JPH04278902A - カラーフィルターの製造方法 - Google Patents
カラーフィルターの製造方法Info
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- JPH04278902A JPH04278902A JP3040379A JP4037991A JPH04278902A JP H04278902 A JPH04278902 A JP H04278902A JP 3040379 A JP3040379 A JP 3040379A JP 4037991 A JP4037991 A JP 4037991A JP H04278902 A JPH04278902 A JP H04278902A
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Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶テレビ、液晶ディス
プレイ等に用いられるカラーフィルターに関する。
プレイ等に用いられるカラーフィルターに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のカラーフィルターのとしては、カ
ラーインクの印刷法、染色法、顔料分散法等の製造方法
で作られたカラーフィルターがあり、これらのカラーフ
ィルター基板上には、オーバーコート層すなわち保護層
が液晶素子と液晶ドライバーとの接点である端子部にも
設けられているのが一般的である。しかしながら、これ
らのカラーフィルター製造方法では、高平坦で安価なカ
ラーフィルターを製造することはできなかった。図１に
一例として各絵素間の遮光部を色の重ねで作成したカラ
ーフィルターの断面図を示した。図１において、透明基
板１０１の上に赤絵素１０２、青絵素１０３、緑絵素１
０４がストライプ状に形成されており、それぞれの絵素
の重なり部１０５が絵素間の遮光層を兼ねて存在してい
る。これらの絵素間の重なり部の段差は少なくとも１μ
ｍから２μｍあり、保護層１０６が厚く形成されていれ
ばこの重なり部１０５の段差を埋めることができ、同時
に液晶駆動用の透明電極１０８をパターニングした場合
、前記段差による電極の切れをふせぐ事ができる。
ラーインクの印刷法、染色法、顔料分散法等の製造方法
で作られたカラーフィルターがあり、これらのカラーフ
ィルター基板上には、オーバーコート層すなわち保護層
が液晶素子と液晶ドライバーとの接点である端子部にも
設けられているのが一般的である。しかしながら、これ
らのカラーフィルター製造方法では、高平坦で安価なカ
ラーフィルターを製造することはできなかった。図１に
一例として各絵素間の遮光部を色の重ねで作成したカラ
ーフィルターの断面図を示した。図１において、透明基
板１０１の上に赤絵素１０２、青絵素１０３、緑絵素１
０４がストライプ状に形成されており、それぞれの絵素
の重なり部１０５が絵素間の遮光層を兼ねて存在してい
る。これらの絵素間の重なり部の段差は少なくとも１μ
ｍから２μｍあり、保護層１０６が厚く形成されていれ
ばこの重なり部１０５の段差を埋めることができ、同時
に液晶駆動用の透明電極１０８をパターニングした場合
、前記段差による電極の切れをふせぐ事ができる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この様
な従来のカラーフィルター上に電極を形成する際には、
以下の問題点があった。すなわち、カラーフィルター自
体に平坦性が要求されるためオーバーコート層を厚く塗
布する必要が生じ生産性が悪くなる。さらには、厚く塗
布されたオーバーコート層は、その後の電極形成の工程
とフレキシブルな基板に実装された液晶ドライバー１０
７の実装の工程とでダメージを受け、実装不良が起こり
安い等の課題を有する。図２は、保護層１０６が厚く形
成され、かつ、透明基板１０１とフレキシブルな基板に
実装された液晶ドライバー１０７との接続点に保護層１
０６がない場合のものである。このような基板では、基
板１０１と保護層１０６との段差が大きく液晶駆動用透
明電極の切れの原因になる。このように、カラーフィル
ターに平坦性を付与するために保護層を厚く形成するこ
とは、カラーフィルターのコスト増大につながる。
な従来のカラーフィルター上に電極を形成する際には、
以下の問題点があった。すなわち、カラーフィルター自
体に平坦性が要求されるためオーバーコート層を厚く塗
布する必要が生じ生産性が悪くなる。さらには、厚く塗
布されたオーバーコート層は、その後の電極形成の工程
