JPH04266040A - バンプ形成方法 - Google Patents
バンプ形成方法Info
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- JPH04266040A JPH04266040A JP3047490A JP4749091A JPH04266040A JP H04266040 A JPH04266040 A JP H04266040A JP 3047490 A JP3047490 A JP 3047490A JP 4749091 A JP4749091 A JP 4749091A JP H04266040 A JPH04266040 A JP H04266040A
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- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
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- Y10T29/49124—On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
- Y10T29/49147—Assembling terminal to base
- Y10T29/49149—Assembling terminal to base by metal fusion bonding
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はTAB用ウェハのバンプ
形成方法に関し、特に狭ピッチインナーリード対応のバ
ンプ形成方法に関する。
形成方法に関し、特に狭ピッチインナーリード対応のバ
ンプ形成方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種のバンプ形成方法は、ウェ
ハ上の電極に金メッキを行う金バンプ、銅メッキを行う
銅バンプが実施されていたが、資材費が高いという欠点
があり、低コスト化に対応する技術として、標準の金線
ボンダーを利用したボールバンプ方法が提案されて来て
いる。図6にボールバンプした状態を示す平面図、図7
にその側面図を示す。ボールバンプは、ボンダーのスパ
ークロッドで金線ワイヤー先端にボールを形成した後、
ウェハ3のアルミパッド2上に金ボール11を圧着し、
ワイヤーを引きちぎる方式である。拡散工程でのバンプ
工程が不要となるため、TATが短かくなり、多種のウ
ェハサイズに対応できるという汎用性も有り、資材費が
他のバンプ形成方法に比べて低いということで近年注目
されている方法である。
ハ上の電極に金メッキを行う金バンプ、銅メッキを行う
銅バンプが実施されていたが、資材費が高いという欠点
があり、低コスト化に対応する技術として、標準の金線
ボンダーを利用したボールバンプ方法が提案されて来て
いる。図6にボールバンプした状態を示す平面図、図7
にその側面図を示す。ボールバンプは、ボンダーのスパ
ークロッドで金線ワイヤー先端にボールを形成した後、
ウェハ3のアルミパッド2上に金ボール11を圧着し、
ワイヤーを引きちぎる方式である。拡散工程でのバンプ
工程が不要となるため、TATが短かくなり、多種のウ
ェハサイズに対応できるという汎用性も有り、資材費が
他のバンプ形成方法に比べて低いということで近年注目
されている方法である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】この従来のボールバン
プ方法では、金線ワイヤーにボールを形成するため、ボ
ールを形成した時点でのボール径は、ワイヤー径の約2
.5倍の大きさになる。さらに、そのボールをアルミパ
ッド上に圧着すると、図6に示すように、ワイヤー径の
約3.5倍のつぶし径となる。従って、チップの微細化
にともない、アルミ電極間を狭ピッチ化したいが、上記
の理由により、約120μ程度が限界となっている。 これに対し、ワイヤー径を細線化するという手段もある
が、細線にボールを形成する方法は、スパーク電圧の制
御も難しく、安定要素が欠ける。さらに、細線化で加工
コストが見合うのは、20μが限界であり、その場合の
つぶし径は約70μとなり、ボールバンプでの狭ピッチ
化の限界は、約100μということになる。
プ方法では、金線ワイヤーにボールを形成するため、ボ
ールを形成した時点でのボール径は、ワイヤー径の約2
.5倍の大きさになる。さらに、そのボールをアルミパ
ッド上に圧着すると、図6に示すように、ワイヤー径の
約3.5倍のつぶし径となる。従って、チップの微細化
にともない、アルミ電極間を狭ピッチ化したいが、上記
の理由により、約120μ程度が限界となっている。 これに対し、ワイヤー径を細線化するという手段もある
が、細線にボールを形成する方法は、スパーク電圧の制
御も難しく、安定要素が欠ける。さらに、細線化で加工
コストが見合うのは、20μが限界であり、その場合の
つぶし径は約70μとなり、ボールバンプでの狭ピッチ
化の限界は、約100μということになる。
【0004】本発明の目的は、前記課題を解決したバン
プ形成方法を提供することにある。
プ形成方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
、本発明に係るバンプ形成方法においては、TAB用ウ
ェハにバンプを形成する方法において、ワイヤーを、ア
ルミパッド上でウェッジボンディングを行い、必要量圧
着した後に、クランプによってワイヤーを引きちぎるも
のである。
、本発明に係るバンプ形成方法においては、TAB用ウ
ェハにバンプを形成する方法において、ワイヤーを、ア
