JPH04251417A - 磁気ヘッド用非磁性基板 - Google Patents
磁気ヘッド用非磁性基板Info
- Publication number
- JPH04251417A JPH04251417A JP3050264A JP5026491A JPH04251417A JP H04251417 A JPH04251417 A JP H04251417A JP 3050264 A JP3050264 A JP 3050264A JP 5026491 A JP5026491 A JP 5026491A JP H04251417 A JPH04251417 A JP H04251417A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- nonmagnetic substrate
- nio
- substrate
- hardness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Hard Magnetic Materials (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、金属性磁性膜を蒸着す
るための非磁性の磁気ヘッド用非磁性基板に関するもの
である。
るための非磁性の磁気ヘッド用非磁性基板に関するもの
である。
【０００２】
【従来技術】従来この種の用途のものとしては、チタン
酸バリウム、チタン酸カルシウム、アルミナ等が使用さ
れていた。しかしながら、その熱膨張率が磁性膜構造体
と大きく異なっていたため、蒸着した磁性膜構造体が剥
離しやすく、また熱膨張率の差により応力が発生しクラ
ックが発生することがあった。
酸バリウム、チタン酸カルシウム、アルミナ等が使用さ
れていた。しかしながら、その熱膨張率が磁性膜構造体
と大きく異なっていたため、蒸着した磁性膜構造体が剥
離しやすく、また熱膨張率の差により応力が発生しクラ
ックが発生することがあった。
【０００３】さらに、従来の材料は硬さが低く、特に高
保磁力テ−プ（いわゆるメタルテ−プ）が使用された場
合には、非磁性基板が磁性膜構造体と硬度及び耐摩耗性
が異なり、磁気テ−プとの摺動により発生する摩擦のた
めに偏摩耗等を引き起こし、磁気特性に変化をきたすと
いう問題があった。特に硬度が低い場合には、磁気ヘッ
ドの寿命が短くなること、あるいは非磁性基板の変形や
割れ及び剥離を引き起こすといった欠点が顕著であった
。
保磁力テ−プ（いわゆるメタルテ−プ）が使用された場
合には、非磁性基板が磁性膜構造体と硬度及び耐摩耗性
が異なり、磁気テ−プとの摺動により発生する摩擦のた
めに偏摩耗等を引き起こし、磁気特性に変化をきたすと
いう問題があった。特に硬度が低い場合には、磁気ヘッ
ドの寿命が短くなること、あるいは非磁性基板の変形や
割れ及び剥離を引き起こすといった欠点が顕著であった
。
【０００４】本発明者等は上記の欠点を解決すべく酸化
物系セラミックスについて研究を進め、ＣｏＯ及びＮｉ
ＯまたはＮｉＯを基本組成とした酸化物が有効であると
して既に開示した。（特開平０１−２８７８１１、特開
平０２−１６８６０２、特願平０１−２１４２０６）さ
らに硬度や密度の向上を図るための添加材を検討し、Ｃ
ｏＯ、ＮｉＯを基本組成として、酸化マンガン、二酸化
チタン、アルミナ、カルシアのうち１種以上を０．１〜
５ｗｔ％添加した場合、及び１〜５ｗｔ％のイットリア
、０．１〜１％の窒化チタン、０．３〜２ｗｔ％の酸化
ホウ素のうち１種以上を添加した場合、あるいは１〜５
ｗｔ％の二酸化ケイ素を添加した場合の有効性を確認し
これらを開示した。（特開平０２−９４４０８、特願平
０１−１５９６２２、特願平０１−２１４２０８）
物系セラミックスについて研究を進め、ＣｏＯ及びＮｉ
ＯまたはＮｉＯを基本組成とした酸化物が有効であると
して既に開示した。（特開平０１−２８７８１１、特開
平０２−１６８６０２、特願平０１−２１４２０６）さ
らに硬度や密度の向上を図るための添加材を検討し、Ｃ
