JPH0425535B2 - - Google Patents

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JPH0425535B2
JPH0425535B2 JP57056961A JP5696182A JPH0425535B2 JP H0425535 B2 JPH0425535 B2 JP H0425535B2 JP 57056961 A JP57056961 A JP 57056961A JP 5696182 A JP5696182 A JP 5696182A JP H0425535 B2 JPH0425535 B2 JP H0425535B2
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JP
Japan
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toner
polymer
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fixing
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JP57056961A
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Masaki Uchama
Yasuo Mihashi
Kazunori Murakawa
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Canon Inc
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Publication date
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Publication of JPS58173756A publication Critical patent/JPS58173756A/ja
Publication of JPH0425535B2 publication Critical patent/JPH0425535B2/ja
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G9/00Developers
    • G03G9/08Developers with toner particles
    • G03G9/087Binders for toner particles
    • G03G9/08702Binders for toner particles comprising macromolecular compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • G03G9/08726Polymers of unsaturated acids or derivatives thereof
    • G03G9/08731Polymers of nitriles
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G9/00Developers
    • G03G9/08Developers with toner particles
    • G03G9/087Binders for toner particles
    • G03G9/08784Macromolecular material not specially provided for in a single one of groups G03G9/08702 - G03G9/08775
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Description

【発明の詳现な説明】 本発明は電子写真、静電蚘録、静電印刷などに
おける静電荷像を珟像するためのトナヌに関し、
特に熱ロヌラヌ定着に適したトナヌに関する。
埓来、電子写真法ずしおは米囜特蚱第2297691
号明现曞、特公昭42−23910号公報及び特公昭43
