JPH04259938A - 情報記録媒体製作用スタンパの製作方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は情報記録媒体製作用スタ
ンパの製作方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】記録再生の対象にされている情報信号に
応じた凹部（ピット）を信号面に形成させておき、微小
な径の光点を信号面に照射して情報信号の読取りを行う
ようにした記録済み情報記録媒体は、従来からコンパク
トディスク、あるいはビデオディスク、ディジタルオー
ディオディスク、追記型のディスク、その他の光ディス
クとして実用されている。そして、前記した各種の記録
済み情報記録媒体を大量生産する場合には、記録再生の
対象にされている情報信号に応じた凹凸部が表面に形成
されている情報記録媒体製作用スタンパを用い、前記し
た情報記録媒体製作用スタンパの表面の凹凸形状が合成
樹脂製のディスクの表面に転写されるようにすることに
よって行なわれているから、前記した情報記録媒体製作
用スタンパの表面の凹凸形状と、記録済み情報記録媒体
における表面の凹凸形状とは、当然のことながら互に逆
の凹凸形状｛一方のものの凸部（または凹部）には他方
のものの凹部（または凸部）が対応しているような関係
での凹凸形状の対応関係｝のものとなっている。

【０００３】ところで、情報記録媒体製作用スタンパの
最も一般的な製作法の従来例は、鏡面研磨された状態の
ガラス原盤に形成させたポジ型フォトレジストの薄膜を
記録の対象にされている情報信号で強度変調されている
記録光によって露光させてから現像処理し、前記の現像
処理後に無電解メッキ等の手段によって形成させた金属
薄膜上に電鋳を行なってから剥離してマスタ盤を作り、
前記のマスタ盤面に剥離処理を施こした後に電鋳を行な
ってから、それをマスタ盤から剥離してマザ盤を得て、
次に前記のマザ盤面に剥離処理を施こした後に電鋳を行
ない、それをマザ盤から剥離して情報記録媒体製作用ス
タンパを得るというような各工程からなる情報記録媒体
製作用スタンパの製作法である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】前記した情報記録媒体
製作用スタンパの従来の製作法における順次の各工程毎
に得られる互に表面の凹凸形状が逆であるような各種の
盤の内で、マスタ盤と情報記録媒体製作用スタンパとは
表面の凹凸形状が同一であるから、マスタ盤を情報記録
媒体製作用スタンパとして使用することもできることは
いうまでもない。しかしながら、前記のマスタ盤はフォ
トレジストの薄膜のパターンを転写することにより得ら
れるものであるが、前記のガラス原盤上のフォトレジス
トの薄膜は機械的な強度が小さなものであるために、フ
ォトレジストの薄膜のパターンは１回の転写動作によっ
て破壊されてしまうために、ガラス原盤上に形成された
フォトレジストの薄膜に複数回の転写動作を施こして複
数枚のマスタ盤を作ることはできない。したがって、少
数の記録済み情報記録媒体が複製できれば良いというよ
うな場合を除いては、マスタ盤を情報記録媒体製作用ス
タンパとして使用しないようにしているのが普通であっ
て、通常は情報記録媒体製作用スタンパは前記のように
マスタ盤を得てからさらに２度の電鋳を行なって情報記
録媒体製作用スタンパを得るようにしていたが、このよ
うにすれば複数枚の情報記録媒体製作用スタンパも容易
に得ることができる。しかし、前記した従来法のように
情報記録媒体製作用スタンパを得るまでの転写回数が多
い場合には、記録信号波形が変形したり、異物の付着に
よって欠陥が生じるなどの機会が多くなるために、記録
再生特性の劣化した情報記録媒体になるおそれがあり、
また、多数回の電鋳が行なわれることにより多くの電気
エネルギと純水が消費される他、製作に多くの時間が必
要とされるという問題点があった。

