JPH0425014A

JPH0425014A - 周縁露光装置及び周縁露光方法

Info

Publication number: JPH0425014A
Application number: JP2126447A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Hattori; 健服部; Kesayoshi Amano; 天野　今朝芳; Masao Nakajima; 正夫中島; Masaki Naito; 内藤　雅喜
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1990-05-16
Filing date: 1990-05-16
Publication date: 1992-01-28
Anticipated expiration: 2014-03-24
Also published as: JP2874280B2; US5361121A

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、集積回路製造用のウェハ等の円形基板の周縁
部分を選択的に露光する周縁露光装置に関するものであ
る。

〔従来の技術〕

ウェハ等の基板に微細な回路パターンを形成するために
塗布されるレジストは、ウェハの周縁部分で剥がれ易く
、剥がれたレジストがその後の集積回路製造工程に於い
て悪影響を及ぼすということが従来より問題となってい
る。ウェハ周縁部分に於けるレジスト剥離を防止するた
めには、特開平２−５６９２４号公報に開示された装置
を用いる方法が知られている。これは、露光光束を照射
する発光部と、ウェハの周縁部を挟んで発光部と対向す
る受光部とを一体に、ウェハと相対移動可能に備えた装
置に於いて、ウェハの周縁部分を露光する露光光束のう
ち、所定の露光幅（ウェハの径方向の長さ）に対応する
光束はウェハによって遮られ、その残りの光束をウェハ
周縁部を挟んで露光光源と対向して配置された受光部で
受光し、この受光部で得られる信号をウェハの露光幅を
一定に保つためのサーボ動作用に用いるものである。

〔発明が解決しようとする課題〕

従来の技術に於いては、受光部で得られる信号をウェハ
の露光幅を一定に保つためのサーボ動作用に用いている
。この場合、例えは光源が劣化して露光光の強度が予想
具」二に低下したり、光源を交換したりすることによっ
て、同一の露光幅に対する受光部での受光光量か所期の
ものに比べて大きく変化してしまい、その結果サーボ動
作用の目標値との対応付けが曖昧になり、周縁露光動作
の露光幅が安定しないという問題点があった。

また、第６図（ａ）に示すように露光光束のウェハ径方
向に関する露光ビームの強度分布が均一でない場合、第
６図（ｂ）に示すように設定露光幅に対する受光部での
信号の大きさの関係か線形にならず、ウェハ周縁部の露
光時に得られる受光信号のみで露光幅を制御することが
困難であるという問題点もあった。

これらの問題点の解決策としては、（１）露光用照明系
内に露光光束の強度分布均一化のための光学系を入れた
り、（２）設定露光幅に対応した受光信号値を逐一メモ
リ・テーブルとして持たせたりすること等が考えられる
。ところが（１）の場合、十分に均一化するためには非
常に大きな光学系が必要となり、また（２）の場合、設
定露光幅の設定可能なステップを十分細かく取りたいと
きには膨大なメモリ量のテーブルが必要となり、しかも
露光ビームの強度分布が変化するたびに、そのテーブル
を作り直さねばならない。或いは、近似式により信号値
を求めるようにしても、近似式の誤差が露光幅の精度に
悪影響を及ぼす等の問題点があった。

本発明は、上記の様な問題点に鑑みてなされたものであ
り、露光光束の強度変化や強度分布の不均一性に影響さ
れずに、周縁部をほぼ均一な幅で露光できる周縁露光装
置を提供することを目的とする。

