JPH04254403A - 窒化シリカ - Google Patents
窒化シリカInfo
- Publication number
- JPH04254403A JPH04254403A JP3257110A JP25711091A JPH04254403A JP H04254403 A JPH04254403 A JP H04254403A JP 3257110 A JP3257110 A JP 3257110A JP 25711091 A JP25711091 A JP 25711091A JP H04254403 A JPH04254403 A JP H04254403A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silica
- particles
- hydrogel
- temperature
- ammonia
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C253/00—Preparation of carboxylic acid nitriles
- C07C253/30—Preparation of carboxylic acid nitriles by reactions not involving the formation of cyano groups
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/46—Removing components of defined structure
- B01D53/54—Nitrogen compounds
- B01D53/56—Nitrogen oxides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
- B01J27/24—Nitrogen compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
- C01B21/068—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C7/00—Purification; Separation; Use of additives
- C07C7/20—Use of additives, e.g. for stabilisation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、窒化シリカ粒子の製造
方法、並びにクネーフェナーゲル反応および他の反応に
おける触媒としてのこれらシリカ粒子の使用に関するも
のである。
方法、並びにクネーフェナーゲル反応および他の反応に
おける触媒としてのこれらシリカ粒子の使用に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】米国特許第４，８８８，１５９号公報に
は、シリカを流動アンモニア含有ガスにより９５０℃〜
１３００℃の温度にて変換させるシリカの窒化方法が開
示されている。この公報は数種のシリカをアンモニアに
より変換しうることを記載しているが、さらにシリカゲ
ルの活性表面が１０倍も低下することを開示している。 今回、活性表面を損失するという欠点を持たずかつ崩壊
しないような窒化シリカ粒子を製造しうることが判明し
た。
は、シリカを流動アンモニア含有ガスにより９５０℃〜
１３００℃の温度にて変換させるシリカの窒化方法が開
示されている。この公報は数種のシリカをアンモニアに
より変換しうることを記載しているが、さらにシリカゲ
ルの活性表面が１０倍も低下することを開示している。 今回、活性表面を損失するという欠点を持たずかつ崩壊
しないような窒化シリカ粒子を製造しうることが判明し
た。
【０００３】
【発明の要点】本発明は、シリカ粒子を３００〜９００
℃の範囲の温度にてアンモニア含有ガスと反応させるこ
とを特徴とする窒化シリカ粒子の製造方法に関するもの
である。その表面が窒化されたシリカ粒子、特に直径約
０．５ｍｍもしくはそれ以上のシリカ球体は、特に（１
）塩基性の導入および（２）残留酸性の抑制によって改
変触媒特性を示す。本発明の方法においては、４５０〜
８５０℃の温度が好適に使用される。流動アンモニア含
有ガスの空間速度は毎時シリカ１ｋｇ当り０．１〜５０
Ｎｍ３である。
℃の範囲の温度にてアンモニア含有ガスと反応させるこ
とを特徴とする窒化シリカ粒子の製造方法に関するもの