とフレキシブルな基板に実装された液晶ドライバー１０
７の実装の工程とでダメージを受け、実装不良が起こり
安い等の課題を有する。図２は、保護層１０６が厚く形
成され、かつ、透明基板１０１とフレキシブルな基板に
実装された液晶ドライバー１０７との接続点に保護層１
０６がない場合のものである。このような基板では、基
板１０１と保護層１０６との段差が大きく液晶駆動用透
明電極の切れの原因になる。このように、カラーフィル
ターに平坦性を付与するために保護層を厚く形成するこ
とは、カラーフィルターのコスト増大につながる。
【０００４】本発明は、保護層１０６のパターンエッジ
に正テーパーを付け、かつ、カラーフィルターの透明基
板１０１とフレキシブルな基板に実装された液晶ドライ
バー１０７との接点である端子部には保護層１０６層な
どの有機層を持たない信頼性の高いカラーフィルターを
安価に提供することを目的とするものである。
に正テーパーを付け、かつ、カラーフィルターの透明基
板１０１とフレキシブルな基板に実装された液晶ドライ
バー１０７との接点である端子部には保護層１０６層な
どの有機層を持たない信頼性の高いカラーフィルターを
安価に提供することを目的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明のカラーフィルタ
ーは以下の点に特徴がある。すなわち、１）ネガタイプ
の顔料分散型カラーレジストから成る赤色、青色、緑色
の光透過性の画素パターン及び、オーバーコート層を透
明基板上に有するカラーフィルターあって、オーバーコ
ート層が、赤色、青色、緑色の光透過性の画素パターン
の集合した表示エリアより広く形成され、かつ電極端子
部分はオーバーコート層が形成されておらず、オーバー
コート層の周辺のエッジ形状が正のテーパーとなってい
ることを特徴とするカラーフィルターであり、 ２）ネガタイプの顔料分散型カラーレジストから成る赤
色、青色、緑色の光透過性の画素パターン及び、オーバ
ーコート層を透明基板上に有するカラーフィルターの製
造方法であって、オーバーコート層を塗布する工程と、
前記オーバーコート層を有する基板をベークする工程と
、フォトマスクを用いて露光する工程と、現像する工程
と、焼成する工程とを含み、前記オーバーコート層が、
赤色、青色、緑色の光透過性の画素パターンの集合した
表示エリアより広く形成され、かつ電極端子部分はオー
バーコート層が形成されておらず、オーバーコートの周
辺のエッジ形状が正のテーパーとなっていることを特徴
とするカラーフィルターの製造方法である。さらには ３）前記露光する工程において、前記オーバーコート層
が、赤色、青色、緑色の光透過性の画素パターンの集合
した表示エリアより広く形成されるように額縁状のフォ
トマスクを用い、かつマスク面とオーバーコート層の膜
面との距離が３０μｍから５ｍｍの範囲になるように、
望ましくは、１ｍｍから３ｍｍの範囲でマスクとオーバ
ーコート層との距離を離して露光する事を特徴とするカ
ラーフィルターの製造方法である。
ーは以下の点に特徴がある。すなわち、１）ネガタイプ
の顔料分散型カラーレジストから成る赤色、青色、緑色
の光透過性の画素パターン及び、オーバーコート層を透
明基板上に有するカラーフィルターあって、オーバーコ
ート層が、赤色、青色、緑色の光透過性の画素パターン
の集合した表示エリアより広く形成され、かつ電極端子
部分はオーバーコート層が形成されておらず、オーバー
コート層の周辺のエッジ形状が正のテーパーとなってい
ることを特徴とするカラーフィルターであり、 ２）ネガタイプの顔料分散型カラーレジストから成る赤
色、青色、緑色の光透過性の画素パターン及び、オーバ
ーコート層を透明基板上に有するカラーフィルターの製
造方法であって、オーバーコート層を塗布する工程と、
前記オーバーコート層を有する基板をベークする工程と
、フォトマスクを用いて露光する工程と、現像する工程
と、焼成する工程とを含み、前記オーバーコート層が、
赤色、青色、緑色の光透過性の画素パターンの集合した
表示エリアより広く形成され、かつ電極端子部分はオー
バーコート層が形成されておらず、オーバーコートの周
辺のエッジ形状が正のテーパーとなっていることを特徴
とするカラーフィルターの製造方法である。さらには ３）前記露光する工程において、前記オーバーコート層
が、赤色、青色、緑色の光透過性の画素パターンの集合
した表示エリアより広く形成されるように額縁状のフォ
トマスクを用い、かつマスク面とオーバーコート層の膜
面との距離が３０μｍから５ｍｍの範囲になるように、
望ましくは、１ｍｍから３ｍｍの範囲でマスクとオーバ
ーコート層との距離を離して露光する事を特徴とするカ