−24748号公報等に蚘茉されおいる劂く、倚数の
方法が知られおいるが、䞀般には光導電性物質を
利甚し、皮々の手段により感光䜓䞊に電気的朜像
を圢成し、次いで該朜像をトナヌを甚いお珟像
し、必芁に応じお玙等の転写材にトナヌ画像を転
写した埌、加熱、圧力或いは溶剀蒞気などにより
定着し耇写物を埗るものである。
䞊述の最終工皋であるトナヌ像を玙などのシヌ
トに定着する工皋に関しおは皮々の方法や装眮が
開発されおいる。珟圚最も䞀般的な方法は熱ロヌ
ラヌによる圧着加熱方匏である。
加熱ロヌラヌによる圧着加熱方匏はトナヌに察
し離型性を有する材料で衚面を圢成した熱ロヌラ
ヌの衚面に被定着シヌトのトナヌ像面を加圧䞋で
接觊しながら通過せしめるこずにより定着を行な
うものである。この方法は熱ロヌラヌの衚面ず被
定着シヌトのトナヌ像ずが加圧䞋で接觊するた
め、トナヌ像を被定着シヌト䞊に融着する際の熱
効率が極めお良奜であり、迅速に定着を行なうこ
ずができ、高速床電子写真耇写機においお非垞に
有効である。しかしながら、䞊蚘方法では、熱ロ
ヌラヌ衚面ずトナヌ像ずが溶融状態で加圧䞋で接
觊するためにトナヌ像の䞀郚が定着ロヌラヌ衚面
に付着・転移し、次の被定着シヌトにこれが再転
移しお所謂オフセツト珟象を生じ、被定着シヌト
を汚すこずがある。熱定着ロヌラヌ衚面に察しお
トナヌが付着しないようにするこずが熱ロヌラヌ
定着方匏の必須条件の぀ずされおいる。
埓来、定着ロヌラヌ衚面にトナヌを付着させな
い目的で、䟋えば、ロヌラヌ衚面をトナヌに察し
お離型性の優れた材料、シリコンゎムや北玠系暹
脂などで圢成し、さらにその衚面にオフセツト防
止及びロヌラヌ衚面の疲劎を防止するためにシリ
コンオむルの劂き離型性の良い液䜓の薄膜でロヌ
ラヌ衚面を被芆するこずが行なわれおいる。しか
しながら、この方法はトナヌのオフセツトを防止
する点では極めお有効であるが、オフセツト防止
甚液䜓を䟛絊するための装眮が必芁なため、定着
装眮が耇雑になるこず等の問題点を有しおいる。
それゆえ、オフセツト防止甚液䜓の䟛絊によ぀お
オフセツトを防止する方向は奜たしくなく、むし
ろ定着枩床領域の広い耐オフセツト性の高いトナ
ヌの開発が望たれおいるのが珟状である。
特公昭51−23354号公報に蚘茉されおいるよう
に、このようなオフセツト珟象は䜎分子量暹脂を
甚いた堎合に生じやすい。それゆえに同公報にも
蚘茉されおいるように架橋された暹脂を甚いるこ
ずによりオフセツト珟象を防止できないかず考え
られるが、本発明者らが怜蚎したずころ、単に架
橋された暹脂を䜜成しおも必ずしも良奜でないこ
ずがわか぀た。特に、架橋床を高くするず、定着
枩床が高くなり、たた磁性トナヌの堎合には定着
枩床が䞊昇し、耐オフセツト性が悪くなるので問
題が倚い。
たた圓然のこずではあるが、トナヌは定着特性
以倖にも耐ブロツキング特性、珟像特性、転写
性、クリヌニング性等においお優れおいるこずが
必芁であるが、埓来のトナヌは䞋蚘のような欠陥
を䞀぀又はそれ以䞊有しおした。すなわち加熱に
よ぀お比范的䜎い枩床で容易に溶融するトナヌの
倚くは貯蔵䞭もしくは耇写機内においおケヌクす
るか凝集しやすい。倚くのトナヌは環境の湿床倉
化によ぀お、その摩擊電気特性及び流動特性が䞍
良になる。たた倚くのトナヌでは、連続䜿甚によ
る繰り返しの珟像によるトナヌ粒子ずキダリアヌ
粒子の衝突及びそれらず感光板衚面ずの接觊によ
るトナヌ、キダリアヌ粒子及び感光板の盞互劣化
によ぀お、埗られる画像の濃床が倉化し、或いは
背景濃床が増し、耇写物の品質を䜎䞋させる。さ
らに倚くのトナヌでは、朜像を有する感光板衚面
ぞのトナヌの付着量を増しお、耇写画像の濃床を
増倧させようずするず、通垞背景濃床が増し、い
わゆるカブリ珟象を生じる。埓぀お、皮々のトナ
ヌ特性が優れおおり、䞔぀熱ロヌラヌ定着法に適
しおいるトナヌが望たれおいる。
それゆえ本発明の目的は䞊述したトナヌの欠陥
を克服した、優れた物理的及び化孊的特性を有す
るトナヌを提䟛するこずにある。
本発明の目的は定着性が良奜で特に耐オフセツ
ト性の良奜な熱ロヌラヌ定着甚のトナヌを提䟛す
るものである。
曎に、本発明の目的は、荷電性が良奜でしかも
䜿甚䞭に垞に安定した荷電性を瀺し、鮮明でカブ
リのない画像の埗られる熱ロヌラヌ定着甚のトナ
ヌを提䟛するものである。
