JPH0426767A - ガスのサンプリングモニタシステム - Google Patents
ガスのサンプリングモニタシステムInfo
- Publication number
- JPH0426767A JPH0426767A JP12883490A JP12883490A JPH0426767A JP H0426767 A JPH0426767 A JP H0426767A JP 12883490 A JP12883490 A JP 12883490A JP 12883490 A JP12883490 A JP 12883490A JP H0426767 A JPH0426767 A JP H0426767A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- pressurized
- flow path
- pipe
- branch
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- Pending
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- Chemical Vapour Deposition (AREA)
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- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
本発明はガスのサンプリングモニタシステムに関する。
（従来の技術）
従来より、半導体製造では半導体膜を形成するだめの化
学的気相成長法（ＣＶＤ）やエツチング等のプロセスに
おいて、各種の処理ガスが用いられており、反応生成物
などの分析のために、各製造プロセスで上記処理ガスの
モニタが行われる。
学的気相成長法（ＣＶＤ）やエツチング等のプロセスに
おいて、各種の処理ガスが用いられており、反応生成物
などの分析のために、各製造プロセスで上記処理ガスの
モニタが行われる。
第２図には、従来のガスモニタシステムが示されており
、ＣＶＤによる膜形成やエツチング等を行うプロセスチ
ェンバ１０には、差動排気システム装置１２が接続され
、さらにこの後段に、上記ガスの成分をモニタするため
の四重極質量分析計１４か接続されている。この四重極
質量分析計１４は差動排気システム装置１２から減圧状
態で供給されたガス中に含まれる物質の質量を測定する
ことができ、これによりプロセスチェンバ１０に導入さ
れているガス成分のモニタが行われている。
、ＣＶＤによる膜形成やエツチング等を行うプロセスチ
ェンバ１０には、差動排気システム装置１２が接続され
、さらにこの後段に、上記ガスの成分をモニタするため
の四重極質量分析計１４か接続されている。この四重極
質量分析計１４は差動排気システム装置１２から減圧状
態で供給されたガス中に含まれる物質の質量を測定する
ことができ、これによりプロセスチェンバ１０に導入さ
れているガス成分のモニタが行われている。
（発明が解決しようとする課題）
しかしながら、従来のガスのモニタシステムにおいては
、減圧状態となっているので、質量分析計１４を用いる
ことはできても、加圧状態でしか測定できないガスクロ
マトグラフ装置を用いることができないという問題があ
った。この結果、質量分析計１４では同じ質量の物質の
区別ができず、例えば質量］８である水蒸気（Ｎ２０）
と−酸化炭素（Ｃｏ）との区別ができなかった。
、減圧状態となっているので、質量分析計１４を用いる
ことはできても、加圧状態でしか測定できないガスクロ
マトグラフ装置を用いることができないという問題があ
った。この結果、質量分析計１４では同じ質量の物質の
区別ができず、例えば質量］８である水蒸気（Ｎ２０）
と−酸化炭素（Ｃｏ）との区別ができなかった。
また、上記差動排気システム構成では、システム費用が
高くなり製造コストを低減できないという問題がある。
高くなり製造コストを低減できないという問題がある。
本発明は、上記問題点に鑑みなされたもので、その目的
は、ガスクロマトグラフ装置等のガスの加圧状態でしか
使用できないガス分析器の使用を可能とし、またコスト
の低減を図ることができるガスのサンプリングモニタシ
ステムを提供することにある。
は、ガスクロマトグラフ装置等のガスの加圧状態でしか
使用できないガス分析器の使用を可能とし、またコスト
の低減を図ることができるガスのサンプリングモニタシ
ステムを提供することにある。
［発明の構成］
（課題を解決するための手段）
上記目的を達成するために、本発明に係るガスのサンプ
リングモニタシステムは、チャンバに接続され、減圧状