ラーフィルターの製造方法である。
【０００６】以下、実施例により本発明の詳細を示す。
【０００７】
【実施例】本発明の実施例において、顔料分散型カラー
レジストの材料は、富士ハントエレクトロニクステクノ
ロジー株式会社製のものを用いた。このカラーレジスト
は、商品名をカラーモザイクといい、青色のものはＣＢ
Ｖ、赤色のものはＣＲＹ、緑色のものはＣＧＹ、透明な
ものはＣＴという名称を有する。このカラーレジストは
、アクリル系感光性樹脂からなり空気中の酸素によって
硬化阻害を起こすため、必要に応じて酸素遮断膜（富士
ハントエレクトロニクステクノロジー株式会社製 商
品名ＣＰ）を被膜した後に露光する事が望ましい。その
時、ＣＢＶ、ＣＲＹ、ＣＧＹはそれぞれ高い感度を示す
。
レジストの材料は、富士ハントエレクトロニクステクノ
ロジー株式会社製のものを用いた。このカラーレジスト
は、商品名をカラーモザイクといい、青色のものはＣＢ
Ｖ、赤色のものはＣＲＹ、緑色のものはＣＧＹ、透明な
ものはＣＴという名称を有する。このカラーレジストは
、アクリル系感光性樹脂からなり空気中の酸素によって
硬化阻害を起こすため、必要に応じて酸素遮断膜（富士
ハントエレクトロニクステクノロジー株式会社製 商
品名ＣＰ）を被膜した後に露光する事が望ましい。その
時、ＣＢＶ、ＣＲＹ、ＣＧＹはそれぞれ高い感度を示す
。
【０００８】本発明の実施例において、顔料分散型カラ
ーレジストの材料は、富士ハントエレクトロニクステク
ノロジー株式会社製のものを用いるのが望ましいが他の
方法で色画素を形成してもよい。
ーレジストの材料は、富士ハントエレクトロニクステク
ノロジー株式会社製のものを用いるのが望ましいが他の
方法で色画素を形成してもよい。
【０００９】本発明の実施例において、透明な保護層に
用いられる材料は、富士ハントエレクトロニクステクノ
ロジー株式会社製ＣＴを用いる事が望ましいが、例えば
、感光性を有するエポキシ系、ウレタン系、ポリアミド
系、ポリイミド系等他の材料も用いることができる。 また、熱溶融性、熱可塑性の材料も用いることができる
。 本発明の実施例において、材料の塗布装置は、バ
ーコーター、ロールコーター等を用いることもできスピ
ンコーターも使用できる。また、印刷法で塗布する事も
できる。
用いられる材料は、富士ハントエレクトロニクステクノ
ロジー株式会社製ＣＴを用いる事が望ましいが、例えば
、感光性を有するエポキシ系、ウレタン系、ポリアミド
系、ポリイミド系等他の材料も用いることができる。 また、熱溶融性、熱可塑性の材料も用いることができる
。 本発明の実施例において、材料の塗布装置は、バ
ーコーター、ロールコーター等を用いることもできスピ
ンコーターも使用できる。また、印刷法で塗布する事も
できる。
【００１０】本実施例では、露光用光源として超高圧水
銀灯を用いた。
銀灯を用いた。
【００１１】本発明の透明基板には、ソーダガラスを用
いるのが望ましいが、他のガラス、例えば石英ガラス、
無アルカリガラスもしくはポリカーボネート、ポリアク
リル樹脂などの有機高分子基板も用いる事ができる。ま
た、無機質の薄膜が有ってもよい。
いるのが望ましいが、他のガラス、例えば石英ガラス、
無アルカリガラスもしくはポリカーボネート、ポリアク
リル樹脂などの有機高分子基板も用いる事ができる。ま
た、無機質の薄膜が有ってもよい。
【００１２】本実施例のカラーフィルターのパターンは
、ストライプ状であるがモザイクタイプの様に画素が色
間で分割されていても本発明が適応できる。
、ストライプ状であるがモザイクタイプの様に画素が色
間で分割されていても本発明が適応できる。
【００１３】（実施例１）本発明のカラーフィルターの
実施例を図３に示した。図３において、透明基板１０１
上に赤色の画素１０２、青色の画素１０３、緑色の画素
１０４が形成されている。さらに、各絵素上に保護層１
０６が形成されている。この保護層１０６は各画素の集
合した表示エリアよりも広い範囲で形成されており、透
明基板１０１と直接に接している保護層１０６が存在す
る画素の外周部は、保護層の厚みが徐々に減少している
。すなわち、このカラーフィルターの透明基板１０１を
用いた液晶素子とフレキシブルな基板に実装された液晶
ドライバー１０７との接続点では、液晶駆動用の透明電
極１０８はフレキシブルな基板に実装された液晶ドライ
バー１０７との接点で液晶素子の透明基板１０１に直接
接しており密着性が非常に良い。
実施例を図３に示した。図３において、透明基板１０１
上に赤色の画素１０２、青色の画素１０３、緑色の画素
１０４が形成されている。さらに、各絵素上に保護層１