【０００５】前記した最も一般的な従来の情報記録媒体
製作用スタンパの製作法の問題点を解決するために、従
来、１回だけの転写動作によって情報記録媒体製作用ス
タンパが製作できるようにした情報記録媒体製作用スタ
ンパの製作法として■ガラス基板上に金属薄膜を被着形
成させたものを用いて、前記の金属薄膜に乾式エッチン
グ処理または湿式エッチング処理を施こしてピットを形
成させたり、あるいは■基板自体に乾式エッチング処理
または湿式エッチング処理を施こしてピットを形成させ
たりする製作法が提案されたが、前記した■の従来提案
の製作法ではガラス原盤を用いているために厚さが大き
く、それによりストックに広い空間が必要とされるとい
う問題があり、また、■の従来提案の製作法では基板と
して使用されるニッケル、アルミニウム、銅のような金
属板の表面粗度、平面度として満足できるようなものが
得られないという問題点がある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は鏡面研磨された
状態の基板として用いるシリコンウエハの面にポジ型フ
ォトレジストの薄膜を塗布形成させる工程と、記録の対
象にされている情報信号によって強度変調されている記
録光によって前記したポジ型フォトレジストの薄膜を露
光する工程と、露光されたポジ型フォトレジストの薄膜
を現像する工程と、現像されたポジ型フォトレジストの
薄膜をマスク部材としてシリコンウエハに乾式エッチン
グ法により記録の対象にされている情報信号と対応する
凹部を形成させる工程と、記録の対象にされている情報
信号と対応する凹部が形成されたシリコンウエハからポ
ジ型フォトレジストの薄膜を除去して情報記録媒体製作
用の母盤を得る工程と、前記した情報記録媒体製作用の
母盤にメッキ法により情報記録媒体製作用スタンパを付
着形成させる工程と、情報記録媒体製作用の母盤から情
報記録媒体製作用スタンパを剥離する工程とからなる情
報記録媒体製作用スタンパの製作方法、及び鏡面研磨さ
れた状態のシリコンウエハの面に金属の薄膜を付着形成
させて基板を得る工程と、基板における金属の薄膜上に
ポジ型フォトレジストの薄膜を塗布形成させる工程と、
記録の対象にされている情報信号によって強度変調され
ている記録光によって前記したポジ型フォトレジストの
薄膜を露光する工程と、露光されたポジ型フォトレジス
トの薄膜を現像する工程と、現像されたポジ型フォトレ
ジストの薄膜をマスク部材として基板の金属の薄膜に乾
式エッチング法により記録の対象にされている情報信号
と対応する凹部を形成させる工程と、記録の対象にされ
ている情報信号と対応する凹部が金属の薄膜に形成され
た基板からポジ型フォトレジストの薄膜を除去して情報
記録媒体製作用の母盤を得る工程と、前記した情報記録
媒体製作用の母盤にメッキ法により情報記録媒体製作用
スタンパを付着形成させる工程と、情報記録媒体製作用
の母盤から情報記録媒体製作用スタンパを剥離する工程
とからなる情報記録媒体製作用スタンパの製作方法を提
供する。

【０００７】

【作用】基板として用いられるシリコンウエハの鏡面研
磨された状態の面に付着形成させたポジ型フォトレジス
トの薄膜を記録の対象にされている情報信号によって強
度変調されている記録光で露光して現像する。前記の現
像されたポジ型フォトレジストの薄膜をマスク部材とし
てシリコンウエハに乾式エッチング法によって記録の対
象にされている情報信号と対応する凹部を形成させた後
に、シリコンウエハ上からポジ型フォトレジストの薄膜
を除去して情報記録媒体製作用の母盤を得る。前記した
情報記録媒体製作用の母盤にメッキ法で付着形成させた
情報記録媒体製作用スタンパを剥離して情報記録媒体製
作用スタンパを得る。また、鏡面研磨された状態のシリ
コンウエハの面に金属の薄膜を付着形成させて基板を得
る。前記の基板の金属の薄膜上に形成させたポジ型フォ
トレジストの薄膜に、記録の対象にされている情報信号
で強度変調されている記録光により前記したポジ型フォ
トレジストの薄膜を露光した後に、露光されたポジ型フ
ォトレジストの薄膜を現像し、現像されたポジ型フォト
レジストの薄膜をマスク部材として基板の金属の薄膜に
乾式エッチング法により記録の対象にされている情報信
号と対応する凹部を形成させた後に基板からポジ型フォ
トレジストの薄膜を除去して情報記録媒体製作用の母盤
を得る。前記した情報記録媒体製作用の母盤にメッキ法
により情報記録媒体製作用スタンパを付着形成させ、次
いで情報記録媒体製作用の母盤から情報記録媒体製作用
スタンパを剥離して情報記録媒体製作用スタンパを得る
。