態で処理ガスを排気する主流路と、 この主流路から上記処理ガスをサンプリング可能に分岐
接続された分岐流路と、 この分岐流路を加圧する加圧ガスを導入する加圧流路と
、 加圧された上記処理ガスのガス分析を実行するガス分析
器と、を有することを特徴とする。
リングモニタシステムは、チャンバに接続され、減圧状
態で処理ガスを排気する主流路と、 この主流路から上記処理ガスをサンプリング可能に分岐
接続された分岐流路と、 この分岐流路を加圧する加圧ガスを導入する加圧流路と
、 加圧された上記処理ガスのガス分析を実行するガス分析
器と、を有することを特徴とする。
（作 用）
」１記構成によれば、主流路に沿って排気されるガスは
分岐流路にも分岐して流通することになる。分岐流路に
てサンプリングしたガスを、加圧流路を介して導入した
加圧ガスにより圧送する。
分岐流路にも分岐して流通することになる。分岐流路に
てサンプリングしたガスを、加圧流路を介して導入した
加圧ガスにより圧送する。
さらに加圧ガスにより加圧された処理ガスがガス分析器
内に加圧状態で圧送されることになる。この加圧状態の
ガスの分析をガスクロマトグラフ装置等を用いて実行で
きる。
内に加圧状態で圧送されることになる。この加圧状態の
ガスの分析をガスクロマトグラフ装置等を用いて実行で
きる。
（実施例）
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら具体
的に説明する。
的に説明する。
第１−図には、実施例に係るガスのサンプリングモニタ
システムが示されており、図に示されるように、ＣＶＤ
（化学的気相成長法）による膜形成やエツチング等を
行うプロセスチェンバ１０には排気管として機能する主
流路管１６が接続される。
システムが示されており、図に示されるように、ＣＶＤ
（化学的気相成長法）による膜形成やエツチング等を
行うプロセスチェンバ１０には排気管として機能する主
流路管１６が接続される。
この主流路管１６には、図示しない真空ポンプが接続さ
れ、この真空ポンプによってプロセスチェンバ１０内か
ら上記主流路管１６に沿って処理ガスを数十から数Ｔｏ
ｒｒ以下の減圧状態で排気することができる。
れ、この真空ポンプによってプロセスチェンバ１０内か
ら上記主流路管１６に沿って処理ガスを数十から数Ｔｏ
ｒｒ以下の減圧状態で排気することができる。
」１記主流路管１６には、接続部１６Ａと１−６Ｂとの
間に分岐流路管１−８が設けられ、この分岐流路管１８
に主流路管１６からガスを分岐させる。
間に分岐流路管１−８が設けられ、この分岐流路管１８
に主流路管１６からガスを分岐させる。
そして、この分岐流路管］８には二方弁（バルブ）２０
ａ、２０ｂ、２０ｃ、２０ｄ及び三方弁２２ａ、２２ｂ
が設けられている。一方の三方弁２２ａには加圧流路管
２４ａが接続され、他方の三方弁２２ｂには分析器用導
入管２４ｂが接続されている。なお、二方弁２０ａ、２
０ｄが、主流路管２６と分岐流路管１８との連通を断続
する第１の弁として機能する。また、三方弁２２ａが第
２弁として、三方弁２２ｂが第３の弁としてそれぞれ機
能する。
ａ、２０ｂ、２０ｃ、２０ｄ及び三方弁２２ａ、２２ｂ
が設けられている。一方の三方弁２２ａには加圧流路管
２４ａが接続され、他方の三方弁２２ｂには分析器用導
入管２４ｂが接続されている。なお、二方弁２０ａ、２
０ｄが、主流路管２６と分岐流路管１８との連通を断続
する第１の弁として機能する。また、三方弁２２ａが第
２弁として、三方弁２２ｂが第３の弁としてそれぞれ機
能する。
上記加圧流路管２４ａには、三方弁２６ａ。
２６ｂが設けられると共に、この加圧流路管２４ａには
、加圧手段２８が接続され、この加圧手段２８は加圧流
路管２４ａに加圧ガス例えば窒素（Ｎ２）ガスを加圧状
態で圧送する。この時のガス圧は大気圧以上にする。ま
た、前記分析器用導入管２４ｂには、二方弁２６ｃ、２
６ｄが接続され、この分析器用導入管２４ｂにはガス分
析器としてのガスクロマトグラフ装置３０が接続され、
上記分岐流路管１８内に導入されたガスは、加圧された
状態でガスクロマトグラフ装置３０に供給されることに
なる。
、加圧手段２８が接続され、この加圧手段２８は加圧流
路管２４ａに加圧ガス例えば窒素（Ｎ２）ガスを加圧状
態で圧送する。この時のガス圧は大気圧以上にする。ま
た、前記分析器用導入管２４ｂには、二方弁２６ｃ、２
６ｄが接続され、この分析器用導入管２４ｂにはガス分
析器としてのガスクロマトグラフ装置３０が接続され、
上記分岐流路管１８内に導入されたガスは、加圧された
状態でガスクロマトグラフ装置３０に供給されることに
なる。
また、実施例では上記分岐流路管１８の三方弁２２ａと
２２ｂの間には、分岐流路管１８内の圧力を計測する圧
