JPH10312585A - 光学記録媒体作製用スタンパ、スタンパ用原盤、および光学記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 短いピットを含む微細凹凸パターンを有する
光学記録媒体においてもピット幅のばらつきの改善をは
かることができるようにし、またＲＦ信号の劣化を改善
することができるようにする。 【解決手段】 基盤上に塗布された感光性材料層２に、
記録光による記録露光を行う工程と、その後感光性材料
層２に対する現像処理を行って目的とする光学記録媒体
における微細凹凸パターンに対応する凹凸パターン４を
形成する工程と、この凹凸パターン４の凹凸表面に沿っ
て薄膜を堆積してこの凹凸パターンの幅が縮小された縮
小凹凸パターン１４を形成する工程とを経て光学記録媒
体作製用スタンパ用原盤を作製する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク等の光
学記録媒体作製用スタンパ、スタンパ用原盤、および光
学記録媒体の製造方法に係わる。

【０００２】

【従来の技術】光学記録媒体、例えばＲＯＭ（Read Onl
y Memory) 型の光ディスク、あるいは相変化記録層を有
する書き換え可能型の光ディスク等においては、所要の
フォーマットによるピットもしくは（および）グルー
ブ、すなわち微細凹凸パターンが形成される。この微細
凹凸パターンの形成は、この微細凹凸パターンの反転パ
ターンによる凹凸パターンが形成されたスタンパを用い
て射出成型することによって光ディスクの成型と同時に
微細凹凸パターンを形成するとか、あるいは２Ｐ法（フ
ォトポリマリゼーション：Photopolymerization 法) に
よって、すなわち基板上に紫外線硬化樹脂を塗布し、こ
れに上述のスタンパを押圧して微細凹凸パターンを転写
形成し紫外線照射するという方法が採られる。

【０００３】このスタンパの形成は、まずスタンパを転
写形成する原盤の作製がなされる。この原盤の作製は、
通常平滑面を有するガラス基盤上に、フォトレジストに
よる感光性材料層の形成がなされ、これに最終的に得る
すなわち目的とする微細凹凸パターンによる露光記録を
なし、現像処理を行うことによって微細凹凸パターンを
形成し、これに例えばＮｉメッキによる金属層の形成を
行い、原盤からの剥離によってスタンパを作製すると
か、あるいは一旦マスター盤を作製し、このマスター盤
を用いてマザー盤を転写作製し、更にこのマザー盤を用
いた転写によって同様のスタンパを作製する。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、光学記録媒
体において、記録の高密度化をはかるには、上述した原
盤作製における感光性材料層に対する露光、すなわち記
録露光は、できるだけ短波長の記録光を用い、また、そ
の記録光を感光性材料層に対して収束照射する光学系
（対物レンズ）の開口数Ｎ．Ａ．が大きいことが必要と
なる。現在露光記録波長の短い光源としては、Ａｒおよ
びＫｒレーザの波長３５１ｎｍである。また、対物レン
ズの開口数Ｎ．Ａ．は、０．９０で、空気中ではほぼ限
界に近づいている。

【０００５】一方、光ディスク上に記録される微細凹凸
パターンのピット幅は、ピット長に依存する。すなわち
ピット長が短い場合、これに伴って露光量が小さくなる
ことから、ピット幅も狭くなる。このように、短いピッ
トにおいて、その幅があまり狭くなると、ＲＦ（高周
波）信号は、激しく劣化してしまう。例えばＤＶＤ（デ
ィジタル ビデオ ディスク）の露光記録についていう
と、上述した波長３５１ｎｍで、開口数Ｎ．Ａ．が、
０．９０で、記録光スポット径が０．４７μｍの場合、
ＤＶＤにおける最短のピット長の０．４μｍ長でも幅の
細りは無視できる。これは、このＤＶＤの最短ピット長
が、記録光のスポット径の８５％程度に達していること
による。しかしながら、更に高密度のフォーマットを露
光記録する場合、長さ０．４μｍ未満のピットについて
は、露光量の問題から、ピット幅が、小さくなり、特に
ＲＦ信号の劣化が著しくなる。