【０００８】

【実施例】以下、添付図面を参照して本発明の情報記録
媒体製作用スタンパの製作方法の具体的な内容について
詳細に説明する。図１及び図２は本発明の情報記録媒体
製作用スタンパの製作方法によって情報記録媒体製作用
スタンパを製作する際の順次の工程を説明するために使
用される側断面図である。まず図１において図１の（ａ
）は基板として使用されるシリコンウエハ１である。こ
のシリコンウエハ１は半導体集積回路用の材料として広
く使用されている単結晶シリコンウエハであり、例えば
、厚さが５００ミクロン〜８００ミクロンで径が略々１
５０ｍｍの円形状のものであり、それの表面は鏡面状に
研磨されていて情報記録媒体の原盤の基板として優れた
平面度（平坦度）を備えている。図１の（ｂ）における
２は前記したシリコンウエハ１の表面に塗布形成された
ポジ型のフォトレジストの薄膜である。前記のポジ型の
フォトレジストの薄膜２は、前記した単結晶シリコンウ
エハ１を精密に洗浄して乾燥した後に、ポジ型のフォト
レジスト、例えばシプレイファーイースト（株）社製の
ポジ型のフォトレジストＭＰ１４００を厚さが１０００
オングストローム〜１５００オングストロームの厚さの
薄膜となるように、例えばスピンナ法によって前記した
シリコンウエハ１上に塗布する。

【０００９】シリコンウエハ１よりなる基板に所定の厚
さのポジ型のフォトレジストの薄膜２が塗布形成された
情報記録媒体の原盤は、記録装置におけるターンテーブ
ルに取付けられて所定の回転数で駆動回転された状態に
おいて、前記のポジ型のフォトレジストの薄膜２に対し
て図１の（ｃ）中に例示されている記録光学系３を介し
て、記録の対象にされている情報信号によって強度変調
されているアルゴンレーザ光の微小なスポットにより露
光させる。図１の（ｃ）中において２ａはポジ型のフォ
トレジストの薄膜２における未露光部分を例示し、また
、図１の（ｃ）中における２ｂはポジ型のフォトレジス
トの薄膜２における露光部分を例示している。前記のよ
うに記録の対象にされている情報信号で強度変調されて
いるレーザ光の微小なスポットにより露光が行われた情
報記録媒体の原盤は、次に０．２Ｎのアルカリ現像液に
よって現像されることにより、図１の（ｄ）に示されて
いるようにポジ型のフォトレジストの薄膜２における露
光した部分２ｂ，２ｂ…が除去された状態Ａ，Ａ，…に
なされ、次いで、情報記録媒体の原盤は摂氏１２０度の
温度で１時間にわたり焼成されてから放冷される。

【００１０】次に、情報記録媒体の原盤におけるポジ型
のフォトレジストの薄膜２に残されている図１の（ｄ）
中の２ａ，２ａ…で示す未露光部分をマスク部材に用い
て、乾式エッチング法により情報記録媒体の原盤のシリ
コンウエハ１の基板に対するエッチングが行なわれる。 前記した情報記録媒体の原盤のシリコンウエハ１の基板
に対して行なわれる乾式エッチングは、エッチングガス
として例えばＣＦ４ガスを用い、前記のＣＦ４ガスを５
ｍＴｏｒｒ〜３０ｍＴｏｒｒの圧力で５ＳＣＣＭ〜３０
ＳＣＣＭの流量で２分〜１５分の時間にわたって行なわ
れ、その後、前記したＣＦ４ガスを酸素に変換して、シ
リコンウエハ上に残留しているフォトレジストを酸素プ
ラズマ中でアッシング洗浄することにより、基板として
使用されているシリコンウエハ１の表面に記録の対象に
されている情報信号と対応する凹部１ａ，１ａ…が図１
の（ｅ）に示されているように形成された状態の情報記
録媒体の母盤が得られる。前記の情報記録媒体の母盤を
アルカリ洗剤等を用いて精密洗浄した後に乾燥する。