力計３２が設けられており、この圧力計３２の近傍には
トラフ１０字管１８Ａが形成され、このトラフ１０字管
１．８Ａを収納するように液体窒素が供給可能な冷却部
３４が配設される。従って、液体窒素によりガスを一旦
冷却トラップすることもできるようになっている。
２２ｂの間には、分岐流路管１８内の圧力を計測する圧
力計３２が設けられており、この圧力計３２の近傍には
トラフ１０字管１８Ａが形成され、このトラフ１０字管
１．８Ａを収納するように液体窒素が供給可能な冷却部
３４が配設される。従って、液体窒素によりガスを一旦
冷却トラップすることもできるようになっている。
実施例は以上の構成からなり、各プロセス中では、プロ
セスチェンバ１０に導入された後のガスは、図示しない
ポンプ駆動により図示の主流路１００、分岐流路２００
を通って排気されることになる。
セスチェンバ１０に導入された後のガスは、図示しない
ポンプ駆動により図示の主流路１００、分岐流路２００
を通って排気されることになる。
そうして、ガスのモニタリングを行う場合には、分岐流
路管］８の二方弁２０ａと２０ｄを閉じて減圧状態のガ
スを一旦サンプリングする。この際、トラップＵ字管１
．８ ａに上記ガス中の反応生成物を確実にコールドト
ラップできる。次いで、加圧流路管２４ａ途中の二方弁
２６ａ、２６ｂ及び三方弁２２ａを開けて窒素気体（Ｎ
２）を導入し、上記三方弁２０ａと２０との間の分岐流
路管１８を常圧状態とする。引き続いて、三方弁２２ｂ
及び分析器用導入管２４ｂ途中の二方弁２６ｃ。
路管］８の二方弁２０ａと２０ｄを閉じて減圧状態のガ
スを一旦サンプリングする。この際、トラップＵ字管１
．８ ａに上記ガス中の反応生成物を確実にコールドト
ラップできる。次いで、加圧流路管２４ａ途中の二方弁
２６ａ、２６ｂ及び三方弁２２ａを開けて窒素気体（Ｎ
２）を導入し、上記三方弁２０ａと２０との間の分岐流
路管１８を常圧状態とする。引き続いて、三方弁２２ｂ
及び分析器用導入管２４ｂ途中の二方弁２６ｃ。
２６ｄを開けて圧送流路３００を形成し、上記窒素気体
により加圧しながら処理ガスをガスクロマトグラフ装置
３０へ導入する。上記の場合、圧力計３２によって加圧
流路３００の圧力が監視されており、最適な圧力例えば
１〜２ ｋｇ ／ ｃ♂に設定される。
により加圧しながら処理ガスをガスクロマトグラフ装置
３０へ導入する。上記の場合、圧力計３２によって加圧
流路３００の圧力が監視されており、最適な圧力例えば
１〜２ ｋｇ ／ ｃ♂に設定される。
上記ガスクロマトグラフ装置３０は、分離管を有してお
り、この分離管を通過する移動速度の差によってガス中
の物質が特定され、そしてクロマトグラムのピークから
定量分析が行われることになる。従って、従来では困難
であった同一質量数の物質の特定、例えば水蒸気（Ｎ２
０）や−酸化炭素（ＣＯ）の区別等が可能となる。
り、この分離管を通過する移動速度の差によってガス中
の物質が特定され、そしてクロマトグラムのピークから
定量分析が行われることになる。従って、従来では困難
であった同一質量数の物質の特定、例えば水蒸気（Ｎ２
０）や−酸化炭素（ＣＯ）の区別等が可能となる。
上記実施例では、ガスクロマトグラフ装置３０のみにサ
ンプリングしたガスを導入しているが、ガスクロマトグ
ラフ装置３０と共に質量計等の他の分析計を接続し、こ
れらの分析計にガスを供給して他の分析を同時に行うよ
うにしてもよい。
ンプリングしたガスを導入しているが、ガスクロマトグ
ラフ装置３０と共に質量計等の他の分析計を接続し、こ
れらの分析計にガスを供給して他の分析を同時に行うよ
うにしてもよい。
また、上記冷却部３４に導入される液体窒素によってガ
スをトラップＵ字管１８Ａにトラップし、主流路管１６
の接続部１６Ａ、１６Ｂから分離流路管１８を取り外し
て、ガスクロマトグラフ装置３０や他の分析計に接続す
る構成とすることも可能である。
スをトラップＵ字管１８Ａにトラップし、主流路管１６
の接続部１６Ａ、１６Ｂから分離流路管１８を取り外し
て、ガスクロマトグラフ装置３０や他の分析計に接続す
る構成とすることも可能である。
なお、上記の弁の数や配置は上記実施例に限らず、各種
の組合わせが適用できる。
の組合わせが適用できる。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば、主流路から分岐
させた分岐流路を設け、この分岐流路には弁を介して加
圧流路を設け、プロセスチェンバに導入されたガスを分
岐流路へ分岐した後、加圧流路を介してガスを加圧状態
でガスクロマトグラフ装置へ導くようにしたので、ガス
クロマトグラフィーを容易に実行することができ、定性
分析、定量分析が飛躍的に向上し、例えば質量数が同一