である。その表面が窒化されたシリカ粒子、特に直径約
０．５ｍｍもしくはそれ以上のシリカ球体は、特に（１
）塩基性の導入および（２）残留酸性の抑制によって改
変触媒特性を示す。本発明の方法においては、４５０〜
８５０℃の温度が好適に使用される。流動アンモニア含
有ガスの空間速度は毎時シリカ１ｋｇ当り０．１〜５０
Ｎｍ３である。
【０００４】窒化すべきシリカ粒子は好ましくはシリカ
球体であって、崩壊せずかつ実用目的にはその表面積の
多くを保持する。外表面が窒化されて、表面に約０．５
〜約５重量％のＮを含有することができる。赤外分光光
度分析は、窒化シリカが≡Ｓｉ−ＮＨ２ 基と（≡Ｓｉ
）２−ＮＨ基とを有することを示した。
球体であって、崩壊せずかつ実用目的にはその表面積の
多くを保持する。外表面が窒化されて、表面に約０．５
〜約５重量％のＮを含有することができる。赤外分光光
度分析は、窒化シリカが≡Ｓｉ−ＮＨ２ 基と（≡Ｓｉ
）２−ＮＨ基とを有することを示した。
【０００５】シリカ粒子の製造方法は次の工程からなっ
ている：（ａ）アルカリ金属シリケートの水溶液を酸の
水溶液と混合することによりシリカヒドロゾルを作成し
、（ｂ）このヒドロゾルを液滴型に変換し、（ｃ）これ
ら液滴を空気中または水に対し混和性でない液体中で成
形してヒドロゲルを得、（ｄ）このヒドロゲルを乾燥す
る。この方法は、工程（ｂ）の後に硝酸アンモニウム水
溶液と接触させて陽イオン含有量を減少させることによ
り改変することができる。他の方法は、ヒドロゲル粒子
を部分乾燥させ、これらを８０〜３５０℃の温度にて熱
水処理にかけることからなっている。必要に応じ、乾燥
されたヒドロゲルを１０００℃まで、好ましくは８００
〜９５０℃の温度で焼成する。
ている：（ａ）アルカリ金属シリケートの水溶液を酸の
水溶液と混合することによりシリカヒドロゾルを作成し
、（ｂ）このヒドロゾルを液滴型に変換し、（ｃ）これ
ら液滴を空気中または水に対し混和性でない液体中で成
形してヒドロゲルを得、（ｄ）このヒドロゲルを乾燥す
る。この方法は、工程（ｂ）の後に硝酸アンモニウム水
溶液と接触させて陽イオン含有量を減少させることによ
り改変することができる。他の方法は、ヒドロゲル粒子
を部分乾燥させ、これらを８０〜３５０℃の温度にて熱
水処理にかけることからなっている。必要に応じ、乾燥
されたヒドロゲルを１０００℃まで、好ましくは８００
〜９５０℃の温度で焼成する。
【０００６】一般にシリカはシリカゲルとして知られ、
これは重合コロイド状シリカの部分脱水型である。仕上
りの安定生成物として、これは硬質粒状物質である。多
かれ少なかれ詳細なシリカの製造方法を以下に示す。シ
リカヒドロゾルは、アルカリ金属シリケートの水溶液を
酸の水溶液と混合することにより便利に製造される。適
するアルカリ金属シリケートはいわゆる水ガラスであっ
て、１〜０．２のナトリウム：珪素のモル比を有するＮ
ａ２Ｏ／ＳｉＯ２ に基づいている。適する酸は塩酸、
硝酸、特に硫酸からなっている。０．５〜１．２の範囲
の酸／水ガラスのモル比、特に０．６〜０．８の範囲の
酸／水ガラスのモル比を用いて良好な結果が得られた。 これら反応体は種々のモル濃度で使用することができる
。 好ましくは、水ガラスは０．５〜１．３のモル濃度で使
用され、酸はそれに応じて選択することができる。
これは重合コロイド状シリカの部分脱水型である。仕上
りの安定生成物として、これは硬質粒状物質である。多
かれ少なかれ詳細なシリカの製造方法を以下に示す。シ
リカヒドロゾルは、アルカリ金属シリケートの水溶液を
酸の水溶液と混合することにより便利に製造される。適
するアルカリ金属シリケートはいわゆる水ガラスであっ
て、１〜０．２のナトリウム：珪素のモル比を有するＮ
ａ２Ｏ／ＳｉＯ２ に基づいている。適する酸は塩酸、
硝酸、特に硫酸からなっている。０．５〜１．２の範囲
の酸／水ガラスのモル比、特に０．６〜０．８の範囲の
酸／水ガラスのモル比を用いて良好な結果が得られた。 これら反応体は種々のモル濃度で使用することができる
。 好ましくは、水ガラスは０．５〜１．３のモル濃度で使
用され、酸はそれに応じて選択することができる。
【０００７】混合法は、好適には出発溶液を別々に毛細
管を介しチューブ状混合室に導入することにより行なわ
れる。均一な粒子を作成するのに重要であると思われる
充分な混合は、適するノズル内およびその外部における
流動条件を慎重に調節して確立される。
管を介しチューブ状混合室に導入することにより行なわ
れる。均一な粒子を作成するのに重要であると思われる