〔課題を解決する為の手段〕

上記問題点を解決するために本発明では、レジストをほ
ぼ均一に塗布した基板（２）の中央近傍を中心として、
基板（２）を回転手段（１，３）によって回転させなが
ら基板（２）の周縁部を露光する周縁露光装置に於いて
、基板（２）のレジストを感応させる特性を有する光束
（６）を射出する照射手段（４〜７．ＬＧ）と、基板（
２）の周縁部を挟むように照射手段（４〜７．ＬＧ）と
対向して配置された受光手段（８）と、照射手段（４〜
７．ｔＧ）からの光束（６）と基板（２）とを基板（２
）の回転半径方向に相対的に移動させる移動手段（１０
）と、移動手段（１０）の移動範囲内で、且つ基板（２
）と同一平面内の空間に基板（２）の周縁部とほぼ並行
した基準縁部（１２ａ）を伴って配置された遮光部材（
１２）と、移動手段（１０）の位置情報を検出する検出
手段（１３）と、検出手段（Ｉ３）の情報に基づいて移
動手段（１０）を駆動させて、光束（６）が相対移動の
方向に関して所定の基準量だけ遮光される如く光束（６
）と遮光部材（１２）の基準縁部（１２ａ）とを位置付
けたときに、受光手段（８）から出力された信号を基準
値（Ｓ　ｂ）として記憶する記憶手段（３４）と、基板
（２）の周縁部分を光束（６）で露光する際、受光手段
（８）から出力された信号（Ｓｅ）が記憶手段（１４）
に記憶された基準値と常に所定の関係に維持されるよう
に、移動手段（１０）をサーボ制御するサーボ制御手段
（１５，３５）とを備え、基板（２）の周縁部の回転半
径方向に関する露光幅を基準値に対応した幅に制御する
。

〔作　用〕

本発明では、周縁露光動作の前に遮光部材を用いたキャ
リブレーション動作を行ってサーボ制御用基準信号（目
標値）を得ており、この基準信号に基づいて露光幅の制
御を行う構成にしたため、ウェハ周縁部への露光光束の
照射直前での強度及び強度分布を加味した正確な周縁露
光を行うことか可能となる。

〔実　施　例〕

第１図は、本発明の実施例による周縁露光装置の概略的
な構成を示す図である。不図示のウェハ搬送路に沿って
ターンテーブルｌ上に搬送されてきたウェハ２は、その
中心とターンテーブル１の回転中心とがほぼ一致する位
置（ここでは、必ずしも一致している必要はなく、ある
範囲内で偏心していても可。）でターンテーブル１上に
吸着保持される。ターンテーブル１は、ウェハ２を保持
したままモータ３によって所定の速度で回転される。ウ
ェハ２の周縁部上方に配置された照射部４には光源５か
ら光ファイバーＬＧによって導かれた露光光が供給され
る。光源５は照射部４の近傍でなくともスペースに余裕
のある位置に配置すればよい。さらに照射部４には、ウ
ェハ２のレジストに対して感応性の高い露光光束６を所
定の形状に規定するための絞り７が備えられている。ま
た、ポジションセンサ、シリコン・フォトダイオード等
からなる受光部８はウェハ２の周縁部を挟んで照射部４
と対向するような位置に配置されており、ウェハ２の外
周エツジ、若しくは後述の遮光板１２が露光光束６の一
部を遮ったとき、残りの光束を、斜設したビームスプリ
ッタ９を介して受光する。この受光部８からの光電信号
に基づいて、ウェハ２、若しくは遮光板１２のエツジ（
基準縁部１２ａ）が検出される。受光部８とウェハ２と
の間には露光光束６のうちウェハ２、若しくは遮光板１
２で遮られずに受光部８に達する光束のうち一部を透過
し、残りを反射させるビームスプリッタ９が配置されて
いる。このビームスプリッタ９はウェハ２の周縁部の裏
面へ一部の露光光束を反射させて、裏面に回り込んだレ
ジストを露光させる。照射部４と受光部８は、一体で駆
動部１０に固定されており、駆動部１０は、モータ１１
により送りネジ等を介してウェハ２の半径方向（ターン
テーブル１の回転中心から放射方向）に移動可能になっ
ている。遮光板１２は、照射部４及び受光部８がウェハ
２より離れた位置に移動した際に、照射部４からの露光
光束６の一部を遮断するようにウェハ２と概略同じ高さ
で駆動部ＩＯの移動範囲内に固設されている。更に遮光
板１２には露光光束６を一部遮光する基準縁部１２ａが
形成されていて、その基準縁部１２ａはウェハ２の周縁
部とほぼ並行に配置されている。又、駆動部１０の移動
位置を検出するために、エンコーダ、ポジションスケー
ル、干渉計等からなる位置検出器１３が配置されている
。この位置検出器１３は駆動部１０の移動ストローク全
域をカバーする測長範囲を持つものでもよいが、遮光板
１２を露光光束６が照射する位置近傍のみに制御された
測長範囲を持ったものでもよい。