【０００６】また同時に、ピット長が短くなって露光量
が小さくなるほど、露光量の変動による露光幅すなわち
ピット幅のばらつきも大きくなるという問題がある。こ
れについて図２３を参照して説明する。図２３Ａは、ピ
ット長が長く比較的大きな露光量が得られる場合の、露
光スポットにおける露光量分布を示す。この場合、その
露光量が、曲線ａ₁ と曲線ａ₂との間でばらついている
場合を示している。また、同図Ｂは、ピット長が短く露
光量が小さい場合の露光スポットの露光量の分布を示
し、その露光量が曲線ｂ₁と曲線ｂ₂ との間でばらつい
ている場合を示す。図２３において、破線曲線ｃで示す
レベルは、感光性材料層（フォトレジスト）のピット形
成可能な露光のしきい値を示す。したがって、露光量が
大きいすなわちピット長が大きい場合は、図２３Ａに示
すように、露光量の分布がａ₁ からａ₂ に変動すると
き、ピット形成幅はＷ_1sからＷ_2sに変化するに比し、露
光量が小さいすなわちピット長が短い場合は、図２３Ｂ
に示すように、露光量の分布がｂ₁ からｂ₂ に変動する
とき、ピット形成幅はＷ_1wからからＷ_2wに変化するもの
であり、露光量が小さい場合の露光量の変動は、露光量
が大きい場合に比し大きい。

【０００７】そこで、露光光源の露光強度を充分大きく
することによって、上述したピット長が０．４μｍ未満
のピットにおいても、そのばらつきの低減化をはかるこ
とが考えられる。また、このように露光量を大とすると
きは、図２３Ｂの分布が図２３Ａの分布へと近づけられ
ることから、短いピットにおける幅を大きくすることが
でき、一方長いピットは、幅の拡大が飽和して来ること
から、短いピットと長いピットとの幅のばらつきも小さ
くなり、これによってジッター低減の効果を大きくする
ことができる。しかしながら、このように露光光源の露
光強度を大きくすると、全体的にピット幅が大きくなっ
てピット間相互の干渉（符号間干渉やクロストーク）が
増大し、ＲＦ信号の改善につながらない。

【０００８】上述した理由から、通常一般の露光装置を
用いてＤＶＤを越える密度の光学記録媒体、例えば光デ
ィスクを記録することは困難であった。

【０００９】本発明においては、記録スポット径の８５
％以下程度の長さの、０．４０μｍ未満のきわめて短い
ピットを含む微細凹凸パターンを有する光学記録媒体に
おいても、ピット幅のばらつきの改善をはかることがで
きるようにし、またＲＦ信号の劣化を改善することがで
きるようにする。

【００１０】また、本発明においては、微細凹凸パター
ンが、上述した８５％以下程度の長さの、０．４０μｍ
未満のきわめて短いピットを含むことのない、例えばグ
ルーブのみによる微細凹凸パターンである場合において
も、そのグルーブ幅を、上述の記録露光のスポット径に
比して充分小さくする場合において有益な光学記録媒体
作製用スタンパ、スタンパ用原盤、および光学記録媒体
の製造方法を提供するおのである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明による光学記録媒
体作製用スタンパ用原盤の製造方法においては、基盤上
に塗布された感光性材料層に、記録光による記録露光を
行う工程と、その後感光性材料層に対する現像処理を行
って目的とする光学記録媒体における微細凹凸パターン
に対応する凹凸パターンを形成する工程と、この凹凸パ
ターンの凹凸表面に沿って薄膜を堆積してこの凹凸パタ
ーンの幅が縮小された縮小凹凸パターンを形成する工程
とを経て光学記録媒体作製用スタンパ用原盤を作製す
る。

【００１２】また、本発明による光学記録媒体作製用ス
タンパの製造方法においては、基盤上に塗布された感光
性材料層に、記録光による記録露光を行う工程と、その
後感光性材料層に対する現像処理を行って目的とする光
学記録媒体における微細凹凸パターンに対応する凹凸パ
ターンを形成する工程と、この凹凸パターンの凹凸表面
に沿って薄膜を堆積してこの凹凸パターンの幅が縮小さ
れた縮小凹凸パターンを形成する工程とを経てスタンパ
作製用原盤を作製する工程と、さらに、このスタンパ作
製用原盤の転写によってスタンパを作製する工程とを経
て光学記録媒体作製用スタンパを作製する。