充分な混合は、適するノズル内およびその外部における
流動条件を慎重に調節して確立される。
【０００８】シリカヒドロゾルが形成された後、これを
液滴型に変換し、その際出現する流れの分散を慎重に制
御して均一な所定寸法および均一な形状の粒子の形成を
可能にする。これは、たとえば油（たとえばパラフィン
油）のような水に対し不混和性または実質的に不混和性
である液体中でヒドロゾルをゲル化して達成することが
できる。これは、好適にはヒドロゾルを油が充填された
垂直配置チューブの上端部に導入して行なうことができ
る。比較的短いゾル−ゲル変換時間（たとえば１５秒間
以内）を用いて最良の結果が得られる。さらに液滴を空
気中に噴霧することも可能である。
液滴型に変換し、その際出現する流れの分散を慎重に制
御して均一な所定寸法および均一な形状の粒子の形成を
可能にする。これは、たとえば油（たとえばパラフィン
油）のような水に対し不混和性または実質的に不混和性
である液体中でヒドロゾルをゲル化して達成することが
できる。これは、好適にはヒドロゾルを油が充填された
垂直配置チューブの上端部に導入して行なうことができ
る。比較的短いゾル−ゲル変換時間（たとえば１５秒間
以内）を用いて最良の結果が得られる。さらに液滴を空
気中に噴霧することも可能である。
【０００９】このように得られたゲル化粒子は、たとえ
ば水のような水相または好ましくはたとえば硫酸ナトリ
ウムのような塩の水溶液、特にヒドロゲル粒子中に存在
すると実質的に同じ塩濃度を有する塩溶液に捕獲される
。次いでヒドロゲル粒子を水相から、たとえば濾過もし
くは遠心分離によって分離する。このようにして得られ
たヒドロゲル粒子は多量の水を含有し、さらにシリカの
他に水溶性ナトリウム塩および化学結合したナトリウム
イオンを含有する。
ば水のような水相または好ましくはたとえば硫酸ナトリ
ウムのような塩の水溶液、特にヒドロゲル粒子中に存在
すると実質的に同じ塩濃度を有する塩溶液に捕獲される
。次いでヒドロゲル粒子を水相から、たとえば濾過もし
くは遠心分離によって分離する。このようにして得られ
たヒドロゲル粒子は多量の水を含有し、さらにシリカの
他に水溶性ナトリウム塩および化学結合したナトリウム
イオンを含有する。
【００１０】種々な寸法および形状のシリカ粒子を使用
することが了解されよう。たとえば高い固有強度、およ
び固定床もしくは移動床接触反応で使用した際に実質的
に微細物が形成しないこと、並びに最適な移動特性のよ
うな多数の有利な性質を兼備したシリカ球体が特に適し
ている。
することが了解されよう。たとえば高い固有強度、およ
び固定床もしくは移動床接触反応で使用した際に実質的
に微細物が形成しないこと、並びに最適な移動特性のよ
うな多数の有利な性質を兼備したシリカ球体が特に適し
ている。
【００１１】さらにシリカは、ヒドロゲル粒子を部分的
に予備乾燥すると共にこれら粒子を熱水処理して作成す
ることもできる。ヒドロゲル中に存在する水の量を、用
いる温度だけでなく熱水処理前の部分乾燥粒子に残留す
る水の量に関しても極めて慎重に減少させれば、純粋か
つ強力なシリカ粒子を使用することができる。ヒドロゲ
ル粒子から好適に除去される水の量は好ましくはかなり
狭い範囲、たとえばヒドロゲル中に最初に存在する水の
量に対し計算して４５〜８５重量％の範囲とすべきであ
る。予備乾燥粒子中に残留する水の量が予備乾燥粒子の
全重量に対し計算して１２〜７０重量％、特に３０〜５
０重量％の範囲であれば、極めて良好な結果が得られる
と判明した。
に予備乾燥すると共にこれら粒子を熱水処理して作成す
ることもできる。ヒドロゲル中に存在する水の量を、用
いる温度だけでなく熱水処理前の部分乾燥粒子に残留す
る水の量に関しても極めて慎重に減少させれば、純粋か
つ強力なシリカ粒子を使用することができる。ヒドロゲ
ル粒子から好適に除去される水の量は好ましくはかなり
狭い範囲、たとえばヒドロゲル中に最初に存在する水の
量に対し計算して４５〜８５重量％の範囲とすべきであ
る。予備乾燥粒子中に残留する水の量が予備乾燥粒子の
全重量に対し計算して１２〜７０重量％、特に３０〜５
０重量％の範囲であれば、極めて良好な結果が得られる
と判明した。
【００１２】部分乾燥は便利にはヒドロゲル粒子上に空
気を一定温度にて或いは徐々に上昇する温度にて吹込む
ことにより行なわれ、ただし少量のヒドロゲル粒子でさ
え完全に乾燥しないようにする。室温〜２５０℃の範囲
の温度を使用することができ、７０〜１８０℃の範囲の
温度が好適である。部分乾燥シリカ粒子を液体の水で高
