JPS6177152A - 光デイスク用スタンパの製作法 - Google Patents
光デイスク用スタンパの製作法Info
- Publication number
- JPS6177152A JPS6177152A JP19659984A JP19659984A JPS6177152A JP S6177152 A JPS6177152 A JP S6177152A JP 19659984 A JP19659984 A JP 19659984A JP 19659984 A JP19659984 A JP 19659984A JP S6177152 A JPS6177152 A JP S6177152A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stamper
- photoresist layer
- layer
- manufacturing
- optical disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は光ディスクの作製に使用されるスタンパの製作
法に関する。
法に関する。
従来、スタンパの作製方法としては複々の方法が知られ
ている。その代表的な方法ではガラス基板上にＮ１、Ｏ
ｒなどの金属層をスパッタリング法や真空蒸着法で形成
しこの金属層上に潜像記録材料であるフォトレジスト（
例えばＡＺ−１３５０）層を塗布して原盤を裏作し次い
でこの原盤をカッテラティング（書込み）マシーンにか
け次いでＡｒレーザ光（波長４ｓ７９Ｋ）でフオ・トレ
ジスト層を選択的に露光しこれによって必要な信号をフ
ォトレジスト層に書込み現像をして凹凸部を形成する。
ている。その代表的な方法ではガラス基板上にＮ１、Ｏ
ｒなどの金属層をスパッタリング法や真空蒸着法で形成
しこの金属層上に潜像記録材料であるフォトレジスト（
例えばＡＺ−１３５０）層を塗布して原盤を裏作し次い
でこの原盤をカッテラティング（書込み）マシーンにか
け次いでＡｒレーザ光（波長４ｓ７９Ｋ）でフオ・トレ
ジスト層を選択的に露光しこれによって必要な信号をフ
ォトレジスト層に書込み現像をして凹凸部を形成する。
これがガラス原盤でありこれから複製される金型はガラ
ス原盤の凹凸部を正確に転写しなお且つ長寿命が要求さ
れる。
ス原盤の凹凸部を正確に転写しなお且つ長寿命が要求さ
れる。
それ故、ニッケル電鋳前の表面導体化（メタルメンブレ
ン）の工程に工夫がなされてきた。一般的には第２図に
示すようにガラス基板１の上に形成したフォトレジスト
層２の凹凸部にスパッタリング法や真空蒸着法でＮ１層
４′を形成した後Ｎ１電鋳５を行う。この場合導体化と
電鋳に使用される金属が同一であるので密着性とストレ
スには問題はないがスタンパ表面がＮｉ層であるので繰
返し使用回数が約７０００回と寿命に問題がある。そこ
で、スタンパの特命をさらに延ばす工夫として第３図に
示すようにＮｌｌ＠４’の上にさらにＣｒ層４＃を設け
て２層構造とすることが提案されているがスタンパ表面
がＣｒ層であるため粗くなりまたＣｒ層とＮｉ層との境
界でストレス（膨張係数の差によって境界面に引張り応
力と圧縮応力が働き塑性変形を起す）が発生して複製が
忠実に行われていないのが現状である。
ン）の工程に工夫がなされてきた。一般的には第２図に
示すようにガラス基板１の上に形成したフォトレジスト
層２の凹凸部にスパッタリング法や真空蒸着法でＮ１層
４′を形成した後Ｎ１電鋳５を行う。この場合導体化と
電鋳に使用される金属が同一であるので密着性とストレ
スには問題はないがスタンパ表面がＮｉ層であるので繰
返し使用回数が約７０００回と寿命に問題がある。そこ
で、スタンパの特命をさらに延ばす工夫として第３図に
示すようにＮｌｌ＠４’の上にさらにＣｒ層４＃を設け
て２層構造とすることが提案されているがスタンパ表面
がＣｒ層であるため粗くなりまたＣｒ層とＮｉ層との境
界でストレス（膨張係数の差によって境界面に引張り応
力と圧縮応力が働き塑性変形を起す）が発生して複製が
忠実に行われていないのが現状である。
本発明は上記現状に鑑みてなされたものであって、その
目的は光ディスクの複製に必要なスタンパの初期品質の
維持と寿命の延長にある。
目的は光ディスクの複製に必要なスタンパの初期品質の
維持と寿命の延長にある。
上記目的を達成するために、本発明はフォトレジスト層
上の凹凸表面の導体化を複数の金属の同時付着によって
行うことにある。
上の凹凸表面の導体化を複数の金属の同時付着によって
行うことにある。
本発明の光ディスク用スタシ・ぞの製作法はガラス基板
上のフォトレジスト層に情報信号で強度変調されたレー
ザ光を部分的に照射して信号を記録する工程、フォトレ
ジスト層を現像処理することによりフォトレジスト層に
情報信号と対応する凹凸を形成する工程およびフォトレ