ここで、受光部８の構成と露光光束６及び遮光板１２と
の各位置関係を第２図を用いて説明する。

受光部８は、駆動部１０の移動方向に細長く伸びた受光
面から成る受光素子８ａと、ピンホール状のエツジセン
サ８ｂと、遮光板１２から最も離れた位置に配置された
受光素子８Ｃとで構成されている。この受光素子８ａは
遮光板１２及びウェハ２で遮光されずに受光部８に達し
た光量に応じたレベルの光電信号Ｓｅを出力し、また受
光素子８Ｃは常に露光光束６の光量に応じたレベルの光
電信号Ｃを出力する。さらに、エツジセンサ８ｂは遮光
板１２の基準エツジ１２ａ１若しくはウェハ２のエツジ
を定点検出するもので、エツジ１２ａが露光光束６の先
端側（ウェハ側）からｌの範囲内のときは大きなレベル
になり、１以上のときはほぼ零となる光電信号Ｂを出力
する。この受光部８には露光光束６が図示のように照射
され、受光部８と露光光束６との相対位置は変化しない
。即ち露光光束６の先端とエツジセンサ８ｂとの距離ｌ
は予め設定されており、遮光板１２若しくはウェハ２が
露光光束中に進入してきてエツジセンサ８ｂで受光され
る光束を遮光した位置で、遮光板１２若しくはウェハ２
上での露光幅がβとなるようになっている。尚、露光幅
を任意の値りに設定する場合は、露光幅ｌの位置を基準
としてＬｌの値に対応した量だけ位置検出器１３で位置
検出しながら駆動部１０を移動する。このようにして遮
光板１２上で露光幅が任意の値りとなるようにして露光
光束６を照射し、このとき受光部８で得られた信号Ｓｅ
をサーボ用基準信号ｓｂとして周縁露光制御部１４に記
憶する。これは後で述べるキャリブレーション動作で必
要とされる構成である。

第３図は、本発明の実施例による周縁露光装置の制御系
の全体構成を示すブロック図である。受光部８は、照射
部４から発生した露光光束６のうち遮光板１２、又はウ
ェハ２によって遮光されずに透過した光束を受光して、
その光量に応じたレベルの検出信号Ｓｅを周縁露光制御
部１４に出力する。また、遮光板１２の基準エツジ１．
２　ａ、若しくはウェハ２のエツジを検出した際に光電
信号Ｂを信号処理部３０に出力する。信号処理部３０は
受光部８からの光電信号Ｂを入力し、エツジ検出信号Ｅ
をキャリブレーション動作制御部１６に出力する。キャ
リブレーション動作制御部１６は、信号処理部３０から
のエツジ検出信号Ｅ、位置検出器１３からの位置信号Ｓ
ｐ（後述の露光幅ｌ′に対応）、周縁露光制御部１４か
らの周縁部の必要露光領域（設定露光幅Ｌ）に関するデ
ータＤとを入力して、モータ１１に対する回転制御信号
Ｇを出力すると共に、周縁露光制御部１４に対して受光
部８からの検出信号Ｓｅを基準信号として記憶させるた
めの記憶制御信号Ｍを出力する。周縁露光制御部１４は
、周縁部の必要露光領域（設定露光幅Ｌ）に関するデー
タＤ１、適正露光量に関するデータＤ２、光源５（又は
、光源５内に設けられたシャッタ）のＯＮ、ＯＦＦに関
するデータＤ３、受光部８の検出信号Ｓｅ、及びその検
出信号Ｓｅをサーボ基準信号（目標値）Ｓｂとして記憶
するための記憶制御信号Ｍを入力すると共に、回転制御
系・１７に対する速度信号Ｓｔと、サーボ制御部１５に
対する偏差信号Ｓｄと、キャリブレーション動作制御部
１６に対するデータＤ１と、光源５に対するデータＤ３
を夫々出力する。ウェハを回転させる回転制御系１７は
、周縁露光制御部１４から回転速度に関する信号Ｓｔを
入力し、モータ３を回転させてターンテーブル１を回転
する。タコジェネレータＴＧはモータ３の回転速度に応
じた信号を回転制御系１７にフィードバックして常に制
御された速度でターンテーブル■を回転できるようにな
っている。サーボ制御部１５は、周縁露光制御部１４か
ら、基準信号ｓｂとして記憶した目標信号レベルと受光
部８からの信号レベルとの偏差信号Ｓｄを入力し、モー
タ１１にサーボドライブ信号Ｓｓを出力する。モータ１
１は、周縁露光動作時に於いては、そのサーボドライブ
信号Ｓｓを、またキャリブレーション動作時に於いては
、キャリブレーション動作制御部１６からの制御信号Ｇ
を入力して駆動部１ｏを駆動する。