められた温度にて処理することにより熱水処理を行なう
場合、一般に５０〜３７４℃の処理温度が選択される。 好適処理温度は８０〜３５０℃、特に１００〜３００℃
である。１００℃より高い処理温度を使用する場合、処
理は自生圧力下に密閉容器内で行なわねばならない。処
理時間は一般に１５分間〜２４時間の範囲である。加え
るべき液体の水の容積は、好ましくは処理の際に部分乾
燥シリカ粒子が完全に水で包囲されるよう選択される。 熱水処理に関する詳細は、さらにヨーロッパ特許第６７
４５９号公報に見ることができる。
気を一定温度にて或いは徐々に上昇する温度にて吹込む
ことにより行なわれ、ただし少量のヒドロゲル粒子でさ
え完全に乾燥しないようにする。室温〜２５０℃の範囲
の温度を使用することができ、７０〜１８０℃の範囲の
温度が好適である。部分乾燥シリカ粒子を液体の水で高
められた温度にて処理することにより熱水処理を行なう
場合、一般に５０〜３７４℃の処理温度が選択される。 好適処理温度は８０〜３５０℃、特に１００〜３００℃
である。１００℃より高い処理温度を使用する場合、処
理は自生圧力下に密閉容器内で行なわねばならない。処
理時間は一般に１５分間〜２４時間の範囲である。加え
るべき液体の水の容積は、好ましくは処理の際に部分乾
燥シリカ粒子が完全に水で包囲されるよう選択される。 熱水処理に関する詳細は、さらにヨーロッパ特許第６７
４５９号公報に見ることができる。
【００１３】熱水処理に続き、シリカ粒子の陽イオン含
有量を乾燥材料に対し計算して１０重量％未満、好まし
くは５重量％未満に減少させることができる。一般に、
存在する陽イオンはヒドロゾルの形成に際し水ガラス成
分から生ずるナトリウムイオンである。さらに陽イオン
は、熱水処理を容易化させるべく添加したので存在する
こともできる。陽イオンの量の減少は、便利にはシリカ
粒子を水で１回もしくは数回洗浄して濃度を所望レベル
まで減少させることにより行なわれる。さらにアンモニ
ウム塩（たとえば硝酸アンモニウム）の水溶液が、シリ
カ粒子の所望の低アルカリ金属含有量に達するよう使用
される。シリカ粒子に結合した全ての陽イオンを置換し
たアンモニウムイオンはその後の乾燥および焼成処理に
際し分解して、最終生成物は所望量の陽イオンを含有す
ることに注目すべきである。
有量を乾燥材料に対し計算して１０重量％未満、好まし
くは５重量％未満に減少させることができる。一般に、
存在する陽イオンはヒドロゾルの形成に際し水ガラス成
分から生ずるナトリウムイオンである。さらに陽イオン
は、熱水処理を容易化させるべく添加したので存在する
こともできる。陽イオンの量の減少は、便利にはシリカ
粒子を水で１回もしくは数回洗浄して濃度を所望レベル
まで減少させることにより行なわれる。さらにアンモニ
ウム塩（たとえば硝酸アンモニウム）の水溶液が、シリ
カ粒子の所望の低アルカリ金属含有量に達するよう使用
される。シリカ粒子に結合した全ての陽イオンを置換し
たアンモニウムイオンはその後の乾燥および焼成処理に
際し分解して、最終生成物は所望量の陽イオンを含有す
ることに注目すべきである。
【００１４】本発明によれば、窒化シリカは、成形され
た高品質のシリカ材料を製造するための出発物質として
或いは触媒機能する金属として或いは触媒として使用す
ることができる。本発明の方法により製造された窒化シ
リカは、ブテン−１からブテン−２への二重結合異性化
に関し不活性な性質を示す。これら生成物は、したがっ
て化学処理工業における多数の反応につきキャリヤとし
て極めて適していると思われる。触媒キャリヤ材料にお
いては、それ自身活性を持たないことが極めて望ましい
。窒化シリカはクネーフェナーゲル縮合における触媒活
性により示されるように、塩基性触媒としても使用する
ことができる。
た高品質のシリカ材料を製造するための出発物質として
或いは触媒機能する金属として或いは触媒として使用す
ることができる。本発明の方法により製造された窒化シ
リカは、ブテン−１からブテン−２への二重結合異性化
に関し不活性な性質を示す。これら生成物は、したがっ
て化学処理工業における多数の反応につきキャリヤとし
て極めて適していると思われる。触媒キャリヤ材料にお
いては、それ自身活性を持たないことが極めて望ましい
。窒化シリカはクネーフェナーゲル縮合における触媒活
性により示されるように、塩基性触媒としても使用する
ことができる。
【００１５】窒化シリカは窒素酸化物（ＮＯ、ＮＯ２
、ＮＯＸ ）を含有するガス流から窒素酸化物を除去す