の物質でも特定することが可能となる。
させた分岐流路を設け、この分岐流路には弁を介して加
圧流路を設け、プロセスチェンバに導入されたガスを分
岐流路へ分岐した後、加圧流路を介してガスを加圧状態
でガスクロマトグラフ装置へ導くようにしたので、ガス
クロマトグラフィーを容易に実行することができ、定性
分析、定量分析が飛躍的に向上し、例えば質量数が同一
の物質でも特定することが可能となる。
また、サンプリングは高価な差動排気システムを利用し
ないので、製造コストを低減することができるという利
点がある。
ないので、製造コストを低減することができるという利
点がある。
第１図は本発明の実施例に係るガスのサンプリングモニ
タシステムの構成を示す図、 第２図は従来のガスのモニタシステムの構成を示す図で
ある。 １０・・・プロセスチェンバ、 １２・・・差動排気システム装置、］６・・・主流路管
、］８・・・分岐流路管、２０．２６・・・二方弁、２
２・・・三方弁、２４ａ、２４ｂ・・・加圧流路管、２
８・・・加圧手段、 ３０・・・ガスクロマトグラフ装置、 ３４・・・トラップ部、１００・・・主流路、２００・
・・分岐流路、３００・・・加圧流路。
タシステムの構成を示す図、 第２図は従来のガスのモニタシステムの構成を示す図で
ある。 １０・・・プロセスチェンバ、 １２・・・差動排気システム装置、］６・・・主流路管
、］８・・・分岐流路管、２０．２６・・・二方弁、２
２・・・三方弁、２４ａ、２４ｂ・・・加圧流路管、２
８・・・加圧手段、 ３０・・・ガスクロマトグラフ装置、 ３４・・・トラップ部、１００・・・主流路、２００・
・・分岐流路、３００・・・加圧流路。
Claims (1)
- （１）チャンバに接続され、減圧状態で処理ガスを排気
する主流路と、 この主流路から上記処理ガスをサンプリング可能に分岐
接続された分岐流路と、 この分岐流路を加圧する加圧ガスを導入する加圧流路と
、 加圧された上記処理ガスのガス分析を実行するガス分析
器と、を有することを特徴とするガスのサンプリングモ
ニタシステム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12883490A JPH0426767A (ja) | 1990-05-18 | 1990-05-18 | ガスのサンプリングモニタシステム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12883490A JPH0426767A (ja) | 1990-05-18 | 1990-05-18 | ガスのサンプリングモニタシステム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0426767A true JPH0426767A (ja) | 1992-01-29 |
Family
ID=14994557
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12883490A Pending JPH0426767A (ja) | 1990-05-18 | 1990-05-18 | ガスのサンプリングモニタシステム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0426767A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022131191A1 (ja) | 2020-12-16 | 2022-06-23 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
| WO2022130773A1 (ja) | 2020-12-17 | 2022-06-23 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
-
1990
- 1990-05-18 JP JP12883490A patent/JPH0426767A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022131191A1 (ja) | 2020-12-16 | 2022-06-23 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
| WO2022130773A1 (ja) | 2020-12-17 | 2022-06-23 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
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