JPH04253039A - 有機非線形光学材料 - Google Patents
有機非線形光学材料Info
- Publication number
- JPH04253039A JPH04253039A JP981391A JP981391A JPH04253039A JP H04253039 A JPH04253039 A JP H04253039A JP 981391 A JP981391 A JP 981391A JP 981391 A JP981391 A JP 981391A JP H04253039 A JPH04253039 A JP H04253039A
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- Japan
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規な有機非線形光学材
料に関する。
料に関する。
【0002】
【従来の技術】非線形光学効果は、高調波発生、光スイ
ッチ、光混合などにおけるレーザー光の波長、位相及び
振幅の変調に利用され、光を用いた情報処理において重
要な役割を果たしている。
ッチ、光混合などにおけるレーザー光の波長、位相及び
振幅の変調に利用され、光を用いた情報処理において重
要な役割を果たしている。
【0003】従来、非線形光学効果を発揮する非線形光
学材料としては、主に無機化合物結晶が用いられてきた
。しかし、これら無機化合物結晶の非線形光学効果は充
分ではなかった。これに対して、近年、無機化合物結晶
に比べてはるかに大きな非線形光学定数を有し、光損傷
に耐する耐久性にも優れた有機化合物が数多く見出され
ている。
学材料としては、主に無機化合物結晶が用いられてきた
。しかし、これら無機化合物結晶の非線形光学効果は充
分ではなかった。これに対して、近年、無機化合物結晶
に比べてはるかに大きな非線形光学定数を有し、光損傷
に耐する耐久性にも優れた有機化合物が数多く見出され
ている。
【0004】これらの有機非線形光学材料に関しては、
例えばD.J.Williamsらの“Nonline
ar Optical Properties
ofOrganic and Polymeric
Materials”(American Ch
emical Society,1983)や、D.
S.Chemlaらの“Nonlinear Opt
ical Proper−ties of Or
ganic Molecules and Cr
ys−tals”(Academic Press
inc.1987)に総説されている。ここに挙げら
れた有機非線形光学材料の分子構造上の特徴は、ベンゼ
ン環などのπ電子系の両端に電子供与性の官能基及び電
子吸引性の官能基を結合させた点にある。
例えばD.J.Williamsらの“Nonline
ar Optical Properties
ofOrganic and Polymeric
Materials”(American Ch
emical Society,1983)や、D.
S.Chemlaらの“Nonlinear Opt
ical Proper−ties of Or
ganic Molecules and Cr
ys−tals”(Academic Press
inc.1987)に総説されている。ここに挙げら
れた有機非線形光学材料の分子構造上の特徴は、ベンゼ
ン環などのπ電子系の両端に電子供与性の官能基及び電
子吸引性の官能基を結合させた点にある。
【0005】しかし、前述した分子構造を有する有機非
線形光学材料は、基底状態での電気双極子の存在により
、結晶化に際して中心対称の構造を取りやすく、分子1
個が示す大きな非線形性が結晶全体としては相殺されや
すいという問題があった。また、空間的広がりの大きい
π電子系を用いれば、非線形性は増大するが、分子自身
の吸収波長域(吸収帯)が深色側(長波長側)へシフト
する。これによって、青色波長域での光透過性が低下し
て、倍波の効率的な発生を妨げたり、分子自身の劣化を
促進するという問題があった。
線形光学材料は、基底状態での電気双極子の存在により
、結晶化に際して中心対称の構造を取りやすく、分子1
個が示す大きな非線形性が結晶全体としては相殺されや
すいという問題があった。また、空間的広がりの大きい
π電子系を用いれば、非線形性は増大するが、分子自身
の吸収波長域(吸収帯)が深色側(長波長側)へシフト
する。これによって、青色波長域での光透過性が低下し
て、倍波の効率的な発生を妨げたり、分子自身の劣化を
促進するという問題があった。
【0006】このようなことから、優れた非線形性を有
するとともに、分子自身の吸収帯が低波長側に存在する
有機非線形光学材料が望まれている。
するとともに、分子自身の吸収帯が低波長側に存在する
有機非線形光学材料が望まれている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、優れ
た非線形性を示し、かつ倍波を効率的に発生し得る有機
非線形光学材料を提供することにある。
た非線形性を示し、かつ倍波を効率的に発生し得る有機
非線形光学材料を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の有機非線形光学
材料は、下記一般式(1)
材料は、下記一般式(1)
【0009】
【化2】
(式中、
Xは、CR1R2基又はNR3基を示す。
Yは、O原子又はS原子を示す。
Zは、O原子又はNR4基を示す。
【0010】R、R1、R2、R3及びR4は、同一で
も異なっていてもよく、非置換もしくは置換されていて
もよい芳香族炭化水素基、複素環基、脂肪族炭化水素基
、もしくは脂環式炭化水素基、特性基、又は水素原子を
示す。なお、R1とR2とで炭化水素環又は複素環を形
成していてもよい。)で表わされる含窒素複素環状化合
物からなることを特徴とするものである。
も異なっていてもよく、非置換もしくは置換されていて
もよい芳香族炭化水素基、複素環基、脂肪族炭化水素基
、もしくは脂環式炭化水素基、特性基、又は水素原子を
示す。なお、R1とR2とで炭化水素環又は複素環を形
成していてもよい。)で表わされる含窒素複素環状化合
物からなることを特徴とするものである。
【0011】前記一般式(1)で表わされる含窒素複素
環状化合物の基本骨格としては、(i)5(4H)−イ
ソオキサゾロン(表1中のA)、又は3(2H,4H)
−ピラゾロン(表1中のB)などの複素環ケトン化合物
、及び(ii)(i)の化合物のカルボニル基のO原子
をS原子で置換した複素環チオケトン化合物(表1中の
C又はD)が挙げられる。
環状化合物の基本骨格としては、(i)5(4H)−イ
ソオキサゾロン(表1中のA)、又は3(2H,4H)
−ピラゾロン(表1中のB)などの複素環ケトン化合物
、及び(ii)(i)の化合物のカルボニル基のO原子
をS原子で置換した複素環チオケトン化合物(表1中の
C又はD)が挙げられる。
【0012】前記一般式(1)において、R、及びR1
〜R4として導入される非置換の芳香族炭化水素基、複
素環基、脂肪族炭化水素基、及び脂環式炭化水素基を以
下に例示する。
〜R4として導入される非置換の芳香族炭化水素基、複
素環基、脂肪族炭化水素基、及び脂環式炭化水素基を以
下に例示する。
【0013】芳香族炭化水素基としては、例えばベンゼ
ン環基、ナフタリン環基、アントラセン環基、フェナン
トレン環基、テトラリン環基、アズレン環基、ビフェニ
レン環基、アセナフチレン環基、アセナフテン環基、フ
ルオレン環基、トリフェニレン環基、ピレン環基、クリ
セン環基、ピセン環基、ペリレン環基、ベンゾピレン環
基、ルビセン環基、コロネン環基、オバレン環基、イン
デン環基、ペンタレン環基、ヘプタレン環基、インダセ
ン環基、フェナレン環基、フルオランテン環基、アセフ
ェナントリレン環基、アセアントリレン環基、ナフタセ
ン環基、プレイアデン環基、ペンタフェン環基、ペンタ
セン環基、テトラフェニレン環基、ヘキサフェン環基、
ヘキサセン環基、トリナフチレン環基、ヘプタフェン環
基、ヘプタセン環基、ピラントレン環基などが挙げられ
る。
ン環基、ナフタリン環基、アントラセン環基、フェナン
トレン環基、テトラリン環基、アズレン環基、ビフェニ
レン環基、アセナフチレン環基、アセナフテン環基、フ
ルオレン環基、トリフェニレン環基、ピレン環基、クリ
セン環基、ピセン環基、ペリレン環基、ベンゾピレン環
基、ルビセン環基、コロネン環基、オバレン環基、イン
デン環基、ペンタレン環基、ヘプタレン環基、インダセ
ン環基、フェナレン環基、フルオランテン環基、アセフ
ェナントリレン環基、アセアントリレン環基、ナフタセ