【００１３】また、本発明による光学記録媒体作製用ス
タンパの製造方法においては、基盤上に塗布された感光
性材料層に、記録光による記録露光を行う工程と、その
後感光性材料層に対する現像処理を行って目的とする光
学記録媒体における微細凹凸パターンに対応する凹凸パ
ターンを形成してスタンパ作製用原盤を作製する工程
と、このスタンパ作製用原盤の転写によってマスター盤
を作製する工程と、このマスター盤の転写によってマザ
ー盤を作製する工程と、更に、このマザー盤に転写され
た凹凸パターンの凹凸表面に沿って薄膜を堆積してこの
凹凸パターンの幅が縮小された縮小凹凸パターンを得る
工程と、マザー盤の転写によってスタンパを作製する工
程とを経て光学記録媒体作製用スタンパを作製する。

【００１４】また、本発明による光学記録媒体の製造方
法においては、上述した各本発明による、すなわち凹凸
パターンの凹凸表面に沿って薄膜を堆積して縮小凹凸パ
ターンを形成する工程を経て得たスタンパによってフォ
トポリマー法もしくは射出成型法によって光学記録媒体
を得る。

【００１５】上述の本発明方法によれば、光学記録媒体
を得るためのスタンパを形成する原盤もしくはマザー盤
における凹凸パターンに薄膜の成膜を行うことによって
縮小凹凸パターンを形成するようにしたことから、原盤
形成の露光記録においては、その幅を大に形成すること
ができる。つまり、例えばピット長が、露光スポット径
の８５％未満に相当する０．４０μｍ未満のピット長を
含むフォーマットによる光学記録媒体を得る場合におい
ても、その原盤形成の露光記録における凹凸パターンの
幅を大に形成することができることから、その露光強度
を充分大きくすることができ、図２３で説明したよう
に、凹凸パターンの幅のばらつきを改善できる。また、
露光強度を充分大きくすることができることから、いわ
ゆる“きれ”のよいパターンとして形成することがで
る。したがって、最終的得る光学記録媒体における微細
凹凸パターンは、その幅のばらつきが改善され、さらに
パターンのいわゆる“きれ”がよい微細凹凸パターンと
して形成されることからＲＦ特性の改善が図られる。

【００１６】そして、最終的に得るスタンパにおいて
は、その凹凸パターンは、記録露光時のパターンに比
し、その幅が縮小されたパターンであることから、露光
強度を大にすることによって全体の幅がおおきくなって
ピット間相互の干渉を増加させるような不都合も回避さ
れる。したがって、本発明によれば、確実にＲＦ信号の
改善がはかられる。

【００１７】

【発明の実施の形態】本発明による光学記録媒体作製用
スタンパ用原盤の製造方法においては、基盤上に塗布さ
れた感光性材料層に、記録光による記録露光を行う工程
と、その後感光性材料層に対する現像処理を行って目的
とする光学記録媒体における微細凹凸パターンに対応す
る凹凸パターンを形成する工程と、この凹凸パターンの
凹凸表面に沿って薄膜を堆積してこの凹凸パターンの幅
が縮小された縮小凹凸パターンを形成する工程とを経て
光学記録媒体作製用スタンパ用原盤を作製する。

【００１８】また、本発明による光学記録媒体作製用ス
タンパの製造方法においては、基盤上に塗布された感光
性材料層に、記録光による記録露光を行う工程と、その
後感光性材料層に対する現像処理を行って目的とする光
学記録媒体における微細凹凸パターンに対応する凹凸パ
ターンを形成する工程と、この凹凸パターンの凹凸表面
に沿って薄膜を堆積してこの凹凸パターンの幅が縮小さ
れた縮小凹凸パターンを形成する工程とを経てスタンパ
作製用原盤を作製する工程と、さらに、このスタンパ作
製用原盤の転写によってスタンパを作製する工程とを経
え光学記録媒体作製用スタンパを作製する。

【００１９】また、本発明による光学記録媒体作製用ス
タンパの製造方法においては、基盤上に塗布された感光
性材料層に、記録光による記録露光を行う工程と、その
後感光性材料層に対する現像処理を行って目的とする光
学記録媒体における微細凹凸パターンに対応する凹凸パ
ターンを形成してスタンパ作製用原盤を作製する工程
と、このスタンパ作製用原盤の転写によってマスター盤
を作製する工程と、このマスター盤の転写によってマザ
ー盤を作製する工程と、更に、このマザー盤に転写され
た凹凸パターンの凹凸表面に沿って薄膜を堆積してこの
凹凸パターンの幅が縮小された縮小凹凸パターンを得る
工程と、マザー盤の転写によってスタンパを作製する工
程とを経て光学記録媒体作製用スタンパを作製する。