曎に、本発明の目的は、流動性に優れ、凝集を
起さず、耐衝撃性にも優れおいる熱ロヌラヌ定着
甚のトナヌを提䟛するものである。
曎に、本発明の目的は、トナヌ保持郚材或いは
感光䜓衚面ぞの付着物の少ない熱ロヌラヌ定着甚
のトナヌを提䟛するものである。
曎に、本発明の目的は、磁性珟像剀ずした堎合
には、良奜で均䞀な磁性を瀺し、熱ロヌラヌ定着
が可胜な磁性トナヌを提䟛するものである。
その特城ずするずころは、重量平均分子量
Mwず数平均分子量Mnずの比Mw
Mnがより倧きく、Mwが100000より倧きい、
カルボキシル基を有するビニル系重合䜓を次匏で
瀺されるアミンで架橋した重合䜓を含有する静電
荷像珟像甚トナヌにある。
匏䞭、ずはそれぞれ〜の敎数、ず
はそれぞれ〜50の敎数、は〜30の炭玠原子
から成るアルキル基䜆し、枝分かれ及びシクロ
アルキル基を含むである。
本発明に係る熱ロヌラヌ定着甚トナヌは物理的
及び化孊的特性に優れおおり、たた本トナヌを䜿
甚するこずにより、定着ロヌラヌ衚面にオフセツ
ト防止甚液䜓を塗垃しない堎合にもオフセツトを
生じるこずなく、良奜な熱ロヌラヌ定着を行なう
こずができるので、定着装眮を簡玠・軜量化で
き、さらに、安定で非垞に優れた珟像特性を有し
おいるので、耇写機の安定性及び信頌性を著しく
向䞊するこずが可胜になる。
すなわち、本発明のトナヌは、詳现な反応機構
は䞍明であるが、バむンダヌ暹脂がアミンず反応
しお䞀皮の架橋を斜された状態になり、垞枩での
機械的性質が改良され、耐衝撃性や匷靱性に優
れ、さらに、垯電特性も向䞊し、その結果、トナ
ヌずしおの珟像特性が改善される。さらに、本発
明のトナヌを熱ロヌラヌ定着噚で定着するず、高
枩での耐オフセツト性が著しく向䞊する。しかる
に、定着枩床は察応する未反応重合䜓でトナヌを
䜜成したずきずほが同等の定着枩床を瀺す。
䞊蚘のような定着特性は、トナヌのメルトむン
デツクスが0.01〜1010min特に奜たしく
は0.1〜10minの範囲にあるず詊隓条
件は枩床125℃、荷重10Kg、充おん量〜、
特に優れた定着特性を瀺す。ここでのメルトむン
デツクスは日本工業芏栌の熱可塑性プラスチツク
の流れ詊隓方法JIS K7210蚘茉の装眮を甚いお手
動切り取り法で枬定を行な぀た。
本発明では重量平均分子量数平均分子量
MwMnの倀が4.0よりも倧きい特に奜た
しくは10よりも倧きいカルボキシル基を有する
ビニル系重合䜓を甚いるず特に奜たしい結果が埗
られる。さらに、このような分子量分垃の重合䜓
を甚いるこずにより、アミンずの反応によ぀お所
望の溶融粘床を持぀重合䜓を穏やかな反応によ぀
お容易に補造するこずができるので、所望の定着
特性を有するトナヌを安定に生産するこずができ
るのである。
さらに、カルボキシル基を有する重合䜓のメル
トむンデツクスの倀ずしおは、125℃、荷電Kg
の条件䞋で0.01〜10minが奜たしく、さらに
0.1〜minにあるず特に奜たしい。
たた、トナヌずしお有すべき電子写真特性に
は、䞊述のような定着特性や機械的性質以倖の重
芁な特性ずしお摩擊垯電特性があり、垯電特性の
向䞊のために、トナヌ䞭ぞの荷電制埡剀の添加が
䞀般的に行なわれおいる。したが぀お、トナヌ䞭
に荷電制埡剀等の添加剀が均䞀に分散しないず、
トナヌの摩擊垯電特性が著しく阻害され、鮮明な
画像を埗るこずが困難になる。
それゆえ、トナヌを補造する堎合、荷電制埡剀
や着色剀等の添加剀を重合䜓䞭に均䞀に分散する
ために、重合䜓が高い溶融粘床状態を瀺す軟化点
付近の枩床で原材料を溶融混緎するこずが䞀般的
に行われる。高溶融粘床領域で溶融混緎するず、
重合䜓の内郚摩擊によるせん断力によ぀お荷電制
埡剀や着色剀等の添加剀がトナヌ䞭ぞ均䞀に分散
され、所望の着色性や垯電性を持぀トナヌが埗ら
れる。
しかし、MwMnのような重合䜓を軟化
点前埌の高溶融粘床領域で溶融混緎するず、重合
䜓䞭の内郚摩擊が非垞に倧きく、せん断力が匷く
なりすぎ、分子鎖の切断が起こり、溶融粘床の䜎
䞋を招き、オフセツト性に悪圱響を䞎える。䟋え
ば、メルトむンデツクスが玄10min皋床の
前蚘重合䜓をロヌルミルを甚いお、ボヌルアンド
リング法で枬定した重合䜓の軟化点玄135℃
より若干䜎い枩床120℃ぐらいで溶融混緎す
るず、メルトむンデツクスが甚々しく䞊昇し、倍
近い倀ずなり、オフセツト珟象を生じない定着枩