ン環基、プレイアデン環基、ペンタフェン環基、ペンタ
セン環基、テトラフェニレン環基、ヘキサフェン環基、
ヘキサセン環基、トリナフチレン環基、ヘプタフェン環
基、ヘプタセン環基、ピラントレン環基などが挙げられ
る。
【0014】複素環基としては、例えばピロール環基、
ピロリン環基、ピロリジン環基、インドール環基、イソ
インドール環基、インドリン環基、イソインドリン環基
、インドリジン環基、カルバゾール環基、カルボリン環
基、フラン環基、オキソラン環基、クマロン環基、クマ
ラン環基、イソベンゾフラン環基、フタラン環基、ジベ
ンゾフラン環基、チオフェン環基、チオラン環基、ベン
ゾチオフェン環基、ジベンゾチオフェン環基、ピラゾー
ル環基、ピラゾリン環基、インダゾール環基、イミダゾ
ール環基、イミダゾリン環基、イミダゾリジン環基、ベ
ンゾイミダゾール環基、ベンゾイミダゾリン環基、ナフ
トイミダゾール環基、オキサゾール環基、オキサゾリン
環基、オキサゾリジン環基、ベンゾオキサゾール環基、
ベンゾオキサゾリン環基、ナフトオキサゾール環基、イ
ソオキサゾール環基、ベンゾイソオキサゾール環基、チ
アゾール環基、チアゾリン環基、チアゾリジン環基、ベ
ンゾチアゾール環基、ベンゾチアゾリン環基、ナフトチ
アゾール環基、イソチアゾール環基、ベンゾイソチアゾ
ール環基、トリアゾール環基、ベンゾトリアゾール環基
、オキサジアゾール環基、チアジアゾール環基、ベンゾ
オキサジアゾール環基、ベンゾチアジアゾール環基、テ
トラゾール環基、プリン環基、ピリジン環基、ピペリジ
ン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、アクリジン
環基、フェナントリジン環基、ベンゾキノリン環基、ナ
フトキノリン環基、ナフチリジン環基、フェナントロリ
ン環基、ピリダジン環基、ピリミジン環基、ピラジン環
基、ピペラジン環基、フタラジン環基、キノキサリン環
基、キナゾリン環基、シンノリン環基、フェナジン環基
、ペリミジン環基、トリアジン環基、テトラジン環基、
プテリジン環基、オキサジン環基、ベンゾオキサジン環
基、フェノキサジン環基、チアジン環基、ベンゾチアジ
ン環基、フェノチアジン環基、オキサジアジン環基、チ
アジアジン環基、ジオキソラン環基、ベンゾジオキソー
ル環基、ジオキサン環基、ベンゾジオキサン環基、ジチ
オラン環基、ベンゾジチオール環基、ジチアン環基、ベ
ンゾジチアン環基、ピラン環基、クロメン環基、キサン
テン環基、オキサン環基、クロマン環基、イソクロマン
環基、トリオキサン環基、チアン環基、トリチアン環基
、モルホリン環基、キヌクリジン環基、セレナゾール環
基、ベンゾセレナゾール環基、ナフトセレナゾール環基
、テルラゾール環基、ベンゾテルラゾール環基などが挙
げられる。
ピロリン環基、ピロリジン環基、インドール環基、イソ
インドール環基、インドリン環基、イソインドリン環基
、インドリジン環基、カルバゾール環基、カルボリン環
基、フラン環基、オキソラン環基、クマロン環基、クマ
ラン環基、イソベンゾフラン環基、フタラン環基、ジベ
ンゾフラン環基、チオフェン環基、チオラン環基、ベン
ゾチオフェン環基、ジベンゾチオフェン環基、ピラゾー
ル環基、ピラゾリン環基、インダゾール環基、イミダゾ
ール環基、イミダゾリン環基、イミダゾリジン環基、ベ
ンゾイミダゾール環基、ベンゾイミダゾリン環基、ナフ
トイミダゾール環基、オキサゾール環基、オキサゾリン
環基、オキサゾリジン環基、ベンゾオキサゾール環基、
ベンゾオキサゾリン環基、ナフトオキサゾール環基、イ
ソオキサゾール環基、ベンゾイソオキサゾール環基、チ
アゾール環基、チアゾリン環基、チアゾリジン環基、ベ
ンゾチアゾール環基、ベンゾチアゾリン環基、ナフトチ
アゾール環基、イソチアゾール環基、ベンゾイソチアゾ
ール環基、トリアゾール環基、ベンゾトリアゾール環基
、オキサジアゾール環基、チアジアゾール環基、ベンゾ
オキサジアゾール環基、ベンゾチアジアゾール環基、テ
トラゾール環基、プリン環基、ピリジン環基、ピペリジ
ン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、アクリジン
環基、フェナントリジン環基、ベンゾキノリン環基、ナ
フトキノリン環基、ナフチリジン環基、フェナントロリ
ン環基、ピリダジン環基、ピリミジン環基、ピラジン環
基、ピペラジン環基、フタラジン環基、キノキサリン環
基、キナゾリン環基、シンノリン環基、フェナジン環基
、ペリミジン環基、トリアジン環基、テトラジン環基、
プテリジン環基、オキサジン環基、ベンゾオキサジン環
基、フェノキサジン環基、チアジン環基、ベンゾチアジ
ン環基、フェノチアジン環基、オキサジアジン環基、チ
アジアジン環基、ジオキソラン環基、ベンゾジオキソー
ル環基、ジオキサン環基、ベンゾジオキサン環基、ジチ
オラン環基、ベンゾジチオール環基、ジチアン環基、ベ
ンゾジチアン環基、ピラン環基、クロメン環基、キサン
テン環基、オキサン環基、クロマン環基、イソクロマン
環基、トリオキサン環基、チアン環基、トリチアン環基
、モルホリン環基、キヌクリジン環基、セレナゾール環
基、ベンゾセレナゾール環基、ナフトセレナゾール環基
、テルラゾール環基、ベンゾテルラゾール環基などが挙
げられる。
【0015】脂肪族炭化水素基としては、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基
、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル
基、ペンチル基、tert−ペンチル基、イソペンチル
基、ネオペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、ヘ
プチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ビニル基
、アリル基、イソプロペニル基、プロペニル基、メタリ
ル基、クロチル基、ブテニル基、ペンテニル基、ブタジ
エニル基、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、ペ
ンチニル基などが挙げられる。
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基
、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル
基、ペンチル基、tert−ペンチル基、イソペンチル
基、ネオペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、ヘ
プチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ビニル基
、アリル基、イソプロペニル基、プロペニル基、メタリ
ル基、クロチル基、ブテニル基、ペンテニル基、ブタジ
エニル基、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、ペ
ンチニル基などが挙げられる。
【0016】脂環式炭化水素基としては、例えばシクロ
プロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シク
ロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、
シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプ
テニル基、シクロオクテニル基、シクロペンタジエニル
基、シクロヘキサジエニル基などが挙げられる。
プロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シク
ロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、
シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプ
テニル基、シクロオクテニル基、シクロペンタジエニル
基、シクロヘキサジエニル基などが挙げられる。
【0017】前記一般式(1)において、R、及びR1
〜R4として導入される特性基を以下に例示する。また
、前述した芳香族炭化水素基、複素環基、不飽和脂肪族
炭化水素基、脂肪族炭化水素基又は脂環式炭化水素基は
、以下の例示する特性基で置換されていてもよい。例え
ば、ジ置換アミノ基(ジメチルアミノ基、ジエチルアミ
ノ基、ジブチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ブチ
ルメチルアミノ基、ジアミルアミノ基、ジベンジルアミ