【００２０】また、本発明による光学記録媒体の製造方
法においては、上述した各本発明による、すなわち凹凸
パターンの凹凸表面に沿って薄膜を堆積して縮小凹凸パ
ターンを形成する工程を経て得たスタンパによってフォ
トポリマー法もしくは射出成型法によって光学記録媒体
を得る。

【００２１】感光性材層に対する記録露光は、波長３５
０ｎｍ以上の記録光によって行い、０．４０μｍ未満の
長さのピットを含むフォーマット作製用凹凸パターンを
得る。

【００２２】凹凸パターンを形成する上述の上記薄膜の
形成は、スパッタあるいは化学メッキによって行うこと
ができる。

【００２３】図１〜図９の工程図を参照して本発明によ
る光学記録媒体作製用スタンパ用原盤の製造方法の一例
と、この原盤によって光学記録媒体作製用スタンパを作
製し、このスタンパを用いて光ディスクを作製する各一
例を説明する。先ず、図１に示すように、少なくとも１
主面１ｓが平滑化された基盤１例えばガラス基盤を用意
し、この主面１ｓ上に、感光性材料層例えばポジ型のフ
ォトレジスト２を、回転塗布法等によって均一な厚さに
塗布する。そして、感光性材料層２に対して、最終的に
得る光学記録媒体の微細凹凸パターンに対応するもの
の、この微細凹凸パターンの幅より大なる幅のパターン
に記録光Ｌを、光学系すなわち対物レンズ３を通じて露
光記録する。

【００２４】図２に示すように、フォトレジスト２に対
して現像処理を行って露光部にピットが形成された凹凸
パターン４を形成する。その後、ディープＵＶ（遠紫外
線）を全面的に照射する。

【００２５】続いてフォトレジスト２の表面をシランカ
ップリング剤処理して、図３に示すように、シラン層４
を形成する。このとき、先に行ったディープＵＶ照射に
よりフォトレジスト表面に発生した水酸基が、シランカ
ップリング剤の水酸基と水素結合することにより両者は
強固に密着する。

【００２６】このようにシランカップリング剤で処理し
た原盤６に、図４に示すように、薄膜７の被着を行って
凹凸パターン４の幅の縮小化を行って縮小凹凸パターン
１４を形成する。この薄膜７の形成は、Ｎｉを化学メッ
キもしくはスパッタリングによって行うことができる。
Ｎｉの化学メッキとは、溶液中に含まれる還元剤の酸化
反応で遊離する電子によって金属イオンを還元し、金属
被膜として析出させるメッキ法である。例えば、塩化ニ
ッケル、次亜燐酸ナトリウムをｐＨ調整剤、界面活性剤
とともに混合した溶液中では、 Ｈ₂ ＰＯ₂ ^- →Ｈ₂ ＰＯ₃ ^2-＋２ｅ^- （酸化反応） Ｎｉ²⁺ ＋２ｅ^- → Ｎｉ↓ （還元反応） の反応によりＮｉ薄膜７が析出する。このようにしてシ
ランカップリング剤を介してフォトレジスト２にＮｉ薄
膜７が強固に被着され、この薄膜の厚さの選定によっ
て、上述の凹凸パターン４の凹部の幅より小なる幅とさ
れた凹部が形成された凹凸パターン１４が形成される。

【００２７】図５に示すように、Ｎｉ薄膜７の表面に、
例えば重クロム酸溶液による酸化処理を行って剥離層８
を形成する。

【００２８】そして、この上に、金属例えばＮｉの電気
メッキを縮小凹凸パターン１４を埋込むに充分な厚さに
被着形成し、図６に示すように、この金属層を、原盤６
の剥離層８から剥離して、薄膜７の縮小凹凸パターン１
４が転写された凹凸パターン２４が形成されたスタンパ
９を形成する。

【００２９】このようにして得たスタンパ９を、図示し
ないが、射出成型用金型内に配置して、ポリカーボネー
ト等の樹脂の注入を行って、スタンパ９の凹凸パターン
２４が転写された微細凹凸パターン３４が形成された目
的とする光学記録媒体１０例えば光ディスクを得る。