０６が形成されている。この保護層１０６は各画素の集
合した表示エリアよりも広い範囲で形成されており、透
明基板１０１と直接に接している保護層１０６が存在す
る画素の外周部は、保護層の厚みが徐々に減少している
。すなわち、このカラーフィルターの透明基板１０１を
用いた液晶素子とフレキシブルな基板に実装された液晶
ドライバー１０７との接続点では、液晶駆動用の透明電
極１０８はフレキシブルな基板に実装された液晶ドライ
バー１０７との接点で液晶素子の透明基板１０１に直接
接しており密着性が非常に良い。
【００１４】（実施例２）図４において、透明基板１０
１上に緑色のカラーレジストＣＧＹを塗布し、乾燥後ガ
ラスマスクを用いて所望の露光量にて露光、現像し、ス
トライプ状の緑色の絵素１０４を形成した。高温で焼成
した後に、赤色のカラーレジストＣＲＹを塗布し、ＣＧ
Ｙと同様の工程にて赤色の絵素１０２がＣＧＹと重なら
ないように形成した。なお、現像液はアルカリ系現像液
（富士ハントエレクトロニクステクノロジー株式会社製
商品名ＣＤ）を用いた。同様に青色の絵素１０３を
形成しカラーフィルター基板１０９を得た。図５におい
て、上記基板１０９に、保護膜としてアクリル系樹脂（
富士ハントエレクトロニクステクノロジー株式会社製
商品名ＣＴ）を基板に塗布し、乾燥後前記絵素エリア
より大きな範囲に保護膜を形成する為に、フォトマスク
を用いて露光し保護層１０６を形成した。この時、透明
基板１０１と直接に接している保護層１０６が存在する
画素の外周部の保護層１０６の厚みが徐々に減少してい
る状態すなわち、正のテーパーを有する構造をつくり込
むために、前記露光する工程において、前記オーバーコ
ート層が、赤色、青色、緑色の光透過性の画素パターン
より広く形成されるように額縁状のフォトマスク１１０
を用い、かつマスク面とオーバーコート層の膜面との距
離１１１が３．１ｍｍのとなるようにマスクとオーバー
コート層との距離を離して露光した。その結果、図５に
示した様なカラーフィルター基板１１２が得られた。得
られた保護層を有するカラーフィルター基板を用いて液
晶素子を作製したところ非常に信頼性の高い液晶素子が
得られた。
１上に緑色のカラーレジストＣＧＹを塗布し、乾燥後ガ
ラスマスクを用いて所望の露光量にて露光、現像し、ス
トライプ状の緑色の絵素１０４を形成した。高温で焼成
した後に、赤色のカラーレジストＣＲＹを塗布し、ＣＧ
Ｙと同様の工程にて赤色の絵素１０２がＣＧＹと重なら
ないように形成した。なお、現像液はアルカリ系現像液
（富士ハントエレクトロニクステクノロジー株式会社製
商品名ＣＤ）を用いた。同様に青色の絵素１０３を
形成しカラーフィルター基板１０９を得た。図５におい
て、上記基板１０９に、保護膜としてアクリル系樹脂（
富士ハントエレクトロニクステクノロジー株式会社製
商品名ＣＴ）を基板に塗布し、乾燥後前記絵素エリア
より大きな範囲に保護膜を形成する為に、フォトマスク
を用いて露光し保護層１０６を形成した。この時、透明
基板１０１と直接に接している保護層１０６が存在する
画素の外周部の保護層１０６の厚みが徐々に減少してい
る状態すなわち、正のテーパーを有する構造をつくり込
むために、前記露光する工程において、前記オーバーコ
ート層が、赤色、青色、緑色の光透過性の画素パターン
より広く形成されるように額縁状のフォトマスク１１０
を用い、かつマスク面とオーバーコート層の膜面との距
離１１１が３．１ｍｍのとなるようにマスクとオーバー
コート層との距離を離して露光した。その結果、図５に
示した様なカラーフィルター基板１１２が得られた。得
られた保護層を有するカラーフィルター基板を用いて液
晶素子を作製したところ非常に信頼性の高い液晶素子が
得られた。
【００１５】（実施例３）図６において、透明基板１０
１上に、緑色のカラーレジストＣＧＹを塗布し、乾燥後
ガラスマスクを用いて所望の露光量にて露光、現像し、
ストライプ状の緑色の絵素１０４を形成した。高温で焼
成した後に、赤色のカラーレジストＣＲＹを塗布し、Ｃ
ＧＹと同様の工程にて赤色の絵素１０２がＣＧＹと重な
るように形成した。なお、現像液はアルカリ系現像液（
富士ハントエレクトロニクステクノロジー株式会社製
商品名ＣＤ）を用いた。同様に青色の絵素１０３を形
成しカラーフィルター基板１１２を得た。図７において
、上記カラーフィルター基板１１３に、保護膜としてア
クリル系樹脂（富士ハントエレクトロニクステクノロジ
ー株式会社製 商品名ＣＴ）を基板に塗布し、乾燥後
前記絵素エリアより大きな範囲に保護膜を形成する為に
、フォトマスク１１０を用いて露光し保護層１０６を形
成した。この際、透明基板１０１と直接に接している保