【００１１】前記のようにして作られた図１の（ｅ）に
示されている情報記録媒体の母盤における記録の対象に
されている情報信号と対応する凹部１ａ，１ａ…が形成
されているシリコンウエハ１の面上に、電鋳法によって
スタンパを電鋳させる際に必要とされる導電膜４を例え
ば無電解メッキによって図１の（ｆ）に示されているよ
うに形成させ、次いで水洗後に前記の導電膜４上に電鋳
法を適用して金属（例えばニッケル）の電鋳によって情
報記録媒体製作用スタンパ５が形成される。図１の（ｇ
）は情報記録媒体の母盤に金属（例えばニッケル）の電
鋳によって情報記録媒体製作用スタンパ５が作られてい
る状態を示している図であり、また図１の（ｈ）は情報
記録媒体の母盤から情報記録媒体製作用スタンパ５を剥
離した状態を示している図である。前記の情報記録媒体
の母盤に対してニッケルの電鋳を行なって情報記録媒体
製作用スタンパ５を作るのには、例えばスルファミン酸
ニッケルを電解液として用い、摂氏５０度±摂氏２度の
液温の電解液で１平方センチメートル当り１００ｍＡ〜
２００ｍＡの電流密度の電流を６０分〜９０分間通電す
ることによって行なわれる。図１の（ｈ）に示されるよ
うな情報記録媒体製作用スタンパ５はアルカリ洗剤等を
用いて精密洗浄した後に乾燥する。情報記録媒体製作用
スタンパ５が剥離された情報記録媒体の母盤は、洗浄の
後に新たな情報記録媒体製作用スタンパ５の製作に使用
できるのであり、１枚の情報記録媒体の母盤から複数枚
の情報記録媒体製作用スタンパ５を製作できる。なお、
情報記録媒体の母盤における記録の対象にされている情
報信号と対応する凹部１ａ，１ａ…が形成されているシ
リコンウエハ１の面上に、電鋳法によってスタンパを電
鋳する際に必要なために情報記録媒体の母盤に付着させ
た導電膜４は、情報記録媒体の母盤から情報記録媒体製
作用スタンパ５を剥離するときにスタンパ５と一体的に
情報記録媒体の母盤から剥離するから、前記の導電膜４
は情報記録媒体の母盤を用いて新たなスタンパ５を作る
度毎に、情報記録媒体の母盤における記録の対象にされ
ている情報信号と対応する凹部１ａ，１ａ…が形成され
ているシリコンウエハ１の面上に例えば無電解メッキ法
等の手段によって形成させることが必要とされる。

【００１２】次に、図２に順次の工程が示されている本
発明の情報記録媒体製作用スタンパの製作方法について
説明する。図２において図２の（ａ）はシリコンウエハ
１であり、このシリコンウエハ１は図１について既述し
た本発明の情報記録媒体製作用スタンパの製作方法にお
いて基板として使用されていたシリコンウエハ１と同様
に、半導体集積回路用の材料として広く使用されている
単結晶シリコンウエハであって、例えば、厚さが５００
ミクロン〜８００ミクロンで径が略々１５０ｍｍの円形
状のものであり、それの表面は鏡面状に研磨されていて
情報記録媒体の原盤の基板として優れた平面度（平坦度
）を備えている。図２の（ｂ）は前記のように鏡面研磨
された状態のシリコンウエハ１の面に金属の薄膜６を付
着形成させて構成した基板を示している。前記したシリ
コンウエハ１の面上に付着形成される金属の薄膜６は、
例えば、スパッタリング法を適用して適当な金属（例え
ばタングステン，モリブデン，タンタル，ニオブ，ニッ
ケル）の薄膜６を付着形成させたものであり、シリコン
ウエハ１の面上に金属の薄膜６としてニッケルの薄膜６
を付着形成させる場合の一例について述べると次のとお
りである。スパッタリング用ターゲットとしてニッケル
のターゲットを用い、アルゴンガスの流量を７．２ＳＣ
ＣＭ〜２６．３ＳＣＣＭ、圧力２ｍＴｏｒｒ〜０．６ｍ
Ｔｏｒｒ、加速電圧４１０ボルト〜５０５ボルトで１分
間〜１０分間のスパッタリングを行ってシリコンウエハ
１の面上に、膜厚が１２５０オングストローム〜１３５
０オングストロームのニッケルの薄膜６（金属薄膜６）
を図２の（ｂ）に示されているように付着形成させ、次
いで、前記の情報記録媒体の原盤をアルカリ洗剤等を用
いて精密洗浄した後に乾燥する。