ノ基、ジフェネチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジ
トリルアミノ基、ジキシリルアミノ基、メチルフェニル
アミノ基、ベンジルメチルアミノ基など)、モノ置換ア
ミノ基(メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルア
ミノ基、イソプロピルアミノ基、tert−ブチルアミ
ノ基、アニリノ基、アニシジノ基、フェネチジノ基、ト
ルイジノ基、キシリジノ基、ピリジルアミノ基、チアゾ
リルアミノ基、ベンジルアミノ基、ベンジリデンアミノ
基など)、環状アミノ基(ピロリジノ基、ピペリジノ基
、ピペラジノ基、モルホリノ基、1−ピロリル基、1−
ピラゾリル基、1−イミダゾリル基、1−トリアゾリル
基など)、アシルアミノ基(ホルミルアミノ基、アセチ
ルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、シンナモイルアミノ
基、ピリジンカルボニルアミノ基、トリフルオロアセチ
ルアミノ基など)、スルホニルアミノ基(メシルアミノ
基、エチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルア
ミノ基、ピリジルスルホニルアミノ基、トシルアミノ基
、タウリルアミノ基、トリフルオロメチルスルホニルア
ミノ基、スルファモイルアミノ基、メチルスルファモイ
ルアミノ基、スルファニルアミノ基、アセチルスルファ
ニルアミノ基など)、アンモニオ基(トリメチルアンモ
ニオ基、エチルジメチルアンモニオ基、ジメチルフェニ
ルアンモニオ基、ピリジニオ基、キノリニオ基など)、
アミノ基、ヒドロキシアミノ基、ウレイド基、セミカル
バジド基、カルバジド基、ジ置換ヒドラジノ基(ジメチ
ルヒドラジノ基、ジフェニルヒドラジノ基、メチルフェ
ニルヒドラジノ基など)、モノ置換ヒドラジノ基(メチ
ルヒドラジノ基、フェニルヒドラジノ基、ピリジルヒド
ラジノ基、ベンジリデンヒドラジノ基など)、ヒドラジ
ノ基、アゾ基(フェニルアゾ基、ピリジルアゾ基、チア
ゾリルアゾ基など)、アゾキシ基、アミジノ基、シアノ
基、シアナト基、チオシアナト基、ニトロ基、ニトロソ
基、オキシ基(メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基
、ブトキシ基、ヒドロキシエトキシ基、フェノキシ基、
ナフトキシ基、ピリジルオキシ基、チアゾリルオキシ基
、アセトキシ基など)、ヒドロキシ基、チオ基(メチル
チオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ピリジルチオ
基、チアゾリルチオ基など)、メルカプト基、ハロゲン
基(フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基)、カ
ルボキシル基及びその塩、オキシカルボニル基(メトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカ
ルボニル基、ピリジルオキシカルボニル基など)、アミ
ノカルボニル基(カルバモイル基、メチルカルバモイル
基、フェニルカルバモイル基、ピリジルカルバモイル基
、カルバソイル基、アロファノイル基、オキサモイル基
、スクシンアモイル基など)、チオカルボキシル基及び
その塩、ジチオカルボキシル基及びその塩、チオカルボ
ニル基(メトキシチオカルボニル基、メチルチオカルボ
ニル基、メチルチオチオカルボニル基など)、アシル基
(ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、アクリロ
イル基、ベンゾイル基、シンナモイル基、ピリジンカル
ボニル基、チアゾールカルボニル基、トリフルオロアセ
チル基など)、チオアシル基(チオホルミル基、チオア
セチル基、チオベンゾイル基、ピリジンチオカルボニル
基など)、スルフィン酸基及びその塩、スルホン酸基及
びその塩、スルフィニル基(メチルスルフィニル基、エ
チルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基など)、
スルホニル基(メシル基、エチルスルホニル基、フェニ
ルスルホニル基、ピリジルスルホニル基、トシル基、タ
ウリル基、トリフルオロメチルスルホニル基、スルファ
モイル基、メチルスルファモイル基、スルファニリル基
、アセチルスルファニリル基など)、オキシスルホニル
基(メトキシスルホニル基、エトキシスルホニル基、フ
ェノキシスルホニル基、アセトアミノフェノキシスルホ
ニル基、ピリジルオキシスルホニル基など)、チオスル
ホニル基(メチルチオスルホニル基、エチルチオスルホ
ニル基、フェニルチオスルホニル基、アセトアミノフェ
ニルチオスルホニル基、ピリジルチオスルホニル基など
)、アミノスルホニル基(スルファモイル基、メチルス
ルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、エチルス
ルファモイル基、ジエチルスルファモイル基、フェニル
スルファモイル基、アセトアミノフェニルスルファモイ
ル基、ピリジルスルファモイル基など)、ハロゲン化ア
ルキル基(クロロメチル基、ブロモメチル基、フルオロ
メチル基、ジクロロメチル基、ジブロモメチル基、ジフ
ルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオ
ロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基など)、炭化水
素基(アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキ
ニル基など)、複素環基、ケイ化水素基(シリル基、ジ
シラニル基、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル
基など)などが挙げられる。
〜R4として導入される特性基を以下に例示する。また
、前述した芳香族炭化水素基、複素環基、不飽和脂肪族
炭化水素基、脂肪族炭化水素基又は脂環式炭化水素基は
、以下の例示する特性基で置換されていてもよい。例え
ば、ジ置換アミノ基(ジメチルアミノ基、ジエチルアミ
ノ基、ジブチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ブチ
ルメチルアミノ基、ジアミルアミノ基、ジベンジルアミ
ノ基、ジフェネチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジ
トリルアミノ基、ジキシリルアミノ基、メチルフェニル
アミノ基、ベンジルメチルアミノ基など)、モノ置換ア
ミノ基(メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルア
ミノ基、イソプロピルアミノ基、tert−ブチルアミ
ノ基、アニリノ基、アニシジノ基、フェネチジノ基、ト
ルイジノ基、キシリジノ基、ピリジルアミノ基、チアゾ
リルアミノ基、ベンジルアミノ基、ベンジリデンアミノ
基など)、環状アミノ基(ピロリジノ基、ピペリジノ基
、ピペラジノ基、モルホリノ基、1−ピロリル基、1−
ピラゾリル基、1−イミダゾリル基、1−トリアゾリル
基など)、アシルアミノ基(ホルミルアミノ基、アセチ
ルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、シンナモイルアミノ
基、ピリジンカルボニルアミノ基、トリフルオロアセチ
ルアミノ基など)、スルホニルアミノ基(メシルアミノ
基、エチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルア
ミノ基、ピリジルスルホニルアミノ基、トシルアミノ基
、タウリルアミノ基、トリフルオロメチルスルホニルア
ミノ基、スルファモイルアミノ基、メチルスルファモイ
ルアミノ基、スルファニルアミノ基、アセチルスルファ
ニルアミノ基など)、アンモニオ基(トリメチルアンモ
ニオ基、エチルジメチルアンモニオ基、ジメチルフェニ
ルアンモニオ基、ピリジニオ基、キノリニオ基など)、
アミノ基、ヒドロキシアミノ基、ウレイド基、セミカル
バジド基、カルバジド基、ジ置換ヒドラジノ基(ジメチ
ルヒドラジノ基、ジフェニルヒドラジノ基、メチルフェ
ニルヒドラジノ基など)、モノ置換ヒドラジノ基(メチ
ルヒドラジノ基、フェニルヒドラジノ基、ピリジルヒド
ラジノ基、ベンジリデンヒドラジノ基など)、ヒドラジ
ノ基、アゾ基(フェニルアゾ基、ピリジルアゾ基、チア
ゾリルアゾ基など)、アゾキシ基、アミジノ基、シアノ
基、シアナト基、チオシアナト基、ニトロ基、ニトロソ