る方法に使用することができ、高められた温度にてガス
流を窒化シリカ粒子と接触させる。好適には、温度は１
００〜５００℃の範囲で選択される。この方法において
、窒化シリカはＮＨ３ を放出し、これはＮＯＸ と反
応してＮ２ およびＨ２ Ｏを生成する。
、ＮＯＸ ）を含有するガス流から窒素酸化物を除去す
る方法に使用することができ、高められた温度にてガス
流を窒化シリカ粒子と接触させる。好適には、温度は１
００〜５００℃の範囲で選択される。この方法において
、窒化シリカはＮＨ３ を放出し、これはＮＯＸ と反
応してＮ２ およびＨ２ Ｏを生成する。
【００１６】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに説明する
。 実施例１ １．５ｍｍの平均直径を有し、３１８ｍ２／ｇの表面積
と１．６６ｍｌ／ｇの気孔容積と３４ｎｍの平均孔径と
を有する２０ｇのシリカ球体を、石英ウールの２個のプ
ラグ間における石英反応チューブ（内径３５ｍｍ）に入
れた。石英チューブを水平管状炉に入れた。先ず最初に
シリカ球体を処理して、燃焼により炭化水素汚染物を除
去した。 この処理は、球体を５℃／ｍｉｎ にて５００℃まで純
酸素の流れ（１５Ｎｌ／ｈ）中で加熱すると共に、この
温度を２時間にわたり維持し、さらに球体を室温まで冷
却させることからなっている。次いで、球体を窒素によ
り１時間フラッシュした。球体をアンモニア流（３０Ｎ
ｌ／ｈ）の下で５℃／ｍｉｎ の速度で所望濃度（５０
０℃または８００℃）まで加熱すると共にこの温度を４
時間維持することにより球体の窒化を行なった。その後
、アンモニア流を乾燥窒素の流れ（１５Ｎｌ／ｈ）で置
換し、球体を室温まで冷却した。Ｘ線光電子分光光度法
が示したところでは、５００℃および８００℃で作成さ
れたシリカは表面にそれぞれ０．８重量％および１．２
重量％の窒素を含有した。８００℃にて窒化した後の表
面積は２７６ｍ２／ｇであった。
。 実施例１ １．５ｍｍの平均直径を有し、３１８ｍ２／ｇの表面積
と１．６６ｍｌ／ｇの気孔容積と３４ｎｍの平均孔径と
を有する２０ｇのシリカ球体を、石英ウールの２個のプ
ラグ間における石英反応チューブ（内径３５ｍｍ）に入
れた。石英チューブを水平管状炉に入れた。先ず最初に
シリカ球体を処理して、燃焼により炭化水素汚染物を除
去した。 この処理は、球体を５℃／ｍｉｎ にて５００℃まで純
酸素の流れ（１５Ｎｌ／ｈ）中で加熱すると共に、この
温度を２時間にわたり維持し、さらに球体を室温まで冷
却させることからなっている。次いで、球体を窒素によ
り１時間フラッシュした。球体をアンモニア流（３０Ｎ
ｌ／ｈ）の下で５℃／ｍｉｎ の速度で所望濃度（５０
０℃または８００℃）まで加熱すると共にこの温度を４
時間維持することにより球体の窒化を行なった。その後
、アンモニア流を乾燥窒素の流れ（１５Ｎｌ／ｈ）で置
換し、球体を室温まで冷却した。Ｘ線光電子分光光度法
が示したところでは、５００℃および８００℃で作成さ
れたシリカは表面にそれぞれ０．８重量％および１．２
重量％の窒素を含有した。８００℃にて窒化した後の表
面積は２７６ｍ２／ｇであった。
【００１７】実施例２
それぞれ０．２ｇのシリカ球体を５００℃および８００
℃にて実施例１の方法により窒化し、これらを攪拌しな
がら５０℃にて２５ｇのトルエンに懸濁させた。０．４
２４ｇ（０．４ミリモル）のベンズアルデヒドと０．４
５６ｇ（０．４ミリモル）のシアノ酢酸エチルとを懸濁
物に添加した。定期的に分析用の試料を採取して、気液
クロマトグラフィーにより変換を監視した。４時間の後
、反応体の５８％および８１％がそれぞれシリカ試料を
用いて変換された。１６時間後、反応体の８５％および
９５％がそれぞれシリカ球体を用いて変換された。
℃にて実施例１の方法により窒化し、これらを攪拌しな
がら５０℃にて２５ｇのトルエンに懸濁させた。０．４
２４ｇ（０．４ミリモル）のベンズアルデヒドと０．４
５６ｇ（０．４ミリモル）のシアノ酢酸エチルとを懸濁
物に添加した。定期的に分析用の試料を採取して、気液
クロマトグラフィーにより変換を監視した。４時間の後
、反応体の５８％および８１％がそれぞれシリカ試料を
用いて変換された。１６時間後、反応体の８５％および
９５％がそれぞれシリカ球体を用いて変換された。
【００１８】比較例Ａ
ベンズアルデヒドとシアノ酢酸エチルとの同じ反応を実
施例２におけると同じ条件下で行なったが、ただしシリ
カ球体を窒化しなかった。変換は測定されなかった。
施例２におけると同じ条件下で行なったが、ただしシリ
