JPH042624A - 石英ガラスの製造方法 - Google Patents

石英ガラスの製造方法

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Publication number
JPH042624A
JPH042624A JP9953290A JP9953290A JPH042624A JP H042624 A JPH042624 A JP H042624A JP 9953290 A JP9953290 A JP 9953290A JP 9953290 A JP9953290 A JP 9953290A JP H042624 A JPH042624 A JP H042624A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
temperature
cracks
quartz glass
gel
maturing
Prior art date
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Pending
Application number
JP9953290A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaki Takei
武居 正樹
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
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Publication of JPH042624A publication Critical patent/JPH042624A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B19/00Other methods of shaping glass
    • C03B19/12Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野1 本発明は、シリカ微粒子を用いたゾル−ゲル法による石
英ガラスの製造工程における、熟成時の熟成方法に関す
るものである。
[従来の技術] ゾル−ゲル法によるガラスの製造の中で熟成工程は重要
な工程のひとつであるが、従来この工程の内容がよく解
っていなかった。こと厚肉ガラス(15mm以上)に関
しては、はとんど解明出来ていないのが現状である。
従って、問題点としては熟成中のクラックの発生と、そ
の後におけるクラック発生の熟成との因果関係がはっき
りせず問題となっている。
そこで、クラックレスでガラス化できるゲルの製造方法
が要望されてる。
[発明が解決しようとする課題] 前述の従来技術では、ゾル−ゲル法による石英ガラスの
製造方法の中で、熟成中にクラックの発生のため、歩留
まりも上がらないことが間顕であった。そこで本発明に
おいては、 l)熟成中にクラックの発生しない熟成方法を可能化さ
せ、 2)クラックのない石英ガラスを造り 3)必然的にコストダウンを計る。
・・・等の課題を設定し、新規なゾル−ゲル法の製造方
法を模索して、新しいガラス製品を提供する事を目的と
する。
[課題を解決するための手段] 本発明によるガラスの製造方法は、熟成時に熟成温度を
上昇させる際に、熟成温度を階段状に上昇させる事を特
徴とする。
[作 用] 本発明の上記の方法によれば、熟成時のウェットゲルの
内外部の温度差を少なくして熟成温度を上昇できるので
、ゲル内外部の審度差が少なくなり従ってクラックの発
生がなくなる。
[実 施 例] 第1図は、本発明による実施例のグラフである。横軸に
熟成時間をとり、縦軸に熟成温度をとっである。ある熟
成温度A点から熟成温度B 、6、(A<B)まで熟成
温度を上昇する場合、−気にA点からB点まで上げずに
、グラフに示すように階段状に温度を上げていく。階段
状に上げることでゲルの内外部の温度が均一化され、内
外部で密度の差が小さくなり、従ってゲルの内部歪が小
さくなりクラックの発生が減少する。この階段状の温度
範囲は、5度から10度位が適当である。高すぎると上
記に記した如く、クラ・ンクが発生する。この温度の範
囲だと、実際のゲルの内外部の温度差が3度から5度以
内になり烹度差がかなり小さくなり、クラックの発生す
る密度範囲より下まわるためクラックの発生を押える事
が可能となる。この階段状の回数は、熟成温度により異
なり、高温熟成(70度〜80度)の場合等においては
、多くなる。又、温度の上昇勾配は、1時間に15度か
ら30度の範囲が実験的に良い。
[発明の効果] 以上の述べたように、シリカ微粒子を用いたゾル−ゲル
法で、熟成温度を階段状に上昇させる事により、 1)熟成中のクツラックの発生を防止した対策となり、 2)従って、熟成歩留まりを上げ、 3)そして、コストダウンとなった。
・・・等の効果をもたらした。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の実施例の図で熟成時の熟成温度と熟
成経過時間のグラフである。 ・・熟成開始点 B・・・熟成到達点 出願人 セイコーエプソン株式会社 以上 経過時間 ノ<k 弔 1図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)シリカ微粒子を用いたゾル−ゲル法によるガラス
    の製造方法において、熟成温度を階段状に上昇させる事
    を特徴とする石英ガラスの製造方法。
  2. (2)熟成時の熟成温度を5度から10度の範囲で変化
    することを特徴とする請求項1記載の石英ガラスの製造
    方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6225433B1 (en) 1997-10-13 2001-05-01 Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. Curable silicone composition and electronic components

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