基、オキシ基(メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基
、ブトキシ基、ヒドロキシエトキシ基、フェノキシ基、
ナフトキシ基、ピリジルオキシ基、チアゾリルオキシ基
、アセトキシ基など)、ヒドロキシ基、チオ基(メチル
チオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ピリジルチオ
基、チアゾリルチオ基など)、メルカプト基、ハロゲン
基(フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基)、カ
ルボキシル基及びその塩、オキシカルボニル基(メトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカ
ルボニル基、ピリジルオキシカルボニル基など)、アミ
ノカルボニル基(カルバモイル基、メチルカルバモイル
基、フェニルカルバモイル基、ピリジルカルバモイル基
、カルバソイル基、アロファノイル基、オキサモイル基
、スクシンアモイル基など)、チオカルボキシル基及び
その塩、ジチオカルボキシル基及びその塩、チオカルボ
ニル基(メトキシチオカルボニル基、メチルチオカルボ
ニル基、メチルチオチオカルボニル基など)、アシル基
(ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、アクリロ
イル基、ベンゾイル基、シンナモイル基、ピリジンカル
ボニル基、チアゾールカルボニル基、トリフルオロアセ
チル基など)、チオアシル基(チオホルミル基、チオア
セチル基、チオベンゾイル基、ピリジンチオカルボニル
基など)、スルフィン酸基及びその塩、スルホン酸基及
びその塩、スルフィニル基(メチルスルフィニル基、エ
チルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基など)、
スルホニル基(メシル基、エチルスルホニル基、フェニ
ルスルホニル基、ピリジルスルホニル基、トシル基、タ
ウリル基、トリフルオロメチルスルホニル基、スルファ
モイル基、メチルスルファモイル基、スルファニリル基
、アセチルスルファニリル基など)、オキシスルホニル
基(メトキシスルホニル基、エトキシスルホニル基、フ
ェノキシスルホニル基、アセトアミノフェノキシスルホ
ニル基、ピリジルオキシスルホニル基など)、チオスル
ホニル基(メチルチオスルホニル基、エチルチオスルホ
ニル基、フェニルチオスルホニル基、アセトアミノフェ
ニルチオスルホニル基、ピリジルチオスルホニル基など
)、アミノスルホニル基(スルファモイル基、メチルス
ルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、エチルス
ルファモイル基、ジエチルスルファモイル基、フェニル
スルファモイル基、アセトアミノフェニルスルファモイ
ル基、ピリジルスルファモイル基など)、ハロゲン化ア
ルキル基(クロロメチル基、ブロモメチル基、フルオロ
メチル基、ジクロロメチル基、ジブロモメチル基、ジフ
ルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオ
ロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基など)、炭化水
素基(アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキ
ニル基など)、複素環基、ケイ化水素基(シリル基、ジ
シラニル基、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル
基など)などが挙げられる。
【0018】前記一般式(1)において、R1とR2と
で形成していてもよい炭化水素環、及び複素環を以下に
例示する。例えば、シクロプロパン環、シクロブタン環
、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタ
ン環、シクロオクタン環、シクロペンテン環、シクロヘ
キセン環、シクロヘプテン環、シクロオクテン環、シク
ロペンタジエン環、シクロヘキサジエン環、インダン環
、インデン環、テトラリン環、フルオレン環、オントロ
ン環、オキサン環、チオキサン環、ピペリジン環、ピペ
ラジン環、モルホリン環、オキサゾリン環、チアゾリン
環、イミダゾリン環、イソオキサゾリン環、イソチアゾ
リン環、ピラゾリン環、ベンゾオキサゾリン環、ベンゾ
チアゾリン環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾイソオキ
サゾリン環、ベンゾイソチアゾリン環、ベンゾピラゾリ
ン環、ジヒドロピリジン環、ジヒドロキノリン環などが
挙げられる。これらの炭化水素環、及び複素環は、更に
前述した特性基で置換されていてもよい。
で形成していてもよい炭化水素環、及び複素環を以下に
例示する。例えば、シクロプロパン環、シクロブタン環
、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタ
ン環、シクロオクタン環、シクロペンテン環、シクロヘ
キセン環、シクロヘプテン環、シクロオクテン環、シク
ロペンタジエン環、シクロヘキサジエン環、インダン環
、インデン環、テトラリン環、フルオレン環、オントロ
ン環、オキサン環、チオキサン環、ピペリジン環、ピペ
ラジン環、モルホリン環、オキサゾリン環、チアゾリン
環、イミダゾリン環、イソオキサゾリン環、イソチアゾ
リン環、ピラゾリン環、ベンゾオキサゾリン環、ベンゾ
チアゾリン環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾイソオキ
サゾリン環、ベンゾイソチアゾリン環、ベンゾピラゾリ
ン環、ジヒドロピリジン環、ジヒドロキノリン環などが
挙げられる。これらの炭化水素環、及び複素環は、更に
前述した特性基で置換されていてもよい。
【0019】本発明に係る含窒素複素環状化合物は、ア
ルデヒド化合物と、アシル酢酸エステルのオキシム化合
物との脱水縮合反応、又はアルデヒド化合物と、5−イ
ソオキサゾロン化合物もしくは3−ピラゾロン化合物と
の脱水縮合反応により極めて容易に合成することができ
る。
ルデヒド化合物と、アシル酢酸エステルのオキシム化合
物との脱水縮合反応、又はアルデヒド化合物と、5−イ
ソオキサゾロン化合物もしくは3−ピラゾロン化合物と
の脱水縮合反応により極めて容易に合成することができ
る。
【0020】
【実施例】(a)含窒素複素環状化合物の合成
【002
1】[合成例1] 4−(4−ヒドロキシベンジリデ
ン)−3−メチル−5−イソオキサゾロンの合成
1】[合成例1] 4−(4−ヒドロキシベンジリデ
ン)−3−メチル−5−イソオキサゾロンの合成
【00
22】4−ヒドロキシベンズアルデヒド2.4g(20
mmol)、アセト酢酸エチル2.5ml(2.6g、
20mmol)、塩酸ヒドロキシルアミン1.5g(2
2mmol)にエタノール20ml及びピペリジン1.
0ml(0.86g、10mmol)を加え、2時間加
熱還流した。減圧濃縮後、析出した結晶をろ取し、水で
よく洗浄した。粗結晶をエタノール、塩化メチレンなど
の溶媒から再結晶し、目的の4−(4−ヒドロキシベン
ジリデン)−3−メチル−5−イソオキサゾロン(化合
物1)を得た。
22】4−ヒドロキシベンズアルデヒド2.4g(20
mmol)、アセト酢酸エチル2.5ml(2.6g、
20mmol)、塩酸ヒドロキシルアミン1.5g(2
2mmol)にエタノール20ml及びピペリジン1.
0ml(0.86g、10mmol)を加え、2時間加
熱還流した。減圧濃縮後、析出した結晶をろ取し、水で
よく洗浄した。粗結晶をエタノール、塩化メチレンなど
の溶媒から再結晶し、目的の4−(4−ヒドロキシベン
ジリデン)−3−メチル−5−イソオキサゾロン(化合
物1)を得た。
【0023】
収量:3.0g(14.8mmol)[収率:75
%] 元素分析(分子式:C11H9 NO3 、分
子量:203.197)
炭素 水素 窒素 計
算値 65.02% 4.46% 6.89%
分析値 64.86% 4.48% 6.82
%
%] 元素分析(分子式:C11H9 NO3 、分
子量:203.197)
炭素 水素 窒素 計
算値 65.02% 4.46% 6.89%
分析値 64.86% 4.48% 6.82
%
【0024】[合成例2] 4−(4−メトキシベ
ンジリデン)−3−メチル−5−イソオキサゾロンの合
成
ンジリデン)−3−メチル−5−イソオキサゾロンの合
成
【0025】4−アニスアルデヒド2.5ml(2.
