着し、水平に置かれた試料面を接触さ
せ、300g荷重20rpmで5回転し、傷の程度
を目視判定し、次の基準で評価した。 A:全く傷がつかない B:わずかに傷がつく C:明白に傷が認められる D:著しく傷が認められる (2) 密着性 硬化膜、感光膜いずれもクロスカツト−セロフ
アンテープ剥離テストで評価した。被膜に1mm間
隔に基材に達する被膜切断線を縦横それぞれ11本
入れ、1mm2の目数を100個つくり、その上にセロ
フアンテープを圧着した後、90度方向に急激には
がして比較し、次の基準で評価した。 ○ 剥離数 0 △ 〃 1〜50個 × 〃 51〜100個 (3) 表面異物 デイスク表面の異物の状態を顕微鏡で観察し、
表面処理を施さない基板を用いた場合と比較し、
次の基準で評価した。 ++ 異物著しく減少 + 〃やや減少 ○ 〃ほとんど変らず − 〃やや増大
ある。) で示されるリン酸エステル系単量体(d)0.5〜20重
量部と、 下記の一般式 NR5R6(CH2CH2OH) (式中、R5およびR6は水素、炭素数1〜15の
アルキル基又はCH2CH2OH基である。) で示されるエタノールアミン系化合物(e)1〜20重
量部を加えることができる。 本発明で用いられるスルホン酸系単量体(c)は二
重結合を有する不飽和モノカルボン酸又はその酸
アミドのスルホアルキルエステルであつて具体例
としては、スルホエチル(メタ)アクリレート、
スルホプロキル(メタ)アクリレート、スルホブ
チル(メタ)アクリレート、スルホエチルビニル
アセテート、スルホプロピルビニルアセテート、
スルホプロピルビニルプロピオネート、2−アク
リルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、2
−メタアクリルアミド−2−メチルプロパンスル
ホン酸、3−アクリルアミド−3−メチルブタン
スルホン酸等があげられる。 リン酸エステル系単量体(d)は少なくとも1個の
(メタ)アクリロイルオキシ基を有するものであ
り、具体例としては(メタ)アクリロイルオキシ
エチルフオスフエート、ジ(メタ)アクリロイル
オキシエチルフオスフエート、(メタ)アクリロ
イルオキシプロピルフオスフエート、(メタ)ア
クリロイルオキシブチルフオスフエート等があげ
られる。これ以外のハロゲン化ビニルフオスフエ
ートやアルキル置換ビニルフオスフエート等の
(メタ)アクリロイルオキシ基を有しないものは、
空気中での硬化を阻害するので好ましくない。 エタノールアミン化合物(e)は1分子中に少なく
とも1個の−CH2CH2OH基を有するアルキルア
ミンであつて、N置換アルキル基の炭素数は1〜
15が適当であり、15をこえると被膜の硬度低下を
きたすため好ましくない。具体例としては、エタ
ノールアミン、β−エチルヘキシルエタノールア
ミン、ジエタノールアミン、N−ブチルエタノー
ルアミン、N−ヘキシルジエタノールアミン、N
−ラウリルジエタノールアミン、N−セチルジエ
タノールアミン、トリエタノールアミン等があげ
られる。 これらの(c)、(d)および(e)成分は本発明の実施に
あたり添加しないでも耐摩耗性のすぐれた架橋被
膜を得ることができるが、これらの成分を配合す
ると硬化膜に制電性、防曇性を付与することがで
きる。一般に合成樹脂板は硬化膜の有無によらず
帯電性が強く、異物、塵埃を付着しやすい上に撥
水性のため湿気による曇りを発生しやすい傾向が
ある。これらは樹脂板表面の傷と同様に光散乱の
原因となり、記録、再生精度を低下させるので好
ましくない。そのため、通常は帯電防止剤や防曇
剤を情報デイスクの樹脂中に練込んだり、表面に
塗布する対策がとられるが、耐久性に欠け、長期
使用した場合は添加剤の浸出、凝集、析出等がお
こつてやはり光散乱の原因となる。この点本発明
では(c)、(d)成分は硬化時に重合固定化され、また
(e)成分は(c)および/又は(d)成分と反応固定化され
るため耐久性が良好である。なお、(e)成分は(c)お
よび/又は(d)成分と併用配合することが好まし
く、微量の添加でも顕著な相乗効果が得られる。
特に(c)成分は硬化液中の他成分との相溶性に欠け
るため(e)成分との併用が特に望ましい。 本発明の被覆材組成物を構成する単量体混合物
(A)と混合して使用する有機溶剤(B)は被覆材組成物
を合成樹脂板の表面に塗布する場合の作業性、均
一な塗布被膜形成性あるいは貯蔵安定性に極めて
好ましい効果を付与し、また架橋硬化被膜の樹脂
板に対する密着性を増大させるために使用され
る。 本発明で使用する有機溶剤は、 (1) 多官能性の(メタ)アクリレート単量体混合
物(A)と混合して均一な溶液を形成する。 (2) 常圧での沸点が50℃以上、200℃以下である