護層１０６が存在する画素の外周部は、保護層１０６の
厚みが徐々に減少している状態すなわち、正のテーパー
を有する構造をつくり込むために前記露光する工程にお
いて、前記オーバーコート層が、赤色、青色、緑色の光
透過性の画素パターンの集合した表示エリアより広く形
成されるように額縁状のフォトマスク１１０を用い、か
つマスク面とオーバーコート層の膜面との距離１１１が
１．１ｍｍのとなるようにマスクとオーバーコート層と
の距離を離して露光した。その結果、図７に示した様な
なカラーフィルター基板１１４が得られた。得られたカ
ラーフィルター基板を用いて液晶素子を作製したところ
非常に信頼性の高い液晶素子が得られた。
１上に、緑色のカラーレジストＣＧＹを塗布し、乾燥後
ガラスマスクを用いて所望の露光量にて露光、現像し、
ストライプ状の緑色の絵素１０４を形成した。高温で焼
成した後に、赤色のカラーレジストＣＲＹを塗布し、Ｃ
ＧＹと同様の工程にて赤色の絵素１０２がＣＧＹと重な
るように形成した。なお、現像液はアルカリ系現像液（
富士ハントエレクトロニクステクノロジー株式会社製
商品名ＣＤ）を用いた。同様に青色の絵素１０３を形
成しカラーフィルター基板１１２を得た。図７において
、上記カラーフィルター基板１１３に、保護膜としてア
クリル系樹脂（富士ハントエレクトロニクステクノロジ
ー株式会社製 商品名ＣＴ）を基板に塗布し、乾燥後
前記絵素エリアより大きな範囲に保護膜を形成する為に
、フォトマスク１１０を用いて露光し保護層１０６を形
成した。この際、透明基板１０１と直接に接している保
護層１０６が存在する画素の外周部は、保護層１０６の
厚みが徐々に減少している状態すなわち、正のテーパー
を有する構造をつくり込むために前記露光する工程にお
いて、前記オーバーコート層が、赤色、青色、緑色の光
透過性の画素パターンの集合した表示エリアより広く形
成されるように額縁状のフォトマスク１１０を用い、か
つマスク面とオーバーコート層の膜面との距離１１１が
１．１ｍｍのとなるようにマスクとオーバーコート層と
の距離を離して露光した。その結果、図７に示した様な
なカラーフィルター基板１１４が得られた。得られたカ
ラーフィルター基板を用いて液晶素子を作製したところ
非常に信頼性の高い液晶素子が得られた。
【００１６】（実施例４）図４において、透明基板１０
１上に、緑色のカラーレジストＣＧＹを塗布し、乾燥後
ガラスマスクを用いて所望の露光量にて露光、現像し、
ストライプ状の緑色の絵素１０４を形成した。高温で焼
成した後に、赤色のカラーレジストＣＲＹを塗布し、Ｃ
ＧＹと同様の工程にて赤色の絵素１０２がＣＧＹと重な
らないように形成した。なお、現像液はアルカリ系現像
液（富士ハントエレクトロニクステクノロジー株式会社
製 商品名ＣＤ）を用いた。同様に青色の絵素１０３
を形成しカラーフィルター基板１０９を得た。図６にお
いて、上記基板１０９に、保護膜としてアクリル系樹脂
（富士ハントエレクトロニクステクノロジー株式会社製
商品名ＣＴ）を基板に塗布し、乾燥後前記絵素エリ
アより大きな範囲に保護膜を形成する為に、フォトマス
クを用いて露光し保護層１０６を形成した。この時、透
明基板１０１と直接に接している保護層１０６が存在す
る画素の外周部の保護層１０６の厚みが徐々に減少して
いる状態すなわち、正のテーパーを有する構造をつくり
込むために、前記露光する工程において、前記オーバー
コート層が、赤色、青色、緑色の光透過性の画素パター
ンより広く形成されるように額縁状のフォトマスク１１
０を用い、かつマスク面とオーバーコート層の膜面との
距離１１１が２．４ｍｍのとなるようにマスクとオーバ
ーコート層との距離を離して露光した。その結果、図５
に示した様なカラーフィルター基板１１２が得られた。 得られた保護層を有するカラーフィルター基板を用いて
液晶素子を作製したところ非常に信頼性の高い液晶素子
が得られた。
１上に、緑色のカラーレジストＣＧＹを塗布し、乾燥後
ガラスマスクを用いて所望の露光量にて露光、現像し、
ストライプ状の緑色の絵素１０４を形成した。高温で焼
成した後に、赤色のカラーレジストＣＲＹを塗布し、Ｃ
ＧＹと同様の工程にて赤色の絵素１０２がＣＧＹと重な
らないように形成した。なお、現像液はアルカリ系現像
液（富士ハントエレクトロニクステクノロジー株式会社
製 商品名ＣＤ）を用いた。同様に青色の絵素１０３
を形成しカラーフィルター基板１０９を得た。図６にお
いて、上記基板１０９に、保護膜としてアクリル系樹脂
（富士ハントエレクトロニクステクノロジー株式会社製
商品名ＣＴ）を基板に塗布し、乾燥後前記絵素エリ
アより大きな範囲に保護膜を形成する為に、フォトマス