8g、21mmol)を用い、合成例1と同様の操作に
より、目的の4−(4−メトキシベンジリデン)−3−
メチル−5−イソオキサゾロン(化合物2)を得た。
8g、21mmol)を用い、合成例1と同様の操作に
より、目的の4−(4−メトキシベンジリデン)−3−
メチル−5−イソオキサゾロン(化合物2)を得た。
【0026】
収量:3.8g(17.5mmol)[収率:85
%] 元素分析(分子式:C12H11NO3 、分
子量:217.224)
炭素 水素 窒素 計
算値 66.35% 5.10% 6.45%
分析値 66.85% 5.19% 6.52
%
%] 元素分析(分子式:C12H11NO3 、分
子量:217.224)
炭素 水素 窒素 計
算値 66.35% 5.10% 6.45%
分析値 66.85% 5.19% 6.52
%
【0027】[合成例3] 4−(2,4−ジメト
キシベンジリデン)−3−メチル−5−イソオキサゾロ
ンの合成
キシベンジリデン)−3−メチル−5−イソオキサゾロ
ンの合成
【0028】4−ジメトキシベンズアルデヒド3.3g
(20mmol)を用い、合成例1と同様の操作により
、目的の4−(2,4−ジメトキシベンジリデン)−3
−メチル−5−イソオキサゾロン(化合物3)を得た。
(20mmol)を用い、合成例1と同様の操作により
、目的の4−(2,4−ジメトキシベンジリデン)−3
−メチル−5−イソオキサゾロン(化合物3)を得た。
【0029】
収量:3.9g(15.8mmol)[収率:79
%] 元素分析(分子式:C13H13NO3 、分
子量:247.250)
炭素 水素 窒素 計
算値 63.15% 5.30% 5.67%
分析値 63.78% 5.37% 5.72
%
%] 元素分析(分子式:C13H13NO3 、分
子量:247.250)
炭素 水素 窒素 計
算値 63.15% 5.30% 5.67%
分析値 63.78% 5.37% 5.72
%
【0030】[合成例4] 4−(3,4−メチレ
ンジオキシベンジリデン)−3−メチル−5−イソオキ
サゾロンの合成
ンジオキシベンジリデン)−3−メチル−5−イソオキ
サゾロンの合成
【0031】ピペロナール3.0g(20mmol)を
用い、合成例1と同様の操作により、目的の4−(3,
4−メチレンジオキシベンジリデン)−3−メチル−5
−イソオキサゾロン(化合物4)を得た。
用い、合成例1と同様の操作により、目的の4−(3,
4−メチレンジオキシベンジリデン)−3−メチル−5
−イソオキサゾロン(化合物4)を得た。
【0032】
収量:4.3g(18.6mmol)[収率:93
%] 元素分析(分子式:C12H9 NO4 、分
子量:231.207)
炭素 水素 窒素 計
算値 62.34% 3.92% 6.06%
分析値 62.00% 3.88% 6.20
%
%] 元素分析(分子式:C12H9 NO4 、分
子量:231.207)
炭素 水素 窒素 計
算値 62.34% 3.92% 6.06%
分析値 62.00% 3.88% 6.20
%
【0033】[合成例5] 4−(4−メチルチオベ
ンジリデン)−3−メチル−5−イソオキサゾロンの合
成
ンジリデン)−3−メチル−5−イソオキサゾロンの合
成
【0034】4−メチルチオベンズアルデヒド3.0
g(20mmol)を用い、合成例1と同様の操作によ
り、目的の4−(4−メチルチオベンジリデン)−3−
メチル−5−イソオキサゾロン(化合物5)を得た。
g(20mmol)を用い、合成例1と同様の操作によ
り、目的の4−(4−メチルチオベンジリデン)−3−
メチル−5−イソオキサゾロン(化合物5)を得た。
【0035】
収量:4.0g(17.1mmol)[収率:87
%] 元素分析(分子式:C12H11NO2 S、
分子量:233.285)
炭素 水素 窒素
硫黄 計算値 61.78%
5.30% 5.67% 13.74% 分析値
62.40% 5.37% 5.72% 1
3.60%
%] 元素分析(分子式:C12H11NO2 S、
分子量:233.285)
炭素 水素 窒素
硫黄 計算値 61.78%
5.30% 5.67% 13.74% 分析値
62.40% 5.37% 5.72% 1
3.60%
【0036】[合成例6] 4−(2−フ
リルメチレン)−3−メチル−5−イソオキサゾロンの
合成
リルメチレン)−3−メチル−5−イソオキサゾロンの
合成
【0037】2−フルフラール1.7ml(2.0
g、21mmol)を用い、合成例1と同様の操作によ
り、目的の4−(2−フリルメチレン)−3−メチル−
5−イソオキサゾロン(化合物6)を得た。
g、21mmol)を用い、合成例1と同様の操作によ
り、目的の4−(2−フリルメチレン)−3−メチル−
5−イソオキサゾロン(化合物6)を得た。
【0038】
収量:3.1g(17.5mmol)[収率:85
%] 元素分析(分子式:C9 H7 NO3 、分
子量:177.159)
炭素 水素 窒素 計
算値 61.02% 3.98% 7.91%
分析値 61.32% 4.04% 7.95
%
%] 元素分析(分子式:C9 H7 NO3 、分
子量:177.159)
炭素 水素 窒素 計
算値 61.02% 3.98% 7.91%
分析値 61.32% 4.04% 7.95
%
【0039】[合成例7] 4−(3−インドリル
メチレン)−3−メチル−5−イソオキサゾロンの合成
メチレン)−3−メチル−5−イソオキサゾロンの合成
【0040】3−インドールカルバルデヒド2.9g(
20mmol)を用い、合成例1と同様の操作により、
目的の4−(3−インドリルメチレン)−3−メチル−
5−イソオキサゾロン(化合物7)を得た。
20mmol)を用い、合成例1と同様の操作により、
目的の4−(3−インドリルメチレン)−3−メチル−
5−イソオキサゾロン(化合物7)を得た。
【0041】
収量:3.3g(14.6mmol)[収率:73
%] 元素分析(分子式:C13H10N2 O2
、分子量:226.235)
炭素 水素 窒
素 計算値 69.02% 4.46% 12
.38% 分析値 68.68% 4.39%
12.53%
%] 元素分析(分子式:C13H10N2 O2
、分子量:226.235)
炭素 水素 窒
素 計算値 69.02% 4.46% 12
.38% 分析値 68.68% 4.39%
12.53%
【0042】
[合成例8] 4−(4−ニトロベンジリデン)−3
−メチル−5−イソオキサゾロンの合成
−メチル−5−イソオキサゾロンの合成
【0043】4−ニトロベンズアルデヒド3.0g(2
0mmol)を用い、合成例1と同様の操作により、目
的の4−(4−ニトロベンジリデ)−3−メチル−5−
イソオキサゾロン(化合物8)を得た。
0mmol)を用い、合成例1と同様の操作により、目
的の4−(4−ニトロベンジリデ)−3−メチル−5−
イソオキサゾロン(化合物8)を得た。
【0044】
収量:3.6g(15.5mmol)[収率:78
%] 元素分析(分子式:C11H8 N2 O4
、分子量:232.195)
炭素 水素 窒
素 計算値 56.90% 3.47% 12
.06% 分析値 57.25% 3.51%
11.94%
%] 元素分析(分子式:C11H8 N2 O4
、分子量:232.195)
炭素 水素 窒
素 計算値 56.90% 3.47% 12
.06% 分析値 57.25% 3.51%
11.94%
【0045】[合成例9] 4−(4
−シアノベンジリデン)−3−メチル−5−イソオキサ
ゾロンの合成
−シアノベンジリデン)−3−メチル−5−イソオキサ
ゾロンの合成
【0046】4−シアノベンズアルデヒド
2.6g(20mmol)を用い、合成例1と同様の操
作により、目的の4−(4−シアノベンジリデン)−3