カ球体を窒化しなかった。変換は測定されなかった。
【００１９】実施例３
触媒表面活性の測定を実施例１で作成した生成物の試料
につき行ない、その際ヘリウム中でブテン−１を使用し
、両者とも処理すべき試料０．５ｇにつき１時間当り５
リットルの流速を用いた。流出ガスをガスクロマトグラ
フィーによって監視した。測定は、４００℃にて触媒が
この温度に達した１時間後に行なった。これら環境下で
ブテン−２の熱力学平衡量は７８％であり、シリカゲル
（未窒化）は５８％の変換を示し、さらに２種の窒化シ
リカはそれぞれ１４％および１３％の変換を示した。 これは、窒化シリカ表面の比較的低い反応性を示してい
る。
につき行ない、その際ヘリウム中でブテン−１を使用し
、両者とも処理すべき試料０．５ｇにつき１時間当り５
リットルの流速を用いた。流出ガスをガスクロマトグラ
フィーによって監視した。測定は、４００℃にて触媒が
この温度に達した１時間後に行なった。これら環境下で
ブテン−２の熱力学平衡量は７８％であり、シリカゲル
（未窒化）は５８％の変換を示し、さらに２種の窒化シ
リカはそれぞれ１４％および１３％の変換を示した。 これは、窒化シリカ表面の比較的低い反応性を示してい
る。
Claims (10)
- 【請求項１】 シリカ粒子を３００〜９００℃の範囲
の温度にてアンモニア含有ガスと反応させることを特徴
とする窒化シリカ粒子の製造方法。 - 【請求項２】 温度が４５０〜８５０℃の範囲である
請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 アンモニア含有ガスが０．１〜５０Ｎ
ｍ３アンモニア／ｋｇシリカ／ｈｒ． の空間速度を有
する請求項１または２に記載の方法。 - 【請求項４】 シリカ球体を出発物質として使用する
請求項１に記載の方法。 - 【請求項５】 （ａ）アルカリ金属シリケートの水溶
液を酸の水溶液と混合してシリカヒドロゾルを得、（ｂ
）このヒドロゾルを液滴型に変換し、（ｃ）液滴を空気
中または水と混和しない液体中で成形してヒドロゲルを
得、（ｄ）このヒドロゲルを乾燥することによりシリカ
を作成する請求項４に記載の方法。 - 【請求項６】 ヒドロゲル粒子を部分乾燥すると共に
、８０〜３５０℃の温度にて熱水処理にかける請求項５
に記載の方法。 - 【請求項７】 ヒドロゲルの陽イオン含有量を、硝酸
アンモニウム水溶液での処理により減少させる請求項５
または６に記載の方法。 - 【請求項８】 窒素酸化物をこれら酸化物を含有する
ガス流から除去するため、高められた温度にてガス流を
窒化シリカ粒子と接触させる方法における、請求項１〜
７のいずれかに記載の方法により製造された窒化シリカ
粒子の使用。 - 【請求項９】 ベンズアルデヒドとエチルシアノアセ
テートとのクネーフェナーゲル縮合における触媒として
の、請求項１〜７のいずれかに記載の方法により製造さ
れた窒化シリカの使用。 - 【請求項１０】 オレフィン異性化を阻止するための
、請求項１〜７のいずれかに記載の方法により製造され
た窒化シリカの使用。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB909019953A GB9019953D0 (en) | 1990-09-12 | 1990-09-12 | Nitrided silica |
| GB9019953.0 | 1990-09-12 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04254403A true JPH04254403A (ja) | 1992-09-09 |
Family
ID=10682098
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3257110A Pending JPH04254403A (ja) | 1990-09-12 | 1991-09-10 | 窒化シリカ |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0479354B1 (ja) |
| JP (1) | JPH04254403A (ja) |
| DE (1) | DE69100995T2 (ja) |
| ES (1) | ES2047983T3 (ja) |