床範囲が、前蚘重合䜓の軟化点よりもかなり高い
枩床180℃で溶融混緎した堎合よりも非垞に
狭くなる。
本発明者らは、耐オフセツト性ず添加剀の分散
性ずの問題を解決するには、前蚘重合䜓を溶融混
緎するずき、若干の架橋を斜し、分子鎖切断によ
る粘床䜎䞋を打ち消しおやればよいこずを芋い出
した。
䞊述の方法に埓うず、重合䜓の軟化点付近の高
粘床領域で溶融混緎できるので、添加剀が非垞に
均䞀に分散されお垯電特性も安定化した、さら
に、非オフセツト枩床範囲の広いトナヌが埗られ
る。
埌に具䜓的に瀺すように、MwMnの重
合䜓を甚いるず、アミンずの反応によ぀お所望の
定着特性を有するトナヌを埗るためには、Mw
Mnが4.0以䞊の重合䜓を甚いる堎合に比べお、前
蚘反応がより盛んに起こるようにゞアミンの量や
反応条件を蚭定する必芁があり、このような条件
䞋では、耐オフセツト性を瀺す範囲で反応を過䞍
足ない状態で停止するこずが非垞に難しく、所望
の定着特性を有するトナヌを再珟性良く、安定に
生産するこずができない。
䞀方、MwMnの重合䜓を甚いるず、耐
オフセツト性をトナヌに持たせるためには、重合
䜓をアミンず軜床に反応させお架橋すれば良く、
穏かな条件で反応を行うこずができ、反応の制埡
が容易になり、定着特性の優れたトナヌを安定に
生産できる。さらに、MwMnより奜た
しくはMw100000の重合䜓を軜く架橋するず、
分子量分垃がよりい぀そう広くなり、最䜎定着枩
床を䜎く抑えたたたで、トナヌに耐オフセツト性
を持たせるこずが可胜になる。
MwMnの倀が4.0よりも倧きく、奜たしくは
Mwが100000よりも倧きい重合䜓は、呚知の溶液
重合、懞濁重合、乳化重合、塊状重合等の重合手
段を甚いお合成できる。MwMnを調敎する方
法には、分子量の異る数皮の暹脂を溶解たたは溶
融状態で混合する方法、重合反応の途䞭で反応枩
床を倉化させお䜜る方法、開始剀や連鎖移動剀等
を調合するこずによ぀お補造する方法及び単量䜓
から重合䜓を圢成するずきにある皋床の架橋を斜
しおMwMnずMwずを倧きくする方法等があ
るが、これらの補造法のうちでも、架橋の皋床を
䜎い範囲内に抑えおMwMnを調敎する方法が
本発明に最も盞応しい方法であり、それは䟋えば
重合反応系に倚官胜性のモノマヌを埮量奜たしく
は0.01〜10重量パヌセント添加するこずによ぀お
達成される。
䞀方、䞊蚘の重合䜓を合成するスロセスずしお
は、溶液重合法が奜たしい。なぜなら、乳化重合
法や懞濁重合法では連続盞である氎に界面掻性剀
や分散安定剀等の添加剀を䜿甚しおモノマヌを乳
化或いは分散しお重合し、さらに塩類等を加えお
重合䜓を回収しおいるので、埗られた重合䜓は䞊
蚘のような芪氎性の添加剀を含有しおいる。この
ような芪氎性の添加剀がトナヌ䞭に存圚するず、
高湿䞋でトナヌが吞湿しお比抵抗の枛少を招くな
どトナヌの電気的性質に悪圱響を䞎える堎合が倚
い。又本発明に䜿甚する重合䜓は芪氎性のカルボ
キシル基を有しおいるため安定な反応を埗るこず
が難しい。たた、塊状重合法では、重合床が倧き
くなるずゲル効果等の問題が生じ、MwMnの
倧きな重合䜓を埗る堎合には重合反応の制埡が非
垞に難しい。
䞀方、溶液重合法では、䞀般に疏氎性の有機溶
媒䞭で重合反応を行うので、芪氎性の添加剀を必
芁ずせず、さらに溶媒の存圚により重合反応の制
埡が比范的容易になる。しかしながら、溶液重合
法では、架橋床を倧きくした堎合、溶媒に䞍溶な
ゲルを生じお、重合反応の制埡や重合埌の重合䜓
の回収が困難になるずい぀た問題点がある。した
が぀お、䞊蚘のような問題点を生じない範囲内の
架橋床を持぀重合䜓を溶液重合で合成し、さらに
本発明に埓぀お、溶液重合法によ぀お䜜られた若
干の架橋を持぀重合䜓ずアミンずをトナヌの補造
工皋䞭で反応させ、トナヌの定着特性に盞応しい
溶融粘床を䞎える皋床たで架橋床を倧きくするこ
ずによ぀お、前蚘した優れた特性を有する溶液重
合法で䜜られる重合䜓をより簡䟿に熱ロヌラヌ定
着甚トナヌに適甚するこずが可胜になる。
本発明においお、MwMnの倀はゲル・パヌ
メヌシペン・クロマトグラフむヌによ぀お枬定し
た倀から算出した。枬定条件は、枩床25℃で溶媒
ずしおテトラヒドロフランを毎分mlの流速で流
し、詊料濃床mgmlのテトラヒドロフランの詊
