JPH0447976B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0447976B2 JPH0447976B2 JP58050806A JP5080683A JPH0447976B2 JP H0447976 B2 JPH0447976 B2 JP H0447976B2 JP 58050806 A JP58050806 A JP 58050806A JP 5080683 A JP5080683 A JP 5080683A JP H0447976 B2 JPH0447976 B2 JP H0447976B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- storage box
- wafer
- light beam
- wafers
- storage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P74/00—Testing or measuring during manufacture or treatment of wafers, substrates or devices
Landscapes
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
この発明は、収納箱内のウエハの検出等に用い
られるウエハ検出装置に関する。
られるウエハ検出装置に関する。
、ウエハの測定においては、検査すべきウエハ
従来を収納した収納箱の下側にベルト駆動装置を
設置してベルトによつて下段からウエハを１枚ず
つ順に取り出すことが行われている。このような
ベルト駆動装置によるウエハの取出しは、収納箱
から必要に応じて任意の位置のウエハを選択的に
取り出すことができない。即ち、収納箱に測定し
たウエハを一旦戻すと、そのウエハが最下端にな
る場合は別として、収納箱から任意のウエハを選
択的に取り出すことができず、収納箱の中間に位
置しているウエハの再測定を困難にしていた。
従来を収納した収納箱の下側にベルト駆動装置を
設置してベルトによつて下段からウエハを１枚ず
つ順に取り出すことが行われている。このような
ベルト駆動装置によるウエハの取出しは、収納箱
から必要に応じて任意の位置のウエハを選択的に
取り出すことができない。即ち、収納箱に測定し
たウエハを一旦戻すと、そのウエハが最下端にな
る場合は別として、収納箱から任意のウエハを選
択的に取り出すことができず、収納箱の中間に位
置しているウエハの再測定を困難にしていた。
ところで、収納箱からウエハを取り出して測定
する場合、収納箱に対する任意のウエハの選択的
な取り出し又は収納の自動化には、その前提とし
て収納箱内のウエハの有無、即ち、ウエハ位置の
検出の自動化が不可欠であり、しかも、その高精
度化が要請される。 そこで、この発明は、収納箱内でウエハの検出
を非接触で行い、その検出の高精度化を実現した
ウエハ検出装置の提供を目的とする。
する場合、収納箱に対する任意のウエハの選択的
な取り出し又は収納の自動化には、その前提とし
て収納箱内のウエハの有無、即ち、ウエハ位置の
検出の自動化が不可欠であり、しかも、その高精
度化が要請される。 そこで、この発明は、収納箱内でウエハの検出
を非接触で行い、その検出の高精度化を実現した
ウエハ検出装置の提供を目的とする。
即ち、この発明のウエハ検出装置は、前面側及
び背面側を開放して任意の間隔で複数枚のウエハ
４を収納する収納箱５と、この収納箱の前面側か
ら前記ウエハに平行に光ビームを照射する光ビー
ム照射手段（発光素子７）と、前記収納箱内を通
過した前記光ビームを前記収納箱の背面側で受
け、その反射光ビームを前記収納箱の背面側から
前記収納箱を通過させる反射鏡３と、前記反射光
ビームを受光し、前記ウエハの有無を表す検出信
号を発生する受光手段（受光素子８）と、この受
光手段及び前記光ビーム照射手段と前記収納箱と
の相対的な位置を変更させ、前記光ビームを前記
収納箱内の前記ウエハに順次に照射することを可
能にする位置変更手段（エレベータ２）とを備え
たことを特徴とする。
び背面側を開放して任意の間隔で複数枚のウエハ
４を収納する収納箱５と、この収納箱の前面側か
ら前記ウエハに平行に光ビームを照射する光ビー