ジスト層上の凹凸部に複数の金属を同時に付着させて金
属混合層を形成する工程を含むことである。
上のフォトレジスト層に情報信号で強度変調されたレー
ザ光を部分的に照射して信号を記録する工程、フォトレ
ジスト層を現像処理することによりフォトレジスト層に
情報信号と対応する凹凸を形成する工程およびフォトレ
ジスト層上の凹凸部に複数の金属を同時に付着させて金
属混合層を形成する工程を含むことである。
以下、図面を参照して本発明によるスタンパの製作法に
ついて説明する。
ついて説明する。
第１図（ａ）に示すように、ガラス基板１上にフォトレ
ジスト層２を設ける。次に、このガラス基板１は光学的
記録装置によってその７オトレジスト層２に情報信号に
よって強度変調されたレーザ光が照射されて露光され次
いで現像処理が行なわれてフォトレジスト層２の表面に
第１図（ｂ）に示すように情報信号と対応した凹凸３，
３が形成される。次いで、第１図（Ｃ）に示すように情
報信号と対応した凹凸（ピット）３，３が７オトレジス
ト層２に形成されているガラス基板１におけるフォトレ
ジスト層２０表面に対して適当な金属例えばニッケルお
よびクロームを同時に付着させてニッケルおよびクロー
ムの混合金属薄膜４が形成される。前記した工程におけ
る混合金属薄膜４の付着形成は、真空蒸着法またはスパ
ッタリング法その他適当な着膜技術の適用によって行な
うことができるが、ここで混合金属薄膜４の付着形成が
スパッタリング法によって行なわれる場合を例にあげて
説明すると複数個のターゲットを備えた高周波スパッタ
リング装置を用いアルゴンガス中でＣｒとＮ１の比率を
自由にコントロールして行なわれる。比率の好適な条件
としては初めはＣｒが多く（約９５％ン終りにＮ１が多
い（約３％）ものが良い。
ジスト層２を設ける。次に、このガラス基板１は光学的
記録装置によってその７オトレジスト層２に情報信号に
よって強度変調されたレーザ光が照射されて露光され次
いで現像処理が行なわれてフォトレジスト層２の表面に
第１図（ｂ）に示すように情報信号と対応した凹凸３，
３が形成される。次いで、第１図（Ｃ）に示すように情
報信号と対応した凹凸（ピット）３，３が７オトレジス
ト層２に形成されているガラス基板１におけるフォトレ
ジスト層２０表面に対して適当な金属例えばニッケルお
よびクロームを同時に付着させてニッケルおよびクロー
ムの混合金属薄膜４が形成される。前記した工程におけ
る混合金属薄膜４の付着形成は、真空蒸着法またはスパ
ッタリング法その他適当な着膜技術の適用によって行な
うことができるが、ここで混合金属薄膜４の付着形成が
スパッタリング法によって行なわれる場合を例にあげて
説明すると複数個のターゲットを備えた高周波スパッタ
リング装置を用いアルゴンガス中でＣｒとＮ１の比率を
自由にコントロールして行なわれる。比率の好適な条件
としては初めはＣｒが多く（約９５％ン終りにＮ１が多
い（約３％）ものが良い。
次に、本発明による複数金属の同時付着法を第４図に示
した代表的な例の装置について説明する。
した代表的な例の装置について説明する。
真空槽１１に設置されたＣｒターゲット１２とＮ１ター
ゲット１３上にじゃへい板を設け、そのしやへい板に開
口部１４を設は時間と共にＮ１ターゲット上へ移動する
ような機構とする。試料１５．１６は自転・公転をしな
がら各ターゲット上を通過する。スパッタ時間と開口部
移動速度および試料の回転数ｆｒ、適当に組合せること
で好適条件を選ぶことができる。
ゲット１３上にじゃへい板を設け、そのしやへい板に開
口部１４を設は時間と共にＮ１ターゲット上へ移動する
ような機構とする。試料１５．１６は自転・公転をしな
がら各ターゲット上を通過する。スパッタ時間と開口部
移動速度および試料の回転数ｆｒ、適当に組合せること
で好適条件を選ぶことができる。
本発明の１つの実施例では下記の条件を使用してＮ１と
Ｃｒとの同時付着を行った。
Ｃｒとの同時付着を行った。
開口部移動速度 ５°／分
スパッタ時間 ７分
試料回転数（公転） １２回／分
〔効 果〕
本発明により製作したスタンパは電鋳が容易であるばか
りでなく表面は硬く凹凸部の複製も良好であった。また
、スタンパ表面の組成比率を自由にでき且つスタンパ表
面にストレスが発生せずその結果、スタンパの初期品質
の維持と寿命の延長という利点が得られる。
りでなく表面は硬く凹凸部の複製も良好であった。また
、スタンパ表面の組成比率を自由にでき且つスタンパ表
面にストレスが発生せずその結果、スタンパの初期品質
の維持と寿命の延長という利点が得られる。
第１図は本発明によるスタンパの製作工程のうち表面導
体化工程までの手順を説明する模式断面図であり、第２
図は従来のスタン、Ｊの断面図であり、第３図は従来の
改良されたスタンパの断面図でありそして第４図は本発