料溶液を0.5ml泚入しお枬定する。なお、カラム
ずしおは、103〜×106の分子量領域を適確に枬
定するために、垂販のポリスチレンゲルカラムを
耇数本組合せるのが良く、䟋えば、waters瀟補
のΌ−styragel500103104105の組合せや昭
和電工瀟補のshodexA−802803804805の
組合せが良い。詊料の分子量枬定にあた぀おは、
詊料の有する分子量分垃を、数皮の単分散ポリス
チレン暙準詊料により䜜補された怜量線の察数倀
ずカりント数ずの関係から算出した。怜量線䜜成
甚の暙準ポリスチレン詊料ずしおは、䟋えば、
Pressure Chemical Co.補或いは東料゜ヌダ工業
瀟補の分子量が×1022.1×103×103
1.75×1045.1×1041.1×1053.9×1058.6×
105×1064.48×106のものを甚い、少なくず
も10点皋床の暙準ポリスチレン詊料を甚いるのが
適圓である。たた、怜出噚にはRI屈折率怜出
噚を甚いる。
ビニル系重合䜓合成甚のカルボキシル基含有モ
ノマヌずしおは、䟋えば、アクリル酞、メタクリ
ル酞、α−゚チルアクリル酞、クロトン酞などの
アクリル酞及びそのα−或いはβ−アルキル誘導
䜓、フマル酞、マレむン酞、シトラコン酞などの
䞍飜和ゞカルボン酞及びそのモノ゚ステル誘導䜓
などがあり、このようなモノマヌを単独或いは混
合しお、他のモノマヌず共重合させるこずにより
所望のカルボキシル基を含有する重合䜓を䜜るこ
ずができる。
䞊蚘のようなカルボキシル基含有モノマヌず共
重合可胜なモノマヌずしおは、䟋えば、スチレ
ン、α−メチルスチレン、−クロルスチレンビ
ニルナフタリン、アクリル酞メチル、アクリル酞
゚チル、アクリル酞ブチル、アクリル酞ドデシ
ル、アクリル酞オクチル、アクリル酞プニル、
メタクリル酞メチル、メタクリル酞゚チル、メタ
クリル酞ブチル、メタクリル酞オクチル、アクリ
ロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミ
ドなどのような二重結合を有するモノカルボン酞
の眮換䜓䟋えば、マレむン酞ゞブチル、マレむ
ン酞ゞメチルなどのような二重結合を有するゞカ
ルボン酞のゞ゚ステル誘導䜓䟋えば塩化ビニ
ル、酢酞ビニル、安息銙酞ビニルなどのようなビ
ニル゚ステル類䟋えば゚チレン、プロピレン、
ブチレンなどのような゚チレン系オレフむン類
䟋えばビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケト
ンなどのようなビニルケトン類䟋えばビニルメ
チル゚ヌテル、ビニル゚チル゚ヌテル、ビニルむ
゜ブチル゚ヌテルなどのようなビニルデヌテル
類䟋えば、ビニルベンれン、ゞビニルナフタレ
ンなどのような芳銙族ゞビニル化合物䟋えば゚
チレングリコヌルゞアクリレヌト、゚チレングリ
コヌルゞメタクリレヌト、−ブタンゞオヌ
ルゞメタクリレヌトなどのような二重結合を個
有するカルボン酞゚ステル、ゞビニルアニリン、
ゞビニル゚ヌテル、ゞビニルスルフむド、ゞビニ
ルスルホンなどのゞビニル化合物及び個以䞊の
ビニル基を有する化合物を単独若しくは混合物ず
しお甚いるこずができる。
カルボキシル基を有する重合䜓䞭に含たれるカ
ルボキシル基含有モノマヌの割合ずしおは、0.1
〜30重量が良奜な結果を䞎え、0.5〜20重量
の範囲にあるず、特に奜たしい結果が埗られる。
次に、本発明䞭でカルボキシル基を有する重合
䜓を架橋するアミンは、次の䞀般匏を有するもの
である。
匏䞭、ずは〜の敎数を衚わし、同䞀又
は異な぀おいおもよく、ずは〜50の敎数を
衚わし、同䞀又は異な぀おいおもよく、さらに
は〜30の炭玠原子から成るアルキル基䜆し、
枝分かれ及びシクロアルキル基を含むである。
䞊蚘の䞀般匏を有するアルコキシル化アミンの
うちでも、垞圧及び垞枩の条件䞋で、ワツクス状
の固䜓物質であるものが優れおいる。䜎分子量の
液䜓アルコキシル化アミンも固䜓状のアルコキシ
ル化アミンず同じようにカルボキシル基を有する
重合䜓を架橋するが、未反応の液䜓状アルコキシ
ル化アミンがトナヌ䞭からブリヌドする等の問題
があり、固䜓状アルコキシル化アミンの方が奜た
しい。
本発明においお、重合䜓ずアミンずの反応は、
甚いるアミンの党量が反応する蚳ではないから、
反応性のアルコキシル化アミンの量は、過剰に必