ム照射手段（発光素子７）と、前記収納箱内を通
過した前記光ビームを前記収納箱の背面側で受
け、その反射光ビームを前記収納箱の背面側から
前記収納箱を通過させる反射鏡３と、前記反射光
ビームを受光し、前記ウエハの有無を表す検出信
号を発生する受光手段（受光素子８）と、この受
光手段及び前記光ビーム照射手段と前記収納箱と
の相対的な位置を変更させ、前記光ビームを前記
収納箱内の前記ウエハに順次に照射することを可
能にする位置変更手段（エレベータ２）とを備え
たことを特徴とする。
このような構成によれば、光ビーム照射手段に
よつて光ビームを収納箱内のウエハに照射し、収
納箱を通過した光ビームを収納箱の背面側の反射
鏡で受け、この反射鏡で反射させた反射光ビーム
を受光手段で受光する。その結果、受光手段に収
納箱内のウエハの有無を表す反射光ビームが受光
されると、受光手段にはウエハの有無を表す検出
信号が得られるのである。 そして、位置変更手段は、光ビームを収納箱内
のウエハ位置に順次に照射するため、受光手段及
び光ビーム照射手段と収納箱との相対的な位置を
変更させるものであり、その位置の変更によつて
収納箱内のウエハの有無が受光手段に確実に検出
されることになる。
よつて光ビームを収納箱内のウエハに照射し、収
納箱を通過した光ビームを収納箱の背面側の反射
鏡で受け、この反射鏡で反射させた反射光ビーム
を受光手段で受光する。その結果、受光手段に収
納箱内のウエハの有無を表す反射光ビームが受光
されると、受光手段にはウエハの有無を表す検出
信号が得られるのである。 そして、位置変更手段は、光ビームを収納箱内
のウエハ位置に順次に照射するため、受光手段及
び光ビーム照射手段と収納箱との相対的な位置を
変更させるものであり、その位置の変更によつて
収納箱内のウエハの有無が受光手段に確実に検出
されることになる。
以下、この発明を図面に示した実施例を参照し
て詳細に説明する。 第１図及び第２図は、この発明のウエハ検出装
置の実施例を示す。 装置本体１にはエレベータ２が取り付けられ、
装置本体１の上面には検出すべきウエハ４を収納
した収納箱５が配置され、また、装置本体１の背
面側には反射鏡３が固定されている。エレベータ
２のステージには、ハーフミラー６が設置されて
いるとともに、このハーフミラー６を介して光ビ
ームLiを収納箱５側に照射する光ビーム照射手段
として発光素子７が設置され、反射鏡３から得ら
れる反射光ビームLrを受光する受光手段として
受光素子８が設置されている。即ち、エレベータ
２は、第２図に示すように、発光素子７及び受光
素子８を上下方向（Ｙ：up及び−Ｙ：down）に
移送することにより、発光素子７及び受光素子８
と収納箱５との相対的な位置を変更させ、光ビー
ムLiを収納箱５内のウエハ４に順次に照射するこ
とを可能にした位置変更手段を構成しているので
ある。 このような構成によれば、発光素子７から発射
された光ビームLiはハーフミラー６を通過し、反
射鏡３で反射した反射光ビームLrがもとの光軸
を通つて、ハーフミラー６に戻り受光素子８に入
射される。そこで、装置本体１に対して下から上
にエレベータ２をスキヤンすることにより、収納
箱５内のウエハ４で通過後の光ビームLiに強弱が
生じ、受光素子８には、ウエハ４の有無を表す反
射光ビームLrが受光され、ウエハ４の検出信号
として微電流の変化が得られる。 この実施例では、ハーフミラー６を用いている
ので、光ビームLiと反射光ビームLrとの干渉を
抑えることができ、精度の高いウエハ検出を行う
ことができる。 次に、第３図及び第４図は、第１図及び第２図
に示したウエハ検出装置にウエハ取出・収納装置
を並設したウエハ検出・取出・収納装置の実施例
を示し、第１図に第２図と同一部分には同一符号
を付してある。 発光素子７及び受光素子８等が設置されたエレ
ベータ２は、パルスモータ１１によつて駆動され
るボールスクリユー１２に取り付けられるととも
に２本のガイドシヤフト１６によつて摺動可能に
支持されている。 そして、ウエハ取出・収納装置ｈは、収納箱５
からウエハ４を取出し又はウエハ４を収納箱５に
収納するウエハ移送手段であつて上下方向の位置
変更手段としてのエレベータ２を兼用している。
このウエハ取出・収納装置ｈには、収納箱５の内