【００１３】図２の（ｃ）は前記した図２の（ｂ）に示
されている基板における金属の薄膜６上にポジ型のフォ
トレジストの薄膜２を塗布形成させた状態のものを示し
ている。そして前記のポジ型のフォトレジストの薄膜２
は、基板を精密に洗浄して乾燥した後に、ポジ型のフォ
トレジスト、例えばシプレイファーイースト（株）社製
のポジ型のフォトレジストＭＰ１４００を厚さが１００
０オングストローム〜１５００オングストロームの厚さ
の薄膜となるように、例えばスピンナ法によって前記し
た基板の金属の薄膜６上に塗布する。

【００１４】基板の金属の薄膜６上に所定の厚さのポジ
型のフォトレジストの薄膜２が塗布形成されてなる情報
記録媒体の原盤は、それを記録装置におけるターンテー
ブルに取付けて所定の回転数で駆動回転している状態に
おいて、前記のポジ型のフォトレジストの薄膜２に対し
て図２の（ｄ）中に例示されている記録光学系３を介し
て、記録の対象にされている情報信号によって強度変調
されているアルゴンレーザ光の微小なスポットにより露
光させる。図２の（ｄ）中において２ａはポジ型のフォ
トレジストの薄膜２における未露光部分を例示し、また
、図２の（ｄ）中における２ｂはポジ型のフォトレジス
トの薄膜２における露光部分を例示している。前記のよ
うに記録の対象にされている情報信号で強度変調されて
いるレーザ光の微小なスポットにより露光が行われた情
報記録媒体の原盤は、次に０．２Ｎのアルカリ現像液に
よって現像されることにより、図２の（ｅ）に示されて
いるようにポジ型のフォトレジストの薄膜２における露
光した部分２ｂ，２ｂ…が除去された状態Ａ，Ａ，…に
なされ、次いで、情報記録媒体の原盤は摂氏１２０度の
温度で１時間にわたり焼成されてから放冷される。

【００１５】次に、情報記録媒体の原盤におけるポジ型
のフォトレジストの薄膜２に残されている図２の（ｄ）
中の２ａ，２ａ…で示す未露光部分をマスク部材に用い
て、乾式エッチング法により情報記録媒体の原盤の基板
における金属の薄膜６に対するエッチングが行なわれる
ことにより、図６の（ｆ）に例示されているように情報
記録媒体の原盤の基板におけるシリコンウエハ１上の金
属の薄膜６に記録の対象にされている情報信号と対応し
て残部６ａ，６ａ…と除去部（凹部）６ｂ，６ｂ…とが
形成される。なお、前記した金属の薄膜６に対するエッ
チング処理により金属の薄膜６の大部分が除去された状
態になされている除去部（凹部）６ｂ，６ｂ…には、前
記した金属の薄膜６が極めて薄い金属の超薄膜の状態で
残されている。前記した情報記録媒体の原盤の基板にお
ける金属の薄膜６に対して行なわれる乾式エッチングは
、エッチングガスとして例えばＣＦ４ガスを用い、前記
のＣＦ４ガスを５ｍＴｏｒｒ〜３０ｍＴｏｒｒの圧力で
５ＳＣＣＭ〜３０ＳＣＣＭの流量で２分〜１５分の時間
にわたって行なわれ、その後前記したＣＦ４ガスを酸素
に変換して、情報記録媒体の原盤の基板における金属の
薄膜６上に残留しているフォトレジストを酸素プラズマ
中でアッシング洗浄することにより、情報記録媒体の原
盤の基板におけるシリコンウエハ１上の金属の薄膜６に
より記録の対象にされている情報信号と対応する凸部６
ａ，６ａ…と凹部６ｂ，６ｂ…が図２の（ｇ）に示され
ているように形成された状態の情報記録媒体の母盤が得
られる。