芁であり、たた、それはアミンの皮類によ぀お異
なるものであるが抂ね、未反応のアミンも含め
お、重合䜓100重量郚に察しお0.01〜20重量郚含
たれおいるこずが奜たしく、0.1〜10重量郚を甚
いるず、特に優れた結果が埗られる。
本発明でのビニル系重合䜓ず反応性アミンずの
反応は、前蚘のアミンを反応性の重合䜓ずずもに
ロヌルミルで混緎するずきに反応させる方法や、
反応性の重合䜓の熱キシレン溶液䞭にアミンを加
えお反応させる方法などがある。反応埌の埌凊理
工皋を考慮に入れるず、溶融混緎法による反応が
本発明に最も盞応しい。その反応によ぀お先に重
合䜓反応物を䜜補しおバむンダヌずした埌に、他
のトナヌ材料ず共にトナヌを䜜補しおも良いし、
䞊蚘反応自䜓をトナヌ補造工皋䞭のトナヌ材料の
加熱混緎時に行なわせた埌、埮粉砕しおトナヌず
しおも良い。
䞀方、本発明のトナヌで、アミンず反応埌の重
合䜓のゲルコンテントが50以䞊になるず、重合
䜓の架橋が進み過ぎ、重合䜓の軟化状態ずなる枩
床が著しく䞊昇し、トナヌを䜜成した堎合、定着
枩床が高くなり奜たしくない。それゆえ、架橋さ
れた重合䜓のゲルコンテントは50以䞋が良く、
特に35以䞋ならば、未架橋重合䜓ずほが同皋床
の定着枩床を瀺し、特に良奜な結果が埗られる。
本発明でのゲルコンテントずは架橋されお溶剀に
察しお䞍溶性ずな぀たポリマヌ郚分の割合で、高
架橋ポリマヌの架橋床を衚す䞀皮の指暙ずしお䜿
うこずができる。ここでは、ゲルコンテントずは
以䞋のようにしお枬定された倀を以぀お定矩す
る。すなわち、ゞアミンず反応した埌の重合䜓を
䞀定重量W1を秀り取り、−のガラス
補フむルタヌを甚いお゜ツクスレヌ抜出噚で、そ
の重合䜓䞭の可溶成分を溶媒により取り陀き、さ
らに抜出されずに残぀た詊料を也燥埌秀量する
W2。ゲルコンテントはW2W1×100
ずしお蚈算される。このような溶媒ずしおは、無
極性の溶媒が奜たしく、ここではベンれンを甚い
お50時間抜出した。
さらに、アミンずの反応によ぀お架橋されたバ
むンダヌ甚重合䜓の䞭でも、ガラス転移枩床が50
℃以䞊にあるものが、珟像噚内でトナヌの凝集や
感光䜓衚面等ぞの癒着等の問題を起さないので優
れおおり、特に50℃から80℃にガラス転移枩床の
あるものがより奜たしい。このように、架橋され
た重合䜓のガラス転移点が50℃以䞊であるために
は、架橋前のカルボキシル基を有する重合䜓のガ
ラス転移点が40℃以䞊にあるのが奜たしい。な
お、重合䜓のガラス転移枩床は瀺差走査熱量蚈に
よ぀お枬定できる。
本発明のトナヌは䞊蚘のような方法で架橋され
たバむンダヌ甚重合䜓を䞻芁暹脂成分ずするもの
であるが、必芁に応じお他の重合䜓、暹脂類を混
合しお䜿甚するこずができる。混合しお䜿甚でき
る他の暹脂類ずしおは、䟋えば、ポリスチレン、
ポリ−−クロルスチレン、ポリビニルトル゚ン
などのスチレン及びその眮換䜓の単重合䜓スチ
レン−−クロルスチレン共重合䜓、スチレン−
ビニルトル゚ン共重合䜓、スチレン−ビニルナフ
タリン共重合䜓、スチレン−アクリル酞゚ステル
共重合䜓、スチレン−メタクリル酞゚ステル共重
合䜓、スチレン−α−クロルメタクリル酞メチル
共重合䜓、スチレン−アクリロニトリル共重合
䜓、スチレン−ビニルメチル゚ヌテル共重合䜓、
スチレン−ビニル゚チル゚ヌテル共重合䜓、スチ
レン−ビニルメチルケトン共重合䜓、スチレン−
ブタゞ゚ン共重合䜓、スチレン−む゜プレン共重
合䜓、スチレン−アクリロニトリル−むンデン共
重合䜓などのスチレン系共重合䜓ポリ゚チレ
ン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、プノヌ
ル暹脂、倩然暹脂倉性プノヌル暹脂、アクリル
酞゚ステル暹脂、メタクリル酞゚ステル暹脂、ポ
リ酢酞ビニヌル、シリコヌン暹脂、ポリりレタ
ン、フラン暹脂、゚ポキシ暹脂、キシレン暹脂、
ポリビニルブチラヌル、テルペン暹脂、クロロむ
ンデン暹脂、石油系暹脂、などが䜿甚できる。
特に、140℃における溶融粘床が10〜106cpsの
゚チレン系オレフむン単重合䜓もしくぱチレン
系オレフむン共重合䜓をトナヌ䞭に0.1〜10重量
より奜たしくは0.2〜重量添加するこ
ずにより、顔料や磁性埮粒子のトナヌに察する分
散性、盞溶性が改善され、感光䜓衚面、クリヌニ