部に挿入してウエハ４を載せて取り出すために平
板状を成すウエハ取出し及び収納手段として取出
しアーム９が設けられており、この取出しアーム
９の一端にはベルト１５が固定されている。ベル
ト１５は、取出しアーム９の移動に対応した間隔
を以て設置された一対のプーリ１４間に懸け回さ
れている。即ち、ベルト１５は、回転によつて取
出しアーム９を収納箱５に向かつて前後方向、図
中Ｘ方向に移動させる手段であつて、パルスモー
タ１３からベルト１５を介して加えられる回転力
を受けて回転する。 そして、取出しアーム９のウエハ４の載置部
分、即ち、ウエハ４の吸着面には、ウエハ４を吸
着するためのバキユームをウエハ４に作用させる
バキユーム穴が設けられている。 このような構成によれば、ウエハ４の有無を検
出した後、第４図に示すように、パルスモータ１
３によつてベルト１０を駆動して取出しアーム９
を前方に移動させて取り出すべきウエハ４の下面
側に挿入する。パルスモータ１３を停止させ、次
に、エレベータ２を僅かに上昇させた後、バキユ
ームを動作して取出しアーム９の上面にウエハ４
を吸着する。この状態でパルスモータ１３を逆転
させると、ベルト１０とともに取出しアーム９が
後方に移動し、取出しアーム９によつてウエハ４
が収納箱５から取り出されることになる。 次に、第５図は、第３図及び第４図に示したウ
エハ検出・取出・収納装置のシステム構成を示
す。 スタートスイツチａは、ウエハ４の検出、取出
し又は収納の開始を指令する手段である。記憶手
段ｇには、アドレスとともに位置決め情報が記憶
されている。スタートスイツチａが操作される
と、選択手段ｂを介してアドレス指定手段ｆに指
定開始命令が与えられ、ウエハ検出装置ｅからの
位置情報をもとに収納箱５内にあるウエハ４の位
置が決定される。 取出し制御手段ｃは、収納箱５からウエハ４の
取出しを制御し、収納制御手段ｄは取出しアーム
９を通してウエハ４の収納箱５への収納を制御す
る手段である。これらの制御手段ｃ，ｄからの制
御出力はエレベータ２を駆動するエレベータ駆動
装置ｉに加えられてウエハ取出、収納装置ｈに加
えられる。即ち、ウエハ取出・収納装置ｈのパル
スモータ１３及びエレベータ駆動装置ｉは取出し
制御装置手段ｃ、又は収納制御手段ｄからの情報
に基づいて位置決め制御が行われ、収納箱５から
のウエハ４の取出し又は収納箱５へウエハ４の収
納が行われる。 検出手段ｊは、検査の度にウエハ４が何処に置
かれているかの情報を検出する手段であつて、そ
の検出出力は選択手段ｂに供給され、それにより
ウエハ４の取出し、又はウエハ４の収納が選択さ
れる。 そして、第６図はこのウエハ検出・取出・収納
装置の構成を示す。即ち、このウエハ検出・取
出・収納装置には、１ボードのマイクロコンピユ
ータからなる制御部２０が設置され、この制御部
２０には、ウエハ４の検出・取出・収納制御プロ
グラムを実行するCPU２１、検出・取出・収納
制御プログラムを記憶した記憶手段としての
ROM２２、CPU２１の演算途上のデータや検出
信号を格納する記憶手段としてのRAM２３とと
もに入力ポート２４が設置されている。入力ポー
ト２４にはウエハ検出装置ｅ、バキユーム検出器
３１及びリミツト検出器３２からの検出信号が加
えられている。CPU２１から得られる制御出力
はエレベータ駆動回路３３、ウエハ取出・収納駆
動回路３４及び固定ピン回路３５に加えられてい
る。エレベータ駆動回路３３の駆動出力はパルス
モータ１１、ウエハ取出・収納駆動回路３４の駆
動出力はパルスモータ１３に加えられている。 そして、RAM２３に記憶されるアドレス及び
ウエハ位置は第１表の通りである。
て詳細に説明する。 第１図及び第２図は、この発明のウエハ検出装
置の実施例を示す。 装置本体１にはエレベータ２が取り付けられ、
装置本体１の上面には検出すべきウエハ４を収納
した収納箱５が配置され、また、装置本体１の背
面側には反射鏡３が固定されている。エレベータ
２のステージには、ハーフミラー６が設置されて
いるとともに、このハーフミラー６を介して光ビ
ームLiを収納箱５側に照射する光ビーム照射手段
として発光素子７が設置され、反射鏡３から得ら
れる反射光ビームLrを受光する受光手段として
受光素子８が設置されている。即ち、エレベータ
２は、第２図に示すように、発光素子７及び受光