クを用いて露光し保護層１０６を形成した。この時、透
明基板１０１と直接に接している保護層１０６が存在す
る画素の外周部の保護層１０６の厚みが徐々に減少して
いる状態すなわち、正のテーパーを有する構造をつくり
込むために、前記露光する工程において、前記オーバー
コート層が、赤色、青色、緑色の光透過性の画素パター
ンより広く形成されるように額縁状のフォトマスク１１
０を用い、かつマスク面とオーバーコート層の膜面との
距離１１１が２．４ｍｍのとなるようにマスクとオーバ
ーコート層との距離を離して露光した。その結果、図５
に示した様なカラーフィルター基板１１２が得られた。 得られた保護層を有するカラーフィルター基板を用いて
液晶素子を作製したところ非常に信頼性の高い液晶素子
が得られた。
【００１７】（実施例５）図８において、実施例２で得
られたカラーフィルター基板１０９に、保護膜としてア
クリル系樹脂（富士ハントエレクトロニクステクノロジ
ー株式会社製 商品名ＣＴ）を基板に塗布し、乾燥後
前記絵素エリアより大きな範囲に保護膜を形成する為に
、フォトマスクを用いて露光し保護層１０６を形成した
。 この時、透明基板１０１と直接に接している保護層１０
６が存在する画素の外周部の保護層１０６の厚みが徐々
に減少している状態すなわち、正のテーパーを有する構
造をつくり込むために、前記露光する工程において、図
８に示した様にフォトマスクを通常の使用方法と逆の面
を被感光材料である保護層１０６に接し露光を行ない保
護層を形成した。このフォトマスクは、２．８ｍｍのガ
ラスを基板としている。前記オーバーコート層が、赤色
、青色、緑色の光透過性の画素パターンより広く形成さ
れるように額縁状のフォトマスク１１０を用い、かつマ
スク面とオーバーコート層の膜面との距離１１１が２．
４ｍｍのとなるようにマスクとオーバーコート層との距
離を離して露光した。その結果、図８に示した様なカラ
ーフィルター基板１１２が得られた。得られたカラーフ
ィルター基板１１２を用いて液晶素子を作製したところ
非常に信頼性の高い液晶素子が得られた。
られたカラーフィルター基板１０９に、保護膜としてア
クリル系樹脂（富士ハントエレクトロニクステクノロジ
ー株式会社製 商品名ＣＴ）を基板に塗布し、乾燥後
前記絵素エリアより大きな範囲に保護膜を形成する為に
、フォトマスクを用いて露光し保護層１０６を形成した
。 この時、透明基板１０１と直接に接している保護層１０
６が存在する画素の外周部の保護層１０６の厚みが徐々
に減少している状態すなわち、正のテーパーを有する構
造をつくり込むために、前記露光する工程において、図
８に示した様にフォトマスクを通常の使用方法と逆の面
を被感光材料である保護層１０６に接し露光を行ない保
護層を形成した。このフォトマスクは、２．８ｍｍのガ
ラスを基板としている。前記オーバーコート層が、赤色
、青色、緑色の光透過性の画素パターンより広く形成さ
れるように額縁状のフォトマスク１１０を用い、かつマ
スク面とオーバーコート層の膜面との距離１１１が２．
４ｍｍのとなるようにマスクとオーバーコート層との距
離を離して露光した。その結果、図８に示した様なカラ
ーフィルター基板１１２が得られた。得られたカラーフ
ィルター基板１１２を用いて液晶素子を作製したところ
非常に信頼性の高い液晶素子が得られた。
【００１８】（実施例６）図９において、実施例３で得
られたカラーフィルター基板１１３に、保護膜としてア
クリル系樹脂（富士ハントエレクトロニクステクノロジ
ー株式会社製 商品名ＣＴ）を基板に塗布し、乾燥後
前記絵素エリアより大きな範囲に保護膜を形成する為に
、フォトマスクを用いて露光し保護層１０６を形成した
。 この時、透明基板１０１と直接に接している保護層１０
６が存在する画素の外周部の保護層１０６の厚みが徐々
に減少している状態すなわち、正のテーパーを有する構
造をつくり込むために、前記露光する工程において、図
８に示した様にフォトマスクを通常の使用方法と逆の面
を被感光材料である保護層１０６に接し露光を行ない保
護層を形成した。このフォトマスクは、２．８ｍｍのガ
ラスを基板としている。前記オーバーコート層が、赤色
、青色、緑色の光透過性の画素パターンより広く形成さ
れるように額縁状のフォトマスク１１０を用い、かつマ
スク面とオーバーコート層の膜面との距離１１１が２．
４ｍｍのとなるようにマスクとオーバーコート層との距
離を離して露光した。その結果、図９に示した様なカラ
ーフィルター基板１１４が得られた。得られたカラーフ
ィルター基板１１４を用いて液晶素子を作製したところ
非常に信頼性の高い液晶素子が得られた。