ング郚材、等に察する悪圱響が少なくな぀た。こ
こで゚チレン系オレフむン単重合䜓もしくぱチ
レン系オレフむン共重合䜓ずしお適甚するものに
は、ポリ゚チレン、ポリプロピレン、゚チレン−
プロピレン共重合䜓、゚チレン−酢酞ビニル共重
合䜓、゚チレン−゚チルアクリレヌト共重合䜓、
などがあり、䞊蚘共重合䜓においおはオレフむン
モノマヌを50モル〜100モルより奜たしく
は60モル〜100モル含んでいるものが奜た
しい。
なお、溶融粘床の枬定はBrookfield法を甚い
ここでは型粘床蚈に少量サンプルアダプタヌを
取付けたものを甚いた。
本発明のトナヌにおいおは、任意の適圓な顔料
や染料が着色剀ずしお䜿甚される。䟋えば、カヌ
ボンブラツク、鉄黒、フタロシアニンブルヌ、矀
青、キナクリドン、ベンゞゞンむ゚ロヌなど公知
の染顔料がある。
さらに本発明のトナヌを磁性トナヌずする堎合
には、着色剀ずしおの圹割も兌ねお良いが、磁性
粉を含有せしめる。磁性粉ずしおは、匷磁性元玠
及びこれらを含む合金、化合物であるマグネタむ
ト、ヘマタむト、プラむトなどの鉄、コバル
ト、ニツケル、マンガンなどの合金や化合物、そ
の他の匷磁性合金など、埓来より磁性材料ずしお
知られおいるものが䜿える。
その他の添加剀ずしお、荷電制埡、凝集防止な
どの目的のために、カヌボンブラツク、ニグロシ
ン、金属錯塩、コロむド状シリカ粉末、フツ玠系
暹脂粉末、高玚脂肪酞の金属塩などを添加せしめ
おも良い。
本発明のトナヌは皮々の珟像法に適甚できる。
䟋えば、磁気ブラシ珟像方法、カスケヌド珟像方
法、米囜特蚱第3909258号明现曞に蚘茉された導
電性磁性トナヌを甚いる方法、特開昭53−31136
号公報に蚘茉された高抵抗磁性トナヌを甚いる方
法、特開昭54−42141号公報、同55−18656号公報
などに蚘茉された方法、フアヌブラシ珟像方法、
パりダヌクラりド法、むンプレツシペン法などが
ある。
本発明に係るトナヌを䜿甚しお玙などの被定着
シヌト䞊に圢成したトナヌ像は、その衚面にオフ
セツト防止甚液䜓を䟛絊しない定着ロヌラヌを䜿
甚した堎合にもトナヌのオフセツト珟象を発生す
るこずなく熱ロヌラヌで定着を行なうこずができ
る。定着ロヌラヌずしおは、その衚面を䟋えばテ
フロンデナポン瀟補、フルオンICI瀟補及
びケルヌ3M瀟補などの北玠系暹脂或いはシ
リコンゎム、シリコン暹脂で圢成した平滑な面を
有するものや堎合によ぀おは金属衚面を有するも
のが䜿甚できる。
〔実斜䟋 〕 キシレン90重量郚をセパラブルフラスコに入
れ、さらにスチレン75重量郚、メタクリル酞ブチ
ル20重量郚、マレむン酞重量郚、ゞビニルベン
れン0.5重量郚ずを加え、気盞を窒玠ガスで眮換
した埌80℃に保ち、キシレン10重量郚に過酞化ベ
ンゟむル0.8重量郚を溶解したものを30分かけお
窒玠ガスで眮換した滎䞋ロヌトを甚いお滎䞋し、
さらに10時間80℃で攪拌した。次いで過酞化ベン
ゟむル0.3重量郚を含むトル゚ン溶液重量郚を
滎䞋し、さらに90℃に昇枩しお、その枩床に時
間保ち、重合を完結した。冷华埌倧量のメタノヌ
ル䞭で重合䜓を沈殿させ、沈殿物を別埌、60℃
で也燥し、回収した。この重合䜓のMwMnは、
26で、Mwは243000であ぀た。
䞊蚘重合䜓100重量郚、ナむミヌン−202日
本油脂(æ ª)から垂販されおいる炭玠数13乃至17個の
アルキル基を有する第䞀脂肪族アミンの゚チレン
オキサむドの瞮合生成物、0.3重量
郚、マグネタむト60重量郚、金属錯塩染料商品
名ザポンフアヌストブラツクC.I.Acid
Black63BASF瀟補重量郚をロヌルミル䞊
で150℃で30分間溶融混緎した。冷华埌、゚アヌ
ゞ゚ツト型の粉砕機で埮粉砕し、颚力分玚で〜
20Όの粒子を遞別しおトナヌずした。トナヌのメ
ルトむンデツクスは125℃・10Kgの条件䞋で、
1.3610minであ぀た。このトナヌ100重量郹
に疎氎性コロむダルシリカ0.5重量郚を倖添し珟
像剀ずし、垂販耇写機商品名、NP−400REキ
ダノン瀟補を甚いお評䟡した。䞊蚘珟像剀の最
䜎定着枩床は150℃であり、オフセツト珟象は150
℃から210℃たで認められなか぀た。
さらに、定着ロヌラヌの枩床を170℃に調敎す
るように蚭定しお、䞇枚の連続耐久テストを行
な぀たが、画像反射濃床は初期から䞇枚埌たで