駆動部１０は、モータ１１によって照射部４及び受光部
８を一体に移動させる。

さらに、周縁露光制御部１４とキャリブレーション動作
制御部１６について第４図を参照しながら詳細に説明す
る。信号処理部３ｏはエツジセンサ８ｂで検出された光
電信号Ｂを入力し、遮光板１２の基準エツジ１２ａ（又
はウェハエツジ）がエツジセンサ８ｂの上を横切るとき
に論理値が反転する２値化されたエツジ検出信号Ｅをカ
ウンタ３１に出力する。このカウンタ３１は位置検出器
１３からの位置信号（パルス）Ｓｐを計数するものであ
る。カウンタ３１は信号処理部３ｏがらの検出信号Ｅを
入力し、エツジ検出信号Ｅの論理値が反転する時点で計
数値を基準露光幅ｌに対応する値にプリセットする。カ
ウンタ３１がら出力される実際の露光幅に関する計数値
ｌ“は任意の設定露光幅に関する情報りとともに減算器
３２に入力し、２つの情報り、　　ｌ’　の差Ｆを演算
して比較器３３に出力する。比較器３３はＦが０がどう
かを判断し、差Ｆが零になったときには記憶部３４へ記
憶制御信号Ｍを出力し、差Ｆが零になっていないときは
差Ｆが小さくなるような回転信号ＧをスイッチＳＷｂを
介してモータ１１へ出力する。

記憶部３４は受光部８の受光素子８ａからの検出信号Ｓ
ｅをアナログ除算器３６により受光素子８Ｃからの信号
Ｃで除算した信号をスイッチＳ　Ｗ　ａを介して入力し
、記憶制御信号Ｍを受けた時点で信号Ｓｅ／Ｃを記憶す
る。記憶部３４は保持した信号Ｓ　ｅ　／　Ｃをサーボ
基準信号ｓｂとして演算部３５に出力し、演算部３５は
受光部８からアナログ除算器３６．スイッチＳＷａを介
して得られる信号Ｓ　ｅ　／　Ｃを入力して、その２つ
の信号の偏差信号Ｓｄを演算してサーボ制御部１５に出
ツＪする。

尚、第４図中の２つのスイッチＳＷａ、ＳＷｂはいずれ
もキャリブレーション時の状態を示し、ウェハへの周縁
露光時には両方とも切り替えられる。上記第４図の構成
で、記憶部３４と演算部３５は第２図中の周縁露光制御
部１４に相当し、また、第２図中のキャリブレーション
動作制御部１６は信号処理部３０、カウンタ３１、減算
器３２、比較部３３で構成されている。また第２図中の
周縁露光制御部１４とキャリブレーション動作制御部１
６の機能はマイクロコンピュータ等のソフトウェアで代
用することができる。