素子８を上下方向（Ｙ：up及び−Ｙ：down）に
移送することにより、発光素子７及び受光素子８
と収納箱５との相対的な位置を変更させ、光ビー
ムLiを収納箱５内のウエハ４に順次に照射するこ
とを可能にした位置変更手段を構成しているので
ある。 このような構成によれば、発光素子７から発射
された光ビームLiはハーフミラー６を通過し、反
射鏡３で反射した反射光ビームLrがもとの光軸
を通つて、ハーフミラー６に戻り受光素子８に入
射される。そこで、装置本体１に対して下から上
にエレベータ２をスキヤンすることにより、収納
箱５内のウエハ４で通過後の光ビームLiに強弱が
生じ、受光素子８には、ウエハ４の有無を表す反
射光ビームLrが受光され、ウエハ４の検出信号
として微電流の変化が得られる。 この実施例では、ハーフミラー６を用いている
ので、光ビームLiと反射光ビームLrとの干渉を
抑えることができ、精度の高いウエハ検出を行う
ことができる。 次に、第３図及び第４図は、第１図及び第２図
に示したウエハ検出装置にウエハ取出・収納装置
を並設したウエハ検出・取出・収納装置の実施例
を示し、第１図に第２図と同一部分には同一符号
を付してある。 発光素子７及び受光素子８等が設置されたエレ
ベータ２は、パルスモータ１１によつて駆動され
るボールスクリユー１２に取り付けられるととも
に２本のガイドシヤフト１６によつて摺動可能に
支持されている。 そして、ウエハ取出・収納装置ｈは、収納箱５
からウエハ４を取出し又はウエハ４を収納箱５に
収納するウエハ移送手段であつて上下方向の位置
変更手段としてのエレベータ２を兼用している。
このウエハ取出・収納装置ｈには、収納箱５の内
部に挿入してウエハ４を載せて取り出すために平
板状を成すウエハ取出し及び収納手段として取出
しアーム９が設けられており、この取出しアーム
９の一端にはベルト１５が固定されている。ベル
ト１５は、取出しアーム９の移動に対応した間隔
を以て設置された一対のプーリ１４間に懸け回さ
れている。即ち、ベルト１５は、回転によつて取
出しアーム９を収納箱５に向かつて前後方向、図
中Ｘ方向に移動させる手段であつて、パルスモー
タ１３からベルト１５を介して加えられる回転力
を受けて回転する。 そして、取出しアーム９のウエハ４の載置部
分、即ち、ウエハ４の吸着面には、ウエハ４を吸
着するためのバキユームをウエハ４に作用させる
バキユーム穴が設けられている。 このような構成によれば、ウエハ４の有無を検
出した後、第４図に示すように、パルスモータ１
３によつてベルト１０を駆動して取出しアーム９
を前方に移動させて取り出すべきウエハ４の下面
側に挿入する。パルスモータ１３を停止させ、次
に、エレベータ２を僅かに上昇させた後、バキユ
ームを動作して取出しアーム９の上面にウエハ４
を吸着する。この状態でパルスモータ１３を逆転
させると、ベルト１０とともに取出しアーム９が
後方に移動し、取出しアーム９によつてウエハ４
が収納箱５から取り出されることになる。 次に、第５図は、第３図及び第４図に示したウ
エハ検出・取出・収納装置のシステム構成を示
す。 スタートスイツチａは、ウエハ４の検出、取出
し又は収納の開始を指令する手段である。記憶手
段ｇには、アドレスとともに位置決め情報が記憶
されている。スタートスイツチａが操作される
と、選択手段ｂを介してアドレス指定手段ｆに指
定開始命令が与えられ、ウエハ検出装置ｅからの
位置情報をもとに収納箱５内にあるウエハ４の位
置が決定される。 取出し制御手段ｃは、収納箱５からウエハ４の
取出しを制御し、収納制御手段ｄは取出しアーム
９を通してウエハ４の収納箱５への収納を制御す
る手段である。これらの制御手段ｃ，ｄからの制
御出力はエレベータ２を駆動するエレベータ駆動
装置ｉに加えられてウエハ取出、収納装置ｈに加
えられる。即ち、ウエハ取出・収納装置ｈのパル
スモータ１３及びエレベータ駆動装置ｉは取出し
制御装置手段ｃ、又は収納制御手段ｄからの情報
に基づいて位置決め制御が行われ、収納箱５から
のウエハ４の取出し又は収納箱５へウエハ４の収
納が行われる。 検出手段ｊは、検査の度にウエハ４が何処に置
かれているかの情報を検出する手段であつて、そ
の検出出力は選択手段ｂに供給され、それにより
ウエハ４の取出し、又はウエハ４の収納が選択さ