【００１６】次に、前記のようにして作られた図２の（
ｇ）に示されている情報記録媒体の母盤における記録の
対象にされている情報信号と対応する凹部６ｂ，６ｂ…
が形成されている基板の面（シコンウエハ１と金属の薄
膜６）上に、図２の（ｈ）に示されているように電鋳法
により金属（例えばニッケル）の電鋳によって情報記録
媒体製作用スタンパ５を形成させる。図２の（ｈ）は情
報記録媒体の母盤に金属（例えばニッケル）の電鋳によ
って情報記録媒体製作用スタンパ５が作られている状態
を示している図であり、また図２の（ｉ）は情報記録媒
体の母盤から情報記録媒体製作用スタンパ５を剥離した
状態を示している図である。前記の情報記録媒体の母盤
に対してニッケルの電鋳を行なって情報記録媒体製作用
スタンパ５を作るのには、前記の情報記録媒体の母盤を
アルカリ洗剤，酸等を用いて表面を活性処理した後に、
重クロム酸カリ溶液により表面を均一に酸化させて剥離
膜を形成させた後に、例えばスルファミン酸ニッケルを
電解液として用い、摂氏５０度±摂氏２度の液温の電解
液で１平方センチメートル当り１００ｍＡ〜２００ｍＡ
の電流密度の電流を６０分〜９０分間通電することによ
って行なわれる。図２の（ｉ）に示されるような情報記
録媒体製作用スタンパ５はアルカリ洗剤等を用いて精密
洗浄した後に乾燥する。情報記録媒体製作用スタンパ５
が剥離された情報記録媒体の母盤は、洗浄の後に新たな
情報記録媒体製作用スタンパ５の製作に使用できるので
あり、１枚の情報記録媒体の母盤から複数枚の情報記録
媒体製作用スタンパ５を製作できる。

【００１７】前記したような各工程からなる本発明の情
報記録媒体製作用スタンパの製作方法によって作られた
情報記録媒体製作用スタンパ５は、それを用いてポリカ
ーボネート樹脂のディスクに成型転写を行なうことによ
り、記録済み情報記録媒体を得ることができる。本発明
の情報記録媒体製作用スタンパの製作方法によって作ら
れた情報記録媒体製作用スタンパ５を用いてポリカーボ
ネート樹脂のディスクに成型転写を行なって得た光ディ
スクについて、コンパクトディスクのレッドブックに定
められている各種の特性値を調べたところ、通常の情報
記録媒体製作用スタンパの製作方法によって作られた情
報記録媒体製作用スタンパを用いてポリカーボネート樹
脂のディスクに成型転写を行なって得た光ディスクに比
べて、振幅変調特性では０．０１ｄＢ〜０．０２ｄＢの
向上が認められた他、対称性では０〜０．０５ｄＢの向
上が認められ、また、Ｃ１エラーでは０．１〜０．３％
、クロストークで５％程度の向上が得られた。

