JPH0425859U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案に係る薄膜形成装置の監視装置
の要部拡大図、第２図は本考案に係る薄膜形成装
置の断面図である。 １０……薄膜形成装置、１２……真空チヤンバ
、１４……ＥＢ／ＧＵＮ、１６……信号処理部、
３１……ワーク、４４……モニタ装置、５２Ａ，
５２Ｂ，５２Ｃ……サンプリング透明体、６０Ａ
，６０Ｂ……光フアイバ、６２……フレキシブル
チユーブ、６６……光電変換部。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 真空チヤンバと、 前記真空チヤンバ内に設けられた薄膜形成手段
   と、 前記薄膜形成手段により薄膜が形成されるサン
   プリング透明体を有し、真空チャンバ内の任意の
   位置に配置可能なモニタ装置と、 光入射端側が前記モニタ装置と接続されサンプ
   リング透明体の光学的情報を伝送する光フアイバ
   と、 前記真空チヤンバ内の前記光フアイバを密封被
   覆して真空から遮断するフレキシブルチユーブと
   、 前記光フアイバの光出射端側が接続され光フア
   イバにより伝送された光学的情報に応じて前記薄
   膜形成手段を制御して薄膜形成条件を変える制御
   手段と、 を有することを特徴とする薄膜形成装置。 (2) 光学的情報検出部と、 光入射端側が前記光学的情報検知部と接続され
   、前記光学的情報検知部で検出した光学的情報を
   伝送する光フアイバと、 光フアイバの出射端側に接続され前記光学的情
   報を受信する監視部と、 該光フアイバを密封被覆して真空から遮断する
   フレキシブルチユーブと、 を有する監視装置。