ルミパッド上でウェッジボンディングを行い、必要量圧
着した後に、クランプによってワイヤーを引きちぎるも
のである。
【0006】また、アルミパッドを細長く構成し、アル
ミパッド内でワイヤーをウェッジボンディングし、ワイ
ヤーの部分をバンプとして用いるものである。
ミパッド内でワイヤーをウェッジボンディングし、ワイ
ヤーの部分をバンプとして用いるものである。
【0007】
【作用】金属ワイヤーをアルミパッド上でウェッジボン
ディングを行い、必要量圧縮した後に、クランプによっ
て金属ワイヤーを引きちぎる方式を備えており、アルミ
パッド上でのつぶし幅をワイヤー径の1.5倍以下にす
ることを可能とする。
ディングを行い、必要量圧縮した後に、クランプによっ
て金属ワイヤーを引きちぎる方式を備えており、アルミ
パッド上でのつぶし幅をワイヤー径の1.5倍以下にす
ることを可能とする。
【0008】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明する
。
。
【0009】(実施例1)図1は、本発明によりバンプ
形成されたウェハを示す断面図、図2は、バンプ形成後
の1個のアルミパッドを示す平面図、図3(a)〜(d
)は、本発明のバンプ形成方法を工程順に示す図、図4
は、本発明の装置を示す平面図である。
形成されたウェハを示す断面図、図2は、バンプ形成後
の1個のアルミパッドを示す平面図、図3(a)〜(d
)は、本発明のバンプ形成方法を工程順に示す図、図4
は、本発明の装置を示す平面図である。
【0010】図3に示すように、ウェハ3のパッド上に
ウェッジ5を用いてワイヤー7の先端部をウェッジボン
ディングし、アルミパッド2上にウェッジボンディング
した後クランプ6によってワイヤー7をつまみながら上
昇させると、アルミパッド2上に図2に示すようなワイ
ヤーのつぶし部分が残る。4はダイシングラインである
。ウェッジボンディングのため、つぶし部長さAは、ワ
イヤー径Dの約2倍、つぶし部幅Bは、ワイヤー径の約
1.5倍以下に制限できる。従って、ワイヤー径φ20
μを使用すれば、アルミパッド2を□40μ程度に設定
でき、アルミパッド2間の狭ピッチ化を可能にし、イン
ナーリードピッチを100μ以下に設定できる。
ウェッジ5を用いてワイヤー7の先端部をウェッジボン
ディングし、アルミパッド2上にウェッジボンディング
した後クランプ6によってワイヤー7をつまみながら上
昇させると、アルミパッド2上に図2に示すようなワイ
ヤーのつぶし部分が残る。4はダイシングラインである
。ウェッジボンディングのため、つぶし部長さAは、ワ
イヤー径Dの約2倍、つぶし部幅Bは、ワイヤー径の約
1.5倍以下に制限できる。従って、ワイヤー径φ20
μを使用すれば、アルミパッド2を□40μ程度に設定
でき、アルミパッド2間の狭ピッチ化を可能にし、イン
ナーリードピッチを100μ以下に設定できる。
【0011】図4は、ウェハ3上にウェッジボンディン
グによりバンプ形成を実施している状態であるが、ウェ
ッジボンディングを実施するためにUSホーン8と、ボ
ンディング方向を合わせるためのXYθステージ9と、
位置決めローラ10を有する。
グによりバンプ形成を実施している状態であるが、ウェ
ッジボンディングを実施するためにUSホーン8と、ボ
ンディング方向を合わせるためのXYθステージ9と、
位置決めローラ10を有する。
【0012】(実施例2)図5は、本発明の実施例2を
示す図である。本実施例においては、アルミパッド2間
を狭ピット化して、アルミパッド2を細長く構成してい
る。アルミパッド2内でウェッジボンディングを実施し
ているが、つぶし部分ではなく、ワイヤー7の部分をバ
ンプとして利用する方法である。一般のボールホルダー
を使って、アルミパッド内でボンディングを行うと、ワ
イヤーの立ち上がり部分ができてしまうため、均一なバ
ンプ高さの設定が不可能となる。ウェッジボンディング
の場合は、下方向にワイヤー高さをコントロールするの
は容易であることから、本例が可能となる。アルミパッ
ド長さEも、ワイヤー径φ20μなら160μ程度に制
限できる。
示す図である。本実施例においては、アルミパッド2間
を狭ピット化して、アルミパッド2を細長く構成してい
る。アルミパッド2内でウェッジボンディングを実施し
ているが、つぶし部分ではなく、ワイヤー7の部分をバ
ンプとして利用する方法である。一般のボールホルダー
を使って、アルミパッド内でボンディングを行うと、ワ
イヤーの立ち上がり部分ができてしまうため、均一なバ
ンプ高さの設定が不可能となる。ウェッジボンディング
の場合は、下方向にワイヤー高さをコントロールするの
は容易であることから、本例が可能となる。アルミパッ
ド長さEも、ワイヤー径φ20μなら160μ程度に制
限できる。
【0013】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、金属ワイ
ヤーをアルミパッド上でウェッジボンディングを行い、
必要量だけを残すことができるため、従来のバンプ形成
方法よりもアルミパッドの極小化、及びパッド間の狭ピ
ット化を可能にできる。それにより、半導体チップを高
機能化、縮小化できるという効果を有する。
ヤーをアルミパッド上でウェッジボンディングを行い、
必要量だけを残すことができるため、従来のバンプ形成
方法よりもアルミパッドの極小化、及びパッド間の狭ピ
ット化を可能にできる。それにより、半導体チップを高
機能化、縮小化できるという効果を有する。
【図1】本発明に係るバンプ形成後のウェハを示す断面
図である。
図である。
【図2】バンプ形成後のアルミパッドを示す平面図であ
る。
る。
【図3】バンプ形成方法の工程順を示す図である。
【図4】本発明の装置を示す平面図である。
