JPH0426686A - チオフェン系化合物の製造方法 - Google Patents
チオフェン系化合物の製造方法Info
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- JPH0426686A JPH0426686A JP13358690A JP13358690A JPH0426686A JP H0426686 A JPH0426686 A JP H0426686A JP 13358690 A JP13358690 A JP 13358690A JP 13358690 A JP13358690 A JP 13358690A JP H0426686 A JPH0426686 A JP H0426686A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、新規なチオフェン系化合物の製造方法、詳し
くは、それを重合体とすることにより有機電子材料とし
て広く利用しうるチオフェン系化合物の新規なV遣方法
に関するものである。
くは、それを重合体とすることにより有機電子材料とし
て広く利用しうるチオフェン系化合物の新規なV遣方法
に関するものである。
(従来の技術)
チオフェン等の複素環化合物を電解重合または化学酸化
重合して得られる有機導電性組成物としては、ポリチオ
フェン、ポリ(3−アルキルチオフェン)ポリ(3−ア
ルコキシチオフェン)、ポリベンゾチオフェン、ポリ(
3−フェニルチオフェン)。
重合して得られる有機導電性組成物としては、ポリチオ
フェン、ポリ(3−アルキルチオフェン)ポリ(3−ア
ルコキシチオフェン)、ポリベンゾチオフェン、ポリ(
3−フェニルチオフェン)。
ポリピロール等が知られている。これら組成物は。
成形性、可とう性及び溶解性に優れており、高分子導電
体として広く利用しうるものである。また。
体として広く利用しうるものである。また。
電解重合膜を形成。
または塗膜を形成するなどの
方法で導電基板上に薄膜を作製することにより修飾電極
として利用することができる。しかし、こ分光特性が限
定されているので、ポリチオフェン誘導体の利用分野が
制限されるのを免れなかった。
として利用することができる。しかし、こ分光特性が限
定されているので、ポリチオフェン誘導体の利用分野が
制限されるのを免れなかった。
従来の3−アルコキシメチルチオフェンの製造方法は文
献に記載されている。(合成金属誌、26巻153−1
68頁、 1988年)。この方法では、3−ブロモ
メチルチオフェンとナトリウムアルコキシドとの反応に
より3−アルコキシメチルチオフェンを得ている。しか
し、3−ブロモメチルチオフェンは市販品がないので別
途合成する必要があり、多大な労力を必要とする。また
、3−ブロモメチルチオフェンは極めて不安定な化合物
なのでその取扱いは困難である。
献に記載されている。(合成金属誌、26巻153−1
68頁、 1988年)。この方法では、3−ブロモ
メチルチオフェンとナトリウムアルコキシドとの反応に
より3−アルコキシメチルチオフェンを得ている。しか
し、3−ブロモメチルチオフェンは市販品がないので別
途合成する必要があり、多大な労力を必要とする。また
、3−ブロモメチルチオフェンは極めて不安定な化合物
なのでその取扱いは困難である。
(発明が解決しようとする課題)
本発明は、入手容易でかつ安定な化合物を出発原料にし
て、jri合することにより有機電子材料となる3−ア
ルコキシメチルチオフェンを製造するための方法を提供
するものである。
て、jri合することにより有機電子材料となる3−ア
ルコキシメチルチオフェンを製造するための方法を提供
するものである。
(課題を解決するための手段)
多様な特性を有するポリチオフェン系導電性組成物を開
発するために鋭意検討を行ったところ3−アルコキンメ
チルチオフェンがこの目的に適合することを見出し、こ
の知見に基づいて3−アルコキンメチルチオフェンの新
規な製造方法を鋭意検討した結果1本発明を完成するに
至った。本発明の目的は、従来知られていなかった3−
アルコキシメチルチオフェンの新規な製造方法を提供す