ｏＯ、ＮｉＯを基本組成として、酸化マンガン、二酸化
チタン、アルミナ、カルシアのうち１種以上を０．１〜
５ｗｔ％添加した場合、及び１〜５ｗｔ％のイットリア
、０．１〜１％の窒化チタン、０．３〜２ｗｔ％の酸化
ホウ素のうち１種以上を添加した場合、あるいは１〜５
ｗｔ％の二酸化ケイ素を添加した場合の有効性を確認し
これらを開示した。（特開平０２−９４４０８、特願平
０１−１５９６２２、特願平０１−２１４２０８）
【０
００５】
００５】
【問題点を解決するための手段】以上の問題点を解決す
るために、本発明者等はＣｏＯ及びＮｉＯあるいはＮｉ
Ｏを基本組成とした添加材の検討を更に続けた結果、該
組成物に対してＴｉ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，
Ｗのケイ化物のうち少なくとも一種を０．１〜１ｗｔ％
添加した場合に、上記の特性を満たすことを見い出した
。従って、本発明の目的は、具体的には蒸着した磁性膜
構造体に近い熱膨張率を有し、ビッカ−ス硬度が高く、
さらに他のヘッド構成材料間で過度の化学的侵食反応を
起こさない材料を提供することである。
るために、本発明者等はＣｏＯ及びＮｉＯあるいはＮｉ
Ｏを基本組成とした添加材の検討を更に続けた結果、該
組成物に対してＴｉ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，
Ｗのケイ化物のうち少なくとも一種を０．１〜１ｗｔ％
添加した場合に、上記の特性を満たすことを見い出した
。従って、本発明の目的は、具体的には蒸着した磁性膜
構造体に近い熱膨張率を有し、ビッカ−ス硬度が高く、
さらに他のヘッド構成材料間で過度の化学的侵食反応を
起こさない材料を提供することである。
【０００６】
【発明の構成】即ち、本発明は、ＣｏＯ及びＮｉＯある
いはＮｉＯを基本組成として、該組成物に対してＴｉ，
Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗのケイ化物のうち少
なくとも一種を０．１〜１ｗｔ％添加したことを特徴と
する磁気ヘッド用非磁性基板を提供する。
いはＮｉＯを基本組成として、該組成物に対してＴｉ，
Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗのケイ化物のうち少
なくとも一種を０．１〜１ｗｔ％添加したことを特徴と
する磁気ヘッド用非磁性基板を提供する。
【０００７】
【発明の具体的説明】本発明の理解を容易にするため具
体的かつ詳細に説明する。基本組成は、ＮｉＯ単独の酸
化物あるいはＮｉＯとＣｏＯの複合酸化物を意味し、例
えば、ＣｏＯ／ＮｉＯ（モル比）＝０／１００〜８０／
２０で、より好ましくは、ＣｏＯ／ＮｉＯ（モル比）＝
３／９７〜６０／４０である。
体的かつ詳細に説明する。基本組成は、ＮｉＯ単独の酸
化物あるいはＮｉＯとＣｏＯの複合酸化物を意味し、例
えば、ＣｏＯ／ＮｉＯ（モル比）＝０／１００〜８０／
２０で、より好ましくは、ＣｏＯ／ＮｉＯ（モル比）＝
３／９７〜６０／４０である。
【０００８】上記組成物に対して、本発明は、Ｔｉ，Ｚ
ｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗのケイ化物のうち少な
くとも一種を０．１〜１ｗｔ％添加する。Ｔｉ，Ｚｒ，
Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗのケイ化物は粒成長抑制効
果のある物質で、０．１ｗｔ％以上の添加により粒径を
抑制し、緻密化を進行させる。このため、相対密度が高
く硬度も向上するにもかかわらず、機械加工に優れたも
のとなる。しかしながら熱膨張率がＮｉＯ、ＣｏＯより
低く、添加量が１ｗｔ％を超えると熱膨張率の調整が困
難となる。また、１ｗｔ％を超えると焼結時に粒界に液
相の生成が観察され、粒径が大きくなるとともに粒界強
度が低下し、機械的強度が劣化する。添加は、単独ある