次に、本発明の実施例による周縁露光装置の動作につい
て第５図に基づいて説明する。先ず、実際の露光を開始
する前に周縁露光時のサーボ用基準信号を得るためのキ
ャリブレーション動作を行う。周縁露光制御部１４は、
任意の周縁露光においてのキャリブレーションが終了し
ているかどうかを判断する（ステップ１０１）。キャリ
ブレーションの実行タイミングは、例えば露光すべきウ
ェハの連続する同一処理のロット（ウェハ２５枚）毎、
または光源５の発光点のゆらぎをモニターするセンサが
変化を検知した時点等に行われる。キャリブレーション
が終了していない時は、照射部４から露光光束６を照射
する（ステップ１０２）。これは、データＤ３の露光開
始信号（光源ＯＮ）が周縁露光制御部１４から光源５（
又はその内に設けられたシャッタ）に伝達されることに
より、照射部４からの露光光束６が遮光板１２で遮られ
ることなく受光部８へ射出される。この時、受光部８で
検出される露光量（信号Ｓｅ／Ｃのレベル）と目標露光
量とに基づいて、ウェハの回転速度に関する情報Ｓｔを
求める（ステップ１０３）。次に、駆動部１０を駆動し
て照射部４と受光部８とを遮光板１２の基準縁部１２ａ
へ移動する（ステップ１０４）。遮光板１２の基準縁部
１２ａが受光部８のエツジセンサ８ｂに達して信号処理
部３０がエツジ検出信号Ｅを出力すると（ステップ１０
５）、カウンタ３１の計数値は基準露光幅の値ｌにプリ
セットされる（ステップ１０６）。周縁露光時の設定露
光幅りと基準値ｌとが異なる場合は、さらにカウンタ３
１の計数値ｌ′が任意の設定露光幅りになる位置まで照
射部４と受光部８を移動しながら（ステップ１０７）、
減算器３２でカウンタ３１の計数値ｌ゛と設定露光幅り
との差Ｆ１即ちＬ−４２’　を求める（ステップ１０８
）。比較器３３でその差Ｆが０になった１ｂか否かを判断する（ステップ１０９）。この時、Ｆ＝０
ならばモータ１１の回転を止め、記憶部３４に記憶制御
信号Ｍを出力する。一方、Ｆ≠０ならばＦ＝０となるま
で引き続き発光部４と受光部８を移動する（ステップ１
０７〜１０９）。記憶部３４は記憶制御信号Ｍが入力さ
れると、受光部８の受光素子８ａ、８ｂで検出された信
号Ｓｅを、露光光束６の強度値（信号Ｃ）で規格化した
信号Ｓ　ｅ　／　Ｃをサーボ基準信号ｓｂとして記憶す
る（ステップ１１０）。以上のことによりキャリブレー
ション動作が終了する。

次に、上記のキャリブレーションに基づいてウェハの周
縁露光を行う。先ず、駆動部１ｏは、予めサーボ制御部
１５に記憶されている遮光板１２の基準縁部１２ａとウ
ェハ２の設計上の外周部との概略的な距離に基づいて、
位置検出器１３、若しくは不図示の別設の位置検出器で
位置検出しながら、照射部４と受光部８とを一体にウェ
ハ２の周縁部まで移動する（ステップｌ　１１）。次に
、ステップ１０２と同様にして露光光束６を照射し、受
光部８で検出される信号Ｓ　ｅ　／　Ｃを周縁露光制御
部１４内の偏差演算部３５に入力する（ステップ１１２
）。周縁露光制御部１４は、予め記憶されているサーボ
用基準信号ｓｂと、受光部８から作られる信号Ｓｅ／Ｃ
とを、偏差演算部３５で比較して偏差信号Ｓｃｌを求め
（ステップ１１３）、これをサーボ制御部１５に送る。

一方回転制御系１７は、先に求めておいた速度情報Ｓｔ
に基づいてモータ３の回転速度を制御してターンテーブ
ル１を所定の速度で回転させる（ステップ１１４）。

モータ３にはタコジェネレータＴＧが接続されており、
回転速度を回転制御系１７にフィードバックして常に一
定の速度でターンテーブル１を回転できるようになって
いる。さて、サーボ制御部１５は周縁露光制御部１４か
らの偏差信号Ｓｄが零になるように、即ち露光光束６と
ウェハ２のエツジとの相対的な位置関係が常に一定とな
るようにスイッチＳＷｂを介してモータ１１にサーボ信
号Ｓｓを送って照射部４及び受光部８の駆動部１０をサ
ーボ制御する（ステップ１１５）。これによりウェハ２
のエツジから半径方向へ所定の距離の領域が一定の幅で
均一に露光される。また同時に露光光束６のうちビーム
スプリッタ９により反射された光束は、第７図に示すよ
うなウェハ裏面に回り込んだレジスト］８をも露光する
。そしてウェハか所定回転した後、周縁露光制御部］４
には光源ＯＦＦ信号Ｄ３が入力され１枚のウェハに対す
る周縁露光か終了する（ステップ１１６）。