られたカラーフィルター基板１１３に、保護膜としてア
クリル系樹脂（富士ハントエレクトロニクステクノロジ
ー株式会社製 商品名ＣＴ）を基板に塗布し、乾燥後
前記絵素エリアより大きな範囲に保護膜を形成する為に
、フォトマスクを用いて露光し保護層１０６を形成した
。 この時、透明基板１０１と直接に接している保護層１０
６が存在する画素の外周部の保護層１０６の厚みが徐々
に減少している状態すなわち、正のテーパーを有する構
造をつくり込むために、前記露光する工程において、図
８に示した様にフォトマスクを通常の使用方法と逆の面
を被感光材料である保護層１０６に接し露光を行ない保
護層を形成した。このフォトマスクは、２．８ｍｍのガ
ラスを基板としている。前記オーバーコート層が、赤色
、青色、緑色の光透過性の画素パターンより広く形成さ
れるように額縁状のフォトマスク１１０を用い、かつマ
スク面とオーバーコート層の膜面との距離１１１が２．
４ｍｍのとなるようにマスクとオーバーコート層との距
離を離して露光した。その結果、図９に示した様なカラ
ーフィルター基板１１４が得られた。得られたカラーフ
ィルター基板１１４を用いて液晶素子を作製したところ
非常に信頼性の高い液晶素子が得られた。
【００１９】
【発明の効果】以上本発明によれば信頼性の高いカラー
フィルターを安価に提供することができる。
フィルターを安価に提供することができる。
【図１】絵素間の遮光部を色の重ねで作製した従来のカ
ラーフィルターの断面図。
ラーフィルターの断面図。
【図２】保護層が厚く形成されたカラーフィルターの断
面図。
面図。
【図３】本発明のカラーフィルターの断面図。
【図４】本発明のカラーフィルターの製造方法の一例を
示した図。
示した図。
【図５】本発明のカラーフィルターの製造方法の一例を
示した図。
示した図。
【図６】本発明のカラーフィルターの製造方法の一例を
示した図。
示した図。
【図７】本発明のカラーフィルターの製造方法の一例を
示した図。
示した図。
【図８】本発明のカラーフィルターの製造方法の一例を
示した図。
示した図。
【図９】本発明のカラーフィルターの製造方法の一例を
示した図。
示した図。
１０１：透明基板
１０２：赤色の画素
１０３：青色の画素
１０４：緑色の画素
１０５：絵素の重なり部
１０６：保護層
１０７：フレキシブルな基板に実装された液晶ドライバ
ー １０８：液晶駆動用の透明電極 １０９：本発明のカラーフィルター基板１１０：フォト
マスク
ー １０８：液晶駆動用の透明電極 １０９：本発明のカラーフィルター基板１１０：フォト
マスク
Claims (7)
- 【請求項１】 ネガタイプの顔料分散型カラーレジス
トから成る赤色、青色、緑色の光透過性の画素パターン
及び、オーバーコート層を透明基板上に有するカラーフ
ィルターにおいて、オーバーコート層が、赤色、青色、
緑色の光透過性の画素パターンより広く形成され、かつ
電極端子部分はオーバーコート層が形成されておらず、
オーバーコートの周辺のエッジ形状が正のテーパーとな
っていることを特徴とするカラーフィルター。 - 【請求項２】 ネガタイプの顔料分散型カラーレジス
トから成る赤色、青色、緑色の光透過性の画素パターン
及び、オーバーコート層を透明基板上に有するカラーフ
ィルターの製造方法でにおいて、オーバーコート層を塗
布する工程と、前記オーバーコート層を有する基板をベ
ークする工程と、フォトマスクを用いて露光する工程と
、現像する工程と、焼成する工程とを含み、前記オーバ
ーコート層が、赤色、青色、緑色の光透過性の画素パタ
ーンの集合した表示エリアより広く形成され、かつ電極
端子部分はオーバーコート層が形成されておらず、オー
バーコートの周辺のエッジ形状が正のテーパーとなって
いることを特徴とするカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項３】 前記オーバーコート層が、ネガ型のフ
ォトレジストである事を特徴とする請求項１記載のカラ
ーフィルター。 - 【請求項４】 前記オーバーコート層が、ネガ型のフ
ォトレジストである事を特徴とする請求項２記載のカラ
ーフィルターの製造方法 - 【請求項５】 前記露光する工程において、前記オー
バーコート層が、赤色、青色、緑色の光透過性の画素パ
ターンより広く形成されるように額縁状のフォトマスク
を用い、かつマスク面とオーバーコート層の膜面との距
離が１μｍ以上になるようにマスクとオーバーコート層
との距離を離して露光する事を特徴とする請求項２請求
項４記載のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項６】 前記露光する工程において、前記オー