いは既に開示している添加材との組み合わせも有効であ
る。所望の硬度、熱膨張率に対応した組み合わせを採用
するのが望ましい。
ｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗのケイ化物のうち少な
くとも一種を０．１〜１ｗｔ％添加する。Ｔｉ，Ｚｒ，
Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗのケイ化物は粒成長抑制効
果のある物質で、０．１ｗｔ％以上の添加により粒径を
抑制し、緻密化を進行させる。このため、相対密度が高
く硬度も向上するにもかかわらず、機械加工に優れたも
のとなる。しかしながら熱膨張率がＮｉＯ、ＣｏＯより
低く、添加量が１ｗｔ％を超えると熱膨張率の調整が困
難となる。また、１ｗｔ％を超えると焼結時に粒界に液
相の生成が観察され、粒径が大きくなるとともに粒界強
度が低下し、機械的強度が劣化する。添加は、単独ある
いは既に開示している添加材との組み合わせも有効であ
る。所望の硬度、熱膨張率に対応した組み合わせを採用
するのが望ましい。
【０００９】次に、基板の製造方法について記す。市販
の酸化物、ケイ化物を原料として、所望組成になるよう
秤量し、ボ−ルミルにより混合する。混合は例えばエタ
ノ−ル中湿式ボ−ルミルで１０〜３０時間行なう。乾燥
後、ＣＩＰ成形し、例えばＡｒ中８５０〜１１００℃で
仮焼し、次いで粗砕機を用いて粉砕し、１００〜２００
μｍの篩で篩分けを行なう。仮焼粉はさらに例えばエタ
ノ−ル中湿式ボ−ルミルで２０〜７２時間処理し、１μ
ｍ以下に微粉砕する。これを造粒後、ＣＩＰ成形し、例
えば酸素中１２３０〜１４００℃で焼結し、その後、Ｈ
ＩＰ処理を行なう。ＨＩＰ処理条件は、８０〜１２０Ｍ
Ｐａ、１２００〜１３５０℃、１〜２時間が望ましい。
の酸化物、ケイ化物を原料として、所望組成になるよう
秤量し、ボ−ルミルにより混合する。混合は例えばエタ
ノ−ル中湿式ボ−ルミルで１０〜３０時間行なう。乾燥
後、ＣＩＰ成形し、例えばＡｒ中８５０〜１１００℃で
仮焼し、次いで粗砕機を用いて粉砕し、１００〜２００
μｍの篩で篩分けを行なう。仮焼粉はさらに例えばエタ
ノ−ル中湿式ボ−ルミルで２０〜７２時間処理し、１μ
ｍ以下に微粉砕する。これを造粒後、ＣＩＰ成形し、例
えば酸素中１２３０〜１４００℃で焼結し、その後、Ｈ
ＩＰ処理を行なう。ＨＩＰ処理条件は、８０〜１２０Ｍ
Ｐａ、１２００〜１３５０℃、１〜２時間が望ましい。
【００１０】このようにして得られた焼結体は、緻密で
岩塩型構造を有し、テ−プの摺動による摩擦やエッヂ部
の欠けが少なく従来の材料よりも優れていることが確認
できた。
岩塩型構造を有し、テ−プの摺動による摩擦やエッヂ部
の欠けが少なく従来の材料よりも優れていることが確認
できた。
【００１１】以下、本発明の実施例について説明する。
【実施例１】ＣｏＯ、ＮｉＯを原料にＣｏＯ／ＮｉＯ（
モル比）＝３５／６５組成となるように調整し、これに
添加材として二ケイ化モリブデン（Ｍｏケイ化物）を表
１のように混合した。混合は、エタノ−ル中湿式ボ−ル
ミルで２０時間行なった。この混合粉をＡｒ中１０００
℃で仮焼後、エタノ−ルの湿式ボ−ルミルで４０時間粉
砕した。この粉砕粉をＣＩＰ成形後酸素中１３５０℃で
焼結した。これを１２５０℃、１００ＭＰａ、１時間の
ＨＩＰ処理を行なった。焼結体の相対密度は、９９％を
超える値であった。
モル比）＝３５／６５組成となるように調整し、これに
添加材として二ケイ化モリブデン（Ｍｏケイ化物）を表
１のように混合した。混合は、エタノ−ル中湿式ボ−ル
ミルで２０時間行なった。この混合粉をＡｒ中１０００
℃で仮焼後、エタノ−ルの湿式ボ−ルミルで４０時間粉
砕した。この粉砕粉をＣＩＰ成形後酸素中１３５０℃で
焼結した。これを１２５０℃、１００ＭＰａ、１時間の
ＨＩＰ処理を行なった。焼結体の相対密度は、９９％を
超える値であった。
【００１２】この実施例による焼結体の物性値を表１に
示す。物性値としては、熱膨張率（α：μｍ／ｍ℃）と