安定しおおり、1.0前埌を維持した。䞇枚埌も
定着ロヌラヌぞのオフセツト珟象はなく、感光䜓
ドラム衚面等ぞの癒着や珟像噚内での凝集等の問
題は発生しなか぀た。
〔比范䟋 〕 実斜䟋でナむミヌン−202を加えない以倖
は、実斜䟋ず同様にしおトナヌを䜜り、珟像剀
ずした。
このトナヌのメルトむンデツクス125℃、10
Kgは、トナヌ材料甚共重合䜓の倀ずほが等し
く、16.8610minであ぀た。
最䜎定着枩床は150℃で、実斜䟋のトナヌず
同じであ぀たが、枩床の䞊昇ず共にオフセツトが
激しくなり、180℃で定着ロヌラヌ衚面には぀き
りず画像の跡が認められるたでにな぀た。
実斜䟋ず同様にしお、連続耐久テストをした
が、500枚皋床で、画像䞊にオフセツト物が定着
ロヌラヌから再転写した跡が珟われ、1000枚でさ
らに激しくな぀たので耐久テストを䞭止した。
〔実斜䟋 〕 スチレン−アクリル酞ブチル−アクリル酞共重
合䜓モノマヌ比8018、MwMn19
Mw188000100重量郚、ナむミヌンT2−260
日本油脂(æ ª)から垂販されおいるポリオキシ゚チ
レン牛脂アルキルアミンで、600.5重
量郚、マグネタむト60重量郚、実斜䟋の金属錯
塩染料重量郚、ポリ゚チレンワツクス溶融粘
床が140℃で120センチポむズ重量郚を実斜䟋
ず同様にしおトナヌずし、評䟡した。耐オフセ
ツト性に優れ、珟像性の安定したトナヌが埗られ
た。
〔実斜䟋 〕 スチレン−アクリル酞ブチル−メタクリル酞共
重合䜓モノマヌ比751510、Mw
310000、MwMn28100重量郚、ポリオキシ
゚チレンオクタデシルアミン100.2
重量郚、マグネタむト60重量郚、実斜䟋の金属
錯塩染料重量郚を実斜䟋ずほが同様にしお䜜
成したトナヌは良奜な定着性ず安定した耐久性を
有しおいた。
〔実斜䟋 〕 スチレン−メタクリル酞ブチル−マレむン酞モ
ノブチル共重合䜓モノマヌ比701515、
Mw115000MwMn100重量郚、ナむ
ミヌン−220日本油脂(æ ª)補のオクタデシルアミ
ンの゚チレンオキサむド誘導䜓、20
重量郚、カヌボンブラツク重量郚、実斜䟋の
金属錯塩染料重量郚を小型加圧ニヌダヌにお溶
融混緎した。冷华埌、埮粉砕し、およそ〜20ÎŒ
の粒子を遞んでトナヌずした。このトナヌ10重量
郚ずキダリアヌ鉄粉商品名EFV250400、
日本鉄粉瀟補90重量郚ずを混合し、珟像剀にし
た。この珟像剀を垂販の耇写機商品名NP−
5000、キダノン瀟補に適甚したが、150℃で定
着し、200℃以䞊の枩床領域たでオフセツトは党
く認められなか぀た。たた耐久性も非垞に優れお
いた。
比范䟋  スチレン80重量郚、メタクリル酞ブチル20重量
郚及びゞビニルベンれン0.5重量郚を䜿甚するこ
ずを陀いお、実斜䟋ず同様にしおカルボキシル
基を有しおいないスチレン−メタクリル酞ブチル
−ゞビニルベンれン共重合䜓MwMn玄22、
Mw玄230000を調補した。
調補したスチレン−メタクリル酞ブチル−ゞビ
ニルベンれン共重合䜓を䜿甚するこずを陀いお実
斜䟋ず同様にしおトナヌメルトむンデツクス
は、125℃・10Kgの条件䞋で玄1810minを
調補し、実斜䟋ず同様にしお定着詊隓を行な぀
た。最䜎定着枩床は150℃であり、実斜䟋のト
ナヌず同様であ぀たが、枩床180℃でオフセツト
珟象が明癜に発珟した。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  重量平均分子量Mwず数平均分子量
    Mnの比MwMnがより倧きく、Mw
    が100000より倧きいカルボキシル基を有するビニ
    ル系重合䜓を次匏で瀺されるアミンで架橋した重
    合䜓を含有する静電荷像珟像甚トナヌ。 〔匏䞭、ずはそれぞれ〜の敎数、ず
    はそれぞれ〜50の敎数、は〜30の炭玠原
    子から成るアルキル基䜆し、枝分かれ及びシク
    ロアルキル基を含むを瀺す。〕  該ビニル系重合䜓のMwMnが以䞊であ
    る特蚱請求の範囲第項の静電荷像珟像甚トナ
    ヌ。  該ビニル系重合䜓が、架橋されたビニル系重
    合䜓である特蚱請求の範囲第項たたは第項の
    静電荷像珟像甚トナヌ。
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