こと、 (3) 常温での粘度が10センチポイズ以下であるこ
と、 等の条件を満足するものである。具体的にはエタ
ノール、イソプロパノール、ノルマルプロパノー
ル、イソブチルアルコール、ノルマルブチルアル
コールなどのアルコール類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水
素類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン
類、ジオキサン等のエーテル類、酢酸エチル、酢
酸n−ブチル、プロピオン酸エチルなどの酸エス
テル類やN,N−ジメチルフオルムアミド等があ
る。これらの有機溶剤は1種を単独に使用しても
よく、また混合したものの沸点、成分割合が前述
の要件を満たす範囲内であれば、2種以上を混合
して使用してもよい。 上記硬化液を基板に塗布するには、流延法、ス
プレー法、回転法、浸漬法等通常の塗布方法はい
ずれも適用できるが、特に均一かつ平滑な塗膜形
成が要求される情報デイスク用基板としては浸漬
法や回転法が最も好適である。膜厚としては情報
の再生に用いる光学系によつて選択されるが厚す
ぎるとクラツク発生や平滑性低下がおこり、又薄
すぎると硬度低下がおこるため、光学系の焦点深
度も考慮して1〜30μ、好ましくは3〜10μの範
囲にするのが好ましい。 本発明の硬化液を合成樹脂板の表面に塗布し、
架橋硬化被膜を形成させるためには、紫外線、電
子線あるいは放射線等の活性エネルギー線を照射
する必要がある。その中でも紫外線照射による方
法は実用的な面からみて最も好ましい。 紫外線を利用する場合には硬化液中に紫外線照
射によつて単量体の重合反応を開始させる光増感
剤を加えることによつて硬化速度をを上げること
ができる。このような光増感剤の具体例として
は、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテル、アセトイン、ブチロイン、トルオイ
ン、ベンジル、ベンゾフエノン、P−クロルベン
ゾフエノン、P−メトキシベンゾフエノン等のカ
ルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスル
フイド、テトラメチルチウラムジスルフイド等の
硫黄化合物、アゾビスイソブチロニトリル、アゾ
ビス−2,4−ジメチルバレロニトリル等のアゾ
化合物、ベンゾイルパーオキサイド、ジターシヤ
リ−ブチルパーオキサイド等のパーオキサイド化
合物などがあげられる。光増感剤の配合量は硬化
液100重量部に対して0.01〜10重量部が好ましい。
これらの光増感剤は単独で使用してもよいし、2
種以上組合わせて用いてもよい。 なお上記硬化液は窒素等の不活性雰囲気中でも
硬化可能であり、従来公知の硬化液に比較してあ
る程度良好な性能バランスを有する硬化膜が得ら
れるが、不経済である上に特に情報記録層との密
着性に劣るため空気中での硬化が好ましい。 本発明の表面に硬化膜を形成してなる合成樹脂
板の一方の面を、情報デイスクを製造する通常の
方法で加熱下に母型でプレスすると情報記録体が
得られる。この方法は、硬化膜の耐熱性の良さに
起因して通常のプレス成型以上に加熱することが
可能となり、硬化膜の軟化と基材樹脂の流動性向
上と相まつて微細な信号の転写がより容易となる
とともに、冷却後、樹脂で形成された信号の形状
がよりシヤープになる。しかし母型表面に刻み込
まれた信号を精確に転写するためには合成樹脂板
の一方の面に流体成型樹脂を設け、この流体成型
樹脂の上に母型をあて、次いで反対側から合成樹
脂板を介して活性エネルギー線を照射することに
よつて流体成型樹脂を硬化させるのが有利であ
る。この点に関するより詳しいプロセスは特開昭
53−86756号公報および同53−116105号公報にも
開示されている。 本発明における流体成型樹脂としては上記硬化
液をそのまゝ使用することも可能であり、フルオ
レセインやバリレン蒸気のような光重合性気体単
量体、トリチオール化合物およびトリエン化合物
の混合物等の放射線硬化性液体ラツカー等も用い
られる。特に本発明の効果を充分発揮するには、
(メタ)アクリル酸の低分子モノ−、ジ−、トリ
−又はテトラ−エステルの液体混合物を含有する
放射線硬化性化合物が合成樹脂板との密着性の点
から好適である。具体例としては、アルキル(メ
タ)アクリレート、フエニル(メタ)アクリレー
ト、アルコキシ(メタ)アクリレート、アルキレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリアル
キレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリ
メチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、
ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン
(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリ
レート等があげられ、これらは単独で用いてもよ
いし、混合物として用いてもよい。 上記流体成型樹脂を通常の方法で合成樹脂板上
に塗布し、母型をあて、合成樹脂板を介して活性
エネルギー線を照射すると流体成型樹脂は硬化
し、母型表面の記録信号が転写される。流体成型
樹脂を塗布する方法としては、得られる膜厚精度
の点から回転法が適当である。 信号の転写つまり情報の記録が終了した合成樹
脂板は母型からはなし、その面にさらに蒸着法に
よつてアルミニウム等の光反射層を形成するのが
有利である。また必要に応じて、光反射層の上に
適当な保護層を設けたり、2枚のデイスク(情報
記録体)の保護層同志を貼合わせて1組のデイス
クとして使用することもできる。このようにする
と、情報記録体の両面外層が耐擦傷性硬化膜で保
護されることになり、本発明の効果が最も有効に
発揮されることになる。なお本発明は透過光で情
報を再生する方式の情報記録体にも充分適用で
き、この場合には光反射層のかわりに本発明の硬
化液を用いて耐擦傷性硬化膜を形成するのが有利
である。 以下実施例により本発明をさらに詳細に説明す
る。 実施例1〜3および比較例〜15 表−1に示す各種硬化液をつくり、1.5mm厚の
ポリメチルメタクリレート樹脂板(三菱レイヨン
製アクリライトL)を上記硬化液中に浸漬して引
上げ、板の両面に被膜を形成させた。1分間放置
後、所定の雰囲気下に2KWの高圧水銀灯を用い
て板の両面それぞれ20cmの距離から紫外線を10秒
間照射し、約4μの硬化膜層を形成させた。更に
該硬化膜層の一面上にメチルメタクリレート8重
量部、トリメチロールプロパントリアクリレート
20重量部とベンゾインイソブチルエーテル2重量
部よりなる流体成型樹脂を回転塗布し、この上に
直径30cmのアルミニウム板製の平板状デイスク母
型をあて、反対側の硬化膜面より20cmの距離から
2KWの高圧水銀灯を60秒間照射した。平板状デ
イスク母型を除去した後、硬化した流体成型樹脂
の上に真空蒸着法により約350Å厚のアルミニウ
ムの光反射層を設けて片面情報記録デイスクを製
造した。各種性能の評価結果を比較例と共に表−
1、表−2に示す。 (1) 耐擦傷性 a 鉛筆硬度 JIS K5651−1966の方法で測定した。 b スチールウール法 #000のスチールウールを直径25mmの円筒先
端に装着し、水平に置かれた試料面を接触さ
せ、300g荷重20rpmで5回転し、傷の程度
を目視判定し、次の基準で評価した。 A:全く傷がつかない B:わずかに傷がつく C:明白に傷が認められる D:著しく傷が認められる (2) 密着性 硬化膜、感光膜いずれもクロスカツト−セロフ
アンテープ剥離テストで評価した。被膜に1mm間
隔に基材に達する被膜切断線を縦横それぞれ11本
入れ、1mm2の目数を100個つくり、その上にセロ
フアンテープを圧着した後、90度方向に急激には
がして比較し、次の基準で評価した。 ○ 剥離数 0 △ 〃 1〜50個 × 〃 51〜100個 (3) 表面異物 デイスク表面の異物の状態を顕微鏡で観察し、
表面処理を施さない基板を用いた場合と比較し、
次の基準で評価した。 ++ 異物著しく減少 + 〃やや減少 ○ 〃ほとんど変らず − 〃やや増大
【表】
【表】
【表】
メタアクリル酸変性したものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 合成樹脂円板の表面に、1分子当り3個以上
の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する多官能
性単量体(a)30〜90重量部、1分子中に少なくとも
1個のエーテル結合を有し、常圧での沸点が150
℃以上で、かつ20℃での粘度が20センチポイズ以
下である1〜2官能性(メタ)アクリレート
(b1)9.5〜69.5重量部および極限粘度が0.01〜0.3
/gであり、アルキル基の炭素数が1〜8個で
ある(メタ)アクリル酸アルキル単独重合体また
は共重合体(b2)0.5〜10重量部からなる単量体
混合物(A)を硬化した硬化膜が形成してなるビデオ
又はオーデイオデイスク用基板。 2 硬化膜が、特許請求の範囲第1項記載の単量
体混合物(A)にさらに、 下記の一般式 (式中、R1は水素かメチル基であり、Yは−