バーコート層が、赤色、青色、緑色の光透過性の画素パ
ターンの集合した表示エリアより広く形成されるように
額縁状のフォトマスクを用い、かつマスク面とオーバー
コート層の膜面との距離が３０μｍから５ｍｍの範囲に
なるようにマスクとオーバーコート層との距離を離して
露光する事を特徴とする請求項２請求項４記載のカラー
フィルターの製造方法。 - 【請求項７】 前記露光する工程において、前記オー
バーコート層が、赤色、青色、緑色の光透過性の画素パ
ターンより広く形成されるように額縁状のフォトマスク
を用い、かつマスク面とオーバーコート層の膜面との距
離が１ｍｍから３ｍｍの範囲になるようにマスクとオー
バーコート層との距離を離して露光する事を特徴とする
請求項２請求項４記載のカラーフィルターの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4037991A JP3018524B2 (ja) | 1991-03-07 | 1991-03-07 | カラーフィルターの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4037991A JP3018524B2 (ja) | 1991-03-07 | 1991-03-07 | カラーフィルターの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04278902A true JPH04278902A (ja) | 1992-10-05 |
| JP3018524B2 JP3018524B2 (ja) | 2000-03-13 |
Family
ID=12579022
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4037991A Expired - Lifetime JP3018524B2 (ja) | 1991-03-07 | 1991-03-07 | カラーフィルターの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3018524B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7050137B2 (en) | 2001-09-28 | 2006-05-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | Substrate for use in a liquid crystal display and liquid crystal display using the same |
| JP2009075239A (ja) * | 2007-09-19 | 2009-04-09 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタおよびこれを備える液晶表示装置、カラーフィルタの製造方法 |
-
1991
- 1991-03-07 JP JP4037991A patent/JP3018524B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7050137B2 (en) | 2001-09-28 | 2006-05-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | Substrate for use in a liquid crystal display and liquid crystal display using the same |
| US7405781B2 (en) | 2001-09-28 | 2008-07-29 | Sharp Kabushiki Kaisha | Substrate for use in a liquid crystal display having a patterned resin color filter layer |
| JP2009075239A (ja) * | 2007-09-19 | 2009-04-09 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタおよびこれを備える液晶表示装置、カラーフィルタの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3018524B2 (ja) | 2000-03-13 |
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