ビッカース硬度（Ｈｖ）を選択した。
示す。物性値としては、熱膨張率（α：μｍ／ｍ℃）と
ビッカース硬度（Ｈｖ）を選択した。
【００１３】比較例として、従来の材料であるチタン酸
バリウムと基本組成は同じで添加材の量を変えた場合の
物性値を併記した。
バリウムと基本組成は同じで添加材の量を変えた場合の
物性値を併記した。
【表１】
＊は比較例である。
熱膨張率は、基本組成でほぼ決定され、本実施例の範囲
では１３．８±０．２μｍ／ｍ℃である。この値は磁性
膜構造体とほぼ等価の値である。従って、表１よりケイ
化物の添加量は１ｗｔ％以内とすることが必要である。
では１３．８±０．２μｍ／ｍ℃である。この値は磁性
膜構造体とほぼ等価の値である。従って、表１よりケイ
化物の添加量は１ｗｔ％以内とすることが必要である。
【００１４】
【実施例２】ＣｏＯ、ＮｉＯを原料にＣｏＯ／ＮｉＯ（
モル比）＝３５／６５組成となるように調整し、これに
添加材として二ケイ化タングステン（Ｗケイ化物）を表
２のように混合した。混合は、エタノ−ル中湿式ボ−ル
ミルで２０時間行なった。この混合粉をＡｒ中１０００
℃で仮焼後、エタノ−ルの湿式ボ−ルミルで４０時間粉
砕した。この粉砕粉をＣＩＰ成形後酸素中１３５０℃で
焼結した。これを１２５０℃、１００ＭＰａ、１時間の
ＨＩＰ処理を行なった。焼結体の相対密度は、９９％を
超える値であった。
モル比）＝３５／６５組成となるように調整し、これに
添加材として二ケイ化タングステン（Ｗケイ化物）を表
２のように混合した。混合は、エタノ−ル中湿式ボ−ル
ミルで２０時間行なった。この混合粉をＡｒ中１０００
℃で仮焼後、エタノ−ルの湿式ボ−ルミルで４０時間粉
砕した。この粉砕粉をＣＩＰ成形後酸素中１３５０℃で
焼結した。これを１２５０℃、１００ＭＰａ、１時間の
ＨＩＰ処理を行なった。焼結体の相対密度は、９９％を
超える値であった。
【００１５】この実施例による焼結体の物性値を表２に
示す。物性値としては、表１と同様に熱膨張率とビッカ
ース硬度を選択した。
示す。物性値としては、表１と同様に熱膨張率とビッカ
ース硬度を選択した。
【００１６】比較例として、従来の材料であるチタン酸
バリウムと基本組成は同じで添加材の量を変えた場合の
物性値を併記した。
バリウムと基本組成は同じで添加材の量を変えた場合の
物性値を併記した。
【表２】
＊は比較例である。
熱膨張率は、基本組成でほぼ決定され、本実施例の範囲
では１３．８±０．２μｍ／ｍ℃である。この値は磁性
膜構造体とほぼ等価の値である。従って、表２よりケイ
化物の添加量は１ｗｔ％以内とすることが必要である。
では１３．８±０．２μｍ／ｍ℃である。この値は磁性
膜構造体とほぼ等価の値である。従って、表２よりケイ
化物の添加量は１ｗｔ％以内とすることが必要である。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように、（１）本組成の非
磁性基板は、熱膨張率、硬度とも磁性膜構造体とほぼ同
等の特性を得ることができる。このため、磁性膜構造体
の剥離やクラックの発生を著しく防止できる。
磁性基板は、熱膨張率、硬度とも磁性膜構造体とほぼ同
等の特性を得ることができる。このため、磁性膜構造体
の剥離やクラックの発生を著しく防止できる。
【００１８】（２）さらに、硬度を高めることにより磁
気ヘッドの短寿命化や非磁性基板の変形、割れ等を抑え
ることができ、ヘッドの耐摩耗性、耐久性に特にすぐれ
ている利点がある。
気ヘッドの短寿命化や非磁性基板の変形、割れ等を抑え
ることができ、ヘッドの耐摩耗性、耐久性に特にすぐれ
ている利点がある。
Claims (1)
- 【請求項１】 ＣｏＯ及びＮｉＯあるいはＮｉＯを基
本組成として、該組成物に対してＴｉ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔ
ａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗのケイ化物のうち少なくとも一種を