CONH基又は−COO基であり、l、m、nおよ
びrは0〜5の整数である。) で示されるスルホン酸系単量体(C)および/又は下
記の一般式 (式中、R2は水素又はメチル基であり、R3は
水素又は 【式】基であり、R4は水素又 はメチル基であり、mおよびnは1〜15の整数で
ある。) で示されるリン酸エステル系単量体(d)0.5〜20重
量部と、下記の一般式 NR5R6(CH2CH2OH) (式中、R5およびR6は水素、炭素数1〜15の
アルキル基又は−CH2CH2OH基である。) で示されるエタノールアミン系化合物(e)1〜20重
量部をさらに配合した単量体混合物を硬化したも
のである特許請求の範囲第1項記載のビデオ又は
オーデイオデイスク用基板。 3 多官能性単量体(a)が次の一般式 (式中、X11、X12、X13、X22、X23…Xo2、
Xo3X14のうち少なくとも3個は(メタ)アクリ
ロイルオキシ基で、残りは水酸基であり、nは1
〜5の整数である) で示されるポリペンタエリスリトールである特許
請求の範囲第1項又は第2項記載のビデオ又はオ
ーデイオデイスク用基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56000939A JPS57113432A (en) | 1981-01-06 | 1981-01-06 | Base plate for video or audio disk |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56000939A JPS57113432A (en) | 1981-01-06 | 1981-01-06 | Base plate for video or audio disk |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57113432A JPS57113432A (en) | 1982-07-14 |
| JPH0315262B2 true JPH0315262B2 (ja) | 1991-02-28 |
Family
ID=11487637
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56000939A Granted JPS57113432A (en) | 1981-01-06 | 1981-01-06 | Base plate for video or audio disk |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57113432A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL8204292A (nl) * | 1982-11-05 | 1984-06-01 | Philips Nv | Optische registratieschijf. |
| JPS6079543A (ja) * | 1983-10-05 | 1985-05-07 | Daicel Chem Ind Ltd | プラスチツク基盤上に希土類−遷移金属アモルフアスの光磁気記録媒体層を形成した記録担体 |
| CA1243402A (en) * | 1984-05-16 | 1988-10-18 | Burroughs Corporation | Methods of preparing and applying subbing layers for optical data disks |
| JPH07109657B2 (ja) * | 1987-01-31 | 1995-11-22 | 日立マクセル株式会社 | 光デイスク |
| KR100402925B1 (ko) * | 1997-06-19 | 2003-10-24 | 보든 케미칼, 인코포레이티드 | 코팅된 광학 디스크 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5712426A (en) * | 1980-06-26 | 1982-01-22 | Mitsubishi Electric Corp | Optical disk recording carrier |
-
1981
- 1981-01-06 JP JP56000939A patent/JPS57113432A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57113432A (en) | 1982-07-14 |
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