明による同時付着法に用いる代表的な例の装置の平面図
である。 １・・・ガラス基板、２・・・フォトレジスト層、３・
・・情報信号と対応した凹凸（ピットン、４・・・Ｃｒ
−４−Ｎｉ混合層、４’・Ｎｉ層、４”−・・Ｃｒ層、
１１−・・真空槽、１２・・・Ｃｒターゲット、１３・
・・Ｎ１ターゲット、１４・・・開口部、１５．１６・
・・試料。 特許出願人 株式会社 リ コ −第２図 瑞４図
体化工程までの手順を説明する模式断面図であり、第２
図は従来のスタン、Ｊの断面図であり、第３図は従来の
改良されたスタンパの断面図でありそして第４図は本発
明による同時付着法に用いる代表的な例の装置の平面図
である。 １・・・ガラス基板、２・・・フォトレジスト層、３・
・・情報信号と対応した凹凸（ピットン、４・・・Ｃｒ
−４−Ｎｉ混合層、４’・Ｎｉ層、４”−・・Ｃｒ層、
１１−・・真空槽、１２・・・Ｃｒターゲット、１３・
・・Ｎ１ターゲット、１４・・・開口部、１５．１６・
・・試料。 特許出願人 株式会社 リ コ −第２図 瑞４図
Claims (1)
- ガラス基板上のフォトレジスト層に情報信号で強度変調
されたレーザ光を部分的に照射して信号を記録する工程
、フォトレジスト層を現像処理することによりフォトレ
ジスト層に情報信号と対応する凹凸を形成する工程およ
びフォトレジスト層上の凹凸部に複数の金属を同時に付
着させて金属混合層を形成する工程を含むことを特徴と
する、光ディスク用スタンパの製作法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19659984A JPS6177152A (ja) | 1984-09-21 | 1984-09-21 | 光デイスク用スタンパの製作法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19659984A JPS6177152A (ja) | 1984-09-21 | 1984-09-21 | 光デイスク用スタンパの製作法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6177152A true JPS6177152A (ja) | 1986-04-19 |
Family
ID=16360421
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19659984A Pending JPS6177152A (ja) | 1984-09-21 | 1984-09-21 | 光デイスク用スタンパの製作法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6177152A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01253847A (ja) * | 1988-04-01 | 1989-10-11 | Toppan Printing Co Ltd | 光ディスク用スタンパーの製造方法 |
| US5427599A (en) * | 1987-06-09 | 1995-06-27 | International Business Machines Corporation | System for stamping an optical storage disk |
| US7632628B2 (en) * | 2003-04-18 | 2009-12-15 | Pioneer Corporation | Stamper and method for production thereof |
-
1984
- 1984-09-21 JP JP19659984A patent/JPS6177152A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5427599A (en) * | 1987-06-09 | 1995-06-27 | International Business Machines Corporation | System for stamping an optical storage disk |
| JPH01253847A (ja) * | 1988-04-01 | 1989-10-11 | Toppan Printing Co Ltd | 光ディスク用スタンパーの製造方法 |
| US7632628B2 (en) * | 2003-04-18 | 2009-12-15 | Pioneer Corporation | Stamper and method for production thereof |
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