ることにある。
発するために鋭意検討を行ったところ3−アルコキンメ
チルチオフェンがこの目的に適合することを見出し、こ
の知見に基づいて3−アルコキンメチルチオフェンの新
規な製造方法を鋭意検討した結果1本発明を完成するに
至った。本発明の目的は、従来知られていなかった3−
アルコキシメチルチオフェンの新規な製造方法を提供す
ることにある。
本発明は
一般式
(式中のRはアルキル基)
で示されるチオフェン系化合物の製造方法に関するもの
であり。
であり。
一般式
%式%
(式中のXはハロゲンであり、Rはアルキル基)で示さ
れるアルキルハロゲノメチルエーテルと一般式 (式中のMはアルカリ金属である) で示される化合物との反応によって得られる。
れるアルキルハロゲノメチルエーテルと一般式 (式中のMはアルカリ金属である) で示される化合物との反応によって得られる。
本発明の製造方法を実施するために使用する3−アルカ
リ金属化チオフェンとしては3−チエニルリチウム、3
−チエニルナトリウム、3−チエニルカリウムなどをあ
げることができる。
リ金属化チオフェンとしては3−チエニルリチウム、3
−チエニルナトリウム、3−チエニルカリウムなどをあ
げることができる。
本発明の製造方法を実施するために使用するアルキルハ
ロゲノメチルチオフェンとしては、ノ\ロゲノメ、チル
メチルエーテル、エチル7\ロゲノメチルエーテル ハ
ロゲノメチルプロピルエーテル。
ロゲノメチルチオフェンとしては、ノ\ロゲノメ、チル
メチルエーテル、エチル7\ロゲノメチルエーテル ハ
ロゲノメチルプロピルエーテル。
ブチルハロゲノメチルエーテル、ノ)ロゲノメチルペ/
チルエーテル ハロゲノメチルプロピルエーテルなどを
あげることができる。
チルエーテル ハロゲノメチルプロピルエーテルなどを
あげることができる。
実施例1
不活性ガス下で8.6gのリチウムを入れた200+1
1の無水エーテルに100m1の無水エーテルで希釈し
た68.5gのn−ブチルブロマイドを一10℃で適下
してn−ブチルリチウムを合成した。この上澄み液を分
取して一70℃に冷却し、そこへ150111の無水エ
ーテルテ希釈した65gの3−ブロモチオフェンを少量
ずつ適下する。適下終了後−75〜−70℃において3
0分間かくはんすると3−チエニルリチウムが得られる
。3−チエニルリチウムを一70℃に冷却し、こ\に1
00Il]の脱水エーテルで希釈した21.3gのクロ
ロメチルメチルエーテルを一60℃以下に保持しながら
ゆっくりと適下した。適下終了後15分間かくはんした
後ゆっくりと液温を−35’Cまで上げて反応を開始さ
せtこ。液温を0〜lO℃まで上げて1時間かくはんし
た。
1の無水エーテルに100m1の無水エーテルで希釈し
た68.5gのn−ブチルブロマイドを一10℃で適下
してn−ブチルリチウムを合成した。この上澄み液を分
取して一70℃に冷却し、そこへ150111の無水エ
ーテルテ希釈した65gの3−ブロモチオフェンを少量
ずつ適下する。適下終了後−75〜−70℃において3
0分間かくはんすると3−チエニルリチウムが得られる
。3−チエニルリチウムを一70℃に冷却し、こ\に1
00Il]の脱水エーテルで希釈した21.3gのクロ
ロメチルメチルエーテルを一60℃以下に保持しながら
ゆっくりと適下した。適下終了後15分間かくはんした
後ゆっくりと液温を−35’Cまで上げて反応を開始さ
せtこ。液温を0〜lO℃まで上げて1時間かくはんし
た。
反応終了後、−1O〜−20℃で501の水を加えて過
剰のリチウム体を分解した。エーテル届を分取し。
剰のリチウム体を分解した。エーテル届を分取し。
無水硫酸マグネンウムで脱水し、エーテルを留去沸点9
0.5〜91’C/ 53’m+iHg。
0.5〜91’C/ 53’m+iHg。
IHNMRδ (CDC1,): 3.33(3H,
S); 4.42(2+1. S>7.03(1
B、 +*); 7.16(IH,m); 7.
25: (IH,i)。
S); 4.42(2+1. S>7.03(1
B、 +*); 7.16(IH,m); 7.
25: (IH,i)。
13CNMRδ (CDC1,): 57.86.