| GB (1) | GB9019953D0 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017518253A (ja) * | 2014-04-04 | 2017-07-06 | パリ シアンス エ レトゥル−カルチエ ラタンＰａｒｉｓ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ Ｅｔ Ｌｅｔｔｒｅｓ − Ｑｕａｒｔｉｅｒ Ｌａｔｉｎ | 透光性金属フッ化物セラミック |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ES2193823B1 (es) * | 2001-02-02 | 2005-03-16 | Universitat De Valencia (Estudi General) | Procedimiento de preparacion de oxinitruros mesoporosos ordenados, materiales asi obtenidos y sus usos. |
| CN100453459C (zh) * | 2004-04-27 | 2009-01-21 | 复旦大学 | 一种胺(氮)骨架杂化碱性微孔材料及其制备方法 |
| CN117756068B (zh) * | 2023-12-25 | 2026-03-10 | 浙江能鹏半导体材料有限责任公司 | 一种高纯高分散纳米氮化硅粉的制备方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS605016A (ja) * | 1983-06-10 | 1985-01-11 | デグ−サ・アクチエンゲゼルシヤフト | 高温処理により製造された二酸化ケイ素、その製造方法およびその用途 |
| JPH01278406A (ja) * | 1988-05-02 | 1989-11-08 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 針状晶窒化ケイ素の製造方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4053513A (en) * | 1977-01-19 | 1977-10-11 | Texaco Development Corporation | Barium nitride catalysts for the preparation of diamino-diphenylmethanes |
| NL8701065A (nl) * | 1987-05-06 | 1988-12-01 | Shell Int Research | Werkwijze voor de bereiding van silicium oxynitride bevattende produkten. |
| JPH01317200A (ja) * | 1988-06-16 | 1989-12-21 | S T K Ceramics Kenkyusho:Kk | 窒化珪素ウイスカーの製造方法 |
-
1990
- 1990-09-12 GB GB909019953A patent/GB9019953D0/en active Pending
-
1991
- 1991-09-10 JP JP3257110A patent/JPH04254403A/ja active Pending
- 1991-09-10 EP EP19910202317 patent/EP0479354B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-09-10 DE DE1991600995 patent/DE69100995T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-09-10 ES ES91202317T patent/ES2047983T3/es not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS605016A (ja) * | 1983-06-10 | 1985-01-11 | デグ−サ・アクチエンゲゼルシヤフト | 高温処理により製造された二酸化ケイ素、その製造方法およびその用途 |