【図5】本発明の実施例2によるバンプ形成後のアルミ
パッドを示す平面図である。
パッドを示す平面図である。
【図6】従来のボールバンプ形成方法のアルミパッドを
示す平面図である。
示す平面図である。
【図7】従来例によるアルミパッドの側面図である。
1 バンプ
2 アルミパッド
3 ウェハ
4 ダイシングライン
5 ウェッジ
6 クランプ
7 ワイヤー
8 USホーン
9 XYθステージ
10 位置決めローラ
11 金ボール
Claims (2)
- 【請求項1】 TAB用ウェハにバンプを形成する方
法において、ワイヤーを、アルミパッド上でウェッジボ
ンディングを行い、必要量圧着した後に、クランプによ
ってワイヤーを引きちぎることを特徴とするバンプ形成
方法。 - 【請求項2】 アルミパッドを細長く構成し、アルミ
パッド内でワイヤーをウェッジボンディングし、ワイヤ
ーの部分をバンプとして用いることを特徴とする請求項
1に記載のバンプ形成方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3047490A JP2852134B2 (ja) | 1991-02-20 | 1991-02-20 | バンプ形成方法 |
| US07/835,378 US5263246A (en) | 1991-02-20 | 1992-02-14 | Bump forming method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3047490A JP2852134B2 (ja) | 1991-02-20 | 1991-02-20 | バンプ形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04266040A true JPH04266040A (ja) | 1992-09-22 |
| JP2852134B2 JP2852134B2 (ja) | 1999-01-27 |
Family
ID=12776560
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3047490A Expired - Fee Related JP2852134B2 (ja) | 1991-02-20 | 1991-02-20 | バンプ形成方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5263246A (ja) |
| JP (1) | JP2852134B2 (ja) |
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| US5820014A (en) | 1993-11-16 | 1998-10-13 | Form Factor, Inc. | Solder preforms |
| US20020053734A1 (en) | 1993-11-16 | 2002-05-09 | Formfactor, Inc. | Probe card assembly and kit, and methods of making same |
| US7073254B2 (en) | 1993-11-16 | 2006-07-11 | Formfactor, Inc. | Method for mounting a plurality of spring contact elements |
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| US5994152A (en) | 1996-02-21 | 1999-11-30 | Formfactor, Inc. | Fabricating interconnects and tips using sacrificial substrates |
| US8033838B2 (en) | 1996-02-21 | 2011-10-11 | Formfactor, Inc. | Microelectronic contact structure |
| US5731244A (en) * | 1996-05-28 | 1998-03-24 | Micron Technology, Inc. | Laser wire bonding for wire embedded dielectrics to integrated circuits |
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| JP2000133672A (ja) * | 1998-10-28 | 2000-05-12 | Seiko Epson Corp | 半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器 |
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| JP2007509485A (ja) * | 2003-08-14 | 2007-04-12 | アドバンスド インターコネクト テクノロジーズ リミテッド | 半導体デバイス・パッケージおよびその製造方法 |
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Also Published As
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| JP2852134B2 (ja) | 1999-01-27 |
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