−メチル−5−イソオキサゾロン(化合物9)を得た。
2.6g(20mmol)を用い、合成例1と同様の操
作により、目的の4−(4−シアノベンジリデン)−3
−メチル−5−イソオキサゾロン(化合物9)を得た。
【0047】
収量:3.0g(14.1mmol)[収率:71
%] 元素分析(分子式:C12H8 N2 O2
、分子量:212.208)
炭素 水素 窒
素 計算値 67.92% 3.80% 13
.20% 分析値 67.34% 3.88%
13.17%
%] 元素分析(分子式:C12H8 N2 O2
、分子量:212.208)
炭素 水素 窒
素 計算値 67.92% 3.80% 13
.20% 分析値 67.34% 3.88%
13.17%
【0048】[合成例10] 4−(
5−ニトロフルフリリデン)−3−メチル−5−イソオ
キサゾロンの合成
5−ニトロフルフリリデン)−3−メチル−5−イソオ
キサゾロンの合成
【0049】5−ニトロフルラール2
.8g(20mmol)を用い、合成例1と同様の操作
により、目的の4−(5−ニトロフルフリリデン)−3
−メチル−5−イソオキサゾロン(化合物10)を得た
。
.8g(20mmol)を用い、合成例1と同様の操作
により、目的の4−(5−ニトロフルフリリデン)−3
−メチル−5−イソオキサゾロン(化合物10)を得た
。
【0050】
収量:3.0g(13.5mmol)[収率:68
%] 元素分析(分子式:C9 H6 N2 O5
、分子量:222.156)
炭素 水素 窒
素 計算値 48.66% 2.72% 12
.61% 分析値 48.42% 2.80%
12.28%
%] 元素分析(分子式:C9 H6 N2 O5
、分子量:222.156)
炭素 水素 窒
素 計算値 48.66% 2.72% 12
.61% 分析値 48.42% 2.80%
12.28%
【0051】[合成例11] 4−(
4−ヒドロキシベンジリデン)−3−フェニル−5−イ
ソオキサゾロンの合成
4−ヒドロキシベンジリデン)−3−フェニル−5−イ
ソオキサゾロンの合成
【0052】4−ヒドロキシベンズアルデヒド2.4g
(20mmol)、ベンゾイル酢酸エチル3.5ml(
3.9g、20mmol)、塩酸ヒドロキシルアミン1
.5g(22mmol)にエタノール20ml及びピペ
リジン1.0ml(0.86g、10mmol)を加え
、2時間加熱還流した。減圧濃縮後、析出した結晶をろ
取し、水でよく洗浄した。粗結晶をエタノール、塩化メ
チレンなどの溶媒から再結晶し、目的の4−(4−ヒド
ロキシベンジリデン)−3−フェニル−5−イソオキサ
ゾロン(化合物11)を得た。
(20mmol)、ベンゾイル酢酸エチル3.5ml(
3.9g、20mmol)、塩酸ヒドロキシルアミン1
.5g(22mmol)にエタノール20ml及びピペ
リジン1.0ml(0.86g、10mmol)を加え
、2時間加熱還流した。減圧濃縮後、析出した結晶をろ
取し、水でよく洗浄した。粗結晶をエタノール、塩化メ
チレンなどの溶媒から再結晶し、目的の4−(4−ヒド
ロキシベンジリデン)−3−フェニル−5−イソオキサ
ゾロン(化合物11)を得た。
【0053】
収量:3.5g(13.2mmol)[収率:67
%] 元素分析(分子式:C16H11NO3 、分
子量:265.268)
炭素 水素 窒素 計
算値 72.45% 4.18% 5.28%
分析値 72.81% 4.23% 5.44
%
%] 元素分析(分子式:C16H11NO3 、分
子量:265.268)
炭素 水素 窒素 計
算値 72.45% 4.18% 5.28%
分析値 72.81% 4.23% 5.44
%
【0054】[合成例12] 4−(3,4−メチ
レンジオキシベンジリデン)−3−フェニル−5−イソ
オキサゾロンの合成
レンジオキシベンジリデン)−3−フェニル−5−イソ
オキサゾロンの合成
【0055】合成例11で用いた4−ヒドロキシベンズ
アルデヒドの代わりに、ピペロナール3.0g(20m
mol)を用い、合成例11と同様の操作により、目的
の4−(3,4−メチレンジオキシベンジリデン)−3
−フェニル−5−イソオキサゾロン(化合物12)を得
た。
アルデヒドの代わりに、ピペロナール3.0g(20m
mol)を用い、合成例11と同様の操作により、目的
の4−(3,4−メチレンジオキシベンジリデン)−3
−フェニル−5−イソオキサゾロン(化合物12)を得
た。
【0056】
収量:5.2g(17.7mmol)[収率:89
%] 元素分析(分子式:C17H11NO4 、分
子量:293.278)
炭素 水素 窒素 計
算値 69.62% 3.78% 4.78%
分析値 70.00% 3.84% 5.04
%
%] 元素分析(分子式:C17H11NO4 、分
子量:293.278)
炭素 水素 窒素 計
算値 69.62% 3.78% 4.78%
分析値 70.00% 3.84% 5.04
%
【0057】[合成例13] 4−ベンジリデン−
3−(4−メトキシフェニル)−5−イソオキサゾロン
の合成
3−(4−メトキシフェニル)−5−イソオキサゾロン
の合成
【0058】合成例11で用いた4−ヒドロキシベンズ
アルデヒド及びベンゾイル酢酸エチルの代わりに、ベン
ズアルデヒド2.0ml(2.1g、20mmol)、
及び4−メトキシベンゾイル酢酸エチル4.5g(20
mmol)を用い、合成例11と同様の操作により、目
的の4−ベンジリデン−3−(4−メトキシフェニル)
−5−イソオキサゾロン(化合物13)を得た。
アルデヒド及びベンゾイル酢酸エチルの代わりに、ベン
ズアルデヒド2.0ml(2.1g、20mmol)、
及び4−メトキシベンゾイル酢酸エチル4.5g(20
mmol)を用い、合成例11と同様の操作により、目
的の4−ベンジリデン−3−(4−メトキシフェニル)
−5−イソオキサゾロン(化合物13)を得た。
【0059】
収量:4.8g(17.2mmol)[収率:86
%] 元素分析(分子式:C17H13NO3 、分
子量:279.295)
炭素 水素 窒素 計
算値 73.11% 4.69% 5.02%
分析値 73.01% 4.72% 4.98
%
%] 元素分析(分子式:C17H13NO3 、分
子量:279.295)
炭素 水素 窒素 計
算値 73.11% 4.69% 5.02%
分析値 73.01% 4.72% 4.98
%
【0060】[合成例14] 4−ベンジリデン−
3−(4−ニトロフェニル)−5−イソオキサゾロンの
合成
3−(4−ニトロフェニル)−5−イソオキサゾロンの
合成
【0061】合成例11で用いた4−ヒドロキシベ
ンズアルデヒド及びベンゾイル酢酸エチルの代わりに、
ベンズアルデヒド2.0ml(2.1g、20mmol
)、及び4−ニトロベンゾイル酢酸エチル4.8g(2
0mmol)を用い、合成例11と同様の操作により、
目的の4−ベンジリデン−3−(4−ニトロフェニル)
−5−イソオキサゾロン(化合物14)を得た。
ンズアルデヒド及びベンゾイル酢酸エチルの代わりに、
ベンズアルデヒド2.0ml(2.1g、20mmol
)、及び4−ニトロベンゾイル酢酸エチル4.8g(2
0mmol)を用い、合成例11と同様の操作により、
目的の4−ベンジリデン−3−(4−ニトロフェニル)
−5−イソオキサゾロン(化合物14)を得た。
【0062】
収量:4.7g(16.0mmol)[収率:80
%] 元素分析(分子式:C16H10N2 O4
、分子量:294.266)
炭素 水素 窒素
計算値 65.31% 3.43% 9.52
% 分析値 65.00% 3.50% 9.
40%
%] 元素分析(分子式:C16H10N2 O4
、分子量:294.266)
炭素 水素 窒素
計算値 65.31% 3.43% 9.52
% 分析値 65.00% 3.50% 9.