れる。 そして、第６図はこのウエハ検出・取出・収納
装置の構成を示す。即ち、このウエハ検出・取
出・収納装置には、１ボードのマイクロコンピユ
ータからなる制御部２０が設置され、この制御部
２０には、ウエハ４の検出・取出・収納制御プロ
グラムを実行するCPU２１、検出・取出・収納
制御プログラムを記憶した記憶手段としての
ROM２２、CPU２１の演算途上のデータや検出
信号を格納する記憶手段としてのRAM２３とと
もに入力ポート２４が設置されている。入力ポー
ト２４にはウエハ検出装置ｅ、バキユーム検出器
３１及びリミツト検出器３２からの検出信号が加
えられている。CPU２１から得られる制御出力
はエレベータ駆動回路３３、ウエハ取出・収納駆
動回路３４及び固定ピン回路３５に加えられてい
る。エレベータ駆動回路３３の駆動出力はパルス
モータ１１、ウエハ取出・収納駆動回路３４の駆
動出力はパルスモータ１３に加えられている。 そして、RAM２３に記憶されるアドレス及び
ウエハ位置は第１表の通りである。
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 前面側及び背面側を開放して任意の間隔で複
数枚のウエハを収納する収納箱と、 この収納箱の前面側から前記ウエハに平行に光
ビームを照射する光ビーム照射手段と、 前記収納箱内を通過した前記光ビームを前記収
納箱の背面側で受け、その反射光ビームを前記収
納箱の背面側から前記収納箱を通過させる反射鏡
と、 前記反射光ビームを受光し、前記ウエハの有無
を表す検出信号を発生する受光手段と、 この受光手段及び前記光ビーム照射手段と前記
収納箱との相対的な位置を変更させ、前記光ビー
ムを前記収納箱内の前記ウエハに順次に照射する
ことを可能にする位置変更手段と、 を備えたことを特徴とするウエハ検出装置。 ２ 前記ウエハ側の前記光ビームの照射、前記反
射鏡からの前記反射光ビームの受光はハーフミラ
ーを通して行うことを特徴とする特許請求の範囲
第１項に記載のウエハ検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58050806A JPS59175740A (ja) | 1983-03-25 | 1983-03-25 | ウエハ検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58050806A JPS59175740A (ja) | 1983-03-25 | 1983-03-25 | ウエハ検出装置 |
Related Child Applications (5)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1071185A Division JPH02333A (ja) | 1989-03-23 | 1989-03-23 | 半導体ウエハ測定方法 |
| JP1071184A Division JPH01280332A (ja) | 1989-03-23 | 1989-03-23 | 半導体ウエハ配列検出装置 |
| JP3083600A Division JPH0817199B2 (ja) | 1991-03-23 | 1991-03-23 | ウエハ移送装置 |
| JP8359991A Division JP2500205B2 (ja) | 1991-03-23 | 1991-03-23 | ウエハ移送装置 |
| JP8359891A Division JP2537310B2 (ja) | 1991-03-23 | 1991-03-23 | ウエハ検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59175740A JPS59175740A (ja) | 1984-10-04 |
| JPH0447976B2 true JPH0447976B2 (ja) | 1992-08-05 |
Family
ID=12869010