69.72. 122.74゜125.88. 1
27.23. 139.31゜実施例2 実施例1と同様して調整した3−チエニルリチウムを一
60℃以下に保持しながら、 loom+の脱水エー
テルで希釈した25gのクロロメチルエチルエーテルを
適下した。適下終了後30分間かくはんした後。
69.72. 122.74゜125.88. 1
27.23. 139.31゜実施例2 実施例1と同様して調整した3−チエニルリチウムを一
60℃以下に保持しながら、 loom+の脱水エー
テルで希釈した25gのクロロメチルエチルエーテルを
適下した。適下終了後30分間かくはんした後。
液温を一30℃まで上げて反応を開始させ、液温を0〜
lO℃まで上げて1時間か(はんした。反応終了後、−
1θ〜−20℃で50m1の水を加えて過剰のリチウム
体を分解した。エーテノlを分取し、無水硫酸マグネシ
ウムで脱水し、エーテル層を留去した後。
lO℃まで上げて1時間か(はんした。反応終了後、−
1θ〜−20℃で50m1の水を加えて過剰のリチウム
体を分解した。エーテノlを分取し、無水硫酸マグネシ
ウムで脱水し、エーテル層を留去した後。
残留物を減圧蒸留して3−エトキシメチルチオフェンを
得た。収量19g(収率50%)。
得た。収量19g(収率50%)。
沸点94〜95℃/ 38 th m Hg。
’HNMRδ (CDCl2): 1.22(3H,
t); 3.+3(284,49(2H,s);
7.06(IH,++): 7.19<IH,L);
7.27<IH,l11)。
t); 3.+3(284,49(2H,s);
7.06(IH,++): 7.19<IH,L);
7.27<IH,l11)。
”CNMRδ (CDCl2): 15.03.
65.49. 67.96122.45. 125
.82. 127.21. 139.63゜m); 参考例1 実施例1で得た3−メトキシメチルチオフェンをプロピ
レンカーボネート中−20℃でテトラブチルアンモニウ
ムへキサフルオロホスフェートを支持電解質として電解
重合したところ、白金板陽極上に1.8S/cmの導電
率を示すフィルムを得た。
65.49. 67.96122.45. 125
.82. 127.21. 139.63゜m); 参考例1 実施例1で得た3−メトキシメチルチオフェンをプロピ
レンカーボネート中−20℃でテトラブチルアンモニウ
ムへキサフルオロホスフェートを支持電解質として電解
重合したところ、白金板陽極上に1.8S/cmの導電
率を示すフィルムを得た。
参考例2
実施例2で得た3−エトキンメチルチオフェンを参考例
1と同様にして電解重合したところ、 26S/cm
、)導電率を示すフィルムを得た。
1と同様にして電解重合したところ、 26S/cm
、)導電率を示すフィルムを得た。
(発明の効果)
本発明に従うと入手しやすく
かつ安定で取扱
いやすい化合物を出発原料として、容易に3−アルコキ
ンメチルチオフェンを製造することができる。
ンメチルチオフェンを製造することができる。
そして、このようにして得られた化合物を電解重合する
と陽極上に導電性フィルムを成形することができるので
修飾電極材料及び有機導電材料として好適である。
と陽極上に導電性フィルムを成形することができるので
修飾電極材料及び有機導電材料として好適である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、3−アルカリ金属化チオフェンとアルキルハロゲノ
メチルエーテルを反応させることを特徴とする、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のRはアルキル基を示す。) で示される3−アルコキシメチルチオフェンの製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2133586A JPH0678334B2 (ja) | 1990-05-23 | 1990-05-23 | チオフェン系化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2133586A JPH0678334B2 (ja) | 1990-05-23 | 1990-05-23 | チオフェン系化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0426686A true JPH0426686A (ja) | 1992-01-29 |
| JPH0678334B2 JPH0678334B2 (ja) | 1994-10-05 |
Family
ID=15108271
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2133586A Expired - Lifetime JPH0678334B2 (ja) | 1990-05-23 | 1990-05-23 | チオフェン系化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0678334B2 (ja) |
-
1990
- 1990-05-23 JP JP2133586A patent/JPH0678334B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0678334B2 (ja) | 1994-10-05 |
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