０．１〜１ｗｔ％添加したことを特徴とする磁気ヘッド
用非磁性基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3050264A JPH04251417A (ja) | 1990-12-21 | 1991-02-25 | 磁気ヘッド用非磁性基板 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP41271590 | 1990-12-21 | ||
| JP2-412715 | 1990-12-21 | ||
| JP3050264A JPH04251417A (ja) | 1990-12-21 | 1991-02-25 | 磁気ヘッド用非磁性基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04251417A true JPH04251417A (ja) | 1992-09-07 |
Family
ID=26390719
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3050264A Pending JPH04251417A (ja) | 1990-12-21 | 1991-02-25 | 磁気ヘッド用非磁性基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04251417A (ja) |
-
1991
- 1991-02-25 JP JP3050264A patent/JPH04251417A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4902651A (en) | Material for magnetic head substrate member | |
| JP3266200B2 (ja) | 窒化珪素基焼結体 | |
| JPH04269809A (ja) | 磁気ヘッド用非磁性基板 | |
| JPH04269812A (ja) | 磁気ヘッド用非磁性基板 | |
| JPH04269810A (ja) | 磁気ヘッド用非磁性基板 | |
| JPH04251412A (ja) | 磁気ヘッド用非磁性基板 | |
| JPH04279010A (ja) | 磁気ヘッド用非磁性基板 | |
| JPH04279009A (ja) | 磁気ヘッド用非磁性基板 | |
| JPH04269811A (ja) | 磁気ヘッド用非磁性基板 | |
| JP2004352572A (ja) | アルミナセラミックス及びその製造方法 | |
| JPH04279011A (ja) | 磁気ヘッド用非磁性基板 | |
| JPH04279012A (ja) | 磁気ヘッド用非磁性基板 | |
| JPH04273407A (ja) | 磁気ヘッド用非磁性基板 | |
| JPH04251416A (ja) | 磁気ヘッド用非磁性基板 | |
| JPH04273405A (ja) | 磁気ヘッド用非磁性基板 | |
| JPH04273406A (ja) | 磁気ヘッド用非磁性基板 | |
| JPH04214603A (ja) | 磁気ヘッド用非磁性基板 | |
| JPH04269813A (ja) | 磁気ヘッド用非磁性基板 | |
| JPS5945969A (ja) | 高硬度と高靭性を具備した酸化ジルコニウ系セラミック | |
| JPH0491402A (ja) | 磁気ヘッド用非磁性基板 | |
| JPH05283230A (ja) | 磁気ヘッド用非磁性基板 | |
| JPH0782616B2 (ja) | 磁気ヘッド用非磁性基板 | |
| JPH0642407B2 (ja) | 磁気ヘッド用非磁性基板 | |
| JPH0294408A (ja) | 磁気ヘッド用非磁性基板 | |
| JPH087849B2 (ja) | 磁気ヘッド用非磁性基板 |