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58050806A Granted JPS59175740A (ja) | 1983-03-25 | 1983-03-25 | ウエハ検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59175740A (ja) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61188331A (ja) * | 1985-02-15 | 1986-08-22 | Nippon Texas Instr Kk | 物体取出装置 |
| JPH0652753B2 (ja) * | 1985-05-13 | 1994-07-06 | キヤノン株式会社 | 基板搬出入装置 |
| JPH0641323B2 (ja) * | 1985-07-17 | 1994-06-01 | キヤノン株式会社 | ウエハ位置検知装置 |
| JPH0642506B2 (ja) * | 1985-08-30 | 1994-06-01 | キヤノン株式会社 | ウエハ処理システム |
| JPS62263647A (ja) * | 1986-05-12 | 1987-11-16 | Tokyo Electron Ltd | ウエハプロ−バ |
| JPH0333062Y2 (ja) * | 1986-07-28 | 1991-07-12 | ||
| JPS63308928A (ja) * | 1987-06-11 | 1988-12-16 | Fuji Electric Co Ltd | ウエハ搬送装置 |
| JP2519096B2 (ja) * | 1988-02-12 | 1996-07-31 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置及びレジスト処理装置及び処理方法及びレジスト処理方法 |
| JPH01244634A (ja) * | 1988-03-25 | 1989-09-29 | Teru Barian Kk | 半導体ウエハの製造装置 |
| US4941800A (en) * | 1988-10-21 | 1990-07-17 | Tokyo Electron Limited | Transfer apparatus for plate-like member |
| JPH02142157A (ja) * | 1988-11-22 | 1990-05-31 | Nippon M R C Kk | ウェハーの有無・傾き判別装置 |
| JP2615171B2 (ja) * | 1988-12-19 | 1997-05-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 半導体製造装置 |
| JP2859655B2 (ja) * | 1989-09-19 | 1999-02-17 | 株式会社ニデック | ウェーハ検出装置 |
| JPH0642505B2 (ja) * | 1992-05-22 | 1994-06-01 | 株式会社東京精密 | ウエハの抜取方法 |
| JPH1067428A (ja) * | 1997-03-28 | 1998-03-10 | Texas Instr Japan Ltd | ウエハスライス収納・取出方法 |
| JP3936030B2 (ja) * | 1997-06-23 | 2007-06-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 被処理体の回収方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5764928A (en) * | 1980-10-07 | 1982-04-20 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Carrying apparatus for photo mask or reticle |
-
1983
- 1983-03-25 JP JP58050806A patent/JPS59175740A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59175740A (ja) | 1984-10-04 |
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