」−述の実施例では、キャリブレーション動作の前と周
縁露光動作の前とで照射部４を点灯して露光光束６を射
出するようにしたが、照射部４及び受光部８の移動中に
も露光光束６を射出していても構わない。尚、サーボ制
御部１５に遮光板１２の基準縁部１２ａとウェハ２の設
計上の外周部との距離に関する情報が記憶されていない
場合は、照射部４から露光光束６を射出しながら照射部
４と受光部８を一体にウェハ２の周縁部の方向へ移動す
る。この際、周縁露光制御部１４は、検出信号Ｓｅの強
度の変化に基づいてウェハ２のエツジを検出し、その後
、前述の実施例と同様に周縁部光制御部１４からの偏差
信号Ｓｄに基づいてサーボ制御部１５によりモータ１１
を回転し駆動部１０をサーボ制御する。尚、本実施例に
おけるウェハ２、又は遮光板１２のエツジ検出は、露光
光束６を用いて行うようにしたが、エツジ検出を別に行
う装置を設けても構わない。例えば第８図に示すように
、照射部４及び受光部８の近傍に非露光光束１９を発生
する照射部２０と非露光光束Ｉ９を受光する不図示の受
光部とで構成されたエツジ検出器を設け、非露光光束１
９の少なくとも一部がウェハ２等によって遮光される位
置と露光光束６がウェハ２等によって遮光される位置と
を対応付けておく。この場合、露光光束６と非露光光束
１９とは円周方向にある角度をもってずれて配置されて
おり、ウェハ２の回転中にオリエンテーションフラット
部を検出する際には、露光光束６と非露光光束１９との
対応付けが曖昧になる。そこで、露光光束６と非露光光
束１９との間をウェハ２が通過する時間に応じてサーボ
応答遅れ（又は単なるデイレイ）をかけておくようにす
る。このようにすれば、エツジ検出を露光光束６の位置
と別の位置で行っても何ら問題はなくなる。またこの場
合、非露光光束１９の位置は、ウェハ回転方向に応じて
露光光束６よりも先にエツジ検出するように配置される
。

以上、本発明による実施例においてはウェハ等の円形基
板を用いたが、角形基板を用いても勿論構わない。

次に、駆動部ＩＯの送り機構の変形例を説明する。

第９図、第１０図は、夫々、本実施例に於ける駆動部Ｉ
Ｏの送り機構の変形例の概略的な構成を示す正面図、及
び平面図である。ローラ２１とローラ２２は回転アーム
２３の両端に固定され、回転アーム２３はローラ２１と
ローラ２２の回転軸間のほぼ中点を回転軸としてモータ
２４により往復回転する。移動ブロック２５の移動方向
の両端には、垂直に懸架された少なくとも２つの当接子
２８ａ、２８ｂが形成され、移動ブロック２５はバネ（
ここでは引っ張りバネ）２７によりローラ２１、或いは
ローラ２２に押し付けられながらリニアガイド２６に沿
って直進する。尚、移動ブロック２５は本実施例の駆動
部１０と直接、或いは間接的に固定されている。又、ロ
ーラ２１とローラ２２との間隔（回転軸中心間の距離）
と、当接子２８ａ、２８ｂの間隔（当接面間の距離）と
はほぼ等しくなっている。