40%
【0063】[合成例15] 4−イソプロピ
リデン−3−(4−ニトロフェニル)−5−イソオキサ
ゾロンの合成
リデン−3−(4−ニトロフェニル)−5−イソオキサ
ゾロンの合成
【0064】合成例11で用いた4−ヒドロキシベンズ
アルデヒド及びベンゾイル酢酸エチルの代わりに、アセ
トン1.5ml(1.2g、20mmol)、及び4−
ニトロベンゾイル酢酸エチル4.8g(20mmol)
を用い、合成例11と同様の操作により、目的の4−イ
ソプロピリデン−3−(4−ニトロフェニル)−5−イ
ソオキサゾロン(化合物15)を得た。
アルデヒド及びベンゾイル酢酸エチルの代わりに、アセ
トン1.5ml(1.2g、20mmol)、及び4−
ニトロベンゾイル酢酸エチル4.8g(20mmol)
を用い、合成例11と同様の操作により、目的の4−イ
ソプロピリデン−3−(4−ニトロフェニル)−5−イ
ソオキサゾロン(化合物15)を得た。
【0065】
収量:2.7g(11.0mmol)[収率:55
%] 元素分析(分子式:C12H10N2 O4
、分子量:246.222)
炭素 水素 窒
素 計算値 58.54% 4.09% 11
.38% 分析値 58.42% 4.00%
11.50%
%] 元素分析(分子式:C12H10N2 O4
、分子量:246.222)
炭素 水素 窒
素 計算値 58.54% 4.09% 11
.38% 分析値 58.42% 4.00%
11.50%
【0066】[合成例16] 4−(
4−ヒドロキシベンジリデン)−5−メチル−2−フェ
ニル−3−ピラゾロンの合成
4−ヒドロキシベンジリデン)−5−メチル−2−フェ
ニル−3−ピラゾロンの合成
【0067】4−ヒドロキシベンズアルデヒド2.4g
(20mmol)、5−メチル−2−フェニル−3−ピ
ラゾロン3.5g(20mmol)にエタノール20m
l及びピペリジン1.0ml(0.86g、10mmo
l)を加え、2時間加熱還流した。減圧濃縮後、析出し
た結晶をろ取し、水でよく洗浄した。粗結晶をエタノー
ル、塩化メチレンなどの溶媒から再結晶し、目的の4−
(4−ヒドロキシベンジリデン)−5−メチル−2−フ
ェニル−3−ピラゾロン(化合物16)を得た。
(20mmol)、5−メチル−2−フェニル−3−ピ
ラゾロン3.5g(20mmol)にエタノール20m
l及びピペリジン1.0ml(0.86g、10mmo
l)を加え、2時間加熱還流した。減圧濃縮後、析出し
た結晶をろ取し、水でよく洗浄した。粗結晶をエタノー
ル、塩化メチレンなどの溶媒から再結晶し、目的の4−
(4−ヒドロキシベンジリデン)−5−メチル−2−フ
ェニル−3−ピラゾロン(化合物16)を得た。
【0068】
収量:3.9g(14.0mmol)[収率:71
%] 元素分析(分子式:C17H14N2 O2
、分子量:278.311)
炭素 水素 窒
素 計算値 73.37% 5.07% 10
.07% 分析値 73.07% 5.00%
9.77%
%] 元素分析(分子式:C17H14N2 O2
、分子量:278.311)
炭素 水素 窒
素 計算値 73.37% 5.07% 10
.07% 分析値 73.07% 5.00%
9.77%
【0069】[合成例17] 4−
(4−メトキシベンジリデン)−5−メチル−2−フェ
ニル−3−ピラゾロンの合成
(4−メトキシベンジリデン)−5−メチル−2−フェ
ニル−3−ピラゾロンの合成
【0070】合成例16で用いた4−ヒドロキシベンズ
アルデヒドの代わりに、4−アニスアルデヒド2.5m
l(2.8g、21mmol)を用い、合成例16と同
様の操作により、目的の4−(4−メトキシベンジリデ
ン)−5−メチル−2−フェニル−3−ピラゾロン(化
合物17)を得た。
アルデヒドの代わりに、4−アニスアルデヒド2.5m
l(2.8g、21mmol)を用い、合成例16と同
様の操作により、目的の4−(4−メトキシベンジリデ
ン)−5−メチル−2−フェニル−3−ピラゾロン(化
合物17)を得た。
【0071】
収量:4.8g(16.4mmol)[収率:80
%] 元素分析(分子式:C18H16N2 O2
、分子量:292.338)
炭素 水素 窒素
計算値 73.95% 5.52% 9.58
% 分析値 74.40% 5.58% 9.
52%
%] 元素分析(分子式:C18H16N2 O2
、分子量:292.338)
炭素 水素 窒素
計算値 73.95% 5.52% 9.58
% 分析値 74.40% 5.58% 9.
52%
【0072】[合成例18] 4−(3,4−
メチレンジオキシベンジリデン)−5−メチル−2−フ
ェニル−3−ピラゾロンの合成
メチレンジオキシベンジリデン)−5−メチル−2−フ
ェニル−3−ピラゾロンの合成
【0073】合成例16で用いた4−ヒドロキシベンズ
アルデヒドの代わりに、ピペロナール3.0g(20m
mol)を用い、合成例16と同様の操作により、目的
の4−(3,4−メチレンジオキシベンジリデン)−5
−メチル−2−フェニル−3−ピラゾロン(化合物18
)を得た。
アルデヒドの代わりに、ピペロナール3.0g(20m
mol)を用い、合成例16と同様の操作により、目的
の4−(3,4−メチレンジオキシベンジリデン)−5
−メチル−2−フェニル−3−ピラゾロン(化合物18
)を得た。
【0074】
収量:5.4g(17.6mmol)[収率:88
%] 元素分析(分子式:C18H14N2 O3
、分子量:306.321)
炭素 水素 窒素
計算値 70.58% 4.61% 9.15
% 分析値 70.86% 4.64% 9.
05%
%] 元素分析(分子式:C18H14N2 O3
、分子量:306.321)
炭素 水素 窒素
計算値 70.58% 4.61% 9.15
% 分析値 70.86% 4.64% 9.