| JPH01278406A (ja) * | 1988-05-02 | 1989-11-08 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 針状晶窒化ケイ素の製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017518253A (ja) * | 2014-04-04 | 2017-07-06 | パリ シアンス エ レトゥル−カルチエ ラタンＰａｒｉｓ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ Ｅｔ Ｌｅｔｔｒｅｓ − Ｑｕａｒｔｉｅｒ Ｌａｔｉｎ | 透光性金属フッ化物セラミック |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69100995D1 (de) | 1994-02-24 |
| ES2047983T3 (es) | 1994-03-01 |
| EP0479354A1 (en) | 1992-04-08 |
| DE69100995T2 (de) | 1994-05-05 |
| GB9019953D0 (en) | 1990-10-24 |
| EP0479354B1 (en) | 1994-01-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4640807A (en) | Process for the preparation of silica spheres | |
| EP1216092B1 (en) | Silicon-containing titanium dioxyde, method for preparing the same and catalytic compositions thereof | |
| JPH0424098B2 (ja) | ||
| US6251823B1 (en) | Production of spherical catalyst carrier | |
| US4108971A (en) | Method of manufacture of spherical alumina particles | |
| US4485190A (en) | Process for preparing an oxidation catalyst | |
| JPH02221119A (ja) | 改良された形態学的特徴を有する酸化第二セリウム及びその製造方法 | |
| SU1189327A3 (ru) | Катализатор дл получени 3-цианпиридина | |
| GB1584900A (en) | Production of cracking catalyst | |
| JPH04254403A (ja) | 窒化シリカ | |
| EP0309048B1 (en) | Silica extrudates | |
| US4284530A (en) | Novel support for catalysts | |
| US3059997A (en) | Method for preparing siliceous aerogels | |
| US3933991A (en) | Sulfuric acid contact process | |
| FI57061C (fi) | Foerfarande foer framstaellning av flytbaeddkatalysatorer foer oxidering av svaveldioxid | |
| US5372983A (en) | Preparation of catalysts and supports | |
| SU437264A1 (ru) | Способ получени катализатора дл окислени сернистого ангидрида | |
| US3520824A (en) | Method of preparing silica-alumina hydrosols | |
| JPH07138015A (ja) | シリカ微小球状粒子およびその製造方法 | |
| USRE29145E (en) | Catalyst for sulfuric acid contact process | |
| KR100203199B1 (ko) | 알루미노실리케이트 구형 담체의 제조방법 | |
| CN100443406C (zh) | 一种高纯度硅胶的制备方法 | |
| JP3730698B2 (ja) | シリカ−アルミナ複合酸化物 | |
| JPS62252378A (ja) | 多孔性シリカ担体の製造法 | |
| JPH0645453B2 (ja) | 球状シリカゲルの製造方法 |