次に、本機構の動作について第１１図を用いて説明する
。まず、第１１図（ａ）の状態でモータ２４が駆動され
てアーム２３が時計方向に回転すると、移動ブロック２
５は、バネ力によって当接子２８ａがローラ２１に押し
付けられながら徐々に図中右方向に直進移動して第１１
図（ｂ）のような状態になる。第１１図（ｂ）の状態か
らアーム２３が時計方向に約９０°回転すると第１１図
（Ｃ）のようにローラ２２が当接子２８ｂに当たり初め
、それと同時にローラ２１は当接子２８ａから離れる。

さらに回転アーム２３が回転すると、第１１図（ｄ）、
　（ｅ）のように、移動ブロック２５はバネ力によって
当接子２８ｂがローラ２２に押し付けられながら、右方
へ直進移動し続ける。以上のようなカム機構を駆動部１
０に用いれば、比較的小さなスペースで移動量の大きな
駆動装置を得ることができる。

〔発明の効果〕

以」二のように本発明によれば、発光部と受光部とがウ
ェハから離れた位置に退避した時に遮光板を用いてキャ
リブレーション動作を行って、露光時のサーボ用基準信
号を求めているので、実際の露光光束強度及び強度分布
に応じて適正な露光量で周縁露光できる。また、ビーム
スプリッタを用いてウェハ裏面に露光光束を反射させれ
ば、裏面に回り込んだレジストも露光できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例による周縁露光装置の概略的な
構成を示す図、第２図は本発明の実施例による周縁露光
装置の受光部の構成を示す図、第３図、第４図は本発明
の実施例による周縁露光装置の制御系の構成を示すブロ
ック図、第５図は本発明の実施例による周縁露光装置の
動作を示すフローチャート、第６図は露光光束の強度分
布、及−２，３び受光部の信号強度を示す図、第７図はレジストが塗布
されたウェハの断面図、第８図は本発明の実施例による
周縁露光装置におけるエツジ検出の他の方法を示す図、
第９図、第１０図は本発明の実施例による周縁露光装置
に用いて好適な送り機構の変形例の概略的な構成を示す
図、第１１図は本発明の実施例による周縁露光装置に用
いて好適な送り機構の変形例の動作を示す図である。〔主要部分の符号の説明〕１・・・ターンテーブル、２・・・ウェハ、３，１１・
・・モータ、４・・・発光部、５・・・光源、６・・・
露光光束、７・・・絞り、８・・・受光部、９・・・ビ
ームスプリッタ、１０・・・駆動部、１２・・・遮光板
、１３・・・位置検出器、１４・・・周縁露光制御部、
１５・・・サーボ制御部、１６・・・キャリブレーショ
ン動作制御部、１７・・・回転制御系、ｓｂ・・・サー
ボ基準信号、Ｓｅ・・・光量検出信号、Ｓｄ・・・偏差
信号、Ｓｓ・・・サーボ信号。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）レジストをほぼ均一に塗布した基板の中央近傍を
中心として、該基板を回転手段によって回転させながら
該基板の周縁部を露光する周縁露光装置に於いて、前記基板のレジストを感応させる特性を有する光束を射
出する照射手段と、前記基板の周縁部を挟むように前記照射手段と対向して
配置された受光手段と、前記照射手段からの光束と前記基板とを該基板の半径方
向に相対的に移動させる移動手段と、前記移動手段の移
動範囲内で、且つ前記基板とほぼ同一平面内の空間に該
基板の周縁部とほぼ並行した基準縁部を伴って配置され
た遮光部材と、前記移動手段の位置情報を検出する検出
手段と、前記光束が前記相対移動の方向に関して所定の
基準量だけ遮光される如く該光束と前記遮光部材の基準
縁部とを位置付けたときに、前記受光手段から出力され
た信号を基準値として記憶する記憶手段と、前記基板の周縁部分を前記光束で露光する際、前記受光
手段から出力された信号が前記記憶手段に記憶された基
準値と常に所定の関係に維持されるように、前記移動手
段をサーボ制御するサーボ制御手段とを備え、前記基板
の周縁部の回転半径方向に関する露光幅を前記基準値に
対応した幅に制御することを特徴とする周縁露光装置。
（２）前記移動手段は、前記検出手段からの情報に基づ
いて前記遮光部材と前記光束との相対位置を設定するこ
とを特徴とする請求項１に記載の周縁露光装置。