05%
【0075】[合成例19] 4−(4−メチ
ルチオベンジリデン)−5−メチル−2−フェニル−3
−ピラゾロンの合成
ルチオベンジリデン)−5−メチル−2−フェニル−3
−ピラゾロンの合成
【0076】合成例16で用いた4−ヒドロキシベンズ
アルデヒドの代わりに、4−メチルチオベンズアルデヒ
ド3.0g(20mmol)を用い、合成例16と同様
の操作により、目的の4−(3,4−メチルチオベンジ
リデン)−5−メチル−2−フェニル−3−ピラゾロン
(化合物19)を得た。
アルデヒドの代わりに、4−メチルチオベンズアルデヒ
ド3.0g(20mmol)を用い、合成例16と同様
の操作により、目的の4−(3,4−メチルチオベンジ
リデン)−5−メチル−2−フェニル−3−ピラゾロン
(化合物19)を得た。
【0077】
収量:5.0g(16.2mmol)[収率:82
%] 元素分析(分子式:C18H16N2 OS、
分子量:308.399)
炭素 水素 窒素
硫黄 計算値 70.10%
5.23% 9.08% 10.40% 分析値
69.96% 5.19% 9.19% 1
0.27%
%] 元素分析(分子式:C18H16N2 OS、
分子量:308.399)
炭素 水素 窒素
硫黄 計算値 70.10%
5.23% 9.08% 10.40% 分析値
69.96% 5.19% 9.19% 1
0.27%
【0078】[合成例20] 4−(3−
インドリルメチレン)−5−メチル−2−フェニル−3
−ピラゾロンの合成
インドリルメチレン)−5−メチル−2−フェニル−3
−ピラゾロンの合成
【0079】合成例16で用いた4−ヒドロキシベンズ
アルデヒドの代わりに、3−インドールカルバルデヒド
2.9g(20mmol)を用い、合成例16と同様の
操作により、目的の4−(3インドリルメチレン)−5
−メチル−2−フェニル−3−ピラゾロン(化合物20
)を得た。
アルデヒドの代わりに、3−インドールカルバルデヒド
2.9g(20mmol)を用い、合成例16と同様の
操作により、目的の4−(3インドリルメチレン)−5
−メチル−2−フェニル−3−ピラゾロン(化合物20
)を得た。
【0080】
収量:4.3g(14.3mmol)[収率:71
%] 元素分析(分子式:C19H15N3 O、分
子量:301.349)
炭素 水素 窒素
計算値 75.73% 5.02% 13.9
4% 分析値 76.03% 5.07% 1
3.77%
%] 元素分析(分子式:C19H15N3 O、分
子量:301.349)
炭素 水素 窒素
計算値 75.73% 5.02% 13.9
4% 分析値 76.03% 5.07% 1
3.77%
【0081】(b)非線形光学特性の測定
【
0082】含窒素複素環状化合物1〜20、並びに比較
例1として尿素及び比較例2としてMNA(2−メチル
−4−ニトロアニリン)について、二次非線形光学特性
をいわゆる粉末法により調べた。
0082】含窒素複素環状化合物1〜20、並びに比較
例1として尿素及び比較例2としてMNA(2−メチル
−4−ニトロアニリン)について、二次非線形光学特性
をいわゆる粉末法により調べた。
【0083】すなわち、各化合物の結晶粉末をメノウ乳
鉢で粉砕し、ふるいにより粒径を100〜150μmの
間にそろえた粉末を調製し、これをスライドガラスに挟
んだものを測定用試料とした。これら測定用試料に対し
、Nd−YAGレーザーの基本波(波長=1.064μ
m)を照射し、反射光中の二次高調波(SHG)成分の
強度を測定した。各試料の二次高調波強度を尿素(比較
例1)粉末の二次高調波強度で規格化した。これらの測
定結果を表2及び表3に示す。なお、表2及び表3中、
含窒素複素環状化合物1〜20はいずれも、一般式(1
)においてYがO原子であり、XがCR1R2で示され
るため、R1、R2、R及びZの組み合わせで表示して
いる。
鉢で粉砕し、ふるいにより粒径を100〜150μmの
間にそろえた粉末を調製し、これをスライドガラスに挟
んだものを測定用試料とした。これら測定用試料に対し
、Nd−YAGレーザーの基本波(波長=1.064μ
m)を照射し、反射光中の二次高調波(SHG)成分の
強度を測定した。各試料の二次高調波強度を尿素(比較
例1)粉末の二次高調波強度で規格化した。これらの測
定結果を表2及び表3に示す。なお、表2及び表3中、
含窒素複素環状化合物1〜20はいずれも、一般式(1
)においてYがO原子であり、XがCR1R2で示され
るため、R1、R2、R及びZの組み合わせで表示して
いる。
【0084】表2及び表3から明らかなように、含窒素
複素環状化合物1〜20は、比較例1の尿素に対して数
倍〜数十倍のSHGを発生している。このことから、本
発明の有機非線形光学材料は、優れた非線形性を有する
ことがわかる。
複素環状化合物1〜20は、比較例1の尿素に対して数
倍〜数十倍のSHGを発生している。このことから、本
発明の有機非線形光学材料は、優れた非線形性を有する
ことがわかる。
【0085】更に、実施例5、実施例14及び実施例1
7の含窒素複素環状化合物、並びに比較例2のMNAに
ついて、0.001Mエタノール溶液における可視−紫
外光の透過率を測定した。その結果を図1に示す。
7の含窒素複素環状化合物、並びに比較例2のMNAに
ついて、0.001Mエタノール溶液における可視−紫
外光の透過率を測定した。その結果を図1に示す。
【0086】図1から明らかなように、実施例5、実施
例14及び実施例17の含窒素複素環状化合物は、比較
例2のMNAに対して、その光吸収帯が低波長側に存在
し、青色波長域での光の透過性が高い。このことから、
本発明の有機非線形光学材料は、可視領域での光透過性
が良好であることがわかる。
例14及び実施例17の含窒素複素環状化合物は、比較
例2のMNAに対して、その光吸収帯が低波長側に存在
し、青色波長域での光の透過性が高い。このことから、
本発明の有機非線形光学材料は、可視領域での光透過性
が良好であることがわかる。
【0087】
【表1】
【0088】
【表2】
【0089】
【表3】
【0090】
【発明の効果】以上詳述したように本発明の有機非線形
光学材料は、極めて容易に合成でき、光吸収が比較的短
波長で青色光の透過率が高く、かつ優れた非線形を有し
倍波を効率的に発生できる。したがって、本発明の有機
非線形光学材料は、高調波発生をはじめとする高速光シ
ャッター、光双安定素子などの非線形現象を利用したオ
プトエレクトロニクスの分野に応用できるなど顕著な効
果を有する。
光学材料は、極めて容易に合成でき、光吸収が比較的短
波長で青色光の透過率が高く、かつ優れた非線形を有し
倍波を効率的に発生できる。したがって、本発明の有機
非線形光学材料は、高調波発生をはじめとする高速光シ
ャッター、光双安定素子などの非線形現象を利用したオ
プトエレクトロニクスの分野に応用できるなど顕著な効
果を有する。
【図1】本発明の実施例5、実施例14及び実施例17
のアシルアミド誘導体、並びに比較例2のMNAについ
て、0.001Mエタノール溶液における可視−紫外光
の透過率を示す図。
のアシルアミド誘導体、並びに比較例2のMNAについ
て、0.001Mエタノール溶液における可視−紫外光
の透過率を示す図。
Claims (1)
- 【請求項1】 下記一般式(1) 【化1】 (式中、 Xは、CR1R2基又はNR3基を示す。 Yは、O原子又はS原子を示す。 Zは、O原子又はNR4基を示す。 R、R1、R2、R3及びR4は、同一でも異なってい
てもよく、非置換もしくは置換されていてもよい芳香族
炭化水素基、複素環基、脂肪族炭化水素基、もしくは脂
環式炭化水素基、特性基、又は水素原子を示す。なお、
R1とR2とで炭化水素環又は複素環を形成していても
よい。)で表わされる含窒素複素環状化合物からなるこ
とを特徴とする有機非線形光学材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP981391A JPH04253039A (ja) | 1991-01-30 | 1991-01-30 | 有機非線形光学材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP981391A JPH04253039A (ja) | 1991-01-30 | 1991-01-30 | 有機非線形光学材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04253039A true JPH04253039A (ja) | 1992-09-08 |
Family
ID=11730609
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP981391A Pending JPH04253039A (ja) | 1991-01-30 | 1991-01-30 | 有機非線形光学材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04253039A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999026930A3 (de) * | 1997-11-21 | 1999-08-19 | Basf Ag | Benzylidenpyrazolone als herbizide |
| WO2006129583A1 (ja) * | 2005-05-30 | 2006-12-07 | Genecare Research Institute Co., Ltd. | ピラゾロン誘導体 |
| CN110644052A (zh) * | 2019-11-06 | 2020-01-03 | 天津理工大学 | 一种含羟基、甲基的3-异丙基异噁唑酮体系非线性光学晶体及其制法和用途 |
| CN110747512A (zh) * | 2019-12-20 | 2020-02-04 | 天津理工大学 | 一种含羟基的3-异丙基异噁唑酮体系非线性光学晶体及其制法和用途 |
-
1991
- 1991-01-30 JP JP981391A patent/JPH04253039A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999026930A3 (de) * | 1997-11-21 | 1999-08-19 | Basf Ag | Benzylidenpyrazolone als herbizide |
| WO2006129583A1 (ja) * | 2005-05-30 | 2006-12-07 | Genecare Research Institute Co., Ltd. | ピラゾロン誘導体 |
| JPWO2006129583A1 (ja) * | 2005-05-30 | 2009-01-08 | 株式会社ジーンケア研究所 | ピラゾロン誘導体 |
| CN110644052A (zh) * | 2019-11-06 | 2020-01-03 | 天津理工大学 | 一种含羟基、甲基的3-异丙基异噁唑酮体系非线性光学晶体及其制法和用途 |
| CN110747512A (zh) * | 2019-12-20 | 2020-02-04 | 天津理工大学 | 一种含羟基的3-异丙基异噁唑酮体系非线性光学晶体及其制法和用途 |
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