【００１８】

【発明の効果】以上、詳細に説明したところから明らか
なように本発明の情報記録媒体製作用スタンパの製作方
法は、基板として用いられるシリコンウエハの鏡面研磨
された状態の面に付着形成させたポジ型フォトレジスト
の薄膜を記録の対象にされている情報信号によって強度
変調されている記録光で露光して現像する。前記の現像
されたポジ型フォトレジストの薄膜をマスク部材として
シリコンウエハに乾式エッチング法によって記録の対象
にされている情報信号と対応する凹部を形成させた後に
、シリコンウエハ上からポジ型フォトレジストの薄膜を
除去して情報記録媒体製作用の母盤を得る。前記した情
報記録媒体製作用の母盤にメッキ法で付着形成させた情
報記録媒体製作用スタンパを剥離して情報記録媒体製作
用スタンパを得るようにしたり、鏡面研磨された状態の
シリコンウエハの面に金属の薄膜を付着形成させて基板
を得る。前記の基板の金属の薄膜上に形成させたポジ型
フォトレジストの薄膜に、記録の対象にされている情報
信号で強度変調されている記録光により前記したポジ型
フォトレジストの薄膜を露光した後に、露光されたポジ
型フォトレジストの薄膜を現像し、現像されたポジ型フ
ォトレジストの薄膜をマスク部材として基板の金属の薄
膜に乾式エッチング法により記録の対象にされている情
報信号と対応する凹部を形成させた後に基板からポジ型
フォトレジストの薄膜を除去して情報記録媒体製作用の
母盤を得る。前記した情報記録媒体製作用の母盤にメッ
キ法により情報記録媒体製作用スタンパを付着形成させ
、次いで情報記録媒体製作用の母盤から情報記録媒体製
作用スタンパを剥離して情報記録媒体製作用スタンパを
得るようにしているので、本発明の情報記録媒体製作用
スタンパの製作方法によれば既述した従来の問題点、す
なわち、１回だけの転写動作によって情報記録媒体製作
用スタンパが製作できるようにした従来の情報記録媒体
製作用スタンパの製作法においてガラス基板上に導電膜
を被着形成させたものを用い、前記の導電膜に乾式エッ
チング処理または湿式エッチング処理を施こしてピット
を形成させたり、あるいは基板自体に乾式エッチング処
理または湿式エッチング処理を施こしてピットを形成さ
せたりする製作法においては、ガラス原盤を用いている
ために厚さが大きく、それによりストックに広い空間が
必要とされるという問題点や、基板として使用されるニ
ッケル、アルミニウム、銅のような金属板の表面粗度、
平面度として満足できるようなものが得られないという
問題点などはすべて良好に解決できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の情報記録媒体製作用スタンパの製作方
法により情報記録媒体製作用スタンパを製作する際の順
次の工程を説明するために使用される側断面図である。

【図２】本発明の情報記録媒体製作用スタンパの製作方
法により情報記録媒体製作用スタンパを製作する際の順
次の工程を説明するために使用される側断面図である。

【符号の説明】

１…基板として使用される単結晶シリコンウエハ、２…
ポジ型のフォトレジストの薄膜、２ａ…ポジ型のフォト
レジストの薄膜２の未露光部分、２ｂ…ポジ型のフォト
レジストの薄膜２の露光部分、３…記録光学系、４…導
電膜、５…スタンパ、６…金属膜、

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】鏡面研磨された状態の基板として用いるシ
   リコンウエハの面にポジ型フォトレジストの薄膜を塗布
   形成させる工程と、記録の対象にされている情報信号に
   よって強度変調されている記録光によって前記したポジ
   型フォトレジストの薄膜を露光する工程と、露光された
   ポジ型フォトレジストの薄膜を現像する工程と、現像さ
   れたポジ型フォトレジストの薄膜をマスク部材としてシ
   リコンウエハに乾式エッチング法により記録の対象にさ
   れている情報信号と対応する凹部を形成させる工程と、
   記録の対象にされている情報信号と対応する凹部が形成
   されたシリコンウエハからポジ型フォトレジストの薄膜
   を除去して情報記録媒体製作用の母盤を得る工程と、前
   記した情報記録媒体製作用の母盤にメッキ法により情報
   記録媒体製作用スタンパを付着形成させる工程と、情報
   記録媒体製作用の母盤から情報記録媒体製作用スタンパ
   を剥離する工程とからなる情報記録媒体製作用スタンパ
   の製作方法。
2. 【請求項２】鏡面研磨された状態のシリコンウエハの面
   に金属の薄膜を付着形成させて基板を得る工程と、基板
   における金属の薄膜上にポジ型フォトレジストの薄膜を
   塗布形成させる工程と、記録の対象にされている情報信
   号によって強度変調されている記録光によって前記した
   ポジ型フォトレジストの薄膜を露光する工程と、露光さ
   れたポジ型フォトレジストの薄膜を現像する工程と、現
   像されたポジ型フォトレジストの薄膜をマスク部材とし
   て基板の金属の薄膜に乾式エッチング法により記録の対
   象にされている情報信号と対応する凹部を形成させる工
   程と、記録の対象にされている情報信号と対応する凹部
   が金属の薄膜に形成された基板からポジ型フォトレジス
   トの薄膜を除去して情報記録媒体製作用の母盤を得る工
   程と、前記した情報記録媒体製作用の母盤にメッキ法に
   より情報記録媒体製作用スタンパを付着形成させる工程
   と、情報記録媒体製作用の母盤から情報記録媒体製作用
   スタンパを剥離する工程とからなる情報記録媒体製作用
   スタンパの製作方法。