【００３０】この光学記録媒体１０には、図８に示すよ
うに、例えばその表面にＡｌ膜による反射膜１１をスパ
ッタリング、蒸着等によって被着し、図９に示すよう
に、反射膜１１上に例えば紫外線硬化型樹脂による保護
膜１２を塗布する。このようにして目的とする微細凹凸
パターン３４を有する光学記録媒体、例えば光ディスク
１０を得る。

【００３１】本発明方法における感光性材料層２に対す
る露光は、その幅を大にすることから、最適なピット
幅、すなわちＲＦ信号の揺らぎを示すジッター値が、最
小となるようなピット幅を得る露光強度より大きな光強
度で露光することができる。そして、このように、露光
強度を大きくできることから図２３で説明したところか
ら明かなように、幅のばらつきを回避でき、短いピット
すなわち露光スポットの８５％以下のピット長を有する
ピットを得る場合においても、ピット長が長いピット
と、その幅のばらつきが小さいピットを形成できる。

【００３２】そして、このようにして、得られた光学記
録媒体１０において、その微細凹凸パターン３４の幅が
最適な値、すなわちジッターが最小となる幅となるよう
に、図４におけるＮｉ薄膜７の厚さの選定がなされる。

【００３３】上述した例では、光学記録媒体例えば光デ
ィスク１０を成型するスタンパ９を原盤６からの直接的
転写によって形成した場合であるが、スタンパ９の損耗
を考慮して、原盤からマスター盤を転写形成し、このマ
スター盤からマザー盤を転写して形成し、このマザー盤
から多数のスタンパ９を作製する方法をとることができ
る。

【００３４】この場合の一例を、図１０〜図２０の工程
図を参照して説明する。この場合においても、図１で説
明したと同様に、先ず、図１０に示すように、少なくと
も１主面１ｓが平滑化された基盤１例えばガラス基盤を
用意し、この主面１ｓ上に、感光性材料層例えばポジ型
のフォトレジスト２を、回転塗布法等によって均一な厚
さに塗布する。そして、本発明においては、このフォト
レジスト２に対して、最終的に形成する光学記録媒体の
微細凹凸パターンの幅より大なる幅のパターンに記録光
Ｌを、光学系すなわち対物レンズ３を通じて露光記録す
る。この場合においても、この露光は、最適なピット
幅、すなわちＲＦ信号の揺らぎを示すジッター値が、最
小となるようなピット幅を得る露光強度より大きな光強
度で露光する。

【００３５】図１１に示すように、感光性材料層２に対
する現像処理を行って凹凸パターン４を形成する。次
に、この例では、この凹凸パターン４を埋込むように、
充分な厚さに、例えば化学メッキおよび電気メッキによ
る金属層例えばＮｉ層を被着し、これを、図１２に示す
ように、感光性材料層２から剥離して、凹凸パターン４
が転写された凹凸パターン５４が形成された例えばＮｉ
よりなるマスター盤５０を作製する。

【００３６】図１３に示すように、マスター盤５０の凹
凸パターン５４を有する面を、例えば重クロム酸溶液に
よる酸化処理を行い剥離層５５を形成する。そして、こ
の剥離層５５上に、金属例えばＮｉを、凹凸パターン５
４を埋込むように充分な厚さに、例えば電気メッキし、
図１４に示すように、この金属層を、剥離層５５から剥
離して、凹凸パターン５４が転写された凹凸パターン６
４が形成された例えばＮｉよりなるマザー盤６０を作製
する。

【００３７】このマザー盤６０の凹凸パターン６４上
に、例えばＮｉを化学メッキ、あるいはスパッタリング
することによって薄膜１７の被着を行って凹凸パターン
４のピットの縮小化を行って縮小凹凸パターン９４を形
成する。

【００３８】図１６に示すように、マザー盤６０の薄膜
１７、この例ではＮｉ層の表面を例えば重クロム酸溶液
による酸化処理を行い剥離層５５を形成する。このよう
に剥離処理が施された凹凸パターン６４上に、これを埋
込むに充分な厚さに金属例えばＮｉの電気メッキし、図
１７に示すように、この金属層を、剥離層５５から剥離
して、縮小凹凸パターン９４が転写された凹凸パターン
７４が形成された例えばＮｉよりなるスタンパ７０を作
製する。

【００３９】このようにして得たスタンパ７０を、図示
しないが、射出成型用金型内に配置して、ポリカーボネ
ート等の樹脂の注入を行って、スタンパ７０の凹凸パタ
ーン７４が転写された目的とする微細凹凸パターン３４
が形成された光学記録媒体１０例えば光ディスクを得
る。

【００４０】この光学記録媒体１０には、図１９に示す
ように、例えばその表面にＡｌ膜による反射膜１１をス
パッタリング等によって被着し、図２０に示すように、
反射膜１１上に例えば紫外線硬化型樹脂による保護膜１
２を塗布する。このようにして光学記録媒体、例えば光
ディスク１０を得る。

【００４１】そして、この方法の例においても、最終的
に形成する微細凹凸パターン３４の幅が、最適な値、す
なわちジッターが最小となる幅となるように、図１５に
おけるＮｉ薄膜１７の厚さの選定がなされる。

【００４２】また、この場合においても、スタンパ７０
を用いて２Ｐ法によって光学記録媒体１０を得ることが
できる。

【００４３】上述の本発明方法によれば、ピット長に依
存したピット幅の差が少なく、かつ読み取り時のピット
間の干渉が小さなピットを持つ、光ディスクを形成する
ことができる。ここで、縮小凹凸パターンを形成するた
めの薄膜７，１７の厚さについて考察する。いま、図２
１に示すように、板面と平行な平面上に成膜される薄膜
の厚さをａとし、記録光学系、すなわち感光性剤（フォ
トレジスト）のガンマ特性によって決定されるピットの
底面の幅をＷとし、ピットの側面の平均斜度をθとす
る。ピットの側面に成膜される薄膜の厚さｂは、成膜が
完全な指向性をもってなされた場合に最小値ａ×ｃｏｓ
θとなり、全く指向性のない成膜がなされた場合の厚さ
はａとなる。すなわち、ピット側面に成膜される薄膜の
厚さｂは、下記（数１）の範囲となる。

【００４４】

【数１】ａ×ｃｏｓθ＜ｂ＜ａ

【００４５】成膜に完全な指向性がある場合にはピット
の縮小は起こらないが、実際にはこのような成膜プロセ
スはないため、ピットの縮小は必ず起こる。そこで、簡
単のため、成膜に指向性が全くない場合について考え
る。ピットから信号を再生するためには、ピットの縮小
により、ピットの底面がなくならにように成膜されるこ
とが必須である。そして、このとき、指向性が全くない
としたことにより、ピットの側面にも厚さａの成膜がな
され、この場合にピット底面が消失する膜厚は、（数
２）となる。

【００４６】

【数２】Ｗ×ｓｉｎθ／｛２×（１−ｃｏｓθ）｝

【００４７】すなわち、（数３）でなければならない。

【数３】ａ＜Ｗ×ｓｉｎθ／｛２×（１−ｃｏｓθ）｝

【００４８】このとき、成膜によって縮小されたピット
の底面の幅ｍは、（数４）となる。

【００４９】

【数４】ｍ＝Ｗ−２×ａ×ｔａｎ（θ／２）

【００５０】このように、薄膜７および１７の成膜の膜
厚増加に比例してピットの縮小すなわち縮小凹凸パター
ンを形成することができる。

【００５１】上述の本発明方法によれば、光学記録媒体
を得るためのスタンパを形成する原盤もしくはマザー盤
における凹凸パターンに薄膜の成膜を行うことによって
縮小凹凸パターンを形成するようにしたことから、原盤
形成の露光記録においては、その幅を大に形成すること
ができる。つまり、例えばピット長が、露光スポット径
の８５％未満に相当する０．４０μｍ未満のピット長を
含むフォーマットによる光学記録媒体を得る場合におい
ても、その原盤形成の露光記録における凹凸パターンの
幅を大に形成することができることから、その露光強度
を大きくすることができ、図２３で説明したように、凹
凸パターンの幅のばらつきを改善できる。また、露光強
度を充分大きくすることができることから、いわゆる
“きれ”のよいパターンとして形成することがでる。し
たがって、最終的得る光学記録媒体における微細凹凸パ
ターンは、その幅のばらつきが改善され、さらにパター
ンのいわゆる“きれ”がよい微細凹凸パターンとして形
成されることからＲＦ特性の改善が図られる。

【００５２】上述したように、本発明方法によれば、光
学記録媒体を得るためのスタンパを形成する原盤もしく
はマザー盤におけるピットもしくは（および）グルーブ
に薄膜の成膜を行うものであるので、このピットもしく
は（および）グルーブの幅を、露光記録によって得る幅
より小にすることができる。したがって、本発明方法に
よれば、ピット長が０．４０μｍ未満のピット長を含む
フォーマットによる光学記録媒体を得る場合において
も、その露光記録に際しては、最終的に得るピットの幅
より大なる露光量をもって形成することができることか
ら、確実に光学記録媒体を得ることができる。

【００５３】尚、上述した例では、微細凹凸パターン３
４が形成され、これの上に反射膜１１および保護膜１２
が形成された光ディスクを作製した場合であるが、微細
凹凸パターン３４上に相変化材料等による記録層が形成
された光学記録媒体等を得る場合に本発明を適用するこ
ともできるなど、本発明方法は、上述した例に限られな
い。

【００５４】また、本発明はピット長の短いピットを有
する微細凹凸パターンの形成に有益であるものの、微細
幅を有するグルーブの形成に適用することができる。

【００５５】

【発明の効果】上述したように、本発明方法によれば、
例えばピット長が０．４０μｍ未満のピット長を含むフ
ォーマットによる光学記録媒体を得る場合においても、
その露光記録に際しては、最終的に得るピットの幅より
大なる露光量をもって形成することができることから、
幅にばらつきがなく、確実に所要の微細凹凸パターンを
有する光学記録媒体を得ることができる。

【００５６】したがって、本発明を適用することによっ
て、露光記録光のスポット径の８５％以下のピット長を
含むフォーマットを記録する場合においても、ＲＦ信号
のジッターを効果的に低減化することができる。

【００５７】そして、現状においては、記録露光の波長
として３５１ｎｍ以下の露光光の実用化はされていない
が、たとえこれ以下の波長の開発がなされて実用化に至
っても、これに伴って記録露光のための材料、プロセ
ス、環境管理等に大幅な変更が必要となることが予想さ
れ、工業的に問題が多くなることが予想されるが、本発
明によれば、記録波長の短縮化に依存せずに、現状の波
長範囲で、高密度光学記録媒体例えば光ディスクを充分
なマージンを保ちつつ、安定に露光記録できるという工
業的に大きな利益をもたらす。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明方法の一例の説明に供する一工程の概略
断面図である。

【図２】本発明方法の一例の説明に供する一工程の概略
断面図である。

【図３】本発明方法の一例の説明に供する一工程の概略
断面図である。

【図４】本発明方法の一例の説明に供する一工程の概略
断面図である。

【図５】本発明方法の一例の説明に供する一工程の概略
断面図である。

【図６】本発明方法の一例の説明に供する一工程の概略
断面図である。

【図７】本発明方法の一例の説明に供する一工程の概略
断面図である。

【図８】本発明方法の一例の説明に供する一工程の概略
断面図である。

【図９】本発明方法の一例の説明に供する一工程の概略
断面図である。

【図１０】本発明方法の他の例の説明に供する一工程の
概略断面図である。

【図１１】本発明方法の他の例の説明に供する一工程の
概略断面図である。

【図１２】本発明方法の他の例の説明に供する一工程の
概略断面図である。

【図１３】本発明方法の他の例の説明に供する一工程の
概略断面図である。

【図１４】本発明方法の他の例の説明に供する一工程の
概略断面図である。

【図１５】本発明方法の他の例の説明に供する一工程の
概略断面図である。

【図１６】本発明方法の他の例の説明に供する一工程の
概略断面図である。

【図１７】本発明方法の他の例の説明に供する一工程の
概略断面図である。

【図１８】本発明方法の他の例の説明に供する一工程の
概略断面図である。

【図１９】本発明方法の他の例の説明に供する一工程の
概略断面図である。

【図２０】本発明方法の他の例の説明に供する一工程の
概略断面図である。

【図２１】本発明方法におけるピットと成膜との関係の
説明図である。

【図２２】本発明方法におけるピットと成膜との関係の
説明図である。

【図２３】ＡおよびＢは記録露光量の分布曲線図であ
る。

【符号の説明】

１ 基盤、２ 感光性材層（フォトレジスト）、３ 対
物レンズ、４ 凹凸パターン、８ 剥離層、９ スタン
パ、１０ 光学記録媒体、１４ 縮小凹凸パターン、２
４ 凹凸パターン、３４ 微細凹凸パターン、５０ マ
スター盤、５４凹凸パターン、５５ 剥離層、６０ マ
ザー盤、６４ 凹凸パターン、７０スタンパ、９４ 縮
小凹凸パターン

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 増原 慎 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基盤上に塗布された感光性材料層に、記
   録光による記録露光を行う工程と、 その後上記感光性材料層に対する現像処理を行って目的
   とする光学記録媒体における微細凹凸パターンに対応す
   る凹凸パターンを形成する工程と、 上記凹凸パターンの凹凸表面に沿って薄膜を堆積して該
   凹凸パターンの幅が縮小された縮小凹凸パターンを形成
   する工程とを有することを特徴とする光学記録媒体作製
   用スタンパ用原盤の製造方法。
2. 【請求項２】 基盤上に塗布された感光性材料層に、記
   録光による記録露光を行う工程と、 その後上記感光性材料層に対する現像処理を行って目的
   とする光学記録媒体における微細凹凸パターンに対応す
   る凹凸パターンを形成する工程と、 上記凹凸パターンの凹凸表面に沿って薄膜を堆積して該
   凹凸パターンの幅が縮小された縮小凹凸パターンを形成
   する工程とを経てスタンパ作製用原盤を作製する工程
   と、 該スタンパ作製用原盤の転写によってスタンパを作製す
   る工程とを有することを特徴とする光学記録媒体作製用
   スタンパの製造方法。
3. 【請求項３】 基盤上に塗布された感光性材料層に、記
   録光による記録露光を行う工程と、 その後上記感光性材料層に対する現像処理を行って目的
   とする光学記録媒体における微細凹凸パターンに対応す
   る凹凸パターンを形成してスタンパ作製用原盤を作製す
   る工程と、 該スタンパ作製用原盤の転写によってマスター盤を作製
   する工程と、 該マスター盤の転写によってマザー盤を作製する工程
   と、 該マザー盤に転写された凹凸パターンの凹凸表面に沿っ
   て薄膜を堆積して該凹凸パターンの幅が縮小された縮小
   凹凸パターンを得る工程と、 該マザー盤の転写によってスタンパを作製する工程とを
   有することを特徴とする光学記録媒体作製用スタンパの
   製造方法。
4. 【請求項４】 凹凸パターンの凹凸表面に沿って薄膜を
   堆積して縮小凹凸パターンを形成する工程を経て得たス
   タンパによってフォトポリマー法もしくは射出成型法に
   よって光学記録媒体を得ることを特徴とする光学記録媒
   体の製造方法。
5. 【請求項５】 上記感光性材層に対する記録露光を、波
   長３５０ｎｍ以上の記録光によって行い、０．４０μｍ
   未満の長さのピットを含むフォーマット作製用凹凸パタ
   ーンを得ることを特徴とする請求項１に記載の光学記録
   媒体作製用スタンパ用原盤の製造方法。
6. 【請求項６】 上記感光性材層に対する記録露光を、波
   長３５０ｎｍ以上の記録光によって行い、０．４０μｍ
   未満の長さのピットを含むフォーマット作製用凹凸パタ
   ーンを形成することを特徴とする請求項２に記載の光学
   記録媒体作製用スタンパの製造方法。
7. 【請求項７】 上記感光性材層に対する記録露光を、波
   長３５０ｎｍ以上の記録光によって行い、０．４０μｍ
   未満の長さのピットを含むフォーマット作製用凹凸パタ
   ーンを形成することを特徴とする請求項３に記載の光学
   記録媒体作製用スタンパの製造方法。
8. 【請求項８】 上記薄膜の形成を、スパッタあるいは化
   学メッキによって行うことを特徴とする請求項１に記載
   の光学記録媒体作製用スタンパ用原盤の製造方法。
9. 【請求項９】 上記薄膜の形成を、スパッタあるいは化
   学メッキによって行うことを特徴とする請求項２に記載
   の光学記録媒体作製用スタンパの製造方法。
10. 【請求項１０】 上記薄膜の形成を、スパッタあるいは
    化学メッキによって行うことを特徴とする請求項３に記
    載の光学記録媒体作製用スタンパの製造方法。