JPH087849B2 - 磁気ヘッド用非磁性基板 - Google Patents

磁気ヘッド用非磁性基板

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JPH087849B2
JPH087849B2 JP1214207A JP21420789A JPH087849B2 JP H087849 B2 JPH087849 B2 JP H087849B2 JP 1214207 A JP1214207 A JP 1214207A JP 21420789 A JP21420789 A JP 21420789A JP H087849 B2 JPH087849 B2 JP H087849B2
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JP
Japan
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magnetic
substrate
coefficient
thermal expansion
head
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広司 保坂
隆一 長瀬
燈文 永井
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Japan Energy Corp
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  • Magnetic Heads (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、金属性磁性膜を蒸着するための非磁性の磁
気ヘッド用非磁性基板に関するものである。
従来技術 従来この種の用途のものとしては、チタン酸バリウ
ム、チタン酸カルシウム、アルミナ等が使用されてい
た。しかしながら、その熱膨張率が磁性膜構造体と大き
く異なっていたため、蒸着した磁性膜構造体が剥離しや
すく、また熱膨張率の差により応力が発生しクラックが
発生することがあった。
さらに、従来の材料は硬さが低く、特に高保磁力テー
プ(いわゆるメタルテープ)が使用された場合には、非
磁性基板が磁性膜構造体と硬度及び耐摩耗性が異なり、
磁気テープとの摺動により発生する摩擦のために偏摩耗
等を引き起こし、磁気特性に変化をきたすという問題が
あった。特に硬度が低い場合には、磁気ヘッドの寿命が
短くなること、あるいは非磁性基板の変形や割れ及び剥
離を引き起こすといった欠点が顕著であった。
本発明者等は、上記の欠点を解決すべく、CoO−NiO系
セラミックスについて従来より研究を進め、CoxNi2-xO2
(ただし0.2≦x≦1.8)なる組成の酸化物が有効である
として既に開示した。
しかし、金属性磁性膜構造体の製造工程やその用途に
よっては、より高い熱膨張率を有する非磁性基板が必要
となってきた。
発明が解決しようとする問題点 本発明は、上記の欠点を解決したもので、具体的には
150x10-7/℃以上の熱膨張率を有し、ピッカース硬度500
〜700の特性を持ち、さらに他のヘッド構成材料間で過
度の化学的侵食反応を起こさない材料を提供することが
目的である。
発明の構成 即ち、本発明は、CoxNi2-xO2(ただし0<x<0.2)
で表わされ、岩塩型構造を有することを特徴とする磁気
ヘッド用非磁性基板に関する。
問題点を解決するための手段及び作用 本発明者等は、CoO−NiO系セラミックスについて従来
より研究を進めてきたが、上記の観点から検討を加え、
基本組成としてCoxNi2-xO2(ただし0<x<0.2)なる
組成の酸化物が有効であることを見い出した。
CoO−NiO系セラミックスにおいて、熱膨張率は次式に
よってほぼ決定される。
α(CN)=α(C)M(C)+α(N)M(N) (ただし、αは熱膨張率、Mはモル分率を示し、( )
内のCはCoO、NはNiO、CNはCoO−NiO系であることを表
わす。)この式を適用すると、150x10-7/℃以上の熱膨
張率を得るには、本発明の組成比(0<x<0.2)が必
要となる。
市販の各酸化物を原料として、所望組成になるよう秤
量し、ボールミルにより混合する。混合は例えばエタノ
ール中湿式ボールミルで10〜30時間行なう。
乾燥後、CIP成形し、例えばAr中850〜1100℃で仮焼
し、次いで粗砕機を用いて粉砕し、100〜200μmの篩で
篩分けを行なう。
仮焼粉はさらに例えばエタノール中湿式ボールミルで
20〜72時間処理し、1μm以下に微粉砕する。
これを造粒後、CIP成形し、例えばN2中1230〜1400℃
で焼結し、その後、HIP処理を行なう。HIP処理条件は、
800〜1200kg/cm2、1200〜1350℃、1〜2時間が望まし
い。
このようにして得られた焼結体は、緻密で岩塩型構造
を有し、テープの摺動による摩擦やエッヂ部の欠けが少
なく従来の材料よりも優れていることが確認できた。
また、CoxNi2-xO2(ただし0.2≦x≦1.8)の場合と同
様、MnO、TiO2、Al2O3、CaO、Y2O3、TiN、B2O3、SiO2
の添加材が有効である。
添加は、単独あるいは各々の組み合わせでも良好であ
り、所望の硬度、熱膨張率に対応した組み合わせを採用
するのが望ましい 実施例 組成式CoxNi2-xO2で表わされる酸化物のうち、表1の組
成のものをNiO、CoOより調整した。混合は、エタノール
中湿式ボールミルで22時間処理した。
乾燥後、CIP成形し、Ar中1000℃で仮焼後、150μm以
下に粉砕した。
仮焼粉をさらにエタノール中湿式ボールミルで70時間
処理し、1μm以下に微粉砕した。
これを造粒後、CIP成形し、N2中1400℃で焼結した。
なお、HIP処理を行なわなくとも焼結体の密度は高い値
であった。
焼結体のX線回折より、岩塩型構造であることを確認
した。
焼結体のピッカース硬度(Hv)、熱膨張率(α:×10
-7/℃)を表1に示す。表中には、比較例としてチタン
酸バリウム(チタバリ)の特性を併記した。
発明の効果 以上説明したように、(1)本組成の非磁性基板は、
熱膨張率、硬度とも磁性膜構造体とほぼ同等の特性を得
ることができる。
このため、磁性膜構造体の剥離やクラックの発生を著
しく防止できる。
(2)さらに、硬度を高めることにより磁気ヘッドの短
寿命化や非磁性基板の変形、割れ等を抑えることがで
き、ヘッドの耐摩耗性、耐久性に特にすぐれている利点
がある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−94408(JP,A) 特開 平2−94407(JP,A) 特開 平1−287811(JP,A) 特開 平2−168602(JP,A)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】CoxNi2-xO2(ただし0<x<0.2)で表わ
    され、岩塩型構造を有することを特徴とする磁気ヘッド
    用非磁性基板。
JP1214207A 1989-08-22 1989-08-22 磁気ヘッド用非磁性基板 Expired - Lifetime